KR100924349B1 - Method for compensating astigmatism induced by lens heating - Google Patents

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Abstract

비대칭 조명계의 노광 광을 사용하는 노광 장비의 투사 렌즈(lens)부에 상기 광에 의한 국부적 가열에 의해 발생되는 수차를 검출하고, 투사 렌즈부 내에 수차에 의해 유발되는 왜곡 파면(wave front)을 보상하기 위한 능동 렌즈를 삽입하고, 능동 렌즈의 가장 자리의 여덟 지점을 고정핀들을 이용하여 고정시킨 후, 고정핀들 사이의 능동 렌즈의 가장 자리 부분들 중 네 지점들을 교번적으로 선택하여 각각 물리적 힘을 인가하여 위 또는 아래 방향으로 부분적으로 변위시켜 능동 렌즈가 굴곡되게 유도한다. 고정핀들의 위치를 변화시켜 고정핀들 사이의 이격 간격의 변화에 따라 변위의 크기 및 변위되는 면적을 변화시켜, 부분적 변위에 의해 변형된 능동 렌즈에 의해 제공되는 보상 파면이 왜곡 파면을 보상하여 수차를 보정하도록 유도하는 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법을 제시한다. Detects aberration caused by local heating by the light in the projection lens part of the exposure equipment using the exposure light of the asymmetric illumination system, and compensates for the distortion wave front caused by the aberration in the projection lens part Insert the active lens, fix the eight points of the edge of the active lens with fixing pins, and then alternately select four points of the edges of the active lens between the fixing pins to And partially displaces in the up or down direction to induce the active lens to bend. By changing the position of the fixing pins to change the magnitude of the displacement and the area to be displaced according to the change of the separation distance between the fixing pins, the compensation wavefront provided by the active lens deformed by the partial displacement compensates for the distortion wavefront to correct the aberration. A method of correcting aberrations due to lens heating that leads to correction is presented.

비대칭 조명계, 노광, 수차, 파면 Asymmetric illumination system, exposure, aberration, wavefront

Description

렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법{Method for compensating astigmatism induced by lens heating}Method for compensating astigmatism induced by lens heating

본 발명은 반도체 소자에 관한 것으로, 특히, 비대칭 변형 조명계를 채용하는 노광 장비의 렌즈 가열(lens heating)에 의한 수차(astigmatism)를 보정하는 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor devices, and more particularly, to a method for correcting astigmatism due to lens heating of exposure equipment employing an asymmetric modified illumination system.

반도체 소자를 구성하는 회로 패턴의 크기가 축소됨에 따라, 웨이퍼(wafer) 상에 패턴을 전사하는 노광 장비에 광학적 해상력 한계가 발생되고 있다. 광학적 해상력 한계를 극복하여 보다 미세한 패턴을 웨이퍼 상에 전사하기 위해서, 노광 장비에 다이폴(dipole) 조명계와 같은 비대칭 변형 조명계(modified illumination)가 도입되고 있다. 이때, 보다 미세한 패턴의 전사를 위해서, 비대칭 조명계는 어퍼처(aperture)의 개구 또는 폴(pole)의 위치가 극단적으로 가장자리에 가까이 배치된 극한 조명계로 도입되는 추세이다. As the size of the circuit pattern constituting the semiconductor device is reduced, optical resolution limitations are generated in the exposure equipment that transfers the pattern onto a wafer. In order to overcome optical resolution limitations and transfer finer patterns onto wafers, asymmetric modified illumination systems, such as dipole illumination systems, have been introduced in exposure equipment. At this time, in order to transfer a finer pattern, an asymmetric illumination system tends to be introduced into an extreme illumination system in which the position of the aperture or the pole of the aperture is extremely close to the edge.

이러한 극한 조명계를 채용한 노광 장비를 운용할 경우, 노광 장비의 투사 렌즈(projection lens)에 입사되는 노광 광이 렌즈의 최외곽부분, 즉, 가장자리 끝단 부분에 상대적으로 집중되고 있다. 이에 따라, 이러한 렌즈의 가장자리 끝단 부 분에 국부적으로 렌즈 가열이 집중되는 현상이 유발되고 있다. 국부적 렌즈 가열은 렌즈에 의도하지 않은 수차를 유발하게 되고, 렌즈에 유발된 수차는 노광 파면(wave front)에 왜곡을 유발하게 된다. 이에 따라, 노광 장비에서 웨이퍼 상으로 전사되는 패턴 이미지(image)가 왜곡될 수 있어 웨이퍼 패턴에 불량이 유발될 수 있다. When operating an exposure apparatus employing such an extreme illumination system, the exposure light incident on the projection lens of the exposure apparatus is relatively concentrated at the outermost portion of the lens, that is, the edge end portion. As a result, lens heating is concentrated locally at the edge of the lens. Local lens heating causes unintended aberrations in the lens, which in turn cause distortions in the exposure wave front. Accordingly, the pattern image transferred onto the wafer in the exposure equipment may be distorted, which may cause defects in the wafer pattern.

렌즈에 유발될 수 있는 파면 수차는 제르니케 다항식(Zernike polynomials)으로 표현될 수 있는 데, Z4, Z5 또는 Z6과 같은 상대적으로 낮은 차수의 수차들뿐만 아니라 Z12와 같은 높은 차수의 수차가 렌즈의 국부적 가열에 의해서 유발되는 것으로 파악되고 있다. 렌즈의 국부적 가열을 유발하는 변형 조명계의 사용이, 점차 더 미세한 패턴의 전사를 위해 더 극단적으로 작고 가장자리에 가까이 배치된 형태로 변화되고 있어, 이러한 높은 차수의 수차가 렌즈 가열에 의해 유발되는 것으로 평가된다. Z5와 같은 상대적으로 낮은 차수의 수차는 수차의 크기가 2차 함수를 따르는 형태로 해석될 수 있어 상대적으로 수차 보정이 용이할 수 있으나, Z12와 같은 높은 차수의 수차는 수차의 크기가 2차 함수를 따르는 형태로 해석될 수 없어 수차 보정이 상대적으로 어려워지고 있다. 따라서, 렌즈의 국부적 가열에 따른 수차를 보상 또는 보정하는 방법의 개발이 요구되고 있다. The wavefront aberrations that can be caused by a lens can be expressed as Zernike polynomials, in which high order aberrations, such as Z12, as well as relatively low order aberrations such as Z4, Z5 or Z6, are local to the lens. It is understood that it is caused by heating. The use of strained illumination systems that cause localized heating of the lens is gradually changing to a more extremely small and close-to-edge arrangement for the transfer of finer patterns, which is believed to be caused by lens heating. do. Relatively low order aberrations, such as Z5, can be interpreted in the form of aberrations that follow a quadratic function, which makes it easier to correct aberrations.However, higher order aberrations, such as Z12, are second order functions. The aberration correction becomes relatively difficult because it cannot be interpreted in the form of. Accordingly, there is a need for development of a method for compensating or correcting aberration caused by local heating of a lens.

본 발명은 비대칭 변형 조명계를 채용하는 노광 장비의 국부적 렌즈 가열에 의해 유발되는 렌즈의 수차를 보정하는 방법을 제시하는 데 있다. The present invention is directed to a method for correcting aberration of a lens caused by local lens heating of an exposure apparatus employing an asymmetric modified illumination system.

본 발명의 일 관점은, 비대칭 조명계의 노광 광을 사용하는 노광 장비의 투사 렌즈(lens)부에 상기 광에 의한 국부적 가열에 의해 발생되는 수차를 검출하는 단계; 상기 투사 렌즈부 내에 상기 수차에 의해 유발되는 상기 투사 렌즈부의 왜곡 파면(wave front)을 보상하기 위한 능동 렌즈를 삽입하고 상기 능동 렌즈의 가장 자리의 여덟 지점을 고정핀들을 이용하여 고정시키는 단계; 상기 고정핀들 사이의 상기 능동 렌즈의 가장 자리 부분들 중 네 지점들을 선택하여 각각 물리적 힘을 인가하여 위 또는 아래 방향으로 상기 선택된 가장 자리 부분을 부분적으로 변위시키는 단계; 및 상기 고정핀들의 위치를 변화시켜 상기 고정핀들 사이의 이격 간격의 변화에 따라 상기 변위의 크기 및 변위되는 면적을 변화시켜, 상기 부분적 변위에 의해 변형된 상기 능동 렌즈에 의해 제공되는 보상 파면이 상기 왜곡 파면을 보상하여 상기 수차를 보정하도록 유도하는 단계를 포함하는 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법을 제시한다. One aspect of the present invention includes the steps of detecting aberration generated by local heating by the light in the projection lens portion of the exposure equipment using the exposure light of the asymmetric illumination system; Inserting an active lens to compensate for the distortion wave front of the projection lens portion caused by the aberration in the projection lens portion and fixing eight points of the edge of the active lens with fixing pins; Selecting four points of edge portions of the active lens between the fixing pins and partially displacing the selected edge portion in an upward or downward direction by applying a physical force, respectively; And a compensation wavefront provided by the active lens deformed by the partial displacement by changing the position of the fixing pins to change the magnitude of the displacement and the displaced area according to the change of the separation distance between the fixing pins. A method of correcting aberration due to lens heating is provided, which comprises the step of compensating for the distortion wavefront to correct the aberration.

상기 비대칭 조명계는 다이폴(dipole) 조명계로 도입될 수 있다. The asymmetric illumination system can be introduced into a dipole illumination system.

상기 투사 렌즈부의 왜곡 파면(wave front)은 제르니케 다항식의 5차수 및 12차수의 수차를 포함하게 해석되고, 상기 보상 파면은 상기 제르니케 다항식의 5 차수 및 12차수의 수차를 보정하게 유도될 수 있다. The distortion wave front of the projection lens unit is interpreted to include aberrations of 5th and 12th orders of the Zernike polynomial, and the compensation wavefront may be induced to correct the 5th and 12th orders of the Zernike polynomial. have.

상기 능동 렌즈는 투명한 판상에 입사광을 회절시키는 회절격자 또는 키노폼(kinoform)이 형성된 렌즈로 도입될 수 있다. The active lens may be introduced into a lens in which a diffraction grating or a kinoform is formed to diffract incident light on a transparent plate.

상기 물리적 힘은 상기 능동 렌즈의 가장 자리 부분에 접촉되는 압전 소자 또는 유압 액추에이터(actuator)에 의해 제공될 수 있다. The physical force may be provided by a piezoelectric element or a hydraulic actuator in contact with the edge portion of the active lens.

상기 물리적 힘은 상기 고정핀들 사이의 상기 능동 렌즈의 가장 자리 부분들 에 대해 교번적으로 선택되는 네 부분에 대해 인가되고, 상기 네 부분들 중 두 부분들은 상호 대향되게 위 방향으로 변위되고 다른 두 부분들은 아래 방향으로 변위되게 인가될 수 있다. The physical force is applied to four portions that are alternately selected for the edge portions of the active lens between the fixing pins, two of the four portions being displaced upwardly opposite one another and the other two portions Can be applied displaced downward.

본 발명의 실시예는, 비대칭 변형 조명계를 채용하는 노광 장비의 국부적 렌즈 가열에 의해 유발되는 Z12와 같은 상대적으로 높은 차수의 렌즈 수차를 보정할 수 있는 방법을 제시할 수 있다. Embodiments of the present invention may propose a method capable of correcting relatively high order lens aberrations such as Z12 caused by local lens heating of exposure equipment employing asymmetrically modified illumination systems.

본 발명의 실시예에서는 스캐너(scanner)와 같은 노광 장비의 투사 렌즈부 내에 수차 보정을 위한 능동 렌즈를 삽입하고, 능동 렌즈에 광축 방향으로 위아래로 물리적 힘을 가하여 능동 렌즈를 변형시켜 투사 렌즈부에 유발된 수차를 보정하는 방법을 제시한다. In an embodiment of the present invention, an active lens for aberration correction is inserted into a projection lens unit of an exposure apparatus such as a scanner, and the active lens is deformed by applying a physical force up and down in the optical axis direction to the active lens. A method of correcting the induced aberration is presented.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 스캐너 노광 장비를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 다이폴(dipole) 조명계 를 설명하기 위해서 도시한 도면이다. 1 is a view schematically illustrating a scanner exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a view illustrating a dipole illumination system according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 스캐너 노광 장비는, 웨이퍼(100)에 전사할 회로 패턴이 마스크 패턴(mask pattern)으로 구비된 레티클(reticle: 200)과, 레티클(200)에 노광 광(311)을 제공하는 변형 조명계(310)를 포함하여 구비된다. 이때, 노광 광(311)이 웨이퍼(100) 상을 스캔하도록 개구(331)를 가지는 슬릿(slit: 330)이 더 구비된다. 레티클(200) 상의 마스크 패턴의 이미지(image)를 축소 전사하는 투사 렌즈부(projection lens: 400)를 포함하고, 렌즈부(400)는 웨이퍼(100) 상에 패턴 이미지를 대략 4 : 1 또는 5 : 1로 축소 전사하도록 다수의 개별 렌즈(401)들이 조합된다. 렌즈부(400)의 이미지 축소 비율에 따라, 레티클(200)이 제1스캔(201)하는 제1속도와 웨이퍼(100)가 제2스캔(101)하는 제2속도의 비율이 이미지 축소 비율에 부합되게 설정된다. 이때, 제1스캔(201)의 방향과 제2스캔(101)의 방향은 서로 반대 방향으로 설정된다. Referring to FIG. 1, the scanner exposure apparatus may provide a reticle 200 having a circuit pattern to be transferred to the wafer 100 as a mask pattern, and an exposure light 311 to the reticle 200. The modified illumination system 310 is provided to include. In this case, a slit 330 having an opening 331 is further provided so that the exposure light 311 scans the wafer 100. And a projection lens 400 which reduces and transfers an image of the mask pattern on the reticle 200, wherein the lens unit 400 is approximately 4: 1 or 5 to transfer the pattern image onto the wafer 100. FIG. : Multiple individual lenses 401 are combined to shrink down to one. According to the image reduction ratio of the lens unit 400, the ratio of the first speed at which the reticle 200 scans the first 201 and the second speed at which the wafer 100 scans the second 101 corresponds to the image reduction ratio. Set accordingly. At this time, the direction of the first scan 201 and the direction of the second scan 101 are set in opposite directions.

변형 조명계(310)는 광원에 의해 생성된 광의 1차광 성분이 투사 렌즈부(400)에 더 많이 입사되게 유도하는 다이폴(dipole)과 같은 비대칭 조명계로 구성될 수 있다. 이러한 비대칭 조명계는 도 2에 제시된 바와 같이 렌즈부(400)의 가장자리 끝단에 대등하는 위치에 개구(314)가 상대적으로 작은 폭은 형성된 극한 다이폴 어퍼처(extream dipole aperture: 313)에 의해 구현될 수 있다. 이러한 다이폴 어퍼처(313)에 의해 제공될 수 있는 1차광의 면적(403)은, 개구(314)의 위치가 어퍼처(313)의 가장자리 끝단에 위치하고 또한 개구(314)의 폭 또한 작아지게 설정됨에 따라, 상당히 작게 구현되게 된다. 이러한 1차광의 면적(403)을 작게 유도하 는 것은 보다 작은 패턴 크기를 구현하기 위해서이다. The modified illumination system 310 may be configured as an asymmetric illumination system, such as a dipole, which induces more primary light components of light generated by the light source to be incident on the projection lens unit 400. Such an asymmetric illumination system may be implemented by an extreme dipole aperture 313 having a relatively small width of the opening 314 at a position corresponding to the edge end of the lens unit 400 as shown in FIG. 2. have. The area 403 of primary light that can be provided by this dipole aperture 313 is set such that the position of the opening 314 is located at the edge end of the aperture 313 and the width of the opening 314 is also small. As it is, it becomes quite small. To induce the area 403 of the primary light is to implement a smaller pattern size.

도 1을 다시 참조하면, 변형 조명의 노광 광((311)이 입사되는 투사 렌즈부(400)는 다수의 다양한 렌즈(401)들로 구성되며, 변형 조명의 노광 광(311)의 지속적 입사에 의해서 렌즈부(400)의 가장자리 부분에 국부적 가열이 유발될 수 있다. 이에 따라, 렌즈부(400)에 수차를 유발될 수 있다. 이러한 수차를 보상 또는 보정하기 위해서, 렌즈부(400) 내에 수차 보정을 위해 삽입되는 능동 렌즈(510)와, 능동 렌즈(510)에 광축 방향으로 위아래로 물리적 힘을 가하여 능동 렌즈(510)를 변형시켜 투사 렌즈부에 유발된 수차를 보정하는 구동부(550)를 포함하는 수차 보정부(500)를 도입한다. Referring back to FIG. 1, the projection lens unit 400 into which the exposure light 311 of the modified illumination is incident is composed of a plurality of various lenses 401, and is adapted to continuous incidence of the exposure light 311 of the modified illumination. By this, local heating may be caused at the edge portion of the lens unit 400. Accordingly, aberration may be induced in the lens unit 400. In order to compensate or correct such an aberration, the aberration in the lens unit 400 is reduced. The active lens 510 inserted for correction and the driving unit 550 for deforming the aberration caused by the projection lens unit by deforming the active lens 510 by applying a physical force up and down in the optical axis direction to the active lens 510 are provided. An aberration correcting unit 500 is introduced.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수차 보정부를 설명하기 위해서 제시한 도면이다. 도 4 및 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 수차 보정을 위한 능동 렌즈(lens)의 변형을 설명하기 위해서 제시한 도면들이다. 3 is a diagram for explaining an aberration correction unit according to an embodiment of the present invention. 4 and 5 are views for explaining the deformation of the active lens (lens) for aberration correction according to an embodiment of the present invention.

도 3 내지 도 5를 도 1과 함께 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 수차 보정부(500)는 능동 렌즈(510) 및 구동부(550)를 포함하여 구성될 수 있다. 능동 렌즈(510)는 도 4 및 도 5에 제시된 바와 같이 투명한 판 형태로 도입될 수 있으며, 능동 렌즈(510)의 판면에는 렌즈부(도 1의 400) 자체의 근원적인 수차를 보정하기 위해 광을 회절하는 회절격자(도 4의 511)나 또는 키노폼(kinoform)이 구비될 수 있다. 3 to 5 together with FIG. 1, the aberration corrector 500 according to the embodiment of the present invention may include an active lens 510 and a driver 550. The active lens 510 may be introduced in the form of a transparent plate as shown in FIGS. 4 and 5, and the plate surface of the active lens 510 has a light to correct the underlying aberration of the lens unit 400 of FIG. 1 itself. A diffraction grating (511 of FIG. 4) or a kinoform may be provided to diffract.

도 3에 제시된 바와 같이, 가이드(guide)에 장착되는 능동 렌즈(510)의 가장자리부에 구동부(550)가 접촉하여 광축 방향으로 변위를 일으키는 물리적 힘을 인 가한다. 이때, 구동부(550)는 유압을 이용한 액추에이터(actuator)나 압전 소자를 포함하여 구성될 수 있으며, 도 4에 제시된 바와 같이, 능동 렌즈(510)의 가장자리부에 광축 방향으로 위 또는 아래로 변위시키는 힘을 인가하도록 구비된다. 이와 같은 구동부(550)에 의한 변위의 발생에 의해 능동 렌즈(510)는 도 4에 제시된 바와 같이 휘거나 굴곡지게 된다. 이러한 능동 렌즈(510)의 변형 형상을 작업자의 의도에 부합되게 조절하기 위해서, 능동 렌즈(510)의 가장자리 일부분을 고정시키는 고정핀(pin)이 도입된다. As shown in FIG. 3, the driving unit 550 contacts the edge portion of the active lens 510 mounted on the guide, thereby applying a physical force causing displacement in the optical axis direction. At this time, the driving unit 550 may be configured to include an actuator (actuator) or a piezoelectric element using a hydraulic pressure, as shown in Figure 4, to displace up or down in the optical axis direction at the edge of the active lens 510 It is provided to apply a force. By the occurrence of the displacement by the driving unit 550, the active lens 510 is bent or curved as shown in FIG. In order to adjust the deformed shape of the active lens 510 in accordance with the intention of the operator, a pin for fixing a portion of the edge of the active lens 510 is introduced.

도 3 및 도 5를 참조하면, 상호 이격된 한 쌍의 제1 및 제2가변 고정핀들(531, 533)로 그룹(group)지워지는 고정핀(530) 그룹이, 가이드(540)에 능동 렌즈(510)를 고정하게 네 개의 그룹으로 도입된다. 능동 렌즈(510)의 가장자리에 접촉하여 고정시키도록 2개씩 네 개의 고정핀(530) 그룹이 능동 렌즈(510)의 중심에서 직교하는 네 방향으로 도입된다. 고정핀(530) 그룹을 이루는 한 쌍의 제1 및 제2고정핀(531, 533)은 능동 렌즈(510)에 접촉하는 위치가 필요에 따라 이동될 수 있어, 상호 간의 간격(535)이 가변될 수 있게 가변식으로 설치된다. 즉, 가이드(540) 상에서 고정핀들(531, 533)들은 좌우로 이동되게 가변식으로 장착된다. 3 and 5, a group of fixing pins 530 that are grouped with a pair of spaced apart first and second variable fixing pins 531 and 533 includes an active lens on the guide 540. 510 are introduced into four groups to fix them. Four groups of four pins 530 are introduced in two directions perpendicular to the center of the active lens 510 so as to contact and fix the edge of the active lens 510. The pair of first and second fixing pins 531 and 533 forming a group of the fixing pins 530 may be moved in contact with the active lens 510 as needed, so that the distance 535 between them is variable. It is installed to be variable. That is, the fixing pins 531 and 533 on the guide 540 are variably mounted to move left and right.

이러한 고정핀(530)들은 능동 렌즈(210)를 실질적으로 8개의 지점에서 고정시키는 역할을 한다. 따라서, 능동 렌즈(210)에 인가되는 물리적 힘은 도 5에 제시된 바와 같이, 능동 렌즈(510)의 고정핀(530)들 사이의 가장자리 지점(513)에 인가되게 된다. 이러한 변위를 위한 힘이 인가되는 지점(513)은 고정핀(530)들 사이에 교번적으로 설정된다. 힘이 인가되는 지점(513)의 능동 렌즈(510) 부분은 인가되는 힘에 의해서 광축 방향으로 위 또는 아래 방향으로 부분적으로 변위되려 하지만, 고정핀(530) 사이의 힘이 인가되지 않는 부분에서는 이러한 변위가 고정핀(530)에 의해 억제된다. The fixing pins 530 fix the active lens 210 at substantially eight points. Accordingly, the physical force applied to the active lens 210 is applied to the edge point 513 between the fixing pins 530 of the active lens 510, as shown in FIG. The point 513 at which the force for this displacement is applied is alternately set between the fixing pins 530. The portion of the active lens 510 at the point where the force is applied is partially displaced upward or downward in the optical axis direction by the applied force, but in the portion where the force between the fixing pins 530 is not applied. The displacement is suppressed by the fixing pin 530.

고정핀(530)들 사이의 이격 부분(535)에는 변위를 위한 힘이 인가되지 않으므로, 능동 렌즈(530)의 변위를 위한 힘이 인가되는 부분과 고정핀(530)에 의해 고정된 부분 사이에 변위 차이가 유발되게 된다. 이러한 변위 차이에 의해서, 능동 렌즈(530)는 다양한 형상의 굴곡면을 가지게 변형될 수 있다. 이에 따라, 능동 렌즈(530)를 지나는 광은 다양한 굴곡진 파면을 가지게 변형될 수 있다. 실질적으로 고정핀(530)들 사이의 이격 부분(535)의 간격을 조절함에 따라, 실제로 인가되는 힘에 의해서 변위되는 능동 렌즈(530) 부분의 크기 및 형상을 변화시킬 수 있다. 이격 부분(535)의 간격을 크게 할수록 능동 렌즈(530)의 가장자리 부분들 중 실제 인가되는 힘에 의해서 변위될 수 있는 크기 또는 면적은 작아지게 된다. Since the force for displacement is not applied to the spaced portion 535 between the fixing pins 530, between the portion to which the force for displacement of the active lens 530 is applied and the portion fixed by the fixing pin 530. Displacement difference will be caused. Due to this displacement difference, the active lens 530 may be modified to have curved surfaces of various shapes. Accordingly, the light passing through the active lens 530 may be modified to have various curved wavefronts. By substantially adjusting the spacing of the spaced portion 535 between the fixing pins 530, it is possible to change the size and shape of the portion of the active lens 530 that is displaced by the force actually applied. As the distance between the spaced portions 535 increases, the size or area of the edge portions of the active lens 530 that can be displaced by the force applied is smaller.

만일, 고정핀(530)을 가변될 수 있는 8 개가 아닌 4개를 직교하는 위치에 고정시키면, 인가되는 물리적 힘에 의해서 변형되는 능동 렌즈(510)의 가장자리 부분의 크기 또는 면적을 제한시킬 수 없게 된다. 따라서, 이러한 4 개의 고정핀을 도입할 경우에 능동 렌즈(510)의 변위된 굴곡면은 실질적으로 2차 함수를 따르게 된다. 따라서, 변형된 능동 렌즈를 지나는 광의 파면은 2차 함수를 따르는 굴곡을 가지게 된다. 투사 렌즈부(400)에 국부적 가열에 의해서 제르니케 5차항으로 표현되는 Z5와 같은 수차가 유발될 경우, Z5 수차에 의한 파면 왜곡은 실질적으로 2차 함수를 따르는 것으로 해석될 수 있다. 따라서, 네 개의 주된 고정핀에 의해서 능동 렌즈의 네 가장자리 부분(point)에서만 고정된 경우, 능동 렌즈의 변형에 의한 2차적 파면 왜곡을 렌즈 가열에 의한 수차에 의한 파면 왜곡을 상쇄하도록 유도할 수 있다. 이에 따라, 국부적 렌즈 가열에 의한 수차를 보정할 수 있다. If the fixing pins 530 are fixed to four orthogonal positions instead of eight, the size or area of the edge portion of the active lens 510 deformed by the applied physical force cannot be limited. do. Thus, when the four fixing pins are introduced, the displaced curved surface of the active lens 510 substantially follows the quadratic function. Thus, the wavefront of light passing through the deformed active lens has a curvature along the quadratic function. When aberration such as Z5 expressed by Zernike fifth term is caused by local heating on the projection lens unit 400, wavefront distortion due to Z5 aberration can be interpreted to substantially follow a quadratic function. Therefore, when only four edges of the active lens are fixed by the four main fixing pins, the secondary wavefront distortion due to the deformation of the active lens can be induced to cancel the wavefront distortion due to the aberration caused by the lens heating. . Thereby, aberration by local lens heating can be corrected.

그런데, 렌즈부(400)의 국부적 가열에 의해서 제르니케 12차항으로 표현되는 Z12 수차가 유발될 경우, 이러한 수차에 의한 파면 왜곡은 2차 함수를 벗어나 더 높은 차수의 함수, 예컨대, 3차 이상의 함수를 따르게 된다. 따라서, 네 개의 주된 고정핀에 의해서 능동 렌즈의 네 가장자리 부분(point)에서만 고정된 상태로는 Z12 등과 같은 높은 차수에 의한 수차는 보정되기 어렵다. 이에 따라, 본 발명의 실시예에서는 도 5에 제시된 바와 같이 고정핀(530)을 8개 도입하고, 고정핀(530) 사이의 이격 부분(535)의 간격이 조정하여 능동 렌즈(510)가 변위된 굴곡면이 실질적으로 2차 함수가 아닌 더 높은 차수의 함수를 따르는 형상을 가지게 능동 렌즈(510)를 변형시킬 수 있다. However, when the Z12 aberration represented by the Zernike 12th term is induced by local heating of the lens unit 400, the wavefront distortion due to such aberration is out of the second order function, for example, a function of higher order, for example, a third order function. Will follow. Therefore, aberrations due to high orders such as Z12 are difficult to be corrected in the state fixed only at four edge points of the active lens by the four main fixing pins. Accordingly, in the exemplary embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5, eight fixed pins 530 are introduced, and the active lens 510 is displaced by adjusting the distance between the spaced portions 535 between the fixed pins 530. The active lens 510 may be deformed such that the curved surface has a shape that follows a higher order function rather than a substantially quadratic function.

이와 같이, 능동 렌즈(510)를 굴곡지게 부분적으로 변위시킴으로써, 능동 렌즈(510)에 입사되는 광은 능동 렌즈(510)의 부분적인 변위에 의해 유발되는 수차를 가지며 출사되게 된다. 따라서, 이러한 능동 렌즈(510)에 의해 인위적으로 유발된 수차가, 투사 렌즈부(400)에 유발된 국부적 가열에 의해 발생된 수차를 보상하도록, 능동 렌즈(510)의 부분적 변위 정도를 고정핀(530)의 위치를 조정하여 유도한다. As such, by partially displacing the active lens 510, the light incident on the active lens 510 is emitted with an aberration caused by the partial displacement of the active lens 510. Therefore, the degree of partial displacement of the active lens 510 is fixed to the pin so that the aberration artificially caused by the active lens 510 compensates for the aberration caused by the local heating caused by the projection lens unit 400. 530 to adjust the position of the guide.

도 6 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법을 설명하기 위해서 제시한 도면들이다. 6 to 8 are diagrams for explaining a method of correcting aberration by lens heating according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 다이폴 조명계와 같은 비대칭 변형 조명계(도 1의 310)를 이용하여 웨이퍼(도 1의 100)에 노광 과정을 수행함에 따라, 투사 렌즈부(도 1의 400)에 국부적 가열이 유발되어 투사 렌즈부(400)의 정상적인 파면(601)에서 왜곡된 왜곡 파면(602)이 유발된다. 즉, 국부적 가열에 의한 투사 렌즈부(400)의 수차 발생에 의해서 정상파면(601)에서 벗어난 왜곡 파면(602)이 유발된다. 이러한 투사 렌즈부(400)에서 발생되는 수차 또는 왜곡 파면(602)은 제르니케 잔류(Zernike residuals) 정도를 측정하고, 이러한 수차 측정 결과를 제르니케 다항식으로 분석한 결과로 얻어질 수 있다. 다이폴 조명계, 특히, 극한 다이폴 조명계에 의해 유발된 수차에 의해 제공되는 파면 왜곡은, 5차의 Z5의 수차와 12차의 Z12의 수차가 주된 요인으로 파악되고 있다. Z5의 수차는 2차 함수적으로 변화되므로 쉽게 보정될 수 있으나, Z12는 수차 크기가 2차 함수를 따르지 않으므로, 능동 렌즈(도 4의 510)의 변형 형태를 2차 함수를 따르는 형태가 아닌 다른 형태로 변형시키는 것이 요구된다. Referring to FIG. 6, as the exposure process is performed on a wafer (100 in FIG. 1) using an asymmetric modified illumination system (310 in FIG. 1) such as a dipole illumination system, local heating is applied to the projection lens unit (400 in FIG. 1). A distortion wavefront 602 that is distorted at the normal wavefront 601 of the projection lens unit 400 is induced. That is, the distortion wavefront 602 deviating from the normal wavefront 601 is caused by the aberration of the projection lens unit 400 due to local heating. The aberration or distortion wavefront 602 generated in the projection lens unit 400 may be obtained as a result of measuring the Zernike residuals and analyzing the aberration measurement results by the Zernike polynomial. The wavefront distortion provided by the aberration caused by the dipole illumination system, especially the extreme dipole illumination system, is considered to be the main factor due to the aberration of the fifth order Z5 and the 12th order Z12. The aberration of Z5 can be easily corrected because it changes quadratic function, but since Z12 does not follow the quadratic function of the aberration size, the deformation form of the active lens (510 of FIG. 4) is different from the form of the quadratic function. It is required to transform it into a form.

본 발명의 실시예에서는 이러한 렌즈부(도 1의 400)의 수차를 보정하기 위해서, 우선적으로 렌즈부(400)에서 유발된 수차에 의한 파면 왜곡 정도를 검출한다. 이와 같이 검출된 결과는 도 6에 제시된 바와 같이 왜곡 파면(602)으로 제시될 수 있으며, 정상파면(601)이 광(603)을 포커스면(focusing plane: 604)에 입사광을 정확하게 포커스시키는 데 비해, 왜곡 파면(602)은 디포커스(defocus)를 유발하는 것으로 파악된다. 이러한 왜곡 파면(602)을 보상하기 위해서, 도 4 및 도 5에 제시된 능동 렌즈(510)를 부분적으로 변위시켜 변위된 능동 렌즈(530)에 의해, 도 7에 제 시된 바와 같은 보상 파면(605)이 제공되도록 유도한다. In the embodiment of the present invention, in order to correct the aberration of the lens unit 400 (FIG. 1), the degree of wavefront distortion due to the aberration induced by the lens unit 400 is first detected. The detection result as described above may be presented as a distortion wavefront 602 as shown in FIG. 6, in which the stationary wavefront 601 accurately focuses the light 603 to the incident plane at the focusing plane 604. The distortion wavefront 602 is understood to cause defocus. To compensate for this distortion wavefront 602, the compensation wavefront 605 as shown in FIG. 7, by the active lens 530 displaced by partially displacing the active lens 510 shown in FIGS. 4 and 5. Induce it to be provided.

예컨대, 도 5에 제시된 바와 같이 능동 렌즈(530)를 고정시키는 고정핀(530)들의 위치를 가변시켜, 고정핀(530)들 사이의 이격 부분(535)의 간격을 조절한다. 이후에, 고정핀(530)들 사이의 능동 렌즈(530)의 가장 자리 부분들 중 교번적 위치의 가장 자리 부분들에 대해서 물리적 힘을 광축 방향으로 위 또는 아래로 인가하여 능동 렌즈(530)가 부분적으로 변위되도록 한다. 이러한 능동 렌즈(510)의 부분적인 변위에 의해서, 능동 렌즈(510)를 지나 출사되는 광의 파면은 도 7의 보상 파면(605)과 같이 왜곡되게 된다. 즉, 능동 렌즈(510)의 변위는 결국 수차를 인위적으로 또는 의도적으로 유발시킨 효과를 나타내므로, 정상파면(601)에 대해 왜곡된 보상 파면(605)이 유도될 수 있다. For example, as shown in FIG. 5, the positions of the fixing pins 530 that fix the active lens 530 are changed to adjust the spacing of the spaced portion 535 between the fixing pins 530. Subsequently, the active lens 530 is applied by applying a physical force up or down in the optical axis direction to the edge portions of the alternate positions among the edge portions of the active lens 530 between the fixing pins 530. Allow partial displacement. Due to the partial displacement of the active lens 510, the wavefront of the light exiting through the active lens 510 is distorted like the compensation wavefront 605 of FIG. 7. That is, since the displacement of the active lens 510 has an effect of artificially or intentionally causing aberration, the distorted compensation wavefront 605 with respect to the stationary wavefront 601 can be induced.

이때, 보상 파면(605)은 렌즈 가열에 의해 렌즈부(400)에 유발된 수차에 의한 왜곡 파면(602)을 보상할 수 있는 형상을 가지게 유도된다. 이를 위해서, 능동 렌즈(510)를 고정하는 고정핀(530)들의 위치를 변화시켜 능동 렌즈(510)의 변위되는 부분의 면적 또는 크기, 위치가 변화되도록 한다. 이와 같이 능동 렌즈(510)의 변위 정도 및 형태를 변화시키며 왜곡 파면(602)을 보상할 수 있는 보상 파면(605)을 찾는다. 이와 같이 찾아진 보상 파면(605)은 실질적으로 Z5 및 Z12 차수의 수차를 보상하는 형상을 가지게 된다. 따라서, 보상 파면(605)은 왜곡 파면(602)을 보상하여, 도 8에 제시된 바와 같이 정상파면(601)과 실질적으로 대등한 보정된 파면(607)이 렌즈부(400)에 유도된다. In this case, the compensation wavefront 605 is induced to have a shape capable of compensating for the distortion wavefront 602 due to aberration induced in the lens unit 400 by lens heating. To this end, by changing the position of the fixing pins 530 fixing the active lens 510, the area, size, or position of the displaced portion of the active lens 510 is changed. In this way, the compensation wavefront 605 that can compensate for the distortion wavefront 602 by changing the degree of displacement and shape of the active lens 510 is found. The compensation wavefront 605 thus found has a shape that substantially compensates for aberrations of Z5 and Z12 orders. Thus, the compensation wavefront 605 compensates for the distortion wavefront 602, so that a corrected wavefront 607 substantially equal to the stationary wavefront 601 as shown in FIG. 8 is induced in the lens portion 400.

이와 같이 본 발명의 실시예에서는 능동 렌즈(510)의 8개의 고정핀(510)을 도입하여, 능동 렌즈(510)의 가장 자리 8 지점이 고정핀(510)에 의해서 고정되어 변위가 유발되지 않게 한다. 고정핀(510)들의 위치를 가변시켜 고정핀(510)들 사이의 이격 부분(535)의 간격을 조절하고, 고정핀(510)들 사이의 능동 렌즈(510) 가장자리 부분들에 하나 건너 하나씩 물리적 힘을 인가함으로써, 능동 렌즈(510)의 부분적 변위 정도가 고정핀(510)들의 위치 가변에 의존하여 변화되게 유도할 수 있다. 따라서, 능동 렌즈(510)의 가장 자리 끝부분만을 집중적으로 변위시킬 수 있어, 능동 렌즈(510)에 의해 제공되는 보상 파면(도 7의 605)이 투사 렌즈부(400)에 발생된 Z5 및 Z12 차수의 수차 등에 의해 유발된 왜곡 파면(도 7의 602)을 보상하게 제공될 수 있다. As described above, in the exemplary embodiment of the present invention, the eight fixing pins 510 of the active lens 510 are introduced, so that the eight edges of the active lens 510 are fixed by the fixing pins 510 so that the displacement is not induced. do. By varying the position of the fixing pins 510 to adjust the spacing of the spaced apart portion 535 between the fixing pins 510, and physically one by one across the edges of the active lens 510 between the fixing pins 510 By applying a force, the degree of partial displacement of the active lens 510 may be induced to change depending on the positional change of the fixing pins 510. Therefore, only the edge of the active lens 510 can be displaced intensively, so that the compensation wavefront (605 of FIG. 7) provided by the active lens 510 is generated in the projection lens unit 400. It can be provided to compensate for the distortion wavefront (602 in FIG. 7) caused by the aberration of the order or the like.

이와 같이, 다이폴 조명계와 같은 비대칭 조명계를 사용할 때 수반될 수 있는 투사 렌즈부(400)의 국부적 가열에 의한 수차를 보상할 수 있어, 보다 정교한 패턴 전사를 구현하도록 노광 과정을 수행할 수 있다. 즉, 수차 증가에 의한 전사되는 이미지 콘트라스트(image contrast)의 저하를 억제할 수 있어, 웨이퍼 노광 과정의 패턴 불량 발생을 억제할 수 있다.  In this way, the aberration due to the local heating of the projection lens unit 400, which may be accompanied when using an asymmetric illumination system such as a dipole illumination system, may be compensated, and the exposure process may be performed to realize more sophisticated pattern transfer. In other words, it is possible to suppress the degradation of the transferred image contrast due to the aberration increase, and to suppress the occurrence of pattern defects during the wafer exposure process.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 스캐너 노광 장비를 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다. 1 is a view schematically illustrating a scanner exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 다이폴(dipole) 조명계를 설명하기 위해서 도시한 도면이다. 2 is a view illustrating a dipole illumination system according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수차 보정부를 설명하기 위해서 제시한 도면이다. 3 is a diagram for explaining an aberration correction unit according to an embodiment of the present invention.

도 4 및 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 수차 보정을 위한 능동 렌즈(lens)의 변형을 설명하기 위해서 제시한 도면이다. 4 and 5 are diagrams for explaining the deformation of the active lens (lens) for aberration correction according to an embodiment of the present invention.

도 6 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법을 설명하기 위해서 제시한 도면들이다. 6 to 8 are diagrams for explaining a method of correcting aberration by lens heating according to an embodiment of the present invention.

Claims (6)

비대칭 조명계의 노광 광을 사용하는 노광 장비의 투사 렌즈(lens)부에 상기 광에 의한 국부적 가열에 의해 발생되는 수차를 검출하는 단계;Detecting aberrations generated by local heating by the light in the projection lens portion of the exposure equipment using the exposure light of the asymmetric illumination system; 상기 투사 렌즈부 내에 상기 수차에 의해 유발되는 상기 투사 렌즈부의 왜곡 파면(wave front)을 보상하기 위한 능동 렌즈를 삽입하고 상기 능동 렌즈의 가장 자리의 여덟 지점을 고정핀들을 이용하여 고정시키는 단계;Inserting an active lens to compensate for the distortion wave front of the projection lens portion caused by the aberration in the projection lens portion and fixing eight points of the edge of the active lens with fixing pins; 상기 고정핀들 사이의 상기 능동 렌즈의 가장 자리 부분들 중 네 지점들을 선택하여 상기 능동 렌즈의 가장 자리 부분에 접촉되는 압전 소자 또는 유압 액추에이터(actuator)에 의해 제공되는 물리적 힘을 각각 인가하여 위 또는 아래 방향으로 상기 선택된 가장 자리 부분을 부분적으로 변위하여 상기 능동 렌즈가 굴곡되게 유도하는 단계; 및Select four points of the edge portions of the active lens between the fixing pins to apply a physical force provided by a piezoelectric element or a hydraulic actuator in contact with the edge portion of the active lens, respectively, to up or down Partially displacing the selected edge portion in a direction to induce the active lens to bend; And 상기 고정핀들의 위치를 변화시켜 상기 고정핀들 사이의 이격 간격의 변화에 따라 상기 변위의 크기 및 변위되는 면적을 변화시켜, 상기 부분적 변위에 의해 변형된 상기 능동 렌즈의 굴곡된 면에 의해 제공되는 보상 파면이 상기 왜곡 파면을 보상하여 상기 수차를 보정하도록 유도하는 단계를 포함하는 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법.Compensation provided by the curved surface of the active lens deformed by the partial displacement by changing the position of the fixing pins to change the magnitude of the displacement and the area to be displaced according to the change of the separation distance between the fixing pins. Inducing a wavefront to compensate for the distortion wavefront to correct the aberration. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 비대칭 조명계는 다이폴(dipole) 조명계로 도입되는 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법.And the asymmetric illumination system corrects aberrations due to lens heating introduced into the dipole illumination system. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 투사 렌즈부의 왜곡 파면(wave front)은 제르니케 다항식의 5차수 및 12차수의 수차를 포함하게 해석되고,The distortion wave front of the projection lens unit is interpreted to include the 5th and 12th order aberrations of the Zernike polynomial, 상기 보상 파면은 상기 제르니케 다항식의 5차수 및 12차수의 수차를 보정하게 유도되는 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법.And the compensation wavefront corrects aberrations due to lens heating induced to correct aberrations of fifth and twelveth orders of the Zernike polynomial. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 능동 렌즈는 투명한 판상에 입사광을 회절시키는 회절격자 또는 키노폼(kinoform)이 형성된 렌즈로 도입되는 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법.And the active lens is introduced into a lens having a diffraction grating or a kinoform that diffracts incident light on a transparent plate. 삭제delete 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 물리적 힘은 상기 고정핀들 사이의 상기 능동 렌즈의 가장 자리 부분들 에 대해 교번적으로 선택되는 네 부분에 대해 인가되고, 상기 네 부분들 중 두 부분들은 상호 대향되게 위 방향으로 변위되고 다른 두 부분들은 아래 방향으로 변위되게 인가되는 렌즈 가열에 의한 수차를 보정하는 방법.The physical force is applied to four portions that are alternately selected for the edge portions of the active lens between the fixing pins, two of the four portions being displaced upwardly opposite one another and the other two portions To correct aberration due to lens heating applied to be displaced downward.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09232213A (en) * 1996-02-26 1997-09-05 Nikon Corp Projection aligner
JPH11121372A (en) * 1990-11-26 1999-04-30 Nikon Corp Projection aligner and method therefor
KR0184609B1 (en) * 1992-03-27 1999-05-15 Polaroid Corp Methods and means for reducing temperature-induced variations in lenses and lens devices
KR20070077383A (en) * 2006-01-23 2007-07-26 주식회사 하이닉스반도체 Method for forming pattern using lithography process

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11121372A (en) * 1990-11-26 1999-04-30 Nikon Corp Projection aligner and method therefor
KR0184609B1 (en) * 1992-03-27 1999-05-15 Polaroid Corp Methods and means for reducing temperature-induced variations in lenses and lens devices
JPH09232213A (en) * 1996-02-26 1997-09-05 Nikon Corp Projection aligner
KR20070077383A (en) * 2006-01-23 2007-07-26 주식회사 하이닉스반도체 Method for forming pattern using lithography process

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