KR100919226B1 - Electro-chemical process for evaluating thickness of metal plated-layer - Google Patents

Electro-chemical process for evaluating thickness of metal plated-layer

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Abstract

본 발명은 소지 금속의 부식을 방지하기 위하여 표면에 입혀지는 코팅층의 두께를 측정하기 위하여 사용하는 무게 감량법 적용 시 표면 코팅층의 두께를 박리 시킨 상태를 전기화학적 방법인 부식 평형 전위 추이 법을 이용하여 결정하는 금속 도금층 두께평가를 위한 전기화학적 방법에 대한 것이다. The present invention is to determine the state of peeling the thickness of the surface coating layer when applying the weight loss method used to measure the thickness of the coating layer coated on the surface in order to prevent the corrosion of the base metal by using the corrosion equilibrium potential transition method of the electrochemical method It relates to an electrochemical method for metal plating layer thickness evaluation.

Description

금속 도금층 두께 평가를 위한 전기화학적 방법{Electro-chemical process for evaluating thickness of metal plated-layer}Electro-chemical process for evaluating thickness of metal plated-layer

본 발명은 소지 금속의 부식을 방지하기 위하여 표면에 입혀지는 도금층 두께 측정 시, 소지 금속 용해를 최소화 하는 시간을 전기화학적 방법인 개회로 부식 전위 방법을 이용하여, 간단하게 코팅층을 용액에 완전히 녹일 수 있는 시간을 결정하도록 한 금속 도금층 두께평가를 위한 전기화학적 방법에 관한 것이다.The present invention can simply dissolve the coating layer completely in a solution by using the open-circuit corrosion potential method, which is an electrochemical method, in minimizing the dissolution of the metal when measuring the thickness of the coating layer coated on the surface to prevent corrosion of the metal. The present invention relates to an electrochemical method for evaluating the thickness of a metal plating layer to determine a time period.

도금층의 두께를 측정하기 위하여 가장 일반적으로 사용되는 방법으로 무게 감량법이 있다. 이는 도금 후 무게(W1)와 도금층 박리 후 무게(W2) 차이를 측정하여 도금 물질의 밀도(d)와 시험 면적(S)을 이용하여 도금 두께를 측정하는 방식이다. 여기에서 도금층 두께(T)는 [(W1-W2)*d/S]로 계산된다. 그러나 종래에는The most commonly used method for measuring the thickness of the plating layer is the weight loss method. This is a method of measuring the thickness of the plating using the density (d) and the test area (S) of the plating material by measuring the difference between the weight (W1) after plating and the weight (W2) after peeling the plating layer. Here, the plating layer thickness T is calculated as [(W1-W2) * d / S]. But conventionally

ⅰ) 시편의 이물질 등을 알코올이나 적당한 용제로 세척하고 건조하며,Iv) clean and dry the foreign matter on the specimen with alcohol or a suitable solvent,

ⅱ) 해당 시편을 적당한 용액에 화학적/전기적으로 피막을 용해시키고,Ii) chemically and electrically dissolving the coating in a suitable solution;

ⅲ) 용해 완료 후 알코올/증류수 등으로 표면 세정 후 건조하는데, Iii) After completion of dissolution, the surface is washed with alcohol / distilled water and dried.

여기에서 ⅱ) 단계에서 도금층 위에 올라간 피막 이외에 기재(base)로 사용된 모재 용해로 인한 무게 손실이 발생할 소지가 있고, 이로 인하여 측정 오차가 발생할 소지가 있다. 또한 정확한 측정을 위하여 기존에는 여러 시간을 실험 계획법 등을 적용하여 표면 관찰 및 성분 분석 등을 통하여 최적의 박리 시간을 결정함으로써 시간이 많이 걸리는 단점이 있었다. Here, in addition to the coating on the plated layer in step ii), there is a possibility that the weight loss due to dissolution of the base material used as the base (base) may occur, thereby causing a measurement error. In addition, in order to accurately measure a number of times, by applying an experimental design method and the like to determine the optimum peeling time through surface observation and component analysis, it takes a lot of time.

이와 같이 종래에는 도금층 박리 후 무게(W2)를 결정하기 위하여 도금층 용해 용액에 시편을 침지하여 완전 박리 되는 시간을 찾기 위하여서는 많은 시간이 소요되며, 도금 층의 완전 용해 여부를 현미경이나 육안으로 확인하는 데에도 많은 어려움이 있다.As described above, in order to determine the weight (W2) after peeling the plating layer, it takes a long time to find the time that the specimen is completely peeled by immersing the specimen in the plating layer dissolution solution. There are many difficulties.

따라서, 본 발명은 포텐쇼스타트(potentiostat)를 이용하여 도금층 박리 용액 침지 시간에 따른 개회로 부식 전압(open circuit potential)의 추이를 측정하여 시간에 따라서 일정한 개회로 부식 전압이 측정되는 시간을 도금층이 박리 용액에서 완전 박리되는 시간으로 설정하고, 이를 위하여 무게감량법 적용시 도금층 완전 분리에 대한 시간을 전기화학적인 방법을 이용하여 결정함으로써, 이를 이용한 금속의 부식을 방지하는 데에 목적이 있다.Accordingly, the present invention measures the change in the open circuit potential voltage according to the plating layer peeling solution immersion time using a potentiostat to determine the time for which the constant open circuit corrosion voltage is measured with time. The purpose of the present invention is to set the time to be completely peeled off from the peeling solution, and to determine the time for the complete separation of the plating layer when applying the weight loss method by using an electrochemical method, thereby preventing corrosion of the metal using the same.

본 발명은 기본적으로 소지금속의 부식을 방지하기 위하여 표면에 입혀지는 도금층 두께측정시 소지금속 용해시간을 최소화하기 위하여 도금층 제거 용액을 사용하여 도금층 제거시간을 결정하는데 있어서,In the present invention, in order to determine the plating layer removal time using a plating layer removal solution to minimize the metal dissolution time when measuring the thickness of the coating layer coated on the surface to prevent corrosion of the base metal,

개회로 부식전위방법을 이용하여 소지금속표면의 코팅층이 완전히 녹게 되는 개회로 부식 포텐셜 값의 정상상태 도달시간을 적정 도금층 제거용액 침지시간으로 결정하는 것을 특징으로 하는 도금층 두께평가를 위한 전기화학적 방법에 관한 발명이다.In the electrochemical method for the evaluation of the thickness of the plating layer, using the open-circuit corrosion potential method, the time to reach the steady state of the open-circuit corrosion potential value at which the coating layer on the base metal surface is completely dissolved is determined as an appropriate plating layer removal solution immersion time. Invention.

여기에서, 결정해야할 도금층 제거시간은 최소 침지시간을 뜻한다.Here, the plating layer removal time to be determined means the minimum immersion time.

본 발명에 의하여 무게 감량법 적용시 도금 용액의 완전 제거 시간을 전기화학적 방법을 이용하여 결정함으로써, 전술한 바와 같이 도금층이 박리 용액 완전 제거 시간을 빠르게 결정할 수 있다. 또한 육안 및 현미경을 용한 육안 검사 방법 대비하여 측정의 정확도도 향상시킬 수 있다.By determining the complete removal time of the plating solution when applying the weight loss method according to the present invention using an electrochemical method, as described above, the plating layer can quickly determine the complete removal time of the peeling solution. In addition, the accuracy of the measurement can be improved compared to the visual inspection method using the naked eye and microscope.

제 1도 : 도금된 금속이 박리 용액에 침지시 발생할 수 있는 반응 개략도Figure 1: Schematic diagram of reactions that can occur when the plated metal is immersed in the stripping solution

제 2도 : 도금된 금속 계면 박리 시 발생할 수 있는 여러가지 타입의 부식 전위 개략도(여기에서 t0 : 도금층 박리완료 최소시간)FIG. 2: Schematic diagram of various types of corrosion potentials that may occur when the plated metal interface is peeled off (where t 0 : minimum time for peeling of the plated layer)

제 3도 : 전기화학적 박리 시간 결정을 위한 모사장치의 작용 개념도3: Conceptual view of the operation of the simulation device for the determination of the electrochemical peeling time

제 4도 : 끝단에 미세한 구멍을 형성한 캐필러리 팁(tip) 장치 개략설명도4: Schematic diagram of capillary tip device with fine holes formed at the end

제 5도 : 도 3의 도금측 박리용기 내에 분석시편을 장입한 때의 상태설명도5: A state explanatory diagram when an analytical specimen is loaded into the plating-side peeling vessel of FIG. 3.

도 1은 도금된 금속이 도금 박리 용액에 침지시 발생할 수 있는 반응을 개략적으로 설명한 것이다. 여기에서 도금 박리 용액에 소지금속(M2)과 이 소재금속(M2) 표면에 형성된 도금층(M1)이 침지되면 도금 박리 용액 중에 금속이온이 존재할 경우 이온화 반응이 일어나서 금속은 금속이온으로 변하고 그에 따른 전자방출 반응이 발생한다.1 schematically illustrates a reaction that may occur when a plated metal is immersed in a plating stripping solution. Here, when the base metal (M 2 ) and the plating layer (M 1 ) formed on the surface of the material metal (M 2 ) are immersed in the plating stripping solution, an ionization reaction occurs when a metal ion is present in the plating stripping solution, and the metal is converted into a metal ion. The electron emission reaction occurs accordingly.

금속계면에서 도금된 금속(M1)의 용해반응은The dissolution reaction of the plated metal (M 1 ) at the metal interface

M1→M1 n ++ne- 으로 되어 계면에서의 금속화합물 용해반응이 일어난다.M 1 → M 1 n + + ne to dissolve the metal compound at the interface.

계면에서의 금속 화합물 용해 반응은The dissolution reaction of the metal compound at the interface

M1/M2 계면에서 금속간 화합물이 발생할 경우 발생하는 금속간 화합물, 예를 들면 Fe에 Zn 용융 도금 시 Fe5Zn21, FeZn7, FeZn13 등의 계면에 금속 화합물이 발생한다. 따라서 이런 경우의 반응을 금속간 화합물 용해 반응이라고 총칭한다.When the intermetallic compound is generated at the M 1 / M 2 interface, for example, a metal compound is generated at the interface of Fe 5 Zn 21 , FeZn 7 , FeZn 13, and the like during Fe-Zn hot dip plating. Therefore, the reaction in such a case is collectively called an intermetallic compound dissolution reaction.

소지금속(M2)의 용해반응은Dissolution reaction of base metal (M 2 )

M2→M2 m ++me- 로 되어 소지금속 용해반응이 진행된다. 여기에서 n, m은 금속의 이온화시 나타나는 산화가수이다.M 2 → M 2 m + + me -The base metal dissolution reaction proceeds. Where n and m are oxidized singers that appear upon ionization of the metal.

도 1에 명기된 그림과 같이 도금 박리 용액에 침지시 먼저 도금층이 박리 되면서 표면의 변화가 발생하기 시작한다. 이어 계면에서 도금층의 용해 반응이 발생하여, 이에 대한 전기화학적 전위가 형성되게 된다. 도금층의 박리가 계속 진행됨에 따라서 이 전기화학적 평형 전위는 도 2에서와 같이 변화를 겪게 된다. When the immersion in the plating stripping solution as shown in Figure 1, the plating layer is first peeled off and surface changes begin to occur. Subsequently, dissolution reaction of the plating layer occurs at the interface, thereby forming an electrochemical potential thereto. As peeling of the plating layer proceeds, this electrochemical equilibrium potential undergoes a change as shown in FIG. 2.

도 2는 발생할 수 있는 여러가지 타입의 부식전위변화를 각각 예측한 대략적 모식도이다. 즉, 도 2는 도금층이 용액내에서 도금층 박리반응이 일어날 때 발생할 것으로 추정되는 시간에 따른 평형부식전위그래프의 모식도이다. 즉, 본 발명은 전술한 바와 같이 개회로 부식전위방법을 이용하여 소지금속 표면의 코팅층이 완전히 박리되어 용액에 녹게 되는 개회로 부식 포텐셜 값의 정상상태 도달시간을 적정 도금층 제거용액 침지시간으로 결정하는 것을 요지로 한다.2 is a schematic diagram for predicting each of the various types of corrosion potential changes that may occur. That is, FIG. 2 is a schematic diagram of an equilibrium corrosion potential graph with time estimated to occur when a plating layer peeling reaction occurs in a plating layer. That is, the present invention is to determine the time to reach the steady state of the open-circuit corrosion potential value, which is completely peeled off the coating layer of the base metal surface by using the open-circuit corrosion potential method as described above as an appropriate plating layer removal solution immersion time Let's make a point.

도 2에서 알 수 있듯이 일정 시간(t0)이 지나면 도금층이 완전히 박리 되어 용액이 모재와 반응하게 되고, 그렇게 될 경우 일정한 개회로 부식(開回路腐蝕) 전압이 관측된다. 왜냐하면 모재 금속이 도금 박리 용액과 균일하게 반응하여 모재 금속 용해 반응이 발생하기 때문이다. 따라서 모재금속 용해반응이 발생되면 그때까지의 경과된 시간(t0)을 결정할 수 있고, 이에 따라 도금층 박리 용액에서 도금층 완전 박리 시간을 별도의 실험 계획 없이 결정할 수 있게 된다. 즉, 도 2에서 가정한 예상그래프에서 각각의 t0 시간이 도금층 박리를 위한 최소시간으로 결정되는 것이다.As can be seen in Figure 2, after a predetermined time (t 0 ), the plating layer is completely peeled off and the solution reacts with the base metal, whereby a constant open circuit corrosion voltage is observed. This is because the base metal reacts uniformly with the plating peeling solution to generate the base metal dissolution reaction. Therefore, when the base metal dissolution reaction occurs, it is possible to determine the elapsed time (t 0 ) until then, thereby determining the complete peeling time of the plating layer in the plating layer peeling solution without a separate experimental plan. That is, each t 0 time in the predicted graph assumed in FIG. 2 is determined as the minimum time for peeling the plating layer.

본 발명이 나타낼 수 있는 실시예들을 열거하면 다음의 4가지로 구분할 수 있다.When the embodiments of the present invention are listed, they can be classified into the following four types.

도금층 제거 용액을 사용하여 도금층 제거 시간을 결정하는데 있어서, 개회로 부식 포텐셜 값이 정상상태에 도달되는 시간을 적정 도금층 제거 용액 침지 시간으로 결정한다.In determining the plated layer removal time using the plated layer removal solution, the time at which the open circuit corrosion potential value reaches a steady state is determined as the appropriate plated layer removal solution immersion time.

ⅰ) 상기 방법을 적용할 수 있는 일례로서 자동차용 내판/외판 재료로 사용되는 Zn 용융 도금에서 Zn 두께 측정을 위해 사용하는 표준 시편 제작 시 Zn 도금 제거 시간으로 결정하는 방법;Iii) a method for determining the Zn plating removal time when fabricating a standard specimen used for measuring Zn thickness in Zn hot-dip plating used for automotive inner / exterior materials as an example to which the method can be applied;

ⅱ) 상기 방법을 적용할 수 있는 다른 일례로서 자동차용 배기관 재료로 사용되는 Al 도금 강판 Al 두께 측정을 위해 사용하는 표준 시편 제작 시 Al 도금 제거 시간으로 결정하는 방법;Ii) As another example to which the method can be applied, a method for determining Al plating removal time when fabricating a standard specimen used for measuring Al thickness of Al plated steel sheet used as an exhaust pipe material for automobiles;

ⅲ) 상기 방법을 적용할 수 있는 또 다른 일례로서 연료용 탱크(tank) 재료로 쓰이는 Pb-Sn 도금 강판 에서 Pb-Sn 도금 두께 측정을 위해 사용하는 표준 시편 제작시 Pb-Sn 도금 두께 제거 시간으로 결정하는 방법;Iii) As another example to which the method can be applied, the Pb-Sn plating thickness removal time is used to prepare a standard specimen for measuring Pb-Sn plating thickness in a Pb-Sn plated steel sheet used as a fuel tank material. How to determine;

ⅳ) 상기 방법은 또한 표면에서 여러 가지 금속을 변환코팅(conversion coating)한 후 제거 할 때 제거 시간을 결정하는 방법에도 적용 가능한 도금층 두께평가를 위한 전기화학적 방법이다.Iii) The method is also an electrochemical method for the evaluation of plating thickness, which is applicable to the method of determining the removal time when removing various metals from the surface after conversion coating.

여기에서 변환코팅(conversion coating)은 금속표면처리의 한 종류로 금속 표면을 보호하기 위하여 입혀지는 코팅(coating)층을 말한다. 여기에는 크롬산(chromate) 처리/인산염 처리 등이 있다.In this context, conversion coating is a type of metal surface treatment, and refers to a coating layer coated to protect a metal surface. This includes chromate treatment / phosphate treatment.

도 3은 전기화학적 박리시간 결정을 위한 본 발명 모사장치의 개략도이다. 여기에서 도금층 두께평가를 위해Figure 3 is a schematic diagram of the present simulation device for determining the electrochemical peeling time. Here, to evaluate the thickness of the plating layer

제 1단계로 시편을 거치대 또는 홀더(holder)에 장착한다.In the first step, the specimen is mounted on a holder or holder.

제 2단계로 도금박리 용액을 용기에 담는다.In the second step, the plating stripping solution is placed in a container.

제 3단계로 카운터 전극(counter electrode)으로서 백금(Pt)을 사용하는데, 이 백금전극을 셀(cell) 위에 장착한다.In the third step, platinum Pt is used as a counter electrode, and the platinum electrode is mounted on a cell.

제 4단계로 전극으로서 SCE 전극을 주로 사용하며, 이를 또 다른 전극으로 장착한다.In the fourth step, an SCE electrode is mainly used as an electrode, and is mounted as another electrode.

제 5단계로 포텐쇼스타트(potentiostat)에서 시간에 따른 평형 부식 전위를 측정하고 컴퓨터(computer)에서 데이터 처리와 기록을 행한다.In the fifth step, the equilibrium corrosion potential over time is measured in a potentiostat, and data processing and recording is performed on a computer.

도 3에서 간단히 표시한 바와 같이 분석시편과 SCE 전극사이의 거리(a)가 중요하다. 시편과 SCE 전극간의 거리가 길면 시편과 SCE 전극사이에 용액에 의한 전압강하가 많이 발생하기 때문이다.As shown briefly in FIG. 3, the distance a between the analysis specimen and the SCE electrode is important. This is because when the distance between the specimen and the SCE electrode is long, the voltage drop caused by the solution occurs between the specimen and the SCE electrode.

따라서 본 발명을 실현하기 위해 2가지 장치가 필수적이다. 그중 하나는 용액의 저항에 의한 전압강하를 막는 것이고, 이를 위하여 고안된 캐필러 팁(capillary tip) 장치가 필수적이고, 다른 하나는 도금 박리용액이 시편장치로 침투하여 신호(signal)의 왜곡을 방지하기 위한 장치가 또한 필수적이다.Therefore, two devices are essential for realizing the present invention. One of them is to prevent the voltage drop caused by the resistance of the solution, and a capillary tip device designed for this purpose is essential, and the other is to prevent the distortion of the signal by infiltrating the plating peeling solution into the specimen device. A device for this is also essential.

도 4는 상술한 바와 같은 용액에 의한 전압 강하를 최소화하기 위하여 아래 끝 단에 미세한 구멍을 가진 팁(tip)을 나타낸 것으로, 일정한 각도를 가지고 있어서 시편에 가깝게 위치되게 함으로써 용액에 의한 전압 강하를 최소화시킬 수 있음을 나타낸 것이다.4 shows a tip having a minute hole at the lower end to minimize the voltage drop caused by the solution as described above, and has a constant angle to minimize the voltage drop caused by the solution. It can be made.

도 5는 도 3의 도금층 박리용기 내에 분석시편을 장입한 때의 상태를 설명하기 위한 설명도이다.FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a state when an analysis specimen is loaded into the plating layer peeling vessel of FIG. 3. FIG.

상기 그림에서 통째로 시편을 위로 뽑기 위한 공간을 마련하는 것이 중요하다. 만약 그렇지 않으면 전선 연결 등 부가적인 작업이 따라야 하므로 번거롭다. In the figure above, it is important to make room for the whole specimen to be pulled up. If not, it is cumbersome because additional work such as wiring is required.

장치의 외곽에는 용액의 침투를 방지하기 위하여 고무 팩킹(packing)을 설치하며 외곽 및 나사의 재질은 내화학성이 강한 테프론 계열의 수지로 하는 것이 바람직하다.In order to prevent infiltration of the solution, the outside of the device is provided with rubber packing (packing), and the material of the outside and the screw is preferably made of Teflon-based resin having strong chemical resistance.

Claims (3)

소지금속의 부식을 방지하기 위하여 표면에 입혀지는 도금층 두께측정시 소지금속 용해시간을 최소화하기 위하여 도금층 제거 용액을 사용하여 도금층 제거 시간을 결정하는데 있어서, In determining the plating layer removal time by using the plating layer removal solution to minimize the metal dissolution time when measuring the thickness of the coating layer coated on the surface to prevent corrosion of the base metal, 개회로 부식전위방법을 이용하여 소지금속표면의 코팅층이 완전히 녹게 되는 개회로 부식 포텐셜 값의 정상상태 도달 시간을 적정 도금층 제거 용액 침지 시간으로 결정하는 것을 특징으로 하는 도금층 두께평가를 위한 전기화학적 방법.An electrochemical method for evaluating the thickness of a plated layer characterized in that by using the open-circuit corrosion potential method, the time to reach the steady state of the open-circuit corrosion potential value at which the coating layer on the base metal surface is completely dissolved is determined as an appropriate plating layer removal solution immersion time. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, (ⅰ) 상기 방법은 자동차용 내판/외판 재료로 사용되는 Zn 용융 도금에서 Zn 두께 측정을 위해 사용하는 표준 시편 제작 시 Zn 도금 제거 시간 결정할 때,(Iii) The method is used to determine the Zn plating removal time when manufacturing standard specimens for measuring Zn thickness in Zn hot-dip plating used as automotive inner / exterior materials. (ⅱ) 상기 방법은 자동차용 배기관 재료로 사용되는 Al 도금 강판 Al 두께 측정을 위해 사용하는 표준 시편 제작 시 Al 도금 제거 시간 결정할 때,(Ii) The method is used to determine the Al plating removal time when manufacturing a standard specimen used for measuring Al thickness of Al-coated steel sheet used as an exhaust pipe material for automobiles. (ⅲ) 상기 방법은 또한 연료용 탱크(tank) 재료로 쓰이는 Pb-Sn 도금 강판 에서 Pb-Sn 도금 두께 측정을 위해 사용하는 표준 시편 제작시 Pb-Sn 도금 두께 제거 시간 결정할 때,(Iii) The method also determines the Pb-Sn plating thickness removal time when manufacturing standard specimens used to measure Pb-Sn plating thickness in Pb-Sn plated steel sheets used as fuel tank materials. (ⅳ) 상기 방법은 또는 표면에서 여러 가지 금속을 변환코팅(conversion coating)한 후 제거 시간을 결정할 때(Iii) the above method or in determining the removal time after conversion coating of various metals on the surface. 적용 가능하도록 한 도금층 두께평가를 위한 전기화학적 방법.Electrochemical method for evaluating plated layer thickness that is applicable. 제 1항에 있어서, 상기 도금층이 완전히 박리되어 박리용액이 모재와 반응하게 되므로써 일정한 개회로 부식전압이 관측될 때까지의 경과시간(t0)을 도금층이 완전히 박리되는 최소시간으로 결정하도록 한 도금층 두께평가를 위한 전기화학적 방법.The plating layer according to claim 1, wherein an elapsed time (t 0 ) until a constant open circuit corrosion voltage is observed as the plating layer is completely peeled off and the peeling solution reacts with the base material is determined as a minimum time for the plating layer to be peeled off completely. Electrochemical Method for Thickness Evaluation.
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JPH07167821A (en) * 1993-12-15 1995-07-04 Hitachi Ltd Electrochemical monitor
KR20020006317A (en) * 2000-07-12 2002-01-19 마상만 Composition ingredients of cellular phone case for interception of electromagnetic wave and manufacture method thereof

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