KR100907389B1 - Coating apparatus and coating method - Google Patents

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Abstract

Y방향으로 다수의 노즐(53a)을 가지는 헤드(5)를, 기판(W)에 용액을 분사하여 도포 패턴을 형성할 때, Y방향으로 배열된 노즐(53a)간에 용액의 분사량 차이가 생긴다. 그래서, Y방향으로 헤드(5)를 거리 △L만큼 이동시키고, 동일 도포 패턴을 형성하도록 여러 차례 도포를 실시하여, 도포 두께의 불균등(요철)을 보정하여, 도포막 두께의 균일화를 도모한다.When the head 5 having a plurality of nozzles 53a in the Y direction is sprayed with a solution onto the substrate W to form an application pattern, a difference in the injection amount of the solution occurs between the nozzles 53a arranged in the Y direction. Therefore, the head 5 is moved in the Y direction by the distance ΔL, and the coating is applied several times so as to form the same coating pattern, and the unevenness (unevenness) in the coating thickness is corrected to achieve uniform coating film thickness.

Description

도포 장치 및 도포 방법{COATING APPARATUS AND COATING METHOD}Coating device and coating method {COATING APPARATUS AND COATING METHOD}

본 발명은, 노즐로부터 용액을 분사하여 기판에 소정의 도포 패턴을 형성하도록 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치 및 도포 방법의 개선에 관한 것이다.The present invention relates to an improvement of an ink jet method coating apparatus and a coating method which sprays a solution from a nozzle to apply a predetermined coating pattern on a substrate.

일반적으로 액정 표시 장치나 반도체 장치의 제조 공정에서의 성막(成膜) 프로세스에 있어서, 유리 기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판면에 배향막이나 레지스트 등의 기능성 박막이 형성된다.Generally, in the film-forming process in the manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, functional thin films, such as an orientation film and a resist, are formed in substrate surfaces, such as a glass substrate and a semiconductor wafer.

기판면에 기능성 박막을 형성할 경우, 기능성 박막을 형성할 용액을 다수 노즐로부터 분사(토출)시켜, 기판에 도트(Dot) 모양으로 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치가 이용된다 (특허 문헌 1 참조).In the case of forming a functional thin film on the substrate surface, an ink jet coating apparatus is used which sprays (ejects) a solution for forming the functional thin film from a plurality of nozzles and applies the dot to the substrate in a dot shape (see Patent Document 1). ).

종래의 잉크제트 방식의 도포 장치는, 기판을 반송하는 반송 테이블을 가지고 그 반송 테이블의 위쪽으로, 열형상으로 다수 노즐(세공(細孔), 혹은 오리피스)을 형성한 복수의 헤드를, 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 병설하여, 헤드에 공급된 용액을 상대 이동하는 기판을 향하여 분사하고 설정된 도포 패턴을 형성한다.The conventional ink jet coating apparatus has a conveying table for conveying a substrate, and has a plurality of heads having a plurality of nozzles (pores or orifices) formed in a columnar shape above the conveying table. In parallel with the conveyance direction, the solution supplied to the head is sprayed toward the substrate to move relatively, and a set coating pattern is formed.

상기 도포 장치는, 기판이 반송 테이블에 의해 소정의 거리로 반송되는 동안, 용액을 각 노즐로부터 도트 모양으로 분사시킨다. 이 때문에, 기판상에는, 기 판의 반송 방향을 따라 직선으로 용액의 도트열이 노즐 간격과 같은 간격으로 나란한 도포 패턴, 통상은 전체적으로 구형 모양의 도포 패턴을 형성한다. 도트 모양으로 도포된 용액은, 기판상에서 유동하여 확대 인접하는 용액을 연결하여 평탄화하는 레벨링을 거쳐, 도포막을 형성한다.The said coating device injects a solution in a dot form from each nozzle, while a board | substrate is conveyed by a conveyance table at a predetermined distance. For this reason, on the board | substrate, the application | coating pattern which the line of dots of a solution lined up at the same interval as the nozzle space | interval is formed in a straight line along the conveyance direction of a board | substrate, and generally forms a spherical coating pattern as a whole. The solution applied in the shape of a dot forms a coating film through the leveling which flows on a board | substrate, connects and expands planarly adjacent solution, and flattens.

[특허 문헌 1:일본국 특허 공개평 9-105938호 공보][Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-105938]

기판면으로 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치에서는, 복수의 헤드가 기판의 반송 방향과 직교하는 방향으로 병설되어 있고, 또 각 헤드는 그 병설 방향으로 열형상으로 다수 노즐이 배열 형성되어 있기 때문에, 도포 패턴의 폭 치수에 따라, 필요한 수의 노즐이 선택되어 소정 길이(거리)에 걸쳐 용액이 분사된다.In the inkjet coating apparatus which apply | coats a solution to a board | substrate surface, several head is provided in the direction orthogonal to the conveyance direction of a board | substrate, and each head is formed in the column direction by the formation of many nozzles in the column shape. Therefore, according to the width dimension of an application | coating pattern, a required number of nozzles are selected and a solution is sprayed over predetermined length (distance).

그렇지만, 이러한 헤드에 대해서는, 1회의 분사량(토출량)이 각 노즐 사이에서, 불규칙한 격차를 보인다. However, for such heads, one injection amount (discharge amount) shows an irregular gap between each nozzle.

각 노즐 사이에, 용액 분사량의 격차가 존재하면, 도포 패턴을 형성하는 도트열에 있어서, 용액 도트의 크기, 즉 용액의 도포량이, 열간에 흩어지게 된다. 이 때문에, 용액의 도포→용액의 레벨링→용액의 건조를 거쳐 형성되는 막두께의 균일화가 손상되어, 기능성 박막 등에 양호한 막의 품질을 얻을 수 없는 현상이 발생했다.If there is a difference in the amount of solution injection between the nozzles, the size of the solution dots, that is, the amount of application of the solution, is scattered between the hot spots in the dot row forming the coating pattern. For this reason, the uniformity of the film thickness formed through application | coating of a solution → leveling of a solution → drying of a solution was impaired, and the phenomenon which the quality of a favorable film | membrane etc. which cannot obtain a favorable film | membrane occurred.

그래서, 본 발명은, 열형상으로 배열된 다수의 노즐로부터 용액을 기판을 향하여 분사시켰을 때, 도포 패턴 내에 있어서, 도포막 두께를 균일한 상태에 가깝게 하여 양호한 도포막을 형성할 수 있는 잉크 제트 방식의 도포 장치 및 도포 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Thus, the present invention provides an ink jet method which can form a good coating film by bringing the coating film thickness closer to a uniform state in the coating pattern when the solution is sprayed toward the substrate from a plurality of nozzles arranged in a thermal shape. It is an object to provide a coating device and a coating method.

본 발명의 제1 형태는, 헤드에 형성된 복수의 노즐로부터 용액을 분사시켜, 설정된 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치에 있어서, 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 직사각형 배열 방향과 교차하는 방향으로 상대 이동시킬 수 있는 제1 이동 기구, 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 길이 배열 방향으로 상대 이동시킬 수 있는 제2 이동 기구, 상기 제1 이동 기구와 상기 노즐의 용액 분사 동작을 제어함과 함께, 상기 복수 노즐간의 분사량 격차에 근거하는 상기 제2 이동 기구에 대한 제어에 의해, 상기 헤드와 상기 기판의 상대 위치를 상기 길이 배열 방향과 다르게 하고, 용액을 여러 차례 도포하도록 제어하는 제어기를 구비하는 것을 특징으로 한다.A first aspect of the present invention is an ink jet coating apparatus for spraying a solution from a plurality of nozzles formed in a head to apply a solution to a substrate surface to draw a set coating pattern, wherein the head and the substrate are connected to the nozzle. A first moving mechanism capable of relative movement in a direction intersecting with a rectangular array direction of the second moving mechanism, a second moving mechanism capable of relatively moving the head and the substrate in a length arrangement direction of the nozzle, the first moving mechanism and the nozzle By controlling the second moving mechanism based on the injection amount difference between the plurality of nozzles, the relative position of the head and the substrate is different from the length arrangement direction, and the solution is controlled. And a controller which controls to apply the coating in turn.

본 발명의 제2의 형태는, 헤드에 형성된 복수 노즐로부터 용액을 분사시켜, 설정된 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치에 있어서, 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 길이 배열 방향과 교차하는 방향으로 상대 이동시킬 수 있는 제1 이동 기구, 상기 헤드와 상기 기판, 상기 노즐의 길이 배열 방향으로 상대 이동시킬 수 있는 제2의 이동 기구, 상기 제1 이동 기구와 상기 노즐의 용액 분사 동작을 제어함과 함께, 상기 노즐의 길이 배열 방향의 피치를 P, 양의 정수를 n로 했을 때, 상기 헤드와 상기 기판의 상대 위치를 상기 직사각형 배열 방향으로(n×P+P/2) 다르게 하고, 용액을 여러 차례 도포하도록 제어하는 제어기를 구비하는 것을 특징으로 한다.A second aspect of the present invention is an ink jet coating apparatus for spraying a solution from a plurality of nozzles formed on a head to apply a solution to a substrate surface to draw a set coating pattern, wherein the head and the substrate are attached to the nozzle. A first moving mechanism capable of relative movement in a direction intersecting the length arrangement direction of the second moving mechanism; a second moving mechanism capable of relative movement in the length arrangement direction of the head and the substrate; and the first moving mechanism; In addition to controlling the solution spraying operation of the nozzle, when the pitch in the length arrangement direction of the nozzle is P and the positive integer is n, the relative position of the head and the substrate in the rectangular arrangement direction (n × P + P / 2) it is characterized in that it comprises a controller for controlling to apply the solution several times.

본 발명의 제3 형태는, 헤드에 형성된 복수 노즐로부터 용액을 분사시켜, 설정된 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 방법에 있어서, 상기 복수의 노즐 간의 분사량의 격차에 근거하여, 상기 노즐의 길이 배열 방향에 있어서의 상기 헤드와 기판 사이의 상대 위치를 다르게 함으로써 여러 차례 용액을 도포하는 것을 특징으로 한다.According to a third aspect of the present invention, there is provided an ink jet coating method in which a solution is sprayed from a plurality of nozzles formed on a head to apply a solution to a substrate surface so as to draw a set coating pattern. Based on this, the solution is applied several times by varying the relative position between the head and the substrate in the length arrangement direction of the nozzle.

본 발명의 제4 형태는, 헤드에 형성된 복수의 노즐로부터 용액을 분사시켜, 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 방법에 있어서, 상기 노즐의 직사각형 배열 방향의 피치를 P, 양의 정수를 n으로 했을 때, 전회(前回)의 도포 위치와 금회(今回) 도포 위치 사이의 상기 헤드와 기판 사이의 상대 위치를 (n×P+P/2) 다르게 하고, 용액을 여러 차례 도포하는 것을 특징으로 한다.According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an ink jet coating method in which a solution is sprayed from a plurality of nozzles formed in a head to apply a solution to a substrate surface to draw a coating pattern. When P and a positive integer are n, the relative position between the head and the substrate between the previous application position and the current application position is different (n × P + P / 2), and the solution is repeated several times. It is characterized by applying.

상기와 같이 본 발명에 관련된 잉크제트 방식의 도포 장치 및 도포 방법에 의하면, 적어도 헤드와 기판 사이의 상대 위치를 노즐의 배열 방향으로 다르게 하고, 여러 차례 용액을 도포함으로써, 노즐 간의 분사량 격차를 보정하고, 양호한 도포막을 얻을 수 있다.According to the ink jet coating apparatus and the coating method according to the present invention as described above, at least the relative position between the head and the substrate in the direction of the arrangement of the nozzles, and by applying the solution several times to correct the injection amount gap between the nozzles And a favorable coating film can be obtained.

도 1은, 본 발명과 관련되는 도포 장치의 제1 실시예를 나타낸 정면도이다.1 is a front view showing a first embodiment of a coating device according to the present invention.

도 2(a)는 도 1에 나타낸 장치의 좌측면도, 도 2(b)는 도 2(a)의 주요부 확대 평면도이다.Fig. 2 (a) is a left side view of the apparatus shown in Fig. 1, and Fig. 2 (b) is an enlarged plan view of the main part of Fig. 2 (a).

도 3은, 도 2에 나타낸 헤드의 종단면도이다.3 is a longitudinal cross-sectional view of the head shown in FIG. 2.

도 4는, 도 3에 나타낸 헤드의 저면(底面)도이다.FIG. 4 is a bottom view of the head shown in FIG. 3. FIG.

도 5는, 도 1에 나타낸 헤드의 제어 회로도이다.FIG. 5 is a control circuit diagram of the head shown in FIG. 1.

도 6은, 도 1에 나타낸 장치의 동작 설명도이다.6 is an operation explanatory diagram of the apparatus shown in FIG. 1.

도 7은, 본 발명과 관련되는 도포 장치의 제2 실시예의 동작 설명도이다.7 is an operation explanatory diagram of a second embodiment of the coating device according to the present invention.

액정 표시 장치나 반도체 장치의 제조 공정으로는, 유리 기판이나 반도체 웨이퍼 등의 기판에 회로 패턴 등을 형성하기 위한 성막 프로세스가 있다. 이 성막 프로세스로 기판의 판면에 예를 들어, 배향막이나 레지스트 등의 기능성 박막이 형성된다.As a manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, there exists a film-forming process for forming a circuit pattern etc. in board | substrates, such as a glass substrate and a semiconductor wafer. By this film-forming process, functional thin films, such as an oriented film and a resist, are formed in the board surface of a board | substrate, for example.

기판에 기능성 박막을 형성할 경우, 이 기능성 박막을 형성하는 용액을 복수 노즐로부터 분사하여 기판 판면으로 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치가 이용될 때가 있다.When forming a functional thin film on a board | substrate, the inkjet type | mold coating apparatus which sprays the solution which forms this functional thin film from multiple nozzles, and apply | coats to a board | substrate plate surface may be used.

이러한 잉크제트 방식의 도포 장치에서는, 노즐 간의 분사량 격차가 발생할 때가 있지만, 본 발명은, 이러한 경우에서도, 기판과 헤드 사이의 상대 위치를 노즐 배열 방향으로 슬라이드시키고, 용액을 여러 차례 도포함으로써, 분사량 격차에 기인하는 불균일한 도포막 두께가 해소되는 것에 주목하여 이루게 된 것으로, 본 발명에 관련된 잉크제트 방식의 도포 장치 및 도포 방법의 하나의 실시예를, 도면을 참조하여 이하에 설명한다.In such an ink jet coating apparatus, there is a case where an injection amount difference between nozzles occurs, but even in this case, the present invention provides a difference in injection amount by sliding the relative position between the substrate and the head in the nozzle array direction and applying the solution several times. It is achieved by paying attention to the nonuniform coating film thickness resulting from the above, and one embodiment of the inkjet method coating apparatus and coating method which concerns on this invention is demonstrated below with reference to drawings.

도 1은 본 발명에 관련되는 잉크제트 방식의 도포 장치에 있어서, 제1 실시예를 나타낸 정면도로서, 도 2(a)는 그 좌측면도, 도 2(b)는, 도 2(a)의 주요부의 확대 평면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a front view showing a first embodiment in an ink jet coating apparatus according to the present invention, in which Fig. 2 (a) is a left side view thereof and Fig. 2 (b) is an essential part of Fig. 2 (a). An enlarged plan view of the.

잉크제트 방식의 도포 장치는, 도 1 및 도 2(a)에 나타낸 바와 같이, 거의 직방체 모양의 베이스(1)를 가지고, 이 베이스(1)의 아래쪽 면의 소정 위치에는 각각 다리(1a)가 설치되어 있고, 베이스(1)는 수평으로 지지를 받는다.The ink jet coating apparatus has a substantially rectangular parallelepiped base 1 as shown in Figs. 1 and 2 (a), and the legs 1a are provided at predetermined positions on the lower surface of the base 1, respectively. It is provided, and the base 1 is supported horizontally.

베이스(1) 표면의 폭방향 (도 2의 화살표 Y방향)의 양단부에는, 길이 방향(도 1의 화살표 X방향)에 따라 긴 고정판(1b)이 설치되어, 이들 고정판(1b) 상의 내측 쪽에, 길이 방향을 따라 한 쌍의 가이드 레일(1c)이 설치되어 있다.On both ends of the width direction (arrow Y direction of FIG. 2) of the surface of the base 1, elongate fixing plate 1b is provided along the longitudinal direction (arrow X direction of FIG. 1), and on the inner side on these fixing plates 1b, A pair of guide rails 1c are provided along the longitudinal direction.

한 쌍의 가이드 레일(1c) 상에는, 대략 구형판 모양의 반송 테이블(2)이, 그 아래쪽 면 양측에 평행으로 설치된 단면 대략 L자 모양의 슬라이드 부재(2a)를 통하여, 길이 방향으로 자유로운 이동이 가능하게 지지를 받는다. 반송 테이블(2)상에는, 예를 들면 액정 표시 장치로 이용되는 유리 기판 등의 기판 W가, 정전 지퍼나 흡인 지퍼 등의 유지수단에 의하여 착탈 가능하게 유지된다.On the pair of guide rails 1c, a substantially spherical plate-shaped conveying table 2 is freely moved in the longitudinal direction through a slide member 2a having a substantially L-shaped cross section provided parallel to both sides of the lower surface thereof. Possibly supported. On the conveyance table 2, the board | substrate W, such as a glass substrate used for a liquid crystal display device, is detachably held by holding means, such as an electrostatic zipper and a suction zipper, for example.

가이드 레일(1c) 및 반송 테이블(2)은, 반송 테이블(2)에 대한 도시되지 않은 구동 기구와 함께 제1 이동 기구를 구성하여, 반송 테이블(2)을 X방향(길이 방향)을 향하여 이동 가능하게 구성되어 있다.The guide rail 1c and the conveyance table 2 comprise a 1st moving mechanism with the drive mechanism not shown with respect to the conveyance table 2, and move the conveyance table 2 toward an X direction (length direction). It is possible.

또, 상기 베이스(1)의 길이 방향 중간부에는, 한 쌍의 가이드 레일(1c)을 넘도록 문형의 지지체(3)가 입설(立設)되어 있다.Moreover, the door-shaped support body 3 is located in the longitudinal middle part of the said base 1 so that it may pass over a pair of guide rail 1c.

문형의 지지체(3)의 상부 위치에, 가이드 부재(3a)가 폭방향 (Y방향)으로 수평으로 걸쳐 설치되어 있고, 그 가이드 부재(3a)에는, 유지 테이블(4)이 폭방향으로 안내되어, 이동 가능하게 지지를 받는다.The guide member 3a is provided horizontally in the width direction (Y direction) at the upper position of the door-shaped support body 3, and the holding table 4 is guided in the width direction to the guide member 3a, It is supported to be movable.

그리고, 유지 테이블(4)의 한 측면에는, 도 2(b)에도 확대하고 가리킨 바와 같이, 잉크제트 방식의 복수 개(이 실시예로는 7개)의 헤드(5)가, 화살표 Y방향을 향하여, 또 좌우에 지그재그 모양으로 배치되어 설치 및 고정되어 있다. 또한, 각 헤드(5)에는, 후술하는 바와 같이, Y방향으로 다수의 노즐(세공)이 열상에 길게 배열 형성되어 있다.On one side of the holding table 4, as shown in FIG. 2 (b), a plurality of heads (7 in this embodiment) of the ink jet system are arranged in the direction of arrow Y. As shown in FIG. And are arranged in a zigzag shape on the left and right sides, and are installed and fixed. In addition, in each head 5, as mentioned later, many nozzles (pore) are formed long in a row in the Y direction.

그래서, 가이드 부재(3a) 및 유지 테이블(4)은, 유지 테이블(4)에 대한 도시되지 않은 구동 기구와 함께 제2 이동 기구를 구성하므로, 복수 헤드(5) 전체는 일체가 되어, 반송 테이블(2)상 기판 W와의 사이의 Y방향에 대한 상대 위치 조정이 가능하다.Therefore, since the guide member 3a and the holding table 4 comprise the 2nd moving mechanism with the drive mechanism which is not shown with respect to the holding table 4, the several head 5 whole is integrated, and the conveyance table (2) Relative position adjustment with respect to the Y direction between the board | substrate W is possible.

이와 같이, 제1 이동 기구는 기판 W를 X방향으로 이동시키고, 제2 이동 기구는 헤드(5)를 Y방향으로 이동시키므로, 헤드(5)와 기판 W는, X-Y방향으로 상대 이동이 가능하다.In this way, since the first moving mechanism moves the substrate W in the X direction, and the second moving mechanism moves the head 5 in the Y direction, the head 5 and the substrate W move relatively in the X-Y direction. It is possible.

또, 도 1에 나타낸 바와 같이, 베이스(1)에는, 상기 제1 및 제2 이동 기구와 함께 헤드(5)의 각 노즐에 있어서, 용액의 분사도 통괄 제어가 가능한 제어기(6)가 내장되어 있다.In addition, as shown in FIG. 1, the base 1 includes a controller 6 in which nozzles of the head 5 are collectively controlled in the nozzles of the head 5 together with the first and second moving mechanisms. have.

도 3은, 도 1 및 도 2에 나타낸 헤드(5)의 확대 종단면도(縱斷面圖)이며, 도 4는 헤드(5)의 확대 저면도(底面圖)이다.FIG. 3 is an enlarged longitudinal sectional view of the head 5 shown in FIGS. 1 and 2, and FIG. 4 is an enlarged bottom view of the head 5.

도 3 및 도 4에 나타낸 바와 같이, 헤드(5)는 헤드 본체(51)를 가지고, 헤드 본체(51)는 표면측으로부터 아래쪽 면 측에 연통하는 개구부(51a)를 가지고, 그 아래쪽 면 통로는 가요판(可撓板)(52)에 의하여 폐쇄되어 있다.As shown in Figs. 3 and 4, the head 5 has a head main body 51, the head main body 51 has an opening 51a communicating from the surface side to the lower surface side. It is closed by the flexible board 52.

가요판(52)은, 또한 노즐 플레이트(53)에 의하여 덮이고, 가요판(52)과 노즐 플레이트(53) 사이에, 주관(54a)과 주관(54a)에 연결되는 액실(液室)(54)이 형성된다.The flexible plate 52 is further covered by the nozzle plate 53, and is connected to the main pipe 54a and the main pipe 54a between the flexible plate 52 and the nozzle plate 53. ) Is formed.

노즐 플레이트(53)의 중앙부에는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 다수의 노즐(세공, 혹은 구멍)(53a)이, 길이 방향(Y방향)으로 피치 P를 가진 열을 형성하여, 지그재그 모양으로 설치되어 있다.In the center part of the nozzle plate 53, as shown in FIG. 4, many nozzles (pore or hole) 53a form the row | line with pitch P in the longitudinal direction (Y direction), and install in zigzag form. It is.

그래서, 헤드 본체(51)의 길이 방향 일단부에는 주관(54a)에 연통하는 공급 구멍(51b)이 형성되어 있고, 이 공급 구멍(51b)에는, 예를 들면 배향막이나 레지스트 등의 기능성 박막을 형성하는 용액이 공급관(51c)을 통하여 공급되어 주관(54a) 및 액실(54) 내가 용액으로 채워지도록 구성되어 있다.Therefore, the supply hole 51b which communicates with the main pipe | tube 54a is formed in the longitudinal end part of the head main body 51, and functional thin film, such as an orientation film, a resist, is formed in this supply hole 51b, for example. It is comprised so that the solution to be supplied may be supplied through the supply pipe 51c, and the main pipe 54a and the liquid chamber 54 may be filled with a solution.

도 3에 나타낸 바와 같이, 가요판(52)의 표면에는, 각각 노즐(53a)에 대향하여 압전 소자(55)가 다수 배치된다. 이러한 압전 소자(55)는, 구동부(6a)에 접속된다. 구동부(6a)는, 각 압전 소자(55)로 구동 전압을 공급한다. 이 구동 전압의 공급에 의하여, 압전 소자(55)는 신축하므로, 가요판(52)은 그 압전 소자(55)에 대응하는 부분이 변형된다. 이 결과, 액실(54) 내에 용적 변화가 생겨 용적 변화에 따른 양의 용액이, 압전 소자(55)에 대응하는 노즐(53a)로부터 반송 테이블(2)상의 기판 W를 향하여 분사되어 도포된다.As shown in FIG. 3, a plurality of piezoelectric elements 55 are disposed on the surface of the flexible plate 52 so as to face the nozzles 53a, respectively. This piezoelectric element 55 is connected to the drive part 6a. The drive part 6a supplies a drive voltage to each piezoelectric element 55. By supplying this drive voltage, the piezoelectric element 55 is stretched and contracted, so that the portion corresponding to the piezoelectric element 55 of the flexible plate 52 is deformed. As a result, volume change arises in the liquid chamber 54, and the positive solution according to the volume change is sprayed and apply | coated toward the board | substrate W on the conveyance table 2 from the nozzle 53a corresponding to the piezoelectric element 55. FIG.

또한, 도 3에 나타낸 바와 같이, 헤드 본체(51)의 Y방향과 단부(도시 좌단부)에는, 주관(54a)에 연통하는 회수 구멍(51d)이 형성되어 이 회수 구멍(51d)에서는, 분사되지 않고 남은 주관(54a) 내의 용액이 밀어 올려져 배액관(51e)을 통하여 회수된다.In addition, as shown in FIG. 3, 51 d of collection | recovery holes which communicate with the main pipe | tube 54a are formed in the Y direction and the edge part (left end part) of the head main body 51, and this collection hole 51d sprays, The remaining solution in the main pipe 54a is pushed up and recovered through the drainage pipe 51e.

도 5는, 제어기(6)와 각 헤드(5) 사이의 제어계를 나타낸 회로도로서, 제어기(6)는 각 구동부(6a)를 통하여, 각 헤드(5)의 압전 소자(55) 구동을 제어한다.FIG. 5 is a circuit diagram showing a control system between the controller 6 and each of the heads 5, and the controller 6 controls the driving of the piezoelectric elements 55 of the respective heads 5 through the respective driving units 6a. .

상기 구성의 잉크제트 방식에 의한 도포 장치의 동작 즉 도포 방법을, 도 1 내지 도 5 및 도 6을 참조하여 설명한다.The operation, that is, the coating method of the coating apparatus by the ink jet method of the above-described configuration will be described with reference to FIGS. 1 to 5 and 6.

또한, 상기 구성의 잉크제트 방식의 도포 장치는, 제어기(6)가 제1 및 제2 이동 기구를 제어함과 함께, 7개의 모든 헤드(5)의 노즐(53a)에 대응하는 압전 소자(55)를 구동 제어하고, 기판 W면에 용액을 도포할 수 있지만, 이하의 동작 설명에서는, 설명의 편의상, 제어기(6)는 1개의 헤드(5)의 노즐(53a)에 대응하는 압전 소자(55)를 구동 제어하고, 2회에 걸친 도포에 의하여 소정의 도포 패턴을 얻는 것으로 설명한다.In addition, the inkjet coating apparatus of the above-described configuration has a piezoelectric element 55 corresponding to the nozzles 53a of all seven heads 5 while the controller 6 controls the first and second moving mechanisms. Drive control, and a solution can be applied to the substrate W surface, in the following operation description, for convenience of explanation, the controller 6 is a piezoelectric element 55 corresponding to the nozzle 53a of one head 5; ), And a predetermined coating pattern is obtained by applying twice.

즉, 도 6(a)은, 피치 P를 가진 길이 L로 배열된 노즐(53a)을 가진 1개의 헤드(5)로부터 분사되는 용액의 분사량 값을 연결하여 만들어진 곡선으로서, 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사량을 나타낸 곡선 A이다. 도 6(a)에 나타낸 바와 같이, 노즐(53a) 간에는 불규칙한 분사량의 격차가 생긴다.That is, Fig. 6 (a) is a curve formed by connecting the injection amount values of the solution injected from one head 5 having the nozzles 53a arranged at a length L having a pitch P, from each nozzle 53a. Curve A showing the solution injection amount of. As shown in Fig. 6 (a), an irregular injection amount gap occurs between the nozzles 53a.

그래서 이 실시예에서는, 1개의 헤드(5)에 있어서, 노즐(53a) 위치에 대응하고, 용액 격차를 가지고 도포된 것을 보정하기 위하여, 제어기(6)는 제2 이동 기구를 제어하고, 기판 W와 헤드(5) 사이의 Y방향의 상대 위치를 거리 ΔL만큼 다르게 하고 다시 도포함으로써, 상쇄하고, 그 격차에 기인하는 도포 패턴 상의 불균일한 도포 분포를 보정하여 도포막 두께의 균일화가 도모된다.Thus, in this embodiment, in one head 5, the controller 6 controls the second moving mechanism in order to correct the application corresponding to the position of the nozzle 53a and with the solution gap, and the substrate W By reapplying the relative position in the Y direction between the head and the head 5 by a distance ΔL, it is offset, and the uneven coating distribution on the coating pattern caused by the gap is corrected to achieve uniform coating film thickness.

즉, 처음의 도포에서는, 제어기(6)는 도 6(a)에 나타낸 위치에서, 헤드(5)의 좌단으로부터 거리 ΔL까지의 범위에 위치하는 노즐(53a)은 분사에 의한 도포를 정지시킨 상태이며, 기판 W를 X방향을 향하여 이동시켜 도포를 행한다. 이에 의하여, 기판 W상에는, 용액의 도트열이 기판 W의 반송 방향으로 직선 모양에 노즐 간격과 같은 간격으로 나란해진 도포 패턴을 형성한다. 그리고, 이 도포 패턴은, 도트열 간에 용액의 도포량의 격차를 가진다. 그 때문에, 용액이 기판 W상에서 레벨링 되었을 경우, 기판 W에는 도 6(b)에 나타낸 높이 형상의 불균일한 도포막이 형성된다.That is, in the first application, the controller 6 is in the position shown in Fig. 6 (a), and the nozzle 53a located in the range from the left end of the head 5 to the distance ΔL stops the application by injection. The substrate W is moved in the X direction to apply the coating. Thereby, on the board | substrate W, the coating pattern in which the dot line of the solution was lined up at the same interval as the nozzle space | interval in linear form in the conveyance direction of the board | substrate W is formed. And this application | coating pattern has the difference of the application quantity of a solution between dot rows. Therefore, when a solution is leveled on the board | substrate W, the nonuniform coating film of the height shape shown to FIG. 6 (b) is formed in the board | substrate W. FIG.

그래서, 다음에 제어기(6)는 제2 이동 기구를 제어하여 헤드(5)와 기판 W와의 상대 위치를 노즐의 직사각형 배열 방향(즉, Y방향)으로 ΔL만큼 도시 우측 방향으로 이동시킨다.Thus, the controller 6 then controls the second moving mechanism to move the relative position between the head 5 and the substrate W in the direction shown in the drawing right by ΔL in the rectangular arrangement direction of the nozzle (that is, the Y direction).

즉, 제어기(6)는 기억기(6b)를 가지고, 이 기억기(6b)에는, 도시되지 않은 키보드나 터치 패널 등의 입력기에 의해 거리 ΔL이 입력되어 기억된다. 따라서, 제어기(6)는 이 기억기(6b)에 기억된 거리 ΔL을 판독하여, Y방향에 대한 헤드의 이동을 제어한다.That is, the controller 6 has the memory | storage 6b, The distance 6L is input and memorize | stored in this memory | storage 6b by an input device, such as a keyboard or a touch panel which is not shown in figure. Therefore, the controller 6 reads the distance ΔL stored in the memory 6b to control the movement of the head in the Y direction.

그 거리 ΔL만큼 헤드(5)를 오른쪽으로 이동시킨 상태로 각 노즐(53a)로부터 용액을 분사시킨다. 그때의 용액 분사량을 나타낸 곡선은, 도 6(c)의 점선 B로 나타낸 바와 같이, 곡선 A에 대하여 도시 우측 방향으로 ΔL만큼 슬라이드된 상태가 된다.The solution is ejected from each nozzle 53a with the head 5 moved to the right by the distance ΔL. The curve showing the solution injection amount at that time is in a state slid by ΔL in the right direction with respect to the curve A, as indicated by the dotted line B in FIG. 6 (c).

다만, 이때 동일 형상의 도포 패턴을 얻기 위하여, 헤드(5)의 노즐(53a)로 분사를 정지시키는 노즐(53a)은, 전회와는 반대측, 즉 도 6(c)에 나타낸 위치에서, 헤드(5) 우단으로부터 거리 ΔL의 범위에 위치하는 것으로 한다.However, at this time, in order to obtain the coating pattern of the same shape, the nozzle 53a which stops spraying by the nozzle 53a of the head 5 is the head (at the position shown in FIG. 5) It shall be located in the range of distance (DELTA) L from a right end.

이 2회의 도포에 의하여, 첫 번째의 도포시 분사량이 적은 노즐(53a)로부터 용액이 분사된 부분에, 두 번째의 도포로 첫 번째 도포시의 노즐(53a)보다 분사량이 더 많은 노즐(53a)로부터 용액이 분사된다. 또, 첫 번째 도포시 분사량이 많은 노즐(53a)로부터 용액이 분사된 부분에, 두 번째의 도포로 첫 번째의 도포시 노즐(53a) 보다 분사량이 더 적은 노즐(53a)로부터 용액이 분사된다. 이에 의하여, 노즐(53a) 간에 있어서, 용액의 분사량 격차가 보정된다. 그 때문에, 기판 W상에 형성되는 도포막은, 도 6(d)에 나타낸 바와 같이, Y방향으로 폭(L-ΔL) 만큼, 두께가 균일화되어 평탄화된다.By the two coatings, the nozzle 53a with a larger injection amount is applied to the portion where the solution is injected from the nozzle 53a with less injection amount during the first application, than the nozzle 53a during the first application with the second application. The solution is sprayed from. In addition, the solution is injected from the nozzle 53a having a lower injection amount than the nozzle 53a at the first application by the second application to the part where the solution is injected from the nozzle 53a having a high injection amount at the first application. As a result, the injection amount difference of the solution is corrected between the nozzles 53a. Therefore, the coating film formed on the board | substrate W is flattened by thickness being uniform by the width | variety L- (DELTA) L in a Y direction as shown to FIG. 6 (d).

단, 도 6에 나타낸 예에서는, 설명상, 첫 번째와 두 번째의 도포에 의하여, 분사량이 많은 부분과 분사량이 적은 부분이 정확히 상쇄되는 것을 나타냈다. 그러나 실제로는 첫 번째의 도포에 있어서, 분사량이 많은 부분과 분사량이 적은 부분이 노즐(53a)의 배열 방향(Y방향)으로 혼재되기 때문에, 거리 ΔL의 결정에 대해서는, 작업자가 예를 들면 도 6(a)에 나타낸 곡선을 의지하여, 헤드(5)와 기판 W와의 상대 위치를 두 번째 도포시에 얼마만큼 이동시키면 도포 패턴 전체가 균일화된 도포 패턴이 되는지 고려해서 결정하게 된다. 그리고, 이와 같이 결정된 ΔL이, 전술한 입력기에서 기억기(6b)로 기억된다.However, in the example shown in FIG. 6, by description of the 1st and 2nd application | coating, it showed that the part with large injection volume and the part with small injection amount canceled correctly. In reality, however, in the first application, a portion having a large amount of injection and a portion having a small amount of injection are mixed in the arrangement direction (Y direction) of the nozzle 53a. By relying on the curve shown in (a), it is decided by considering how much the relative position between the head 5 and the substrate W is moved at the time of the second coating, so that the entire coating pattern becomes a uniform coating pattern. ΔL thus determined is stored in the memory 6b by the above-described input device.

또, 상기 설명에서는, 제어기(6)가 1개 헤드(5)의 각 노즐(53a)로부터 분사하는 용액을 제어한다고 설명했지만, 7개의 헤드(5)를 작동시켜 도포할 경우에는, 도 6에 나타낸 헤드(5)의 우단으로부터 거리 ΔL 범위에 위치하는 노즐(53a) 동작 을, 가장 우측으로 위치하는 헤드(5)에 적용함으로써, Y방향으로 긴(폭이 큰) 도포 패턴을 형성할 수 있다.In addition, in the above description, the controller 6 controls the solution sprayed from the nozzles 53a of the one head 5, but in the case of operating and applying the seven heads 5, FIG. By applying the nozzle 53a operation located in the distance ΔL range from the right end of the shown head 5 to the head 5 positioned to the rightmost side, a long (wide) application pattern in the Y direction can be formed. .

또, 상기 도포 방법에 있어서, 2회의 도포를 행하는데 X방향의 시작 위치는,처음 위치로 돌아가는 방법도, 뒤에서 돌아가는 되돌아가는 방법도 좋은 것은 분명하다.Moreover, in the said application | coating method, although it apply | coats twice, it is clear that the starting position of a X direction is good also for the method of returning to the beginning position, and the method of returning from behind.

단, 지그재그 모양으로 배열된 헤드(5) 및 지그재그 모양으로 배열 형성된 노즐(53a)로부터 용액을 분사시켜, 기판 W상에 구형 모양의 도포 패턴을 그릴 때, 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사를 동시에 개시 및 정지시키면, 도포 패턴의 X방향 단부에 있어서, 분사된 도트 모양의 용액이 지그재그 모양이 되기 때문에 이 부분에 요철이 생긴다.However, when the solution is sprayed from the head 5 arranged in a zigzag shape and the nozzles 53a arranged in a zigzag shape to draw a spherical coating pattern on the substrate W, solution spraying from each nozzle 53a is applied. When starting and stopping at the same time, unevenness occurs in this part because the sprayed dot solution becomes zigzag at the X-direction end portion of the coating pattern.

따라서, 제어기(6)는, 기판 W의 반송중, 기판 W상의 패턴 형성 예정 영역이 각 헤드(5)의 각 노즐(53a) 하부를 통과하는 타이밍에 맞춰서 각 노즐(53a)로부터 용액을 분사하도록 구동부(6a)를 제어한다. 이에 의하여, X방향으로 요철이 없는 소정 형상의 도포 패턴을 형성할 수 있다.Therefore, the controller 6 may inject the solution from each nozzle 53a at a timing at which the pattern formation scheduled region on the substrate W passes under each nozzle 53a of each head 5 during the transfer of the substrate W. FIG. The drive unit 6a is controlled. Thereby, the coating pattern of the predetermined shape without an unevenness | corrugation in the X direction can be formed.

이와 같이, 이 실시예의 잉크제트 방식에 의한 도포 장치 및 도포 방법은, 첫 번째 도포와 거기에 겹치도록 도포를 행하는 두 번째 도포 사이에, 노즐(53a) 길이 배열 방향(Y방향)으로 ΔL만큼 차이를 마련하여, 동일 도포 패턴을 그리도록 제어하지만, 노즐(53a)이 Y방향으로 피치 P를 가지는 것을 더 고려했을 때, n을 양의 정수로 하면, ΔL의 길이는, 노즐 위치가 겹치지 않는 위치, 즉 (n×P+P/2)인 것, 또한 실험에 의하면 n≥5인 것이 바람직하다.Thus, the coating apparatus and the coating method by the inkjet system of this embodiment differ by ΔL in the length direction (Y direction) of the nozzle 53a between the first coating and the second coating which is applied so as to overlap therewith. , And control to draw the same coating pattern, but considering that the nozzle 53a has a pitch P in the Y direction, when n is a positive integer, the length of ΔL is a position where the nozzle positions do not overlap. That is, it is preferable that it is (n * P + P / 2), and n≥5 according to experiment.

여기서,ΔL=n×P+P/2(n은 양의 정수)로 한 것은 ΔL=P/2에서는 같은 노즐(53a)에 의하여 형성된 도트열이 서로 이웃이 되고, 노즐(53a) 간의 분사량 격차가 도포막 두께에 미치는 영향이 현저하기 때문이다.Here, as for ΔL = n × P + P / 2 (n is a positive integer), in ΔL = P / 2, the dot rows formed by the same nozzle 53a are adjacent to each other, and the injection amount difference between the nozzles 53a is different. This is because the influence on the coating film thickness is remarkable.

도 4에 나타낸 헤드(5)를 이용하여 설명한다. 첫 번째의 도포와 두 번째의 도포로 헤드(5)를 좌측 방향으로 P/2 이동시켰을 경우, 2회째 도포시에 도면 우단의 노즐(53a)로부터 분사된 용액으로 형성된 도트열(우단 노즐(53a)의 도트열)은, 첫 번째의 도포시에 있어서의 우단 노즐(53a)의 도트열과 그 노즐(53a)의 1P 왼쪽 옆의 두 번째 노즐(53a)로부터 분사된 용액으로 형성된 도트열(두 번째 노즐(53a)의 도트열)사이에 위치한다. 만일 우단의 노즐(53a)로부터의 용액 분사량이 모든 노즐(53a)로부터의 용액 분사량의 평균값보다 많으면, 평균보다 도포량이 많은 도트열이 도포 패턴의 우단에 2열로 나란하게 된다. 그 때문에, 우단의 노즐(53a)에 의한 과다한 분사량의 영향은 도포막 상에 더욱 현저하게 나타나, 도포 패턴의 우단은 용액의 도포량이 다른 부분보다 많아져, 그 부분에 있어서의 도포막 두께가 다른 부분보다 두꺼워질 우려가 있다.It demonstrates using the head 5 shown in FIG. When the head 5 is moved P / 2 to the left by the first application and the second application, dot rows formed of the solution sprayed from the nozzle 53a at the right end of the drawing during the second application (right nozzle 53a) Dot array of the dot) is the dot array (the second formed from the dot jet of the right end nozzle 53a at the time of the first application | coating, and the solution sprayed from the 2nd nozzle 53a of the 1 P left side of the nozzle 53a). The dot rows of the nozzles 53a). If the solution injection amount from the nozzle 53a at the right end is larger than the average value of the solution injection amounts from all the nozzles 53a, the dot rows having a larger application amount than the average are arranged in two rows at the right end of the application pattern. Therefore, the influence of the excessive injection amount by the nozzle 53a at the right end appears more remarkably on the coating film, and the right end of the coating pattern has more coating amount of the solution than other parts, and the coating film thickness at that part is different. It may become thicker than the part.

한편, 첫 번째의 도포와 두 번째의 도포로 헤드(5)를 좌측 방향으로 n×P+P/2 이동시키는 경우로서, 예를 들면, n=1로 했을 경우, 2회의 도포로 우단 노즐(53a)에 의하여 형성된 2열의 도트열 사이에는, 우단의 노즐(53a)의 왼쪽 위치에 있는 두 번째 노즐(53a)로부터 분사된 도트열이 위치하게 된다. 이에 의하여, 우단 노즐(53a)로부터의 용액 분사량이 평균값보다 많은 경우에서도, 두 번째 노즐(53a)의 도트열 사이에 개재함으로써 그것이 완화될 가능성이 있다. 이는, 노즐(53a) 간의 분사량이 불규칙한 격차로 인하여 두 번째 노즐(53a)로부터의 용액 분사량이 우단 노즐(53a)로부터의 용액 분사량보다 적은 것을 기대할 수 있기 때문이다. 만일, 두 번째 노즐(53a)로부터의 용액 분사량이, 우단 노즐(53a)로부터의 용액 분사량보다 많은 경우도, 불규칙한 분사량 격차를 가지는 노즐열 전체로 보면, 격차가 완화될 확률이 높고, 전체적으로 도포막 두께가 균일한 상태에 가깝게 할 수 있다.On the other hand, when the head 5 is moved n * P + P / 2 to the left direction by the 1st application | coating and the 2nd application | coating, for example, when it is set as n = 1, the right end nozzle 53a by 2 application | coatings Between the two rows of dot rows formed by the two rows, dot rows ejected from the second nozzle 53a at the left position of the nozzle 53a at the right end are positioned. Thereby, even if the solution injection amount from the right end nozzle 53a is larger than an average value, it may be alleviated by interposing between the dot rows of the 2nd nozzle 53a. This is because the amount of solution sprayed from the second nozzle 53a can be expected to be smaller than the amount of solution sprayed from the right end nozzle 53a due to the irregular gap between the nozzles 53a. Even if the amount of solution sprayed from the second nozzle 53a is larger than the amount of solution sprayed from the right end nozzle 53a, the gap is likely to be alleviated when viewed as a whole of the nozzle rows having the irregular spray amount gap, and the coating film as a whole. The thickness can be brought closer to a uniform state.

이와 같이, 헤드(5)를 n×P+P/2 이동시킴으로써, 노즐(53a)로부터의 분사량 격차가 다른 노즐(53a)로부터 분사된 용액에 의하여 완화될 확률이 높아지며, 그 결과 도포막 두께가 균일한 상태에 가깝게 할 수 있다.In this way, by moving the head 5 by n × P + P / 2, the probability that the injection amount gap from the nozzle 53a is alleviated by the solution injected from the other nozzle 53a is increased, and as a result, the coating film thickness is uniform. You can get closer to the state.

또, 우단 노즐(53a)로부터의 용액 분사량이 평균보다 적을 경우도 동일하다. 또, 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사량 격차를 구하고 이 분사량 격차를 근거로, 상기 n을 설정해도 된다.The same applies to the case where the solution injection amount from the right end nozzle 53a is smaller than the average. In addition, the solution injection amount difference from each nozzle 53a may be calculated | required, and said n may be set based on this injection amount difference.

즉, 각 노즐(53a)로부터의 한 번의 용액 분사량을, 전자 천칭 등의 계측기를 이용하여 구한다. 예를 들면, 용액을 노즐(53a)로부터 미리 설정된 회수로 분사하여, 그 용액을 채취한다. 그리고 채취된 용액의 무게를 계측기로 계측한다. 그 다음, 계측값을 상기 설정된 횟수로 나누어, 그 값을 노즐로부터 한번에 분사되는 용액의 분사량으로서 얻는다. 이를 노즐(53a)마다 행한다.That is, the amount of one solution injection from each nozzle 53a is calculated | required using measuring instruments, such as an electronic balance. For example, the solution is sprayed from the nozzle 53a in a predetermined number of times to extract the solution. And the weight of the collected solution is measured with a measuring instrument. The measured value is then divided by the set number of times, and the value is obtained as the injection amount of the solution sprayed from the nozzle at once. This is done for each nozzle 53a.

이와 같이 해서 구해진 노즐(53a) 마다의 분사량을 노즐(53a)의 배열 순으로 나란히 하여, 각 분사량을 선으로 묶고, 도 6(a)에 나타낸 바와 같이, 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사량을 나타낸 실선 A를 얻는다.The injection amounts for the nozzles 53a obtained in this manner are arranged side by side in the arrangement order of the nozzles 53a, and the respective injection amounts are bundled with a line, and as shown in FIG. 6 (a), the solution injection amounts from each nozzle 53a are determined. Obtained solid line A is obtained.

그래서 작업자는, 이 실선 A와 동일 형상의 곡선(예를 들면, 도 6(c)에 나타 낸 점선 B)을 실선 A로 겹친 상태에서, Y방향 우측 혹은 좌측으로 P/2씩 순차 이동시키고, 실선 A에서 분사량이 적은 부분에 점선 B의 분사량이 많은 부분이 위치하고, 실선 A에서 분사량이 많은 부분에 점선 B의 분사량이 적은 부분이 위치하는 n의 값을 구한다.Therefore, the operator sequentially moves the solid line A and the curve having the same shape (for example, the dotted line B shown in Fig. 6 (c)) by the solid line A, by P / 2 to the right or the left in the Y direction, The value of n where the injection amount of the dotted line B is located in the part with small injection amount in solid line A, and the part where the injection amount of the dotted line B is located in the part with large injection amount in solid line A is calculated | required.

단 여기서, n의 값은 가능한 한 작은 값으로 설정하는 것이 도포 패턴을 형성하기 위한 도포 동작 효율을 좋게 할 수 있어서 바람직하다. 도 6(c)에 나타낸 거리 ΔL은, 노즐(53a)로부터의 용액 분사가 정지하는 범위를 나타내지만, n의 값이 작으면 이 거리 ΔL을 작게 할 수 있다. 이 거리 ΔL이 작으면, 그 범위 내에 위치하는 노즐(53a)의 수가 적게 되어, 용액 분사가 정지하는 노즐(53a)의 수를 줄일 수 있다. 그 때문에, 헤드(5)에 배열된 노즐(53a) 중에 많은 노즐(53a)을 도포를 위하여 제공할 수 있고, 도포 동작을 좋은 효율로 행할 수 있다.Here, it is preferable to set the value of n to a value as small as possible, because it can improve the coating operation efficiency for forming the coating pattern. Although distance (DELTA) L shown in FIG.6 (c) shows the range which stops solution injection from the nozzle 53a, when the value of n is small, this distance (DELTA) L can be made small. If this distance ΔL is small, the number of nozzles 53a positioned within the range is reduced, and the number of nozzles 53a at which solution injection stops can be reduced. Therefore, among the nozzles 53a arranged in the head 5, many nozzles 53a can be provided for application | coating, and an application | coating operation can be performed with good efficiency.

또, 전자 천칭 등의 계측기는, 도포 장치상에 설치되는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that measuring instruments, such as an electronic balance, be provided on an application device.

예를 들면, 계측기를 각 헤드(5)가 가지는 각 노즐(53a)의 하부로 이동할 수 있게 이동 장치를 통하여 도포 장치상에 배치한다. 계측기의 시료 대상에는, 비커 등의 채취 용기를 설치한다. 계측기는, 채취한 용액의 무게를, 용액 채취 전후에 있어서의 중량 차이에서 구한다.For example, the measuring device is disposed on the coating device through the moving device so as to be able to move to the lower part of each nozzle 53a of each head 5. A sampling container such as a beaker is installed on the sample object of the measuring instrument. The measuring device obtains the weight of the collected solution from the weight difference before and after solution collection.

이와 같이 하면, 도포 장치상에서 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사량을 구할 수 있으므로, 채취한 용액을 다른 계측기로 이송하는 번거로움 없어, 작업성이 향상된다.In this way, since the solution injection amount from each nozzle 53a can be calculated | required on the application | coating apparatus, workability improves, without the hassle of conveying the collected solution to another measuring instrument.

또한, 상기 계측기에 의하여 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사량의 측정은, 도포 동작의 개시시에 한 번만 하는 것도, 설정 시간이 경과할 때마다, 혹은 설정 매수의 기판 처리가 완료할 때마다 행하는 것이 좋다. 또한, 후자에 의하는 것이, 노즐(53a)로부터의 용액 분사량의 변화에 맞춰서 n의 값, 혹은 거리 ΔL을 변경할 수 있으므로 바람직하다.In addition, the measurement of the solution injection amount from each nozzle 53a by the said measuring device is performed only once at the start of an application | coating operation | movement every time a set time passes, or every time the board | substrate process of a set number of sheets is completed. It is good. Further, the latter is preferable because the value of n or the distance ΔL can be changed in accordance with the change of the solution injection amount from the nozzle 53a.

또한, 계측기는, 노즐(53a)로부터의 용액 분사량을 무게로 구하는 전자 천칭을 예로 들어 설명했지만, 요점은 분사량을 구할 수 있으면 되고, 노즐(53a)로부터 분출되어 비상 중의 용액, 혹은 기판상으로 도포된 용액의 촬상 화상을 근거로 분사량을 구하는 화상 처리 장치를 이용하는 것도 좋다.In addition, although the measuring device demonstrated the electronic balance which calculates the injection amount of the solution from the nozzle 53a by weight as an example, the point should just be able to calculate the injection amount, and it is ejected from the nozzle 53a, and apply | coats it to the solution in an emergency, or a board | substrate. It is also possible to use an image processing apparatus that calculates the injection amount based on the captured image of the prepared solution.

또한, 헤드(5)의 노즐(53a) 열에 있어서, 용액 분사량이, 열(Y) 방향에 있어서의 양단에서 가장 많고, 중앙부에 가까워질수록 서서히 적게 되는 경향을 가질 때, 거리 ΔL의 길이는 L/2로 하는 것에 의하여, 도포 패턴을 거의 평탄하게 할 수 있다.In addition, in the row of nozzles 53a of the head 5, the solution injection amount is the most at both ends in the row Y direction and tends to decrease gradually as it gets closer to the center part. By setting it as / 2, an application | coating pattern can be made substantially flat.

즉 상기 제1 실시예에서는, 헤드(5)의 위치에 ΔL만 열방향(Y방향)의 차이를 주고 2회 도포한다고 설명했지만, ΔL 길이를 L/2로서 2번 도포하는 본 발명의 제2 실시예를 도 7을 참조하여 설명한다.That is, in the first embodiment, it was explained that only ΔL was applied twice at the position of the head 5 with the difference in the thermal direction (Y direction), but the second of the present invention in which ΔL length was applied twice as L / 2 was applied. An embodiment will be described with reference to FIG. 7.

또한, 제2 실시예는 상기 설명의 제1 실시예와 대비하여, 동일 구성으로부터 이루게 되어, 제어기(6)에 의한 제어 동작 즉 도포 방법이 다를 뿐이므로, 특별히 다른 방법에 대하여 설명한다.In addition, since the second embodiment is made from the same configuration as compared with the first embodiment of the above description, the control operation by the controller 6, i.e., the application method is only different, and therefore, another method will be described in particular.

즉, 도 7(a) 및 도 7(b)은, 거리 ΔL만 차이를 주고 2회 도포를 행하는 7개의 헤드(5)에 있어서, 각각 Y방향의 위치를 나타낸 평면도이다.That is, FIG.7 (a) and FIG.7 (b) are the top views which showed the position of the Y-direction in the seven heads 5 which apply | coat two times, only difference in distance (DELTA) L.

처음(도 7(a)) 위치의 도포와 다음 회(두 번째, 즉 도 7(b))의 도포로, 헤드(5)의 위치를 Y방향으로 두고, 거리 ΔL=L/2의 차이를 주도록 제어기(6)는 구동 제어를 한다.With the application of the first (FIG. 7 (a)) position and the application of the next time (the second, ie FIG. 7 (b)), the position of the head 5 is placed in the Y direction and the difference of the distance ΔL = L / 2 is determined. The controller 6 performs drive control.

첫 번째 도포시, 도 7(a)에 나타낸 좌단부 헤드(5)의 왼쪽 반(L/2)의 노즐(53a)에 대하여, 용액 분사를 정지시킨 상태로, X방향으로 도포를 실행한다.At the time of 1st application | coating, application | coating is performed to the X direction in the state which stopped spraying the solution with respect to the nozzle 53a of the left half L / 2 of the left end head 5 shown to Fig.7 (a).

두 번째 도포에서는, 도 7(b)에 나타낸 우단부 헤드(5)의 오른쪽 반(L/2)의 노즐(53a)에 대하여, 용액 분사를 정지시킨 상태로, 재차 X방향으로의 도포를 실행한다.In the second coating, the coating is again performed in the X direction while the solution injection is stopped with respect to the nozzle 53a of the right half (L / 2) of the right end head 5 shown in Fig. 7B. do.

도 7(c)은, 도 7(a) 및 도 7(b)의 위치에서 기판 W에 도포된 평면 도포 패턴 Ph를 나타낸 것으로, 상기 동작에 의하여, Y방향으로 6.5 L의 길이 폭의 구형 모양으로, 평탄한 도포 두께의 도포막이 형성된다.Fig. 7 (c) shows a planar coating pattern Ph applied to the substrate W at the positions of Figs. 7 (a) and 7 (b). The spherical shape having a length and width of 6.5 L in the Y direction by the above operation is shown. As a result, a coating film having a flat coating thickness is formed.

또한, 제1 실시예의 설명과 같이, 지그재그 모양으로 연결하듯이 7개의 헤드(5)를 구동하여 도포하는 이 제2 실시예에서는, 첫 번째와 다음 번의 도포에 대하여, 각각 좌단 및 우단의 헤드(5,5)의 일부 노즐(53a)에 대해서는 분사를 정지시키지만, 중간 5개의 헤드(5)의 노즐(53a)에 대해서는, 어떤 정지도 없이, 각 압전 소자(55)를 구동하여 도포가 실행된다.As described in the first embodiment, in the second embodiment in which the seven heads 5 are driven and applied as if they are connected in a zigzag pattern, the heads of the left and right ends are respectively applied to the first and the next application. Spraying is stopped for some nozzles 53a of 5 and 5, but application is carried out by driving each piezoelectric element 55 without any stop for nozzles 53a of the intermediate five heads 5. .

이상 설명한 바와 같이 상기 각 실시예에 관련된 잉크제트 방식의 도포 장치 및 도포 방법에 의하면, 헤드(5)에 있어서의 각 노즐(53a) 위치 차이에 근거하는 용액 분사량 차이나 격차를 보정하고, 기판 W면에 형성되는 도포막 두께를 균일한 상태에 가깝게 하여 양호한 도포막을 형성할 수 있다.As described above, according to the ink jet coating apparatus and the coating method according to the above embodiments, the solution injection amount difference and the gap based on the positional difference of the nozzles 53a in the head 5 are corrected, and the substrate W surface It is possible to form a good coating film by making the thickness of the coating film formed on the surface close to a uniform state.

즉, 기판 W에 대한 2회에 걸친 용액 도포에 있어서, 첫 번째의 도포시에 분사량이 적은 노즐(53a)로부터 용액이 분사된 부분에, 두 번째의 도포로 첫 번째 도포시의 노즐(53a)보다 분사량이 많은 노즐(53a)로부터 용액을 분사하여, 또, 첫 번째의 도포시에 분사량이 많은 노즐(53a)로부터 용액이 분사된 부분에, 두 번째 도포로 첫 번째의 도포시의 노즐(53a)보다 분사량의 적은 노즐(53a)로부터 용액을 분사하도록 할 수 있다. 그 때문에, 도포 패턴 전체에 대해 용액의 도포량이 균등화되므로, 도포된 용액은 레벨링에 의하여 평탄화되고, 양호한 도포막을 얻을 수 있다.That is, in two solution coatings on the substrate W, the nozzles 53a at the time of the first application by the second application are applied to the part where the solution is injected from the nozzle 53a having a small injection amount during the first application. The nozzle 53a at the time of the first application | coating by the 2nd application | coating to the part which sprayed a solution from the nozzle 53a which has a larger injection volume, and the solution was injected from the nozzle 53a which has a high injection quantity at the time of 1st application | coating. The solution can be jetted from the nozzle 53a having a smaller injection volume than. Therefore, since the application amount of a solution is equalized with respect to the whole application pattern, the apply | coated solution is planarized by leveling and a favorable coating film can be obtained.

이 때문에, 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사량의 격차가, 허용되는 격차, 즉 기판 W의 X방향으로 한 번의 반송으로 기판 W상의 패턴 형성 예정 영역에 도포 패턴을 형성했다고 해도, 허용 범위 내의 두께 격차를 가지는 도포막을 얻을 수 있는 정도의 격자일 경우, X방향으로의 한 번의 반송으로 도포 패턴을 형성하는 경우보다 두께를 더욱 균일한 상태에 가깝게 할 수 있고, 얼룩짐이 없는 품질이 좋은 도포막을 형성할 수 있다. 따라서, 기판 W상에 형성되는 기능성 박막의 막질을 향상시킬 수 있다.For this reason, even if the dispersion | variation in the solution injection quantity from each nozzle 53a forms an application | coating pattern in the pattern formation scheduled area | region on the board | substrate W by one conveyance by the allowable gap, ie, the X direction of the board | substrate W, the thickness within an allowable range In the case of a lattice that can obtain a coating film having a gap, the thickness can be closer to a more uniform state than in the case of forming a coating pattern by one conveyance in the X direction, and a coating film having good quality without spots is formed. can do. Therefore, the film quality of the functional thin film formed on the substrate W can be improved.

또, 각 노즐(53a)로부터의 용액 분사량 격차가, 허용되는 격차를 초월할 경우도, 두 번째의 용액 도포에 의하여 그 분사량 격차가 보정된다. 이 때문에, 두 번째의 용액 도포에 의하여 형성된 도포 패턴으로부터 얻을 수 있는 도포막 두께가 균일한 상태에 가깝게 할 수 있게 되어, 도포 불량을 저감시켜 생산 효율을 향상시킬 수 있게 된다.Further, even when the solution injection amount gap from each nozzle 53a exceeds the allowable gap, the injection amount gap is corrected by the second solution application. For this reason, the coating film thickness obtained from the application | coating pattern formed by the 2nd solution application | coating can become close to a uniform state, and it becomes possible to reduce application | coating defect and to improve production efficiency.

이는, 예를 들면, 노즐(53a) 차이 등의 원인에 의하여 1개의 노즐(53a)로부터의 분사량이 감소, 혹은 정지했을 경우에도, 막힌 노즐(53a)로부터의 분사량을 보충하도록, X방향으로 기판 W가 이동할 때마다 헤드(5)를 Y방향으로 거리 ΔL만큼 이동시켜 여러 차례에 걸쳐서 용액을 도포함으로써, 도포막 두께의 격차를 완화할 수 있다. 따라서, 노즐(53a) 차이 등의 불편이 생겼을 경우도, 보수 관리를 위하여 도포 장치를 즉시 정지시키는 일 없이 도포를 계속해서 실행하는 것이 가능하게 되어, 생산 효율을 향상시킬 수 있다.This is because, for example, even when the injection amount from one nozzle 53a decreases or stops due to a difference in nozzle 53a or the like, the substrate in the X direction to compensate for the injection amount from the clogged nozzle 53a. Each time W moves, the head 5 is moved by the distance ΔL in the Y direction to apply the solution several times, thereby alleviating the gap in the thickness of the coating film. Therefore, even when inconvenience, such as the difference of the nozzle 53a, it becomes possible to continue application | coating without stopping an application | coating device immediately for maintenance management, and can improve production efficiency.

단, 각 실시예의 설명에서는, 도포를 2회 하고, 도포막 두께의 격차를 보정하는 것을 설명했지만, 동일한 수법 및 생각으로 3회 이상 도포하도록 해도 좋다. 또, 기판 W에 형성되는 도포 패턴이 구형 모양으로서 설명했지만, 다른 형상도 좋다. 또, 기판 W도 액정 표시 패널 등에 있어서의 유리 기판으로 한정되지 않고, 반도체 웨이퍼도 좋다.However, although description of each Example demonstrated application | coating twice and correct | amending the gap of coating film thickness, you may make it apply | coat three or more times by the same method and idea. Moreover, although the application | coating pattern formed in the board | substrate W demonstrated as spherical shape, another shape is also good. Moreover, the board | substrate W is not limited to the glass substrate in a liquid crystal display panel, etc., A semiconductor wafer may also be sufficient.

단, 용액을 기판상의 패턴 형성 예정 영역에 대하여, 2회에 걸친 도포에 의하여 도포 패턴을 형성할 경우, 노즐(53a)로부터의 한 번의 용액 도포량을, 1회 도포로 도포 패턴을 형성할 경우의 반의 분사량으로 하면 좋다. 또, 3회 이상의 도포에 의하여 도포 패턴을 형성할 경우에는, 한 번의 도포로 도포 패턴을 형성할 경우의 분사량을, 도포의 회수로 나눈 값을 노즐(53a)로부터의 한 번의 용액 분사량으로 하면 좋다.However, when a coating pattern is formed by applying twice to the pattern formation scheduled area | region on a board | substrate, when one application | coating amount from the nozzle 53a forms a coating pattern by one application | coating, It is good to set it as half injection amount. In addition, when forming an application | coating pattern by 3 or more application | coatings, what is necessary is just to make the injection quantity at the time of forming an application | coating pattern by one application | coating divided by the number of application | coatings, and to make one solution injection quantity from the nozzle 53a. .

또, 기판 W상의 패턴 형성 예정 영역에 있어서 용액의 도포를 m회(2회 이상)에 걸쳐서 행할 경우, 도포를 한 번 행할 때마다, 헤드(5)와 기판 W와의 상대 위치가 노즐 길이 배열 방향(도 6에 나타낸 Y방향)에 있어서의 한 방향으로 거리 ΔL=n×P+P/m만큼 이동하도록 하면 좋다.In addition, in the case where the application of the solution is performed m times (two or more times) in the pattern formation scheduled region on the substrate W, each time the application is performed, the relative position between the head 5 and the substrate W is in the nozzle length arrangement direction. It is good to make it move by distance (DELTA) L = n * P + P / m to one direction in (Y direction shown in FIG. 6).

예를 들면, 도포를 3번 행할 경우에 대하여, 도 6을 참조하여 설명한다. 여기에서는, 헤드(5)를 도 6에 나타낸 Y방향 우측으로 이동시키는 것으로 한다.For example, the case where application | coating is performed 3 times is demonstrated with reference to FIG. Here, it is assumed that the head 5 is moved to the right in the Y direction shown in FIG. 6.

우선, 도 6(a)에 나타낸 바와 같이, 첫 번째의 도포를 행한다. 이때, 도 6(a)와 다른 점은, 헤드(5)의 좌단 노즐(53a) 위치로부터 거리 2×ΔL=2×(n×P+P/3)의 범위에 위치하는 노즐(53a)로부터의 용액 분사를 정지시키는 점이다.First, as shown to Fig.6 (a), 1st application | coating is performed. At this time, the difference from FIG. 6 (a) is that the solution from the nozzle 53a located in the range of distance 2 × ΔL = 2 × (n × P + P / 3) from the left end nozzle 53a position of the head 5. This is to stop the injection.

첫 번째의 도포가 완료되면, 헤드(5)를 Y방향 우측으로 거리 ΔL만큼 이동시켜, 이 상태에서 도 6(c)에 나타낸 바와 같이, 두 번째의 도포를 행한다. 이때, 도 6(c)과 다른 점은, 헤드(5)의 우측 노즐(53a) 위치로부터 거리 ΔL의 범위에 더하여 헤드(5)의 좌측 노즐(53a)의 위치로부터 거리 ΔL의 범위에 위치하는 노즐(53a)로부터의 용액 분사도 정지시키는 점이다.When the first application is completed, the head 5 is moved to the right in the Y direction by the distance ΔL, and in this state, the second application is performed as shown in Fig. 6C. 6C differs from the position of the right nozzle 53a of the head 5 in the range of distance ΔL from the position of the left nozzle 53a of the head 5 in this case. The solution injection from the nozzle 53a is also stopped.

두 번째 도포가 완료되면, 헤드(5)를 더욱 Y방향 우측으로 거리 ΔL만큼 이동시켜, 이 상태로 세 번째 도포를 행한다. 이때, 헤드(5)의 우측 노즐(53a) 위치로부터 거리 2×ΔL의 범위에 위치하는 노즐(53a)로부터의 용액 분사를 정지시킨다.When the second application is completed, the head 5 is further moved to the right in the Y direction by the distance ΔL, and the third application is performed in this state. At this time, the solution injection from the nozzle 53a located in the range of distance 2x (DELTA) L from the position of the right nozzle 53a of the head 5 is stopped.

이와 같이, 3회의 도포에 의하여, 헤드(5)의 노즐(53a) 배열 길이 L에 대하여, Y방향으로 폭(L-2×ΔL=L-(m-1)×ΔL)에 걸쳐 용액이 도포된다.In this way, the solution is applied over the width (L-2 × ΔL = L− (m-1) × ΔL) in the Y direction with respect to the array length L of the nozzle 53a of the head 5 by three coatings. do.

여기서, m 값을 4 이상으로 설정할 경우에도, 각 회의 도포시에(L-(m-1)×ΔL)의 범위로부터 빗나간 위치에 있는 노즐(53a)로부터의 용액 분사를 정지시킴으로써, 상술과 같은 요령으로 도포 작업을 실시할 수 있다.Here, even when the m value is set to 4 or more, the solution injection from the nozzle 53a at a position deviated from the range of (L- (m-1) x ΔL) at the time of each application is stopped, and thus the same as described above. Application can be carried out as a matter of course.

상기 실시예에 의하면, 용액의 도트열 간격이 격차를 가질 경우, 형성되는 도포막의 막두께가 도트열의 간격이 좁은 부분에서 두껍고, 넓은 부분에서 얇아지는 경향이 있지만, 헤드(5)와 기판 W와의 상대 위치를 상술과 같이 이동시킴으로써, 용액의 도트열을 P/m의 같은 간격으로 배열할 수 있으므로, 용액의 도트열 간격의 격차에 기인하는 도포막 두께의 격차를 방지할 수 있고, 도포막의 균일성을 향상시킬 수 있다.According to the above embodiment, when the dot row spacing of the solutions has a gap, the film thickness of the coating film formed tends to be thicker at the narrow interval of the dot row and thinner at the wider portion, but the thickness of the head 5 and the substrate W is increased. By moving the relative positions as described above, the dot rows of the solution can be arranged at the same interval of P / m, so that the difference in the coating film thickness caused by the gap between the dot rows of the solutions can be prevented, and the coating film is uniform. Can improve the sex.

또, 복수의 헤드(5) 및 복수의 노즐(53a)을 지그재그 모양으로 배치한 예를 설명했지만, 지그재그 모양으로 한정되지 않고, 직선 모양으로 배치해도 좋다.Moreover, although the example which arrange | positioned the some head 5 and the some nozzle 53a in the zigzag form was demonstrated, it is not limited to a zigzag form and may arrange | position in linear form.

본 발명에 의하면, 열상에 배열된 다수의 노즐로부터 용액을 기판을 향하여 분사했을 때, 도포 패턴 내에 있어서의 도포막 두께를 균일한 상태에 가깝게 하여 양호한 도포막을 형성할 수 있는 잉크 제트 방식의 도포 장치 및 도포 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, when the solution is sprayed toward a substrate from a plurality of nozzles arranged in a column, the ink jet coating apparatus can form a good coating film by making the coating film thickness in the coating pattern close to a uniform state. And a coating method.

Claims (7)

삭제delete 헤드에 형성된 복수의 노즐로부터 용액을 분사시켜, 설정된 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치에 있어서,In the inkjet coating apparatus for spraying a solution from a plurality of nozzles formed in the head to apply the solution to the substrate surface to draw a set coating pattern, 상기 헤드와 상기 기판을, 상기 노즐의 길이 배열 방향과 교차하는 방향으로 상대 이동 가능한 제1 이동 기구와,A first moving mechanism capable of relatively moving the head and the substrate in a direction crossing the length arrangement direction of the nozzle; 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 길이 배열 방향으로 상대 이동 가능한 제2 이동 기구와,A second moving mechanism capable of relatively moving the head and the substrate in a length arrangement direction of the nozzle; 상기 제1 이동 기구와 상기 노즐의 용액 분사 동작을 제어함과 함께, 상기 노즐의 길이 배열 방향의 피치를 P, 양의 정수를 n로 했을 때, 상기 헤드와 상기 기판의 상대 위치를 상기 길이 배열 방향으로 (n×P+P/2) 다르게 하여, 용액을 여러 차례 도포하도록 제어하는 제어기를 구비한 것을 특징으로 하는 잉크제트 방식의 도포 장치.While controlling the solution injection operation of the first moving mechanism and the nozzle, when the pitch in the length arrangement direction of the nozzle is P and the positive integer is n, the relative position of the head and the substrate is arranged in the length. And a controller for controlling the application of the solution several times in different directions (n × P + P / 2). 헤드에 형성된 복수의 노즐로부터 용액을 분사시켜, 설정된 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 장치에 있어서,In the inkjet coating apparatus for spraying a solution from a plurality of nozzles formed in the head to apply the solution to the substrate surface to draw a set coating pattern, 상기 헤드와 상기 기판을, 상기 노즐의 길이 배열 방향과 교차하는 방향으로 상대 이동 가능한 제1 이동 기구와,A first moving mechanism capable of relatively moving the head and the substrate in a direction crossing the length arrangement direction of the nozzle; 상기 헤드와 상기 기판을, 상기 노즐의 길이 배열 방향으로 상대 이동 가능한 제2 이동 기구와,A second moving mechanism capable of relatively moving the head and the substrate in a length arrangement direction of the nozzle; 상기 제1 이동 기구와 상기 노즐의 용액 분사 동작을 제어함과 함께, 상기 노즐의 길이 배열 방향의 피치를 P, 양의 정수를 n, 도포 횟수를 m으로 했을 때, 상기 헤드와 상기 기판의 상대 위치를 상기 길이 배열 방향으로 (n×P+P/m) 만큼 다르게 하여, 용액을 m회 도포하도록 제어하는 제어기를 구비한 것을 특징으로 하는 잉크제트 방식의 도포 장치.While controlling the solution injection operation of the first moving mechanism and the nozzle, the pitch of the nozzle in the longitudinal arrangement direction is set to P, a positive integer n, and the number of application of m are relative to the head and the substrate. And a controller for controlling the application of the solution m times by varying the position by (n × P + P / m) in the length arrangement direction. 청구항 2 또는 청구항 3에 있어서,The method according to claim 2 or 3, 각 노즐로부터의 용액 분사량을 계측하는 계측기를 가지는 것을 특징으로 하는 잉크제트 방식의 도포 장치.An ink jet coating apparatus, comprising: a measuring device for measuring the amount of solution injected from each nozzle. 삭제delete 헤드에 형성된 복수의 노즐로부터 용액을 분사시켜, 설정된 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 방법이고, 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 길이 배열 방향과 교차하는 방향으로 상대 이동 가능한 제1 이동 기구와, 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 길이 배열 방향으로 상대 이동 가능한 제2 이동 기구와, 상기 제1 이동 기구와 상기 노즐의 용액 분사 동작을 제어함과 함께, 상기 복수 노즐 간의 분사량 격차에 근거하는 상기 제2 이동 기구에 대한 제어에 의하여, 상기 헤드와 상기 기판의 상대 위치를 상기 길이 배열 방향과 다르게 하여, 용액을 여러 차례 도포하도록 제어하는 제어기를 구비하는 잉크제트 방식의 도포방법에 있어서, An ink jet coating method for spraying a solution from a plurality of nozzles formed in a head to apply a solution to a substrate surface to draw a set coating pattern , wherein the head and the substrate are intersected with a length arrangement direction of the nozzle. A first moving mechanism capable of relatively moving, a second moving mechanism capable of moving relatively relative to the head and the substrate in a length arrangement direction of the nozzle, and controlling a solution injection operation of the first moving mechanism and the nozzle, An ink jet having a controller for controlling the application of the solution several times by controlling the second moving mechanism based on the injection amount difference between the plurality of nozzles, different from the length arrangement direction of the relative position of the head and the substrate; In the coating method of the method, 상기 노즐의 길이 배열 방향의 피치를 P, 양의 정수를 n으로 했을 때, 전회의 도포 위치와 금회 도포 위치 간의 상기 헤드와 기판 간의 상대 위치를, 상기 길이 배열 방향으로 (n×P+P/2)만큼 다르게 하여, 용액을 여러 차례 도포하는 것을 특징으로 하는 잉크제트 방식의 도포 방법.When the pitch in the length arrangement direction of the nozzle is P and the positive integer is n, the relative position between the head and the substrate between the previous application position and the current application position is set in the length arrangement direction (n × P + P / 2). The ink jet coating method, characterized in that the solution is applied several times as different. 헤드에 형성된 복수의 노즐로부터 용액을 분사시켜, 설정된 도포 패턴을 그리도록 기판면에 용액을 도포하는 잉크제트 방식의 도포 방법이고, 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 길이 배열 방향과 교차하는 방향으로 상대 이동 가능한 제1 이동 기구와, 상기 헤드와 상기 기판을 상기 노즐의 길이 배열 방향으로 상대 이동 가능한 제2 이동 기구와, 상기 제1 이동 기구와 상기 노즐의 용액 분사 동작을 제어함과 함께, 상기 복수 노즐 간의 분사량 격차에 근거하는 상기 제2 이동 기구에 대한 제어에 의하여, 상기 헤드와 상기 기판의 상대 위치를 상기 길이 배열 방향과 다르게 하여, 용액을 여러 차례 도포하도록 제어하는 제어기를 구비하는 잉크제트 방식의 도포방법에 있어서, An ink jet coating method for spraying a solution from a plurality of nozzles formed in a head to apply a solution to a substrate surface to draw a set coating pattern , wherein the head and the substrate are intersected with a length arrangement direction of the nozzle. A first moving mechanism capable of relatively moving, a second moving mechanism capable of moving relatively relative to the head and the substrate in a length arrangement direction of the nozzle, and controlling a solution injection operation of the first moving mechanism and the nozzle, An ink jet having a controller for controlling the application of the solution several times by controlling the second moving mechanism based on the injection amount difference between the plurality of nozzles, different from the length arrangement direction of the relative position of the head and the substrate; In the coating method of the method, 상기 노즐의 길이 배열 방향의 피치를 P, 양의 정수를 n로 했을 때, 도포 횟수를 m으로 했을 때, 전회의 도포 위치와 금회 도포 위치 간의 상기 헤드와 기판 간의 상대 위치를, 상기 길이 배열 방향으로 (n×P+P/m) 만큼 다르게 하고, 용액을 여러 차례 도포하는 것을 특징으로 하는 잉크제트 방식의 도포 방법.When the pitch in the length arrangement direction of the nozzle is P and the positive integer is n, and the application number is m, the relative position between the head and the substrate between the previous application position and the current application position is the length arrangement direction. (N x P + P / m) by differently, the coating method of the ink jet method characterized in that the solution is applied several times.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009014148A1 (en) * 2007-07-26 2009-01-29 Shibaura Mechatronics Corporation Piezoelectric element driving apparatus and coating apparatus
JP5563752B2 (en) * 2008-06-26 2014-07-30 東京応化工業株式会社 Coating apparatus and coating method
JP5288917B2 (en) * 2008-07-09 2013-09-11 芝浦メカトロニクス株式会社 Paste coating apparatus and paste coating method
KR101164627B1 (en) * 2008-07-28 2012-07-11 주식회사 탑 엔지니어링 Dispenser with frames capable of separation
KR101000549B1 (en) * 2008-09-19 2010-12-14 주식회사 디엠에스 Coater
JP5730698B2 (en) * 2011-07-15 2015-06-10 株式会社ミマキエンジニアリング Printing method and printing apparatus
JPWO2013046608A1 (en) * 2011-09-29 2015-03-26 凸版印刷株式会社 Thin film formation method
KR102652755B1 (en) * 2018-04-09 2024-04-01 세메스 주식회사 Method and Apparatus for Ejecting Droplet

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004255335A (en) * 2003-02-27 2004-09-16 Seiko Epson Corp Method and apparatus for discharging liquid substance, manufacture method for color filter and color filter, liquid crystal display device, manufacture method for electroluminescence device, electroluminescence device, manufacture method for plasma display panel, plasma display panel, and electronic equipment
JP2005066401A (en) * 2003-08-27 2005-03-17 Seiko Epson Corp Liquid droplet discharge apparatus, electrooptical apparatus, production method of electrooptical apparatus, and electronic device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4401991A (en) * 1981-10-08 1983-08-30 International Business Machines Corporation Variable resolution, single array, interlace ink jet printer
JP3056186B1 (en) * 1998-12-25 2000-06-26 翼システム株式会社 Computer readable medium recording accident vehicle damage area recognition system and program

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004255335A (en) * 2003-02-27 2004-09-16 Seiko Epson Corp Method and apparatus for discharging liquid substance, manufacture method for color filter and color filter, liquid crystal display device, manufacture method for electroluminescence device, electroluminescence device, manufacture method for plasma display panel, plasma display panel, and electronic equipment
JP2005066401A (en) * 2003-08-27 2005-03-17 Seiko Epson Corp Liquid droplet discharge apparatus, electrooptical apparatus, production method of electrooptical apparatus, and electronic device

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