KR100901854B1 - Low Temperature curable Thermosetting Epoxy Resin Composition and Manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 열경화성 에폭시 수지 조성물은, (a) 비스페놀 F형 에폭시 수지와 비스페놀 A형 에폭시 수지를 혼합한 혼합물에 폴리치올 수지를 상기 혼합물의 전체 중량 대비 5∼20 중량%로 투입하여 부가반응으로 변성 에폭시 수지를 제조하는 단계; (b) 상기 변성 에폭시 수지에 전체 조성물 중량 대비 2~5 중량%의 부착 증진제, 20~50 중량%의 충진제, 10~30 중량%의 경화제 및 1~3 중량% 잠재성 경화 촉매를 투입하여 분산시키는 단계;를 거쳐 제조된다.In the thermosetting epoxy resin composition according to the present invention, a polythiol resin is added to a mixture of (a) a bisphenol F type epoxy resin and a bisphenol A type epoxy resin in an amount of 5 to 20% by weight based on the total weight of the mixture. Preparing a modified epoxy resin; (b) 2 to 5% by weight of adhesion promoter, 20 to 50% by weight of filler, 10 to 30% by weight of curing agent, and 1 to 3% by weight of latent curing catalyst are dispersed in the modified epoxy resin. It is prepared through; step.

변성 에폭시 수지, 내습성, 내크랙성, 내충격성 Modified epoxy resin, moisture resistance, crack resistance, impact resistance

Description

저온 경화 열경화성 에폭시 수지 조성물 및 그 제조 방법{Low Temperature curable Thermosetting Epoxy Resin Composition and Manufacturing method thereof}Low Temperature Curable Thermosetting Epoxy Resin Composition and Manufacturing Method Thereof {Low Temperature curable Thermosetting Epoxy Resin Composition and Manufacturing method}

본 발명은 열경화성 에폭시 수지 조성물 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 신규의 변성 에폭시 수지를 기초 수지로 하여 경화제, 부착증진제, 잠재성 경화 촉진제 및 충진제를 첨가하여 이루어지며, 저온에서 경화시켰을 때도 내습성, 내충격성, 접착성 등의 물성이 우수하여 열에 민감한 전자 부품의 전자 재료용으로 사용하기 적합한 저온 경화 열경화성 에폭시 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a thermosetting epoxy resin composition and a method for producing the same. More specifically, the present invention is made by adding a curing agent, an adhesion promoter, a latent curing accelerator, and a filler by using a new modified epoxy resin as a base resin, and properties such as moisture resistance, impact resistance, and adhesiveness, even when cured at low temperature A superior low temperature curing thermosetting epoxy resin composition suitable for use in electronic materials for heat sensitive electronic components.

일반적으로 비스페놀형 에폭시 수지는 경화물 자체의 치수 안정성이 우수하고, 방향족 고리를 함유하고 있어 내화학성 및 내열성이 우수한 장점을 가지고 있기 때문에 전기, 전자 부품 재료용 수지로 널리 사용되고 있다. 이러한 비스페놀형 에폭시 수지는 전기, 전자 부품에 주로 적용되기 때문에, 접착성, 내습성, 내크랙 성 및 내충격성 등의 물성이 양호해야 한다.In general, bisphenol-type epoxy resins are widely used as resins for electric and electronic component materials because they have excellent dimensional stability of the cured product itself, contain aromatic rings, and have excellent chemical resistance and heat resistance. Since the bisphenol-type epoxy resin is mainly applied to electrical and electronic components, physical properties such as adhesion, moisture resistance, crack resistance, and impact resistance should be good.

이러한 비스페놀형 에폭시 수지의 물성을 향상시키기 위한 종래의 기술로, 비스페놀형 에폭시 수지에 페놀 노볼락(Phenol novolac) 수지 또는 산무수물 수지를 경화제로서 혼합하여 사용하는 방법이 알려져 있다. As a conventional technique for improving the physical properties of such a bisphenol-type epoxy resin, a method of mixing a phenol novolac resin or an acid anhydride resin with a bisphenol-type epoxy resin as a curing agent is known.

그러나, 페놀 노볼락 수지를 적용할 경우 경화물의 내열성, 내습성 향상 효과를 가져올 수 있지만, 경화제 수지 자체의 이온 불순물 함량의 제어가 어려워 그로 인한 전기적인 특성이 저하될 수 있다. 또한, 경화제로 산무수물 수지를 사용할 경우, 경화물의 탄성계수가 낮기 때문에 냉온 가속 시험시 내크랙성 불량의 문제가 발생한다. 따라서, 신뢰성 높은 전기, 전자 재료를 만드는데 한계가 있다.However, when the phenol novolak resin is applied, the heat resistance and the moisture resistance of the cured product may be improved, but the control of the ionic impurity content of the cured resin itself may be difficult, resulting in deterioration of electrical characteristics. In addition, when the acid anhydride resin is used as a curing agent, the elasticity coefficient of the cured product is low, and thus a problem of poor crack resistance occurs during the cold and accelerated test. Therefore, there is a limit in making reliable electric and electronic materials.

또한 종래의 일반적인 에폭시수지는 경화제의 종류에 따라 경화 온도가 결정되며, 노볼락 또는 산무수물 경화제의 경우 약 140 ~ 170 ℃, 변성 아민/아마이드 또는 이미다졸 경화제의 경우 약 90 ~ 130 ℃ 의 고열 경화 조건이 필요하여 열에 민감한 전자 부품의 경우 적용에 한계가 있다.In addition, the conventional epoxy resin is a curing temperature is determined according to the type of the curing agent, high temperature curing of about 140 ~ 170 ℃ for the novolak or acid anhydride curing agent, about 90 ~ 130 ℃ for the modified amine / amide or imidazole curing agent There is a limit to the application of heat sensitive electronic components due to the conditions required.

이에 본 발명자들은 상술한 문제점을 해결하기 위해, 새로운 형태의 변성 에폭시 수지를 제조하고, 이를 기초수지로 하여 다른 성분을 첨가하여 새로운 조성물을 제조함으로써, 저온 (약 60 ~ 80 ℃) 에서 경화시켰을 때도 접착성, 내습성, 내충격성, 내크랙성 등의 물성이 우수한 저온경화 열경화성 에폭시 수지 조성물을 개발하기에 이른 것이다.In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors prepare a new type of modified epoxy resin, and add another component as a base resin to prepare a new composition, thereby curing at low temperature (about 60 to 80 ° C.). It is to develop a low-temperature curing thermosetting epoxy resin composition excellent in physical properties such as adhesion, moisture resistance, impact resistance, crack resistance.

본 발명의 목적은 새로운 형태의 변성 에폭시 수지를 제공하기 위한 것이다.It is an object of the present invention to provide a new type of modified epoxy resin.

또한, 본 발명의 다른 목적은 새로운 형태의 변성 에폭시 수지를 기초수지로 하여 저온 경화성이 뛰어나며, 접착성, 내습성, 내충격성 및 내크랙성 등이 우수한 열경화성 에폭시 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a thermosetting epoxy resin composition having excellent low-temperature curability, excellent adhesion, moisture resistance, impact resistance and crack resistance, etc. as a base resin of a new type of modified epoxy resin.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.The above and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 열경화성 에폭시 수지 조성물은, (a) 비스페놀 F형 에폭시 수지와 비스페놀 A형 에폭시 수지를 혼합한 혼합물에 폴리치올 수지를 상기 혼합물의 전체 중량 대비 5∼20 중량%로 투입하여 부가반응으로 변성 에폭시 수지를 제조하는 단계; (b) 상기 변성 에폭시 수지에 전체 조성물 중량 대비 2~5 중량%의 부착 증진제, 20~50 중량%의 충진제, 10~30 중량%의 경화제 및 1~3 중량% 잠재성 경화 촉매를 투입하여 분산시키는 단계;를 거쳐 제조된다.
상기 (a) 단계에서는, 비스페놀 A형 에폭시 수지가 변성 에폭시 전체 중량 대비 30~60 중량%를 가지는 것이 바람직하고, 상기 폴리치올 수지를 투입한 후 60℃~70℃에서 숙성시킨 후 냉각하는 것이 바람직하다.
상기 (b) 단계에서는, 30~50 ℃에서 상기 부착증진제 및 상기 충진제를 투입하고 분산시킨 후 상기 경화제 및 상기 잠재성 경화촉매를 투입하여 추가로 분산시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 경화제는 액상이며 분자 내에 치올기를 3 개 이상 함유한 폴리치올 수지를, 상기 부착증진제는 말단에 에폭시기를 가지는 실란계 화합물을, 상기 잠재성 경화 촉진제는 변성된 지방족 폴리아민 화합물을, 상기 충진제는 결정형 실리카, 비정형 실리카, 알미늄 히드록사이드 및 칼슘 카보네이트로 이루어진 군으로부터 선택된 최소한 하나 이상을 사용하는 것이 바람직하다.
The thermosetting epoxy resin composition of the present invention for achieving the above object is (a) 5 to 20% by weight of a polythiol resin relative to the total weight of the mixture in a mixture of a bisphenol F type epoxy resin and a bisphenol A type epoxy resin Preparing a modified epoxy resin by an addition reaction by adding thereto; (b) 2 to 5% by weight of adhesion promoter, 20 to 50% by weight of filler, 10 to 30% by weight of curing agent, and 1 to 3% by weight of latent curing catalyst are dispersed in the modified epoxy resin. It is prepared through; step.
In the step (a), it is preferable that the bisphenol A epoxy resin has 30 to 60% by weight relative to the total weight of the modified epoxy, and after the polythiol resin is added, it is preferably aged at 60 ° C to 70 ° C and then cooled. Do.
In the step (b), it is preferable to further disperse by adding and dispersing the adhesion promoter and the filler at 30 ~ 50 ℃ after the addition of the curing agent and the latent curing catalyst.
In addition, the curing agent is a liquid, a polythiol resin containing three or more thiol groups in the molecule, the adhesion promoter is a silane compound having an epoxy group at the terminal, the latent curing accelerator is a modified aliphatic polyamine compound, the filler It is preferred to use at least one selected from the group consisting of crystalline silica, amorphous silica, aluminum hydroxide and calcium carbonate.

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본 발명에 의해 새로운 형태의 변성 에폭시 수지를 제공할 수 있으며, 이 변성 에폭시 수지를 기초수지로 하여 제조된 열경화성 에폭시 수지 조성물은 저온 경화 조건에서도 접착력, 내습성, 내충격성 및 내크랙성 등이 우수한 효과를 나타낸다.According to the present invention, a new type of modified epoxy resin can be provided, and the thermosetting epoxy resin composition prepared using the modified epoxy resin as a base resin is excellent in adhesive strength, moisture resistance, impact resistance and crack resistance even under low temperature curing conditions. Effect.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 이용될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications and variations of the present invention can be readily used by those skilled in the art, and all such variations or modifications can be considered to be included within the scope of the present invention.

본 발명에 따른 열경화성 에폭시 수지 조성물은, 변성 에폭시 수지(A), 경화제(B), 부착증진제(C), 잠재성 경화 촉진제(D) 및 충진재(E)로 이루어진다.The thermosetting epoxy resin composition according to the present invention comprises a modified epoxy resin (A), a curing agent (B), an adhesion promoter (C), a latent curing accelerator (D) and a filler (E).

본 발명의 변성 에폭시 수지(A)는 전체 조성물의 기초 수지이다. 이 변성 에폭시 수지(A)는 전체 조성물에 대하여 20~50 중량%로 사용된다.The modified epoxy resin (A) of the present invention is a base resin of the whole composition. This modified epoxy resin (A) is used in 20 to 50 weight% with respect to the whole composition.

상기 변성 에폭시 수지(A)는 비스페놀형 에폭시 수지에 폴리치올 수지를 부가하여 제조된다. The modified epoxy resin (A) is produced by adding a polythiol resin to a bisphenol type epoxy resin.

여기서 비스페놀형 에폭시 수지는 분자 내에 2 개 이상의 에폭시기를 가지며 에폭시 당량이 150~300 g/eq 인 것이 바람직하다. It is preferable that bisphenol type epoxy resin has 2 or more epoxy groups in a molecule | numerator, and epoxy equivalent is 150-300 g / eq.

본 발명에서 비스페놀형 에폭시 수지는 비스페놀 F형 에폭시 수지와 비스페놀 A형 에폭시 수지 중 선택하여 단독으로 사용할 수 있으나, 보다 높은 신뢰성을 갖는 결과를 위해 혼용하여 사용하는 것이 바람직하다. In the present invention, the bisphenol-type epoxy resin can be used alone and selected from bisphenol F-type epoxy resin and bisphenol-A epoxy resin, but it is preferable to use a mixture for higher reliability.

이때, 비스페놀 A형 수지는 전체 비스페놀형 에폭시 수지의 중량에 대하여 30~60 중량%를 사용하는 것이 바람직하며 60 중량%를 초과하지 않도록 해야 한다. 만일, 비스페놀 A형 에폭시 수지의 중량비가 60 %를 초과하는 경우 조성물의 점도가 높아져 작업성에 영향을 미치며, 경화물의 모듈러스가 높아져 내크랙성이 저하되는 문제점이 발생한다.At this time, the bisphenol A resin is preferably 30 to 60% by weight based on the total weight of the bisphenol-type epoxy resin, and should not exceed 60% by weight. If the weight ratio of the bisphenol A epoxy resin exceeds 60%, the viscosity of the composition is increased to affect workability, and the modulus of the cured product is increased to cause cracking resistance.

반면에 비스페놀 A형 에폭시 수지의 중량비가 30 % 미만일 경우 조성물의 내구성이 저하되어 접착강도가 낮아지는 문제점이 발생된다.On the other hand, when the weight ratio of the bisphenol A-type epoxy resin is less than 30%, the durability of the composition is lowered, resulting in a problem that the adhesive strength is lowered.

이러한 비스페놀형 에폭시 수지에 폴리치올 수지를 부가하여 변성 에폭시 수지(A)를 제조하는데, 상기 폴리치올 수지는 말단에 2개의 치올기를 가지며, 산가가 최대 5 mgKOH/g인 액상으로 존재한다. A polythiol resin is added to the bisphenol-type epoxy resin to prepare a modified epoxy resin (A). The polychiol resin has two thiol groups at its ends and is present in a liquid phase having an acid value of up to 5 mgKOH / g.

본 발명에서 폴리치올 수지는 상기 에폭시 수지 혼합물 전체 중량에 대하여 5~20 중량%를 사용하여, 부가 반응을 시켜 변성 에폭시 수지를 제조한다. 바람직하게는 약 10 중량%를 사용하며, 만일 20 중량% 이상으로 사용될 경우에는 변성 에폭시 수지의 점도 증가로 인해 에폭시 수지 조성물 제조에 어려움이 따르게 되며, 또한 조성물의 작업성이 저하되는 결과를 가져온다.In the present invention, the polythiol resin is 5 to 20% by weight based on the total weight of the epoxy resin mixture, by addition reaction to produce a modified epoxy resin. Preferably, about 10% by weight is used, and when used in more than 20% by weight, it is difficult to prepare the epoxy resin composition due to the increase in the viscosity of the modified epoxy resin, and the workability of the composition is also lowered.

이와 같은 제조과정을 통해 제조된 변성 에폭시 수지는 저온에서의 경화성 및 접착성이 뛰어나며 분자구조가 유연하여 내충격성, 내크랙성이 향상된 고신뢰성 수지이다. 또한, 본 발명에서 변성 에폭시수지는 에폭시 당량이 200~350 g/eq, 점도가 15,000~35,000 cps (25℃) 범위를 갖는 것이 바람직하다.The modified epoxy resin produced through such a manufacturing process is a high reliability resin having excellent curability and adhesiveness at low temperatures and a flexible molecular structure with improved impact resistance and crack resistance. In addition, the modified epoxy resin in the present invention preferably has an epoxy equivalent of 200 ~ 350 g / eq, the viscosity of 15,000 ~ 35,000 cps (25 ℃) range.

본 발명의 열경화성 에폭시 수지 조성물은 전술한 변성 에폭시 수지(A)에 부착증진제(C) 및 충진제(E)를 투입하여 혼합물을 분산시킨 후, 경화제(B) 및 잠재성 경화 촉매(D)를 투입하여 추가로 분산시키는 과정을 거쳐 제조된다.In the thermosetting epoxy resin composition of the present invention, an adhesion promoter (C) and a filler (E) are added to the above-described modified epoxy resin (A) to disperse the mixture, and then a curing agent (B) and a latent curing catalyst (D) are added. It is prepared through the process of further dispersion.

본 발명에 따른 조성물에 사용되는 경화제(B)는 작업성을 향상시키고, 기초수지와 경화제의 배합 비율 차이에 따른 신뢰성 저하를 방지하기 위해 일액형 경화제(One-part hardening agent)를 사용하는 것이 바람직하다. 나아가, 상온에서의 저장 안정성과 가사시간을 늘려주며 경화된 조성물의 흐름성 및 모듈러스를 낮추어 주기위해 액상이며 분자 내에 치올기를 3 개 이상 함유한 폴리치올 수지를 사용한다. 본 발명에서 경화제(B)는 전체 조성물 중량에 대하여 10~30 중량%를 사용하는 것이 바람직하다.The curing agent (B) used in the composition according to the present invention preferably uses a one-part hardening agent in order to improve workability and to prevent a decrease in reliability due to a difference in the ratio of the base resin and the curing agent. Do. Furthermore, in order to increase storage stability and pot life at room temperature, and to lower the flowability and modulus of the cured composition, a polythiol resin containing three or more thiol groups in a molecule is used. In the present invention, the curing agent (B) is preferably used 10 to 30% by weight based on the total weight of the composition.

본 발명에서 사용하는 부착 증진제(C)는 조성물과 계면 접착되는 산업용 플라스틱 (Engineering Plastic), 인쇄회로기판(Printed Circuit Board) 또는 실리콘 다이(Silicone die)와의 부착력을 높여주기 위해 실란계 화합물이 사용되며 바람직하게는 말단에 에폭시기를 가지는 에폭시 실란 화합물이 사용된다. 본 발명에서 사용되는 부착 증진제(C)의 함량은 전체 조성물 중량에 대하여 2~5 중량%를 사용한다.Adhesion promoters (C) used in the present invention is a silane-based compound is used to increase the adhesion to the industrial plastic (Engineering Plastic), Printed Circuit Board (Silicone die) and the interface bonded to the composition Preferably the epoxy silane compound which has an epoxy group at the terminal is used. The content of the adhesion promoter (C) used in the present invention is 2 to 5% by weight based on the total weight of the composition.

본 발명에서 사용되는 잠재성 경화 촉진제(D)는 조성물의 가사시간(life time)을 연장시켜 조성물을 사용할 때 연속 작업성을 향상시켜주는 역할을 한다. 이러한 잠재성 경화 촉진제는 변성된 지방족 폴리아민 화합물이며 상온에서 안정적이고 고온에서 활성화되는 것이 바람직하다. 본 발명에서 상기 잠재성 경화 촉진제(E)는 전체 조성물 중량에 대하여 1~3 중량%를 사용한다.The latent curing accelerator (D) used in the present invention serves to improve the continuous workability when using the composition by extending the life time of the composition. These latent curing accelerators are modified aliphatic polyamine compounds and are preferably stable at room temperature and activated at high temperatures. In the present invention, the latent curing accelerator (E) is used in an amount of 1 to 3% by weight based on the total weight of the composition.

본 발명의 충진제(E)는 조성물의 열팽창 계수를 낮추어 주기 위한 것으로, 결정형 또는 비정형 실리카, 알미늄 하이드록사이드, 칼슘 카보네이트 등이 단독 또는 혼용하여 사용이 가능하다. 이 중, 평균 입도가 0.5~10 ㎛인 구형 실리카를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 적용하려는 전기, 전자 부품의 특성에 맞추어 조성물의 칙소트로픽 특성을 부여하기 위해 용융형 실리카를 사용해도 좋다. 본 발명에서 충진제(E)는 전체 조성물에 대하여 20~50 중량%를 사용한다.Filler (E) of the present invention is to lower the coefficient of thermal expansion of the composition, crystalline or amorphous silica, aluminum hydroxide, calcium carbonate and the like can be used alone or in combination. Among these, it is preferable to use spherical silica whose average particle size is 0.5-10 micrometers. Further, in order to impart thixotropic properties of the composition in accordance with the characteristics of the electrical and electronic components to be applied, fused silica may be used. Filler (E) in the present invention uses 20 to 50% by weight based on the total composition.

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 상술한 각 성분들을 이용하여 통상의 수지 조성물을 제조하는 방법에 의해 제조가 가능하다. 이렇게 제조된 에폭시 수지 조성물을 통해 다양한 형태의 접착제, 성형품, 보강재 등을 제조할 수 있다.The epoxy resin composition according to the present invention can be produced by a method for producing a conventional resin composition using the above-described components. Through the epoxy resin composition thus prepared, it is possible to manufacture various types of adhesives, molded articles, reinforcing materials and the like.

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 외부의 가혹한 환경 하에서도 전기, 전자 부품의 높은 신뢰성을 보장하는데, 특히 저온경화 특성이 우수하기 때문에 외부 열에 민감하여 저온에서 작업해야 하는 센서 부품 또는 산업용 플라스틱을 사용하는 전기, 전자 부품의 구조 접착제, 액상 봉지재, 다이 어태치 접착제 등의 용도로 적용할 수 있다.The epoxy resin composition according to the present invention ensures high reliability of electrical and electronic components even under harsh external environments. In particular, since it has excellent low temperature curing characteristics, it is sensitive to external heat and uses a sensor component or an industrial plastic to work at low temperatures. It can be applied to applications such as structural adhesives for electrical and electronic components, liquid encapsulants, die attach adhesives, and the like.

< < 실시예Example > >

변성 에폭시 수지(A)의 제조Preparation of Modified Epoxy Resin (A)

1.질소관, 에어 컨덴서, 교반기, 온도계 및 히터가 설치된 2 L 반응조에 에폭시 당량이 170 g/eq인 비스페놀 F형 에폭시 수지(국도화학, 제품명: YDF-720)와 에폭시 당량이 190 g/eq인 비스페놀 A형 에폭시 수지(국도화학, 제품명: YD-128)를 표 1에 기재된 함량으로 가한 후 질소 가스가 주입되는 상태에서 서서히 교반하여 혼합한다. 1. Bisphenol F type epoxy resin (Kukdo Chemical, product name: YDF-720) with epoxy equivalent of 170 g / eq in a 2 L reactor equipped with a nitrogen tube, air condenser, stirrer, thermometer, and heater, and epoxy equivalent 190 g / eq. Phosphorous bisphenol A epoxy resin (Kukdo Chemical, product name: YD-128) was added to the contents shown in Table 1, followed by mixing with agitation while gradually injecting nitrogen gas.

반응 촉매로 3급 아민인 Tri (Dimethylamine) Phenol을 0.1 중량부를 가한 후 말단에 2 개의 치올기를 가지는 폴리치올 수지(브루노 벅, 제품명: GDMP)를 발열 반응에 주의하며 표 1에 기재된 함량으로 약 1 시간 동안 서서히 적하 투입한다. 폴리치올 수지를 모두 투입한 후 온도를 60~70 ℃로 유지하면서 3 시간 숙성시키고 냉각하여 하기 표 1의 (a1) 내지 (a5)의 변성 에폭시 수지를 제조하였다(각 수지의 함량 단위는 g이다).0.1 parts by weight of a tertiary amine Tri (Dimethylamine) Phenol was added as a reaction catalyst, and then a polythiol resin (Bruno Buck, product name: GDMP) having two thiol groups at the end was used for the exothermic reaction. Add dropwise slowly over time. After all of the polythiol resin was added, the temperature was maintained at 60 to 70 ° C. for 3 hours, followed by cooling to prepare modified epoxy resins of (a 1 ) to (a 5 ) in Table 1 below. g).

(a1)(a 1 ) (a2)(a 2 ) (a3)(a 3 ) (a4)(a 4 ) (a5)(a 5 ) 비스페놀 F형 에폭시 수지Bisphenol F type epoxy resin 500500 700700 400400 500500 500500 비스페놀 A형 에폭시 수지Bisphenol A type epoxy resin 500500 300300 600600 500500 500500 폴리치올 수지Polythiol resin 100100 100100 100100 5050 200200 에폭시 당량 (g/eq)Epoxy equivalent weight (g / eq) 232232 227227 236236 199199 339339 점도 (cps, 25℃)Viscosity (cps, 25 ℃) 21,00021,000 18,00018,000 31,00031,000 15,00015,000 34,00034,000

실시예Example 1~3 및  1-3 and 비교실시예Comparative Example 1~4 1 ~ 4

전술한 방법에 의해 제조된 변성 에폭시 수지((a1) 내지 (a5))를 이용하여 하기 표 2의 함량에 따라 에폭시 수지 조성물을 각각 제조하였다. Using the modified epoxy resin ((a 1 ) to (a 5 )) prepared by the above-described method was prepared according to the content of Table 2, respectively.

구체적으로, 분산기와 온도계가 설치된 5 L 용기에 변성 에폭시 수지(A), 부착 증진제(C), 충진제(E)를 투입하고 30~50 ℃에서 1,000~3,000 RPM으로 2 시간 동안 최대 입도가 15 ㎛ 이하가 되도록 분산시켰다. 이후 경화제(B) 및 잠재성 경화 촉매(D)를 투입하여 500~1,000 RPM으로 30 분간 추가로 분산시켰다. 이 때, 조성물의 온도가 50 ℃ 이상으로 승온되지 않도록 냉각수를 사용하여 온도를 조절하였다. 그리고, 목표된 입도 범위에 도달하면 400 메쉬 필터를 사용하여 포장 냉각 하였다.Specifically, a modified epoxy resin (A), adhesion promoter (C) and filler (E) are added to a 5 L container equipped with a disperser and a thermometer, and the maximum particle size is 15 μm for 2 hours at 30 to 50 ° C. at 1,000 to 3,000 RPM. It disperse | distributed to the following. After the addition of the curing agent (B) and the latent curing catalyst (D) was further dispersed for 30 minutes at 500 ~ 1,000 RPM. At this time, temperature was adjusted using cooling water so that the temperature of a composition might not be heated up above 50 degreeC. Then, the packaging was cooled using a 400 mesh filter when the target particle size range was reached.

본 실시예에서 사용된 성분의 사양은 다음과 같으며, 제조된 조성물의 구성 성분과 함유량 등을 표 2에 나타내었다(각 함량단위는 중량%이다).The specifications of the components used in this example are as follows, and the components and contents of the prepared composition are shown in Table 2 (each content unit is weight percent).

(1) 변성 에폭시 수지: 상기 표 1의 (a1) 내지 (a5)(1) Modified epoxy resin: (a 1 ) to (a 5 ) in Table 1 above

(2) 비스페놀 A형 에폭시 수지: (2) bisphenol A epoxy resin:

에폭시 당량 190 g/eq, 국도화학, 제품명: YD-128    Epoxy equivalent 190 g / eq, Kukdo Chemical, product name: YD-128

(3) 경화제: 브루노 벅, 제품명: TMPMP(3) Hardener: Bruno Buck, Product Name: TMPMP

(4) 잠재성 경화 촉매: 후지카세이, 제품명: FXR-1020(4) latent curing catalyst: Fujikasei, product name: FXR-1020

실시예Example 비교실시예Comparative Example 1One 22 33 1One 22 33 변성 에폭시 수지 (A)Modified Epoxy Resin (A) (a1)(a 1 ) 4040 -- -- -- -- -- (a2)(a 2 ) -- 4040 -- -- -- -- (a3)(a 3 ) -- -- 4040 -- -- -- (a4)(a 4 ) -- -- -- 4040 -- -- (a5)(a 5 ) -- -- -- -- 4040 -- 비스페놀 A형 에폭시 수지Bisphenol A type epoxy resin -- -- -- -- -- 4040 경화제(B)Curing agent (B) 2525 2525 2525 3030 1515 3030 부착 증진제(C)Adhesion Promoter (C) 44 44 44 44 44 44 잠재성 경화 촉매(D)Latent Curing Catalyst (D) 1One 1One 1One 1One 1One 1One (E)(E) 충진재Filling 2525 2525 2525 2525 2525 2525 칙소트로픽제Chixotropic 55 55 55 55 55 55 점도 (cps, 25℃)Viscosity (cps, 25 ℃) 40,00040,000 35,00035,000 52,00052,000 32,00032,000 60,00060,000 30,00030,000 칙소트로픽 인덱스Thixotropic Index 33 33 33 33 33 33

신뢰성 평가Reliability evaluation

상기 실시예 및 비교실시예에서 제조된 각 조성물을 이용하여, 각 조성물 별로 평가 시편을 50 개씩 제작하여 신뢰성 평가를 진행하여, 하기 표 3에 결과를 정리하였다.Using each composition prepared in the above Examples and Comparative Examples, 50 evaluation specimens were prepared for each composition, and the reliability evaluation was performed, and the results are summarized in Table 3 below.

신뢰성 평가는 전기, 전자 부품에 사용되는 산업용 플라스틱 제품으로 특히 열에 민감하여 저온경화 특성이 필요한 카메라 묘듈의 이미지 센서 보호용 하우징재 접착제에 요구되는 항목을 다음과 같이 적용하였다.The reliability evaluation is an industrial plastic product used for electrical and electronic parts. The items required for the image sensor protection housing adhesive for camera modules, which are particularly sensitive to heat and require low temperature curing properties, are applied as follows.

우선, 시편 제조를 위해 인쇄회로기판을 오븐에서 125 ℃, 1 시간동안 건조 시킨 후 프로텍사(Protech Co.)의 디스펜서(Dispenser) 장비를 이용하여, 상기 실시예 및 비교실시예에서 제조된 각 조성물을 도포하였다. First, the printed circuit board was dried in an oven at 125 ° C. for 1 hour to prepare a specimen, and then each composition manufactured in the Examples and Comparative Examples using a dispenser device of Protech Co. Was applied.

디스펜서에 공급된 인쇄회로기판에 하우징재 접착제를 □ 모양으로 선형 도포한 후 하우징 어태치 구간에서 접착제가 도포된 인쇄회로기판 위에 하우징재를 접합시켰다. 이후 디스펜서에서 배출된 인쇄회로기판을 오븐에 넣어서 실온에서 70 ℃까지 10 분동안 승온시킨 다음, 70 ℃에서 30 분동안 유지하면서 경화시켰다.The housing material adhesive was linearly applied to the printed circuit board supplied to the dispenser in a □ shape, and then the housing material was bonded onto the printed circuit board to which the adhesive was applied in the housing attach section. Thereafter, the printed circuit board discharged from the dispenser was put in an oven, heated to 70 ° C. for 10 minutes, and then cured while maintaining at 70 ° C. for 30 minutes.

신뢰성 평가의 각 항목별 평가 방법은 다음과 같이 수행하였다.Evaluation method for each item of reliability evaluation was performed as follows.

(1) 접착성: 하우징재와의 접착 강도를 전단강도 시험기를 사용하여 측정하였다.(1) Adhesiveness: The adhesive strength with the housing material was measured using a shear strength tester.

(2) 내습성: IPC/JEDEC J-STD-020C에 따라, 85 ℃/ 85 %RH의 조건에서 120 시간동안 흡습 후 전단강도 시험기를 사용하여 하우징재와의 접착 강도를 측정하였다.(2) Moisture Resistance: According to IPC / JEDEC J-STD-020C, the adhesive strength with the housing material was measured using a shear strength tester after moisture absorption for 120 hours at 85 ° C./85%RH.

(3) 내크랙성: ASTM D-1647에 따라, -40 ℃~ 85 ℃에서 각 30 분씩 100 회 열 충격 시험 후 접착제의 균열 발생 여부를 광학 현미경으로 확인하였다. 평가 결과는 (불량 발생 시편수) / (총 시편수)와 같이 표기하였다.(3) Crack resistance: According to ASTM D-1647, after the thermal shock test for 30 minutes at -40 ° C to 85 ° C for 100 minutes each, it was confirmed by an optical microscope whether cracks of the adhesive occurred. The evaluation results are expressed as (number of defective specimens) / (total number of specimens).

(4) 내충격성: 어셈블리된 모듈을 1.52 m 높이에서 100 회 낙하 신뢰성 시험 후 접착제 경화물 모서리에서의 크랙 발생 여부를 광학 현미경으로 확인하였다. 평가 결과는 (불량 발생 시편수) / (총 시편수)와 같이 표기하였다.(4) Impact resistance: The assembled module was confirmed by an optical microscope for crack generation at the corners of the cured adhesive after 100 drop reliability tests at a height of 1.52 m. The evaluation results are expressed as (number of defective specimens) / (total number of specimens).

하우징재 재질Housing material 실시예Example 비교실시예Comparative Example 1One 22 33 1One 22 33 접착성 (kgf)Adhesiveness (kgf) PA6TPA6T 2222 2020 2020 1818 2121 1515 PA9TPA9T 2020 2020 1818 1717 1818 1515 PCPC 1818 1616 2020 1616 1616 1212 PA46PA46 2020 2020 2020 1818 1717 1414 LCPLCP 1717 1717 1818 1515 1616 1212 내습성 (kgf)Moisture Resistance (kgf) PA6TPA6T 1717 1515 1717 1616 1212 1212 내크랙성Crack resistance PA6TPA6T 0/500/50 0/500/50 0/500/50 7/507/50 2/502/50 10/5010/50 내충격성Impact resistance PA6TPA6T 0/500/50 0/500/50 0/500/50 5/505/50 1/501/50 8/508/50

이상과 같이 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the optimum embodiment has been disclosed in the drawings and the specification. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not used to limit the scope of the present invention as defined in the meaning or claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

본 발명의 열경화성 에폭시 수지 조성물은 열에 민감한 전자 부품의 전자 재 료용으로 주로 사용될 수 있으며, 그 밖에 저온 경화 특성이 요구되는 분야에서도 이용될 수 있을 것이다.The thermosetting epoxy resin composition of the present invention may be mainly used for electronic materials of heat-sensitive electronic components, and may also be used in fields requiring low temperature curing properties.

Claims (15)

(a) 비스페놀 F형 에폭시 수지와 비스페놀 A형 에폭시 수지를 혼합한 혼합물에 폴리치올 수지를 상기 혼합물의 전체 중량 대비 5∼20 중량%로 투입하여 부가반응으로 변성 에폭시 수지를 제조하는 단계;(a) adding a polythiol resin to a mixture of bisphenol F type epoxy resin and bisphenol A type epoxy resin in an amount of 5 to 20% by weight based on the total weight of the mixture to prepare a modified epoxy resin by an addition reaction; (b) 상기 변성 에폭시 수지에 전체 조성물 중량 대비 2~5 중량%의 부착 증진제, 20~50 중량%의 충진제, 10~30 중량%의 경화제 및 1~3 중량% 잠재성 경화 촉매를 투입하여 분산시키는 단계;(b) 2 to 5% by weight of adhesion promoter, 20 to 50% by weight of filler, 10 to 30% by weight of curing agent, and 1 to 3% by weight of latent curing catalyst are dispersed in the modified epoxy resin. Making a step; 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.Method for producing a thermosetting epoxy resin composition comprising a. 제 1항에 있어서, 상기 (a) 단계는,The method of claim 1, wherein step (a) comprises: 비스페놀 A형 에폭시 수지가 변성 에폭시 전체 중량 대비 30~60 중량%를 가지는 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.Bisphenol A epoxy resin has a 30 to 60% by weight relative to the total weight of the modified epoxy, the method of producing a thermosetting epoxy resin composition. 제 1항에 있어서, 상기 (a) 단계는,The method of claim 1, wherein step (a) comprises: 상기 폴리치올 수지를 투입한 후 60℃~70℃에서 숙성시킨 후 냉각하는 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.A method of producing a thermosetting epoxy resin composition, wherein the polythiol resin is added and then aged at 60 ° C to 70 ° C and cooled. 제 1항에 있어서, 상기 (b) 단계는,According to claim 1, wherein step (b), 30~50 ℃에서 상기 부착증진제 및 상기 충진제를 투입하고 분산시킨 후 상기 경화제 및 상기 잠재성 경화촉매를 투입하여 추가로 분산시키는 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.A method of producing a thermosetting epoxy resin composition, wherein the adhesion promoter and the filler are added and dispersed at 30 to 50 ° C., and then the curing agent and the latent curing catalyst are added and dispersed. 제 1항에 있어서, 상기 경화제는, The method of claim 1, wherein the curing agent, 액상이며 분자 내에 치올기를 3 개 이상 함유한 폴리치올 수지인 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.A method for producing a thermosetting epoxy resin composition, which is a liquid and a polythiol resin containing three or more thiol groups in a molecule. 제 1항에 있어서, 상기 부착증진제는, According to claim 1, wherein the adhesion promoter, 말단에 에폭시기를 가지는 실란계 화합물인 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.It is a silane type compound which has an epoxy group at the terminal, The manufacturing method of the thermosetting epoxy resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1항에 있어서, 상기 잠재성 경화 촉진제는, The method of claim 1, wherein the latent curing accelerator, 변성된 지방족 폴리아민 화합물인 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.It is a modified aliphatic polyamine compound, The manufacturing method of the thermosetting epoxy resin composition characterized by the above-mentioned. 제 1항에 있어서, 상기 충진제는, The method of claim 1, wherein the filler 결정형 실리카, 비정형 실리카, 알미늄 히드록사이드 및 칼슘 카보네이트로 이루어진 군으로부터 선택된 최소한 하나 이상인 것을 특징으로 하는 열경화성 에폭시 수지 조성물의 제조 방법.At least one selected from the group consisting of crystalline silica, amorphous silica, aluminum hydroxide and calcium carbonate. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항의 제조 방법으로 제조된 열경화성 에폭시 수지 조성물.A thermosetting epoxy resin composition prepared by the method of any one of claims 1 to 8. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101509483B1 (en) * 2013-09-26 2015-04-08 주식회사 신광화학산업 Bonding method of a metal and a resin using a dual-hardening epoxy adhesive composition between the two kinds of material and the adhesive force holding the metal and the resin
KR102149347B1 (en) 2020-02-18 2020-08-28 주식회사 와담 Manufacturing method of furniture coated with synthetic resin

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101255737B1 (en) * 2012-09-24 2013-04-26 대한민국 Radial velocity dealiasing method using reference wind field
KR102043160B1 (en) * 2017-12-20 2019-11-12 이아이씨티코리아 주식회사 Low Temperature Curing Epoxy Resin Composition
KR102322333B1 (en) * 2019-12-20 2021-11-09 율촌화학 주식회사 Conductive thermoset adhesive composition having excellent pre-lamination property, conductive thermoset adhesive film comprising the same and method for preparing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59182817A (en) 1983-04-01 1984-10-17 Nippon Paint Co Ltd Curable epoxy resin composition
US5430112A (en) 1992-10-22 1995-07-04 Ajinomoto Co., Inc. Epoxy resin and polythiol composition
KR20010007389A (en) * 1999-06-16 2001-01-26 이토가 미찌야 Sealing material for liquid crystal display using plastic substrate
KR20010034183A (en) * 1998-01-16 2001-04-25 록타이트(알 앤 디) 리미티드 Curable epoxy-based compositions

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59182817A (en) 1983-04-01 1984-10-17 Nippon Paint Co Ltd Curable epoxy resin composition
US5430112A (en) 1992-10-22 1995-07-04 Ajinomoto Co., Inc. Epoxy resin and polythiol composition
KR20010034183A (en) * 1998-01-16 2001-04-25 록타이트(알 앤 디) 리미티드 Curable epoxy-based compositions
KR20010007389A (en) * 1999-06-16 2001-01-26 이토가 미찌야 Sealing material for liquid crystal display using plastic substrate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101509483B1 (en) * 2013-09-26 2015-04-08 주식회사 신광화학산업 Bonding method of a metal and a resin using a dual-hardening epoxy adhesive composition between the two kinds of material and the adhesive force holding the metal and the resin
KR102149347B1 (en) 2020-02-18 2020-08-28 주식회사 와담 Manufacturing method of furniture coated with synthetic resin

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