KR100899925B1 - Apparatus of shifting Test Tray, Test Handler having the same, and method of manufacturing semiconductor device using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 테스트 챔버의 내면에 형성되며, 테스트 트레이가 제1방향으로 이동하는 것을 가이드하기 위한 가이드 레일; 및 상기 가이드 레일과 연결되며, 상기 가이드 레일을 상기 제1방향과 수직방향인 제2방향으로 이동시키기 위한 구동수단을 포함하여 이루어져, 테스트 공정시 상기 구동수단에 의해서 상기 가이드 레일에 위치하는 테스트 트레이를 제2방향으로 쉬프트하는 것이 가능한 테스트 트레이 쉬프트 장치, 그를 구비한 테스트 핸들러, 및 그를 이용한 반도체 소자 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 테스트 트레이를 쉬프트시킴으로써 콘택트 푸셔의 접속돌기가 테스트 트레이에 고정된 반도체 소자와 일대일로 대응되지 않는 경우에도 모든 반도체 소자에 대한 테스트 공정을 수행할 수 있다.
테스트 핸들러, 테스트 트레이 쉬프트 장치
The present invention is formed on the inner surface of the test chamber, the guide rail for guiding the test tray to move in the first direction; And a driving means connected to the guide rail and moving the guide rail in a second direction perpendicular to the first direction, the test tray being positioned on the guide rail by the driving means during a test process. The present invention relates to a test tray shifting device capable of shifting in a second direction, a test handler having the same, and a semiconductor device manufacturing method using the same.
According to the present invention, by shifting the test tray, even if the contact projection of the contact pusher does not correspond one-to-one with the semiconductor device fixed to the test tray, the test process for all the semiconductor devices can be performed.
Test handler, test tray shifter
Description
도 1은 종래의 테스트 핸들러를 개략적으로 도시한 개념도이다. 1 is a conceptual diagram schematically showing a conventional test handler.
도 2a는 종래의 반도체 소자 테스트 공정을 설명하기 위한 단면도이고, 도 2b는 종래의 반도체 소자 테스트 공정시 발생하는 문제를 설명하기 위한 단면도이다. 2A is a cross-sectional view illustrating a conventional semiconductor device test process, and FIG. 2B is a cross-sectional view illustrating a problem that occurs during a conventional semiconductor device test process.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치의 사시도이다. 3 is a perspective view of a test tray shifting device according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치에 구비되는 스톱퍼의 사시도이다. 4 is a perspective view of a stopper provided in a test tray shifting apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 핸들러의 개략적인 측면도이다. 5 is a schematic side view of a test handler according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부에 대한 설명> <Description of main parts of drawing>
100: 가이드 레일 110: 엘엠블럭100: guide rail 110: L block
120: 엘엠가이드 130: 연결부재120: LM guide 130: connecting member
200: 구동수단 210: 이동부재200: driving means 210: moving member
300: 스톱퍼 310: 베이스 300: stopper 310: base
320: 지지부 330: 링크320: support 330: link
400: 회전부 500: 제1챔버 400: rotating part 500: first chamber
600: 테스트 챔버 700: 제2챔버600: test chamber 700: second chamber
본 발명은 테스트 핸들러에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 테스트 챔버에서 테스트 트레이를 쉬프트하는 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a test handler, and more particularly, to an apparatus for shifting a test tray in a test chamber.
일반적으로, 메모리 또는 비 메모리 반도체 소자는 생산 후 여러 가지 테스트 과정을 거친 후 출하되게 되는데, 이와 같이 반도체 소자를 테스트하는데 사용되는 장치가 테스트 핸들러이다.In general, a memory or non-memory semiconductor device is shipped after various test procedures after production, such a device used to test the semiconductor device is a test handler.
테스트 핸들러는 상온 상태에서 반도체 소자의 성능 테스트뿐만 아니라, 고온 또는 저온의 극한 상태에서도 반도체 소자가 정상적인 기능을 수행할 수 있는가를 테스트하게 된다.The test handler not only tests the performance of the semiconductor device at room temperature but also tests whether the semiconductor device can perform normal functions even in extreme conditions of high or low temperatures.
따라서, 상기 테스트 핸들러는 반도체 소자를 고온 또는 저온의 극한 상태로 조성하기 위한 제1챔버, 상기 제1챔버와 연결되며 반도체 소자의 성능 테스트가 수행되는 테스트 챔버, 및 상기 테스트 챔버와 연결되며 반도체 소자를 상온 상태로 복귀시키는 제2챔버를 포함하여 이루어진다. Accordingly, the test handler is connected to the first chamber, the test chamber connected to the first chamber and performing a performance test of the semiconductor device, and the test chamber connected to the first chamber to form the semiconductor device in an extreme state of high temperature or low temperature. It comprises a second chamber for returning to a room temperature state.
또한, 상기 테스트 핸들러는 테스트 대상이 되는 반도체 소자를 수용하고 수용된 반도체 소자를 상기 제1챔버, 테스트 챔버, 및 제2챔버로 이송하기 위해서 테 스트 트레이를 포함하게 된다. In addition, the test handler includes a test tray for accommodating the semiconductor device to be tested and transferring the accommodated semiconductor device to the first chamber, the test chamber, and the second chamber.
이하에서는, 도면을 참조로 종래의 테스트 핸들러에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional test handler will be described with reference to the drawings.
도 1은 종래의 테스트 핸들러를 개략적으로 도시한 개념도이다. 1 is a conceptual diagram schematically showing a conventional test handler.
도 1에서 알 수 있듯이, 종래의 테스트 핸들러는 회전부(10), 제1챔버(20), 테스트 챔버(30) 및 제2챔버(40)를 포함하여 이루어지고, 상기 회전부(10), 제1챔버(20), 테스트 챔버(30) 및 제2챔버(40) 사이를 테스트 트레이(1)가 이동하게 된다. 상기 테스트 트레이(1)에는 반도체 소자가 수용되게 된다. As can be seen in Figure 1, the conventional test handler comprises a
이와 같은 종래의 테스트 핸들러의 작용을 설명하면 다음과 같다. Referring to the operation of the conventional test handler as follows.
우선, 상기 회전부(10)에서 수평상태의 테스트 트레이(1)를 90도 회전하여 테스트 트레이를 수직상태로 위치시킨다. First, the test tray 1 in a horizontal state is rotated 90 degrees in the rotating
다음, 수직상태의 테스트 트레이(1)를 상측의 제1챔버(20)로 이송시킨 후 제1챔버(20) 내에서 순차적으로 이동시켜 테스트 조건에 맞는 온도로 가열 또는 냉각한다. Next, the
다음, 수직상태의 테스트 트레이(1)를 하측의 테스트 챔버(30)로 이동시킨 후 반도체 소자에 대한 테스트를 수행한다. Next, the
다음, 수직상태의 테스트 트레이(1)를 하측의 제2챔버(40)로 이송시킨 후 제2챔버(40) 내에서 순차적으로 이동시키면서 상온으로 복귀시킨다. Next, the test tray 1 in the vertical state is transferred to the lower
다음, 수직상태의 테스트 트레이(1)를 상측의 회전부(10)로 이송시킨 후 회전부(10)에서 90도 회전하여 테스트 트레이를 수평상태로 위치시킨다. Next, the test tray 1 in a vertical state is transferred to the upper rotating
다음, 테스트 결과에 따라 반도체 소자를 분류하여 언로딩한다. Next, the semiconductor devices are classified and unloaded according to the test results.
이와 같은 종래의 테스트 핸들러의 작용 중에서, 상기 테스트 챔버(30)에서 반도체 소자를 테스트 하는 공정에 대해서 구체적으로 설명하면 다음과 같다. Among the operations of the conventional test handler, a process of testing a semiconductor device in the
도 2a는 종래의 반도체 소자 테스트 공정을 설명하기 위한 단면도이고, 도 2b는 종래의 반도체 소자 테스트 공정시 발생하는 문제를 설명하기 위한 단면도이다. 2A is a cross-sectional view illustrating a conventional semiconductor device test process, and FIG. 2B is a cross-sectional view illustrating a problem that occurs during a conventional semiconductor device test process.
도 2a에서 알 수 있듯이, 테스트 보드(50), 테스트 트레이(1) 및 콘택트 푸셔(60)가 순서대로 위치되어 있는데, 상기 테스트 보드(50)에는 테스트 소켓(55)이 구비되어 있고, 상기 테스트 트레이(1)에는 캐리어 모듈(2)에 의해 반도체 소자(S)가 고정되어 있고, 상기 콘택트 푸셔(60)에는 접속돌기(65)가 구비되어 있다. As can be seen in Figure 2a, the
따라서, 상기 콘택트 푸셔(60)의 접속돌기(65)를 전진시킴으로써 상기 테스트 트레이(1)에 고정된 반도체 소자(S)가 상기 테스트 보드(50)의 테스트 소켓(55)과 접촉하게 되고, 이와 같이 반도체 소자(S)가 테스트 소켓(55)과 접촉된 상태에서 반도체 소자(S)에 대한 테스트 공정이 진행되게 된다. Therefore, the semiconductor element S fixed to the
한편, 도 2a는 콘택트 푸셔(60)의 접속돌기(65)가 테스트 트레이(1)에 고정된 반도체 소자(S)와 일대일 대응되는 경우를 도시하였지만, 다양한 형태의 테스트 트레이(1)가 적용될 수 있음을 감안할 때, 경우에 따라서 테스트 트레이(1)에 고정된 반도체 소자(S)가 콘택트 푸셔(60)의 접속돌기(65)와 일대일로 대응되지 않는 경우가 발생할 수 있다. Meanwhile, FIG. 2A illustrates a case in which the
즉, 도 2b에서 알 수 있듯이, 상기 콘택트 푸셔(60)의 접속돌기(65)가 테스 트 트레이(1)에 고정된 반도체 소자(S)의 1/2의 개수로 형성된 경우도 발생할 수 있다. 이와 같은 경우에 반도체 소자(S) 모두에 대한 테스트를 수행하기 위해서는 우선 1/2의 반도체 소자(S)에 대한 테스트 공정을 수행한 후, 상기 콘택트 푸셔(60)를 쉬프트 시키거나 또는 반도체 소자(S)를 고정하고 있는 테스트 트레이(1)를 쉬프트 시킨후 나머지 1/2의 반도체 소자(S)에 대한 테스트 공정을 수행해야 한다. That is, as can be seen in Figure 2b, the
결국, 상기 콘택트 푸셔(60)의 접속돌기(65)가 테스트 트레이(1)에 고정된 반도체 소자(S)와 일대일로 대응되지 않는 경우 상기 콘택트 푸셔(60) 또는 테스트 트레이(1)를 쉬프트 시킬 수 있는 장치가 필요하다 하겠다. As a result, when the
본 발명은 상기와 같은 종래의 요구에 부응하기 위해 고안된 것으로서,The present invention is designed to meet the above conventional needs,
본 발명의 목적은 테스트 트레이를 쉬프트시킴으로써 콘택트 푸셔의 접속돌기가 테스트 트레이에 고정된 반도체 소자와 일대일로 대응되지 않는 경우에도 모든 반도체 소자에 대한 테스트 공정을 수행할 수 있도록 하는 테스트 트레이 쉬프트 장치, 그를 구비한 테스트 핸들러, 및 그를 이용한 반도체 소자 제조방법을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a test tray shifting device which enables a test process to be performed on all semiconductor devices even when the contact pusher connecting protrusion of the contact pusher does not correspond one-to-one with the semiconductor device fixed to the test tray. It is to provide a test handler provided, and a method of manufacturing a semiconductor device using the same.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해서 본 발명은 테스트 챔버의 내면에 형성되며, 테스트 트레이가 제1방향으로 이동하는 것을 가이드하기 위한 가이드 레일; 및 상기 가이드 레일과 연결되며, 상기 가이드 레일을 상기 제1방향과 수직방향인 제2방향으로 이동시키기 위한 구동수단을 포함하여 이루어져, 테스트 공정시 상기 구동수단에 의해서 상기 가이드 레일에 위치하는 테스트 트레이를 제2방향으로 쉬프트하는 것이 가능한 테스트 트레이 쉬프트 장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention is formed on the inner surface of the test chamber, the guide rail for guiding the test tray to move in the first direction; And a driving means connected to the guide rail and moving the guide rail in a second direction perpendicular to the first direction, the test tray being positioned on the guide rail by the driving means during a test process. Provides a test tray shifting device capable of shifting in the second direction.
본 발명은 또한 반도체 소자를 고온 또는 저온의 극한 상태로 조성하기 위한 제1챔버; 상기 제1챔버와 연결되며 고온 또는 저온의 극한 상태에서 반도체 소자를 테스트하는 테스트 챔버; 상기 테스트 챔버와 연결되며, 테스트 완료된 반도체 소자를 상온 상태로 복귀시키기 위한 제2챔버; 테스트 트레이를 회전시키기 위한 회전부; 및 상기 테스트 챔버 내에 형성되어, 테스트 공정시 상기 테스트 트레이를 쉬프트 하기 위한, 전술한 가이드 레일 및 구동수단을 구비한 테스트 트레이 쉬프트 장치를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 테스트 핸들러를 제공한다. The present invention also provides a semiconductor device comprising: a first chamber for forming a semiconductor device in an extreme state of high temperature or low temperature; A test chamber connected to the first chamber and configured to test the semiconductor device in an extreme state of high temperature or low temperature; A second chamber connected to the test chamber and for returning the tested semiconductor device to a room temperature state; A rotating part for rotating the test tray; And a test tray shifting device formed in the test chamber and having a guide rail and a driving means as described above for shifting the test tray during a test process.
본 발명은 또한 반도체 소자를 준비하는 단계; 준비된 반도체 소자를 테스트 트레이에 로딩한 후 테스트 트레이를 회전부에서 수직상태로 회전하는 단계; 상기 테스트 트레이를 회전부에서 제1챔버로 이송한 후 고온 또는 저온의 극한 상태를 부여하는 단계; 상기 테스트 트레이를 제1챔버에서 테스트 챔버로 이송한 후 테스트를 수행하는 단계; 상기 테스트 트레이를 테스트 챔버에서 제2챔버로 이송한 후 상온 상태로 복귀시키는 단계; 및 상기 테스트 트레이를 제2챔버에서 회전부로 이송한 후 수직상태의 테스트 트레이를 수평상태로 회전하는 단계를 포함하여 이루어지며, 이때, 상기 테스트 챔버에서 테스트를 수행하는 단계는 테스트 트레이를 쉬프트하는 단계를 포함하고, 상기 테스트 트레이를 쉬프트 하는 단계는 전술한 가이드 레일 및 구동수단을 구비한 테스트 트레이 쉬프트 장치를 이용하여 수행하는 것 을 특징으로 하는 반도체 소자의 제조방법을 제공한다. The present invention also comprises the steps of preparing a semiconductor device; Loading the prepared semiconductor device in a test tray and rotating the test tray in a vertical state in a rotating part; Transferring the test tray from the rotating unit to the first chamber and giving an extreme state of high temperature or low temperature; Performing a test after transferring the test tray from the first chamber to the test chamber; Transferring the test tray from the test chamber to the second chamber and returning to the room temperature state; And rotating the test tray in a vertical state after transferring the test tray from the second chamber to the rotating unit, wherein performing the test in the test chamber comprises shifting the test tray. And shifting the test tray comprises using a test tray shifting device having the above-described guide rail and driving means.
이하 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치의 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치에 구비되는 스톱퍼의 사시도이다. 3 is a perspective view of a test tray shift device according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a perspective view of a stopper provided in the test tray shift device according to an embodiment of the present invention.
도 3에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치는 가이드 레일(100) 및 구동수단(200)을 포함하여 이루어진다. As can be seen in Figure 3, the test tray shifting apparatus according to an embodiment of the present invention comprises a
상기 가이드 레일(100)은 테스트 챔버의 내면, 특히 테스트 트레이를 외부로 노출시켜 테스트 보드와 접속시킬 수 있도록 윈도우(610)가 형성되는 테스트 챔버의 내면(600a)에 형성된다. The
상기 가이드 레일(100)은 테스트 트레이가 제1챔버로부터 테스트 챔버를 경유하여 제2챔버로 이동하도록 가이드하는 역할을 하는 것으로서, 제1챔버가 테스트 챔버 상부에 형성되고 제2챔버가 테스트 챔버의 하부에 형성될 경우, 상기 가이드 레일(100)은 테스트 챔버의 내면(600a)에서 상하방향으로 형성된다. The
상기 가이드 레일(100)은 소정의 엘엠블럭(110)과 결합되어 있고, 상기 소정의 엘엠블럭(110)은 소정의 엘엠가이드(120)와 연결되어 있다. 또한, 상기 엘엠가이드(120)는 상기 테스트 챔버의 내면(600a)에서 상기 가이드 레일(100)과 수직방향, 즉, 상기 가이드 레일(100)이 상하방향으로 형성된 경우는 그와 수직방향인 좌우방향으로 연장되어 있다. 따라서, 상기 가이드 레일(100)은 상기 엘엠블록(110)에 의해서 상기 엘엠가이드(120)를 따라 좌우방향으로 이동하게 된다. The
결국, 테스트 트레이는 상기 가이드 레일(100)을 따라 제1챔버에서 테스트 챔버로 하강함과 더불어 상기 가이드 레일(100)이 이동함에 따라 좌우방향으로 쉬프트되게 된다. As a result, the test tray is lowered from the first chamber to the test chamber along the
상기 가이드 레일(100)이 엘엠가이드(120)를 따라 좌우방향으로 이동하는 것은 상기 구동수단(200)의 구동에 의해 이루어진다. The
보다 구체적으로는, 상기 가이드 레일(100)에는 연결부재(130)가 연결되어 있고, 상기 연결부재(130)에는 소정의 결합홈(135)이 구비되어 있다. 또한, 상기 구동수단(200)은 좌우방향으로 이동가능한 이동부재(210)를 구비하며, 상기 이동부재(210)의 말단에는 상기 연결부재(130)의 결합홈(135)과 결합하는 돌기(215)가 형성되어 있다. 도면에는 편의상 이동부재(210)의 돌기(215)와 연결부재(130)의 결합홈(135)이 결합되지 않은 모습을 도시하였지만, 실제로는 양자가 결합되어 있다. More specifically, the
상기 이동부재(210)는 소정의 이동레일(220)과 연결되어 상기 이동레일(220)을 따라 좌우방향으로 이동하게 되는데, 구체적으로는 스크류 구조물(미도시)을 포함하는 이동부재(210)가 소정의 너트구조물(230)과 결합된 상태에서, 상기 너트구조물(230)이 회전하게 되면 상기 스크류 구조물로 이루어진 이동부재(210)가 소정의 이동레일(220)에 의해 가이드 되면서 좌우방향으로 이동하게 된다. The moving
따라서, 상기 이동부재(210)가 좌우방향으로 이동하게 되면 상기 연결부재(130)와 연결된 가이드 레일(100)이 상기 엘엠가이드(120)를 따라 좌우방향으로 이동하게 됨으로써, 가이드 레일(100)에 위치하는 테스트 트레이가 좌우방향으로 쉬프트되게 된다. Therefore, when the moving
한편, 테스트 공정을 수행하기 위해서는 상기 가이드 레일(100)을 따라 제1챔버에서 테스트 챔버로 하강한 테스트 트레이가 계속해서 하강하지 않고 상기 가이드 레일(100) 위에 고정되어야 한다. 또한, 테스트 공정이 완료된 후에는 테스트 트레이가 후공정 진행을 위해서 상기 가이드 레일을 따라 하강할 수 있도록 테스트 트레이에 대한 고정이 해제되어야 한다. Meanwhile, in order to perform the test process, the test tray lowered from the first chamber to the test chamber along the
따라서, 이와 같이 테스트 트레이를 상기 가이드 레일(100) 위에 임시로 고정시키기 위해서 상기 가이드 레일(100)의 끝단에 스톱퍼(300)가 형성되게 된다. Therefore, the
상기 스톱퍼(300)는 도 4에서 알 수 있듯이, 베이스(310), 지지부(320) 및 링크(330)를 포함하여 이루어진다. As shown in FIG. 4, the
상기 베이스(310)는 상기 지지부(320) 및 링크(330)를 지지하면서 가이드 레일(도 3의 도면부호 100 참조)에 결합되는 것으로서, 상기 베이스(310)와 지지부(320)는 제1 부재(340a)를 통해 연결되고 상기 베이스(310)와 링크(330)는 제2부재(340b)를 통해 연결된다. 여기서, 상기 제1부재(340a) 및 제2부재(340b)는 각각 상기 지지부(320) 및 링크(330)의 회전축으로 작용한다. The
상기 지지부(320)는 테스트 트레이를 임시로 지지하여 고정시키는 역할을 하는 것으로서, 상기 제1부재(340a)를 축으로 회전함으로써 가이드 레일(100) 내의 위치에서부터 가이드 레일(100) 밖의 위치까지 회전이동하게 된다. The
상기 링크(330)는 상기 지지부(320)와 연결되어 상기 지지부(320)를 회전시키는 역할을 하는 것이다. 구체적으로는 상기 지지부(320)의 일단에 소정의 홈(325)이 구비되고 상기 홈(325)을 통해 소정의 핀(350)이 상기 링크(330)에 삽입 되어, 상기 핀(350)을 통해 상기 지지부(320)와 링크(330)가 연결되어 있다. 또한, 상기 지지부(320)와 상기 링크(330)는 소정의 탄성부재(360)에 의해 연결된다. The
따라서, 도 4에서와 같은 상태에서, 상기 링크(330)를 상기 제2부재(340b)를 축으로 시계반대방향으로 회전시키면 상기 핀(350)이 하부로 이동하게 되고 그에 따라 상기 지지부(320)가 제1부재(340a)를 축으로 시계방향으로 회전하게 되어, 결국 상기 지지부(320)가 가이드 레일 밖의 위치로 회전이동하게 된다. Therefore, in the state as shown in FIG. 4, when the
즉, 상기 지지부(320)가 가이드 레일 내의 위치에 있게 되면 상기 지지부(320)와 링크(330)가 전체적으로 일자의 모습을 이루면서 상기 지지부(320)가 테스트 트레이를 고정하게 되고(도 4참조), 상기 지지부(320)가 가이드 레일 밖의 위치로 회전이동하게 되면 상기 지지부(320)와 링크(330)가 전체적으로V자의 모습을 이루면서 상기 지지부(320)에 의한 테스트 트레이의 고정이 해제되게 된다. That is, when the
이상과 같은 테스트 트레이 쉬프트 장치를 이용하여 테스트 트레이를 테스트 챔버 내에서 쉬프트시키는 공정을 설명하면 다음과 같다. A process of shifting the test tray in the test chamber using the test tray shift device as described above is as follows.
우선, 상기 스톱퍼(300)의 링크(330)를 회전시켜 지지부(320)가 가이드 레일(100) 내의 위치에 있도록 한다. First, the
다음, 상기 가이드 레일(100)을 따라 제1챔버에서 테스트 챔버로 테스트 트레이를 하강시킨다. 이때, 테스트 트레이는 상기 스톱퍼(300)의 지지부(320)에 의해 임시적으로 고정된다. Next, the test tray is lowered from the first chamber to the test chamber along the
다음, 상기 구동수단(200)의 이동부재(210)를 이동시킨다. 그리하면, 이동부재(210)와 연결부재(130)를 통해 연결된 가이드 레일(100)이 엘엠가이드(120)를 따 라 수평으로 이동하게 된다. 이와 같이 가이드 레일(100)이 수평으로 이동하게 되면 가이드 레일(100) 상에 위치된 테스트 트레이가 수평으로 쉬프트되게 되며, 그에 따라, 모든 반도체 소자에 대한 테스트 공정이 진행되게 된다. Next, the moving
다음, 테스트 공정이 완료되면 상기 구동수단(200)의 이동부재(210)를 역방향으로 이동시켜, 상기 가이드 레일(100)을 원위치로 복귀시킨다. Next, when the test process is completed, the moving
다음, 상기 스톱퍼(300)의 링크(330)를 반대방향으로 회전시켜 지지부(320)가 가이드 레일(100) 밖의 위치에 있도록 하여 가이드 레일(100)에 임시적으로 고정된 테스트 트레이에 대한 고정을 해제한 후 테스트 트레이를 제2챔버쪽으로 하강시킨다. Next, the
<테스트 핸들러><Test handler>
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 핸들러의 개략적인 측면도이다. 5 is a schematic side view of a test handler according to an embodiment of the present invention.
도5에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트 핸들러는 회전부(400), 제1챔버(500), 테스트 챔버(600) 및 제2챔버(700)를 포함하여 이루어진다. As can be seen in Figure 5, the test handler according to an embodiment of the present invention comprises a
상기 회전부(400)는 상기 제1챔버(500)로 이송될 테스트 트레이를 수평상태에서 수직상태로 회전시키는 역할을 함과 더불어 상기 제2챔버(700)에서 이송된 테스트 트레이를 수직상태에서 수평상태로 회전시키는 역할을 한다. 도시하지는 않았지만, 상기 회전부(400)의 근방에는 테스트할 반도체 소자를 테스트 트레이에 로딩하기 위한 로딩부 및 테스트 완료된 반도체 소자를 테스트 트레이로부터 분류하여 언로딩하기 위한 언로딩부가 설치된다. The
상기 제1챔버(500)는 반도체 소자를 고온 또는 저온의 극한 상태로 조성하기 위한 공간으로서, 상기 제1챔버(500) 내에서 반도체 소자를 수용하는 테스트 트레이(T)를 한 스텝씩 이동시키면서 테스트 조건에 상응하는 온도 조건으로 반도체 소자를 가열 또는 냉각하게 된다. The
상기 테스트 챔버(600)는 상기 제1챔버(500)의 하부에 형성되어 고온 또는 저온의 극한 상태에서 반도체 소자를 테스트하는 공간이다. 상기 테스트 챔버(600)에서는 상기 제1챔버(500)에서 이송된 테스트트레이(T)가 콘택트 푸셔(630)와 테스트 보드(620) 사이에 위치되게 되고, 상기 콘택트 푸셔(630)의 접속돌기(635)가 테스트트레이(T)에 수용된 반도체 소자를 밀어 상기 테스트 보드(620)와 접속시킴으로써 반도체 소자에 대한 테스트가 수행된다. The
한편, 상기 콘택트 푸셔(630)의 접속돌기(635)가 테스트 트레이(T)에 고정된 반도체 소자와 일대일로 대응되지 않는 경우에 테스트 트레이(T)를 쉬프트시키면서 반도체 소자에 대한 테스트 공정을 수행하기 위해서, 상기 테스트 챔버(600)에는 테스트 트레이 쉬프트 장치가 형성된다. Meanwhile, when the
상기 테스트 트레이 쉬프트 장치는 전술한 도 3 및 4와 동일하므로 그에 대한 구체적인 설명은 생략하기로 한다. Since the test tray shift device is the same as in FIGS. 3 and 4, a detailed description thereof will be omitted.
상기 제2챔버(700)는 상기 테스트 챔버(600)의 하부에 형성되어 테스트 완료된 반도체 소자를 상온 상태로 복귀시키기 위한 공간으로서, 상기 제2챔버(700) 내에서 반도체 소자를 수용하는 테스트트레이(T)를 한 스텝씩 이동시키면서 반도체 소자를 상온 상태로 복귀시킨다. The
<반도체 소자 제조방법><Semiconductor Device Manufacturing Method>
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 소자를 제조하는 방법에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described.
우선, 반도체 소자를 준비한다. 상기 반도체 소자는 메모리 반도체 소자 및 비메모리 반도체 소자를 포함한다. First, a semiconductor element is prepared. The semiconductor device includes a memory semiconductor device and a non-memory semiconductor device.
다음, 준비된 반도체 소자를 테스트 트레이에 로딩한 후 테스트 트레이를 회전부에서 수직상태로 회전한다. Next, after loading the prepared semiconductor device in the test tray, the test tray is rotated in a vertical state in the rotating unit.
이 공정은 도 5에서 알 수 있듯이, 회전부(400) 근방의 로딩부에서 수평상태의 테스트 트레이에 반도체 소자를 로딩한 후, 회전부(400)에서 수평상태의 테스트 트레이를 수직상태로 회전하는 공정으로 이루어질 수 있다. As shown in FIG. 5, the semiconductor device is loaded in a test tray in a horizontal state in a loading unit near the
다음, 상기 테스트 트레이를 회전부에서 제1챔버로 이송한 후 고온 또는 저온의 극한 상태를 부여한다. Next, the test tray is transferred from the rotating unit to the first chamber, thereby giving an extreme state of high temperature or low temperature.
이 공정은 도 5에서 알 수 있듯이, 상기 제1챔버(500) 내에서 반도체 소자를 수용하는 테스트 트레이를 한 스텝씩 이동시키면서 반도체 소자를 가열 또는 냉각하는 공정으로 이루어질 수 있다. As shown in FIG. 5, the process may be performed by heating or cooling the semiconductor device while moving the test tray accommodating the semiconductor device by one step in the
다음, 상기 테스트 트레이를 제1챔버에서 테스트 챔버로 이송한 후, 상기 테스트 챔버내에서 상기 테스트 트레이에 고정된 반도체 소자에 대한 테스트를 수행한다. Next, the test tray is transferred from the first chamber to the test chamber, and then a test is performed on the semiconductor device fixed to the test tray in the test chamber.
이 공정은, 도 5에서 알 수 있듯이, 테스트 트레이에 고정된 반도체 소자를 콘택트 푸셔(630)의 접속돌기(635)를 이용하여 테스트기(620)와 접속시켜 반도체 소자에 대한 테스트를 수행하는 공정으로 이루어질 수 있다.As shown in FIG. 5, the semiconductor device fixed to the test tray is connected to the
한편, 상기 테스트 공정은 테스트 트레이를 쉬프트하는 공정을 포함하며, 상기 테스트 트레이를 쉬프트 하는 공정은 전술한 도 3 및 도 4에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치를 이용하여 수행한다. Meanwhile, the test process includes a process of shifting a test tray, and the process of shifting the test tray is performed using the test tray shifting apparatus according to FIGS. 3 and 4 described above.
다음, 상기 테스트 트레이를 상기 테스트 챔버에서 제2챔버로 이송한 후, 상기 테스트 트레이를 상기 제2챔버내에서 상온 상태로 복귀시킨다. Next, after the test tray is transferred from the test chamber to the second chamber, the test tray is returned to the room temperature in the second chamber.
이 공정은, 도 5에서 알 수 있듯이, 상기 제2챔버(700) 내에서 반도체 소자를 수용하는 테스트트레이를 한 스텝씩 이동시키면서 반도체 소자를 상온 상태로 복귀시키는 공정으로 이루어질 수 있다. As shown in FIG. 5, the process may be performed to return the semiconductor device to a room temperature while moving the test tray accommodating the semiconductor device in the
다음, 상기 테스트 트레이를 제2챔버에서 회전부로 이송한 후 수직상태의 테스트 트레이를 수평상태로 회전시킨다. Next, the test tray is transferred from the second chamber to the rotating unit, and the test tray in the vertical state is rotated in the horizontal state.
이 공정은 도 5에서 알 수 있듯이, 회전부(400)에서 수직상태의 테스트 트레이를 수평상태로 회전하는 공정으로 이루어질 수 있다. 이와 같이 테스트 트레이가 수평상태로 회전된 후에는 회전부(400) 근방의 언로딩부에서 테스트 결과에 따라 반도체 소자를 상기 테스트 트레이로부터 분류하는 공정을 거쳐 반도체 소자의 제조를 완료한다. As can be seen in Figure 5, the
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따르면, 테스트 트레이를 쉬프트시킴으로써 콘택트 푸셔의 접속돌기가 테스트 트레이에 고정된 반도체 소자와 일대일로 대응되지 않는 경우에도 모든 반도체 소자에 대한 테스트 공정을 수행할 수 있다. According to the present invention as described above, even if the contact projection of the contact pusher does not correspond one-to-one with the semiconductor device fixed to the test tray by shifting the test tray can be performed for all the semiconductor devices.
또한, 반도체 소자에 대한 고온 상태의 테스트를 수행할 경우 테스트 챔버 내도 고온으로 유지되어야 하며 이 경우 고온의 공기가 콘택트 푸셔 후방에서 콘택트 푸셔를 경유하여 테스트 트레이 쪽으로 이동되게 되는데, 본 발명에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치를 구성하는 모든 구성요소는 고온의 공기가 유입되는 부분에서 비교적 멀리 떨어져 위치하기 때문에 테스트 트레이의 쉬프트 거리를 정밀하게 제어할 수 있다. 즉, 테스트 트레이 쉬프트 장치가 고온의 공기가 유입되는 부분에 가까이 위치하게 되면 고온의 공기에 의한 열변형으로 인해 테스트 트레이의 쉬프트 거리를 정밀하게 제어하기 힘들게 되는데, 본 발명에 따른 테스트 트레이 쉬프트 장치를 구성하는 모든 구성요소는 윈도우가 형성되는 테스트 챔버의 내면 쪽에 위치하기 때문에 고온의 공기에 의한 열변형의 우려가 적어 테스트 트레이의 쉬프트 거리를 정밀하게 제어할 수 있다.In addition, when performing a high temperature test on the semiconductor device, the temperature inside the test chamber must be maintained at a high temperature. In this case, hot air is moved from the rear of the contact pusher to the test tray via the contact pusher. All of the components that make up the tray shifter are located relatively far from the hot air inlet, allowing precise control of the shift distance of the test tray. That is, when the test tray shifting device is located near the hot air inflow portion, it becomes difficult to precisely control the shift distance of the test tray due to the heat deformation caused by the high temperature air. Since all components are located on the inner surface of the test chamber where the window is formed, there is little fear of thermal deformation due to hot air, and thus the shift distance of the test tray can be precisely controlled.
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