KR100893500B1 - Micro chip fuse having porous material structure and method for fabricating the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 마이크로 칩 퓨즈 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 엘리먼트에서 발생하는 열을 보존할 수 있으면서도 손상 및 파손에 강한 마이크로 칩 퓨즈 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microchip fuse and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a microchip fuse and a method of manufacturing the same, which are capable of preserving heat generated in an element and being resistant to damage and breakage.
마이크로 칩 퓨즈는 전자 제품들에 사용되는 부품으로, 전자 제품에 정격 전류 이상의 과전류가 인가되는 경우, 퓨즈의 전극이 단선됨으로써 전자 제품의 부품과 내부의 회로 등을 과전류로부터 보호하는 역할을 한다.The microchip fuse is a component used in electronic products. When an overcurrent of a rated current or more is applied to the electronic product, the electrode of the fuse is disconnected, thereby protecting a component and an internal circuit of the electronic product from overcurrent.
일반적으로, 마이크로 칩 퓨즈는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 세라믹 시트(10, 20) 사이에 은 재질의 전도성 엘리먼트(Element)(30)가 형성되는 적층 구조를 가진다. 또한, 마이크로 칩 퓨즈는 적층 구조의 양단을 각각 감싸는 것과 아울러 엘리먼트(30)의 양단에 접촉되는 터미네이션(Termination) 전극(40a, 40b)을 포함한다. 터미네이션 전극(40a, 40b)은 엘리먼트(30)에 전류를 인가하는 외부 전 극의 역할을 수행한다. 즉, 엘리먼트(30)는 내부 전극의 역할을 함으로써, 터미네이션 전극(40a, 40b)을 통해 인가된 전류가 흐를 수 있도록 한다.In general, the microchip fuse has a laminated structure in which
예컨대, 이러한 마이크로 칩 퓨즈는 전원 공급부와 정류 회로부 사이에 연결되어, 전원 공급부로부터 정격 전류 이내의 전류가 공급되는 경우에는 전원 공급부로부터의 전류가 정상적으로 정류 회로부로 공급될 수 있도록 한다. 한편, 전원 공급부로부터의 전류가 정격 전류 이상인 경우에는 엘리먼트(30)가 용단됨으로써 정류 회로부로의 전류 공급로를 차단하여, 정류 회로부와 부품들이 보호될 수 있도록 한다. 즉, 과전류에 의한 열로 인해 엘리먼트(30)가 녹아서 끊어지게 된다.For example, such a microchip fuse is connected between the power supply and the rectifier circuit part so that the current from the power supply can be supplied to the rectifier circuit part normally when a current within a rated current is supplied from the power supply part. On the other hand, when the current from the power supply is greater than the rated current, the
이때, 엘리먼트(30)는 과전류 공급시 신속하고 정확하게 용단되어야 효과적이다. 하지만, 종래의 마이크로 칩 퓨즈는 도 1과 같은 적층 구조를 가짐으로써, 엘리먼트(30)의 열이 세라믹 시트(10, 20)를 거쳐 마이크로 칩 퓨즈가 장착되는 인쇄회로기판 등에 전도되기 때문에, 엘리먼트(30)가 용단되어야 할 정격 전류에서 용단되지 못하고, 더 큰 과전류가 흐르거나 더 긴 시간 동안 과전류가 흘러야 용단되는 문제가 발생한다.At this time, the
특히, 컴퓨터의 쿨링 팬 등과 같이 전자 제품이 냉각 구성을 포함하는 경우, 이러한 문제점은 더욱 심각해질 수 있다.In particular, if the electronic product includes a cooling configuration, such as a cooling fan of a computer, this problem may become more serious.
한편, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같은 마이크로 칩 퓨즈가 제시되었다.On the other hand, in order to solve the above problems, a microchip fuse as shown in Figures 3 and 4 has been presented.
엘리먼트(30)의 상하로 적층된 세라믹 시트(10, 20) 중 하나와 엘리먼트의 사이에 중공(51)을 가지는 세라믹 시트(50)를 형성함으로써, 엘리먼트(30)의 열이 세라믹 시트(10, 20)를 거쳐 전달되는 것을 일부 억제한다.By forming the
하지만, 이와 같은 마이크로 칩 퓨즈는, 중공이 존재하는 구조상 세라믹 시트에 압력이 가해질 때 이를 충분히 지지할 수 없고, 이에 따라 기판에 퓨즈를 마운트하거나 사용하는 과정에서 세라믹 시트에 가해지는 압력에 의해 변형되어 손상 및 파손될 수 있는 문제가 있다.However, such microchip fuses are not sufficiently supported when a pressure is applied to the ceramic sheet due to the hollow structure, and thus is deformed by the pressure applied to the ceramic sheet in the process of mounting or using the fuse on the substrate. There is a problem that can be damaged and broken.
따라서, 본 발명의 목적은 엘리먼트에서 발생하는 열을 보존할 수 있음과 동시에 손상 및 파손 가능성을 줄일 수 있는 다공성 세라믹 구조를 가지는 마이크로 칩 퓨즈 및 그의 제조 방법을 제공함에 있다.It is therefore an object of the present invention to provide a microchip fuse having a porous ceramic structure capable of preserving heat generated in an element and at the same time reducing the possibility of damage and breakage and a method of manufacturing the same.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈는 판 형상의 베이스 시트; 상기 베이스 시트 상의 전도성 엘리먼트; 상기 엘리먼트 상의 전부에 형성되는 제1 다공성 세라믹 시트; 상기 제1 다공성 세라믹 시트 상에 형성되는 판 형상의 제1 커버 시트; 및 상기 엘리먼트의 양단에 접촉되는 전도성 재질의 제1 및 제2 터미네이션 전극을 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, the microchip fuse according to an embodiment of the present invention is a plate-shaped base sheet; A conductive element on the base sheet; A first porous ceramic sheet formed on all of the elements; A plate-shaped first cover sheet formed on the first porous ceramic sheet; And first and second termination electrodes made of a conductive material in contact with both ends of the element.
또한, 상기 마이크로 칩 퓨즈는 상기 베이스 시트의 하부에 형성되는 제2 다공성 세라믹 시트; 및 상기 제2 다공성 세라믹 시트의 하부에 형성되는 판 형상의 제2 커버 시트를 더 포함할 수 있다.In addition, the microchip fuse may include a second porous ceramic sheet formed under the base sheet; And a plate-shaped second cover sheet formed below the second porous ceramic sheet.
한편, 본 발명의 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈의 제조 방법은 판 형상의 베이스 시트를 형성하는 단계; 상기 베이스 시트 상에 전도성 엘리먼트를 적층하는 단계; 상기 엘리먼트가 배열된 상기 베이스 시트 상에, 상기 엘리먼트의 전부 위에 제1 다공성 세라믹 시트를 형성하는 단계; 상기 제1 다공성 세라믹 시트 상에 판 형상의 제1 커버 시트를 적층하는 단계; 및 적층된 상기 베이스 시트 및 상기 제1 커버 시트의 양단을 감싸도록, 상기 엘리먼트의 양단에 접촉되는 전도성 재질의 제1 및 제2 터미네이션 전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.On the other hand, the method of manufacturing a microchip fuse according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a base sheet of the plate shape; Laminating a conductive element on the base sheet; Forming a first porous ceramic sheet on all of the elements on the base sheet on which the elements are arranged; Stacking a plate-shaped first cover sheet on the first porous ceramic sheet; And forming first and second termination electrodes of a conductive material in contact with both ends of the element to surround both ends of the stacked base sheet and the first cover sheet.
또한, 상기 마이크로 칩 퓨즈의 제조 방법은 상기 베이스 시트의 하부에 제2 다공성 세라믹 시트를 형성하는 단계; 및 상기 제2 다공성 세라믹 시트의 하부에 판 형상의 제2 커버 시트를 적층하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method of manufacturing the microchip fuse may further include forming a second porous ceramic sheet under the base sheet; And laminating a plate-shaped second cover sheet on the lower portion of the second porous ceramic sheet.
본 발명의 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈는 엘리먼트의 상부 또는 상하부에 다공성 세라믹 구조을 형성함으로써, 엘리먼트에서 발생하는 열을 보존하여 엘리먼트가 용단되어야 할 시점에 정확하게 용단될 수 있고, 동시에 손상 및 파손 위험이 적은 효과가 있다.The microchip fuse according to the embodiment of the present invention forms a porous ceramic structure on the upper or upper portion of the element, thereby preserving heat generated in the element, so that the element can be melted precisely when the element should be melted, and at the same time, there is a risk of damage and breakage. There is little effect.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도 5 내지 도 8을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 5 to 8.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시 예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Prior to this, terms or words used in the specification and claims should not be construed as having a conventional or dictionary meaning, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention. Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈를 나타내는 분해 사시도이고, 도 6은 도 5의 마이크로 칩 퓨즈를 "Ⅲ-Ⅲ'"선으로 절단한 단면도이다.FIG. 5 is an exploded perspective view illustrating a microchip fuse according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view of the microchip fuse of FIG. 5 taken along the line "III-III".
도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈는 베이스 시트(130), 엘리먼트(140), 제1 보호 시트(120), 제1 커버 시트(110), 제1 다공성 세라믹 시트(122) 및 제1 및 제2 터미네이션 전극(150a, 150b)을 포함한다.5 and 6, a microchip fuse according to an embodiment of the present invention may include a
베이스 시트(130)는 세라믹 재질로 형성됨과 아울러, 판 형상을 가진다.The
엘리먼트(140)는 베이스 시트(130) 상에 위치하며, 은 페이스트(Silver paste) 등의 전도성 재질로 형성될 수 있다. 엘리먼트(140)는 제1 및 제2 전극 엘리먼트(141, 143)와 전극 엘리먼트(141, 143) 사이를 연결하는 가용 엘리먼트(142)로 구성된다. 제1 및 제2 전극 엘리먼트(141, 143)는 각각 입력단과 출력단의 역할을 하며, 가용 엘리먼트(142)는 전류가 흐르는 통로의 역할을 함과 아울러, 과전류 유입시 용단되는 부분이 된다. 일 실시 예에서, 전원 공급부로부터 제1 전극 엘리먼트(141)로 전류가 공급되면, 가용 엘리먼트(142)를 통해 제2 전극 엘리먼트(143)로 전류가 흐르고, 이 전류는 제2 전극 엘리먼트(143)를 통해 정류 회로부에 공급된다. 한편, 전원 공급부로부터 제1 전극 엘리먼트(141)로 과전류가 공급되면, 가용 엘리먼트(142)가 용단됨으로써 제2 전극 엘리먼트(143)로 공급되는 전류를 차단하게 된다.The
제1 보호 시트(120)는 엘리먼트(140)가 형성된 베이스 시트(130) 상에 위치하며, 베이스 시트(130)와 동일하게 세라믹 재질로 형성될 수 있다. 또한, 제1 보호 시트(120)에는 가용 엘리먼트(142)에 대응되는 부분에 공동(Air cavity)(121)이 형성된다. 따라서, 도 5 및 도 6과 같이 가용 엘리먼트(142)가 베이스 시트(130)의 중앙부에 위치하는 경우, 공동(121)은 제1 보호 시트(120)의 중앙부에 위치하게 된다. The first
제1 다공성 세라믹 시트(122)는 제1 보호 시트(120)의 공동(121)을 채우도록 공동(121)과 동일한 크기로 형성되며, 그 재질은 다공성 세라믹이다. 공동(121)에 구성되는 제1 다공성 세라믹 시트(122)는 가용 엘리먼트(142)에서 발생하는 열이 제1 커버 시트(110)로 직접 전도되지 않도록 함과 아울러, 가용 엘리먼트(142)를 고정 지지한다. The first porous
제1 커버 시트(110)는 제1 보호 시트(120) 상에 위치하며, 베이스 시트(130)와 동일하게 세라믹 재질의 판 형상으로 형성됨으로써, 제1 보호 시트(120)와 제1 다공성 세라믹 시트(122)를 보호한다. 일 실시 예에 따르면, 제1 다공성 세라믹 시트(112)가 제1 보호 시트(120)의 공동(121)을 채우고 제1 커버 시트를 지지하므로, 외부로부터 가해지는 압력에 의한 손상 또는 파손에 강한 장점이 있다.The
제1 및 제2 터미네이션 전극(150a, 150b)은 베이스 시트(130), 제1 보호 시트(120) 및 제1 커버 시트(110)의 양단을 감싸는 형태로 형성되며, 제1 및 제2 전 극 엘리먼트(141, 143)의 일측면에 각각 접촉된다. 또한, 제1 및 제2 터미네이션 전극(150a, 150b)은 전도성 재질로 형성됨으로써 외부 전극으로서의 역할을 한다. 즉, 제1 및 제2 터미네이션 전극(150a, 150b)은 외부로부터의 전류를 전극 엘리먼트(141, 143)로 공급함과 아울러, 전극 엘리먼트(141, 143)로부터의 전류를 타 부품 등으로 공급하는 역할을 한다. 일 실시 예에서, 제1 터미네이션 전극(150a)은 전원 공급부에 접속되어 전원 공급부로부터의 전류를 제1 전극 엘리먼트(141)로 공급하고, 제2 터미네이션 전극(150b)은 정류 회로부에 접속되어 제2 전극 엘리먼트(143)로부터의 전류를 정류 회로부에 공급한다.The first and
제1 및 제2 터미네이션 전극(150a, 150b)은 메탈라이징(Metalizing) 작업을 거쳐 형성되는데, 일 실시 예에 따르면 은(Silver) 재질에 니켈(Nickel)을 코팅한 후, 다시 주석(Tin)을 코팅하는 과정을 거쳐 형성될 수 있다.The first and
또한, 제1 보호 시트(120)가 구성되지 않고, 제1 다공성 세라믹 시트(122)가 베이스 시트(130)와 제1 커버 시트(110) 사이의 일부 혹은 전부를 채워 구성될 수도 있다.In addition, the first
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈를 나타내는 분해 사시도이고, 도 8은 도 7의 마이크로 칩 퓨즈를 "Ⅳ-Ⅳ'"선으로 절단한 단면도이다.FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating a microchip fuse according to another exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view of the microchip fuse of FIG. 7 taken along the line "IV-IV".
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈는 제2 보호 시트(250), 제2 커버 시트(260) 및 제2 다공성 세라믹 시트(252)의 구성을 제외하고, 베이스 시트(230), 제1 보호 시트(220) 및 제1 커버 시트(210), 제1 다공성 세라믹 시트(222), 엘리먼트(240), 및 제1 및 제2 터미네이션 전극(270a, 270b)의 구성이 도 5 및 도 6의 베이스 시트(130), 제1 보호 시트(120) 및 제1 커버 시트(110), 제1 다공성 세라믹 시트(122), 엘리먼트(140), 및 제1 및 제2 터미네이션 전극(150a, 150b)의 구성과 동일하다.7 and 8, the microchip fuse according to another exemplary embodiment of the present invention except for the configuration of the second
제2 보호 시트(250)는 세라믹 재질로, 베이스 시트(230)의 하부에 형성되고, 제1 보호 시트(220)의 공동(221)에 대응되는 부분에 공동(251)을 가진다. 또한, 제2 보호 시트(250)의 공동(251)은 다공성 세라믹 재질의 제2 다공성 세라믹 시트(252)에 의해 채워진다.The second
제2 보호 시트(250)의 공동(251)에 구성되는 제2 다공성 세라믹 시트(252)는 엘리먼트(240)에서 발생하는 열이 제2 커버 시트(260)로 직접 전도되지 않도록 한다. 즉, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 엘리먼트(240), 특히 가용 엘리먼트(242)에 발생되는 열의 보존 효과가 극대화되기 때문에, 가용 엘리먼트(242)가 용단되어야 할 시점에서 정확하게 용단될 수 있게 된다. 아울러, 가용 엘리먼트가 형성되는 제1 시트가 제1 다공성 세라믹 시트(252)에 의해 추가로 고정 지지되므로 충격에 의한 파손에도 더욱 강한 장점이 있다.The second porous
제2 커버 시트(260)는 베이스 시트(210)와 동일하게 세라믹 재질의 판 형상으로 형성되어, 마이크로 칩 퓨즈의 하부를 지지하는 역할을 한다. 또한, 제1 및 제2 보호 시트(220, 250)가 구성되지 않고, 제1 다공성 세라믹 시트(222)는 베이스 시트(230)와 제1 커버 시트(210) 사이, 제2 다공성 세라믹 시트(252)는 베이스 시트(230)와 제2 커버 시트(260) 사이의 일부 혹은 전부를 채워 구성될 수도 있다.The
도 5 및 도 6에 도시된 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈의 제조 방법은 다음과 같다.A method of manufacturing a microchip fuse according to an exemplary embodiment of the present invention illustrated in FIGS. 5 and 6 is as follows.
베이스 시트(130), 엘리먼트(140) 및 제1 보호 시트(120)를 차례대로 적층하고, 제1 보호 시트(120)의 공동(121)에 제1 다공성 세라믹 시트(122)에 해당하는 다공성 세라믹 슬러리를 충진한 후, 제1 보호 시트(120) 상에 제1 커버 시트(110)를 적층한다. 적층 과정이 끝난 적층물은 가소 과정과 소결 과정을 거친 후 제1 및 제2 터미네이션 전극(150a, 150b)으로 양단이 고정된다.
한편, 제1 다공성 세라믹 시트(112)는 상술한 바와 같이 제1 보호 시트(120)의 공동(121) 내에 형성되지 않고, 베이스 시트(130)와 제1 커버 시트(120) 사이에 제1 보호 시트(120) 없이 별도로 형성 가능하다.The
On the other hand, the first porous ceramic sheet 112 is not formed in the
제1 다공성 세라믹 시트(122)는 LTCC(Low temperature co-fired ceramic) 또는 스테아타이트(Steatite)등의 세라믹에 메틸 셀룰로오스(Methyl cellulose) 또는 콘스타치(Corn starch) 등과 같은 특정성분의 첨가물을 첨가하여 제조하며, 베이스 시트(130), 제1 보호 시트(120) 및 제1 커버 시트(110)의 세라믹 종류는 제1 다공성 세라믹 시트(122)의 기본을 형성하는 세라믹과 동일한 것이 바람직하다.The first porous
적층물은 약 600℃에서 4 내지 6시간 동안 가소 과정을 거치는데, 이때 다공성 세라믹 혼합 페이스트에 첨가된 첨가물이 가소되면서 기공이 형성된다. 다음으로 약 2 내지 3시간의 소결 과정을 거치는데, 사용된 세라믹의 종류에 따라 소결 온도가 달라지며, 예를 들어, LTCC의 경우 약 850 내지 900℃, 스테아타이트의 경우 약 1300 내지 1400℃로 처리한다.The laminate is subjected to a calcination process at about 600 ° C. for 4 to 6 hours, wherein the additives added to the porous ceramic mixture paste are calcined to form pores. Next, the sintering process is performed for about 2 to 3 hours, and the sintering temperature varies according to the type of ceramic used, for example, about 850 to 900 ° C for LTCC and about 1300 to 1400 ° C for steatite. Process.
한편, 제1 다공성 세라믹 시트(122)의 기공율은 첨가되는 첨가물의 비율에 따라 달라지며, 세라믹과 첨가물이 혼합된 다공성 세라믹 슬러리의 총 체적 대비 첨가물의 체적은 약 5 내지 30%에서 결정되고, 이때, 기공율은 8 내지 60%로 형성된다.On the other hand, the porosity of the first porous
도 7 및 도 8에 도시된 본 발명의 다른 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈의 제조 방법은 본 발명의 일 실시 예에 따른 마이크로 퓨즈의 제조 방법과 대동소이하며, 다만 제2 보호 시트(250)를 적층하는 단계, 제2 보호 시트(250)의 공동(251)에 제2 다공성 세라믹 시트(252)에 해당하는 다공성 세라믹 슬러리를 충진하는 단계 및 제2 커버 시트(260)를 적층하는 단계를 더 포함한다. 이때, 제1 및 제2 다공성 세라믹 시트(222, 252)는 제1 및 제2 보호 시트(220, 250)의 공동(221, 251) 내에 형성되지 않고, 베이스 시트(230)와 제1 커버 시트(210) 사이, 베이스 시트(230)와 제2 커버 시트(260) 사이에 제1 및 제2 보호 시트(220, 250) 없이 각각 별도로 형성 가능하다.7 and 8 is a manufacturing method of the microchip fuse according to another embodiment of the present invention is similar to the manufacturing method of the microfuse according to an embodiment of the present invention, except that the second
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
도 1은 일반적인 마이크로 칩 퓨즈를 나타내는 분해 사시도,1 is an exploded perspective view illustrating a general microchip fuse;
도 2는 도 1의 마이크로 칩 퓨즈를 "Ⅰ-Ⅰ'"선으로 절단한 단면도,FIG. 2 is a cross-sectional view of the microchip fuse of FIG. 1 taken along line "I-I '"; FIG.
도 3은 일반적인 중공을 가지는 마이크로 칩 퓨즈를 나타내는 분해 사시도, 3 is an exploded perspective view showing a microchip fuse having a general hollow;
도 4는 도 3의 마이크로 칩 퓨즈를 "Ⅱ-Ⅱ'"선으로 절단한 단면도,4 is a cross-sectional view of the microchip fuse of FIG. 3 taken along the line "II-II '";
도 5는 본 발명의 일실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈를 나타내는 분해 사시도,5 is an exploded perspective view illustrating a microchip fuse according to an embodiment of the present invention;
도 6은 도 5의 마이크로 칩 퓨즈를 "Ⅲ-Ⅲ'"선으로 절단한 단면도.FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line “III-III ′” of the microchip fuse of FIG. 5; FIG.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 마이크로 칩 퓨즈를 나타내는 분해 사시도, 및7 is an exploded perspective view illustrating a microchip fuse according to another exemplary embodiment of the present disclosure, and
도 8은 도 6의 마이크로 칩 퓨즈를 "Ⅳ-Ⅳ'"선으로 절단한 단면도.FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line "IV-IV '" of the microchip fuse of FIG. 6; FIG.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
10, 20, 110, 120, 130, 210, 220, 230, 250, 260 : 세라믹 시트10, 20, 110, 120, 130, 210, 220, 230, 250, 260: ceramic sheet
122, 222, 252 : 다공성 세라믹 시트122, 222, 252: Porous Ceramic Sheet
30, 140, 240 : 엘리먼트30, 140, 240: element
40a, 40b, 150a, 150b, 270a, 270b : 터미네이션 전극40a, 40b, 150a, 150b, 270a, 270b: termination electrode
121, 221, 251 : 공동121, 221, 251: cavity
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