KR100888984B1 - Conductive ball with nano metal particles bonded to polymer bead and preparation method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 금속층과 중합체의 화학적 결합을 통해 강한 결합력을 유도하여 금속과 중합체 계면 간 균열 및 금속층의 분리 현상을 방지하고, 금속층의 균열에 의한 도전성 저하를 방지하여 표면 도전성이 개선된 도전성 볼 및 이의 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 도전성 볼의 제조방법은, 중합체비드 표면을 이온화 개질시키는 제1단계; 개질된 중합체비드에 이온을 흡착시키는 제2단계; 흡착된 이온을 환원시키는 제3단계; 및 환원된 이온층 상에 금속층을 이온결합으로 형성시키는 제4단계를 포함하여 이루어진다. 본 발명에 따른 도전성 볼은 표면에 형성된 금속층이 연속막의 형태가 아니라 나노입자의 적층형태를 가지며, 금속층의 적층 분리 현상이 나타나지 않고, 안정적인 저항 특성을 나타낸다. The present invention induces a strong bonding force through the chemical bonding of the metal layer and the polymer to prevent cracking between the metal and the polymer interface and separation of the metal layer, and to prevent the lowering of the conductivity due to the crack of the metal layer conductive ball and improved surface conductivity thereof It provides a manufacturing method. Method for producing a conductive ball according to the present invention, the first step of ionizing the polymer bead surface; Adsorbing ions to the modified polymer beads; A third step of reducing the adsorbed ions; And a fourth step of forming a metal layer by ion bonding on the reduced ion layer. In the conductive ball according to the present invention, the metal layer formed on the surface does not have the form of a continuous film but has a lamination form of nanoparticles, does not exhibit a layer separation phenomenon of the metal layer, and exhibits stable resistance characteristics.

도전성 볼, 중합체비드, 팔라듐, 니켈층, 금층, 이온 결합 Conductive Ball, Polymer Bead, Palladium, Nickel Layer, Gold Layer, Ion Bond

Description

나노 금속 입자가 중합체비드에 결합된 도전성 볼 및 이의 제조 방법{CONDUCTIVE BALL WITH NANO METAL PARTICLES BONDED TO POLYMER BEAD AND PREPARATION METHOD THEREOF}CONDUCTIVE BALL WITH NANO METAL PARTICLES BONDED TO POLYMER BEAD AND PREPARATION METHOD THEREOF

본 발명은 주로 전자 패키징 공정 접속재료로서 사용되는 이방성 도전필름의 구성요소인 도전성 볼의 제조 방법에 관한 것이다.This invention relates to the manufacturing method of the electroconductive ball which is a component of the anisotropic conductive film mainly used as an electronic packaging process connection material.

일반적으로 전자 패키징(packaging) 기술은 반도체 소자에서부터 최종 제품까지의 모든 단계를 포함하는 매우 광범위하고 다양한 시스템 제조 기술이며, 최종 전자 제품의 성능, 크기, 가격, 신뢰성 등을 결정하는 매우 중요한 기술이다.In general, electronic packaging technology is a very wide variety of system fabrication techniques including all stages from semiconductor devices to final products, and is a very important technique for determining the performance, size, price, reliability, etc. of final electronic products.

최근 전자 패키징에서는 회로의 미세 간극화와 접속 밀도의 증가에 따라, 좁은 간격을 가진 다수의 전극을 한 번에 접속시킬 필요성이 증가하고 있다. 이에 따라 액정디스플레이(LCD)의 패키징에서는 다중 접속회로라인(FPC; Flexible Printed Circuit)과 글라스 디스플레이(glass display)의 기계적, 전기적 접속용으로 도전성 접착제가 이용되고 있으며, 그 중에서도 특히 이방성 도전 필름(anisotropic conductive film)이 주로 사용되고 있다.In recent years, in electronic packaging, the necessity of connecting a large number of electrodes with a narrow gap is increasing at the same time as the microgap of the circuit and the increase in the connection density increase. Accordingly, in the packaging of liquid crystal displays (LCDs), conductive adhesives are used for the mechanical and electrical connection of a flexible printed circuit (FPC) and a glass display, and in particular, anisotropic conductive films (anisotropic) conductive film) is mainly used.

이방성 도전 필름은 도전입자와 절연성 접착제로 구성되어 있는데, 전기적 전도 역할을 하는 도전입자로서는 초기에는 카본파이버를 사용하였고, 그 후 솔더볼(solder ball)이 쓰였으며, 그 뒤를 이어 니켈 볼이나 은분이 현재까지 사용되고 있다.The anisotropic conductive film is composed of conductive particles and an insulating adhesive. As the conductive particles that play an electrically conductive role, carbon fibers were initially used, and then solder balls were used, followed by nickel balls or silver powder. It is used until.

상기 이방성 도전 필름의 도전입자로서 은이 사용되고 있는 이유는 가격이 적당하고, 전기전도도가 높으며, 화학안정성이 좋아 도전입자로 사용하기 용이한 점이 많기 때문이다. 하지만 은의 경우 전기적 이온 이동의 문제를 수반하고 있다. 또한 니켈은 저렴한 가격과 비교적 좋은 전기전도도를 가지고는 있으나, 고온 다습한 상태에 노출될 경우, 표면에서 부식 또는 산화가 되는 등의 문제가 있다. The reason why silver is used as the conductive particles of the anisotropic conductive film is that it is easy to use as conductive particles because of its low price, high electrical conductivity and good chemical stability. However, silver has a problem of electrical ion transfer. In addition, nickel has a low price and relatively good electrical conductivity, but when exposed to high temperature and high humidity, there is a problem such as corrosion or oxidation on the surface.

이러한 문제점을 해결하기 위해 표면에 금을 코팅하여 전도입자의 특성을 향상시키기도 한다. 특히 전통적인 방법으로는 촉매층인 팔라듐의 불활성으로 인하여 중합체에 직접적으로 흡착시킬 수 없으므로 틴클로라이드(SnCl2)를 사용하여 중합체에 물리적으로 흡착시킨 후 팔라듐, 니켈, 금 순서로 도전층을 형성시킨다. 그러나 상술한 틴클로라이드를 사용했을 경우에 중합체와 도전층의 물리적 특성으로 인하여 접착성이 약해 압력이나 외부의 충격으로부터 금속층이 분리되는 현상이 많이 발생되고 있으며, 압력이 가해질 때 금속층의 부분적 파손 및 균일이 발생되어 전기저항 특성에 좋지 않는 영향을 끼치게 되는 문제가 발생되고 있다.In order to solve this problem, the surface is coated with gold to improve the properties of the conductive particles. In particular, due to the inertness of the catalyst layer, palladium, which cannot be directly adsorbed onto the polymer, a conventional method is used to form a conductive layer in the order of palladium, nickel, and gold after physically adsorbing the polymer using tin chloride (SnCl 2 ). However, in the case of using the above-described tin chloride, due to the physical properties of the polymer and the conductive layer, the adhesion is weak, causing a lot of phenomenon that the metal layer is separated from the pressure or external impact, and partial breakage and uniformity of the metal layer when the pressure is applied. This problem is generated to adversely affect the electrical resistance characteristics.

한편 통상적으로 도전성 볼은 Pd, Ni, Au의 순서로 도금된 플라스틱 비드가 본체부 또는 수지부 내에 분산 배치되어 있어, 전기적 접속을 행해주는 역할을 한다. 특히 도전성 볼에 가장 중요하게 고려되는 특성으로는 접속저항, 신뢰성, 공 정성 등이 있는데 지금까지의 연구과정을 통하여 이러한 특성들은 많은 향상을 이룰 수가 있었다. 하지만 가열 및 가압하여 서로 다른 두 부분을 서로 접착시켜 접촉된 부분 내에 도전부를 형성시키는 공정 중에 중합체비드와 금속층의 탄성계수(modulus) 차이로 인해, 중합체 비드와 금속층 사이의 균열이 발생되어 도전성이 떨어지는 문제점이 발생되고 있다.On the other hand, in the conductive ball, the plastic beads plated in the order of Pd, Ni, and Au are dispersed and disposed in the main body part or the resin part, and serve to perform electrical connection. In particular, the most important characteristics considered for conductive balls are connection resistance, reliability, and processability. Through these studies, these characteristics have been able to achieve many improvements. However, due to the difference in modulus between the polymer bead and the metal layer during the process of bonding the two different parts to each other to form a conductive part in contact with each other by heating and pressing, cracks between the polymer bead and the metal layer are generated, resulting in poor conductivity. There is a problem.

본 발명의 목적은 상술한 종래 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 금속층과 중합체의 화학적 결합을 통해 강한 결합력을 유도하여 금속과 중합체 계면 간 균열 및 금속층의 분리 현상을 방지하고, 코팅된 금속표면을 형태적으로 제어하여 가해지는 압력을 효과적으로 분산시킴으로써, 금속층의 균열에 의한 도전성 저하를 방지하여 표면 도전성이 개선된 도전성 볼의 제조 방법 및 도전성 볼을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, to induce a strong bonding force through the chemical bonding of the metal layer and the polymer to prevent cracking and separation of the metal layer between the metal and polymer interface, and to form a coated metal surface The present invention provides a method for producing a conductive ball and a conductive ball having improved surface conductivity by preventing the lowering of conductivity due to cracking of a metal layer by effectively dispersing the pressure applied by controlling.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 중합체 비드와 금속층이 화학결합을 통하여 강하게 결합된 도전성 볼 및 그의 제조 방법을 제공한다. 특히 본 발명은, 중합체 비드와 중합체 비드 표면에 이온결합으로 형성된 금속 층을 포함하여 이루어진 구조의 도전성 볼과, 중합체비드 표면을 이온화 개질시키고, 개질된 중합체비드에 이온을 흡착시키고, 흡착된 이온을 환원시킨 후 환원된 이온층 상에 금속층을 이온결합으로 형성시키는 도전성 볼의 제조 방법을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a conductive ball strongly bonded to the polymer bead and the metal layer through a chemical bond and a manufacturing method thereof. In particular, the present invention provides a conductive ball having a structure comprising a polymer bead and a metal layer formed by ion bonding on the polymer bead surface, ionizing the polymer bead surface, adsorbing ions to the modified polymer bead, and It provides a method for producing a conductive ball to form a metal layer by ion bonding on the reduced ion layer after reduction.

이하 본 발명의 구성을 좀 더 상세히 살펴본다. Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in more detail.

본 발명은, 중합체비드 표면을 이온화 개질시키는 제1단계; 개질된 중합체비드에 이온을 흡착시키는 제2단계; 흡착된 이온을 환원시키는 제3단계; 및 환원된 이온층 상에 금속층을 이온결합으로 형성시키는 제4단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법을 제공한다. The present invention comprises a first step of ionizing and modifying the polymer bead surface; Adsorbing ions to the modified polymer beads; A third step of reducing the adsorbed ions; And it provides a method for producing a conductive ball comprising a fourth step of forming a metal layer by ion bonding on the reduced ion layer.

이온화 개질은 술폰기 등을 포함한 이온기 함유 화합물을 중합체 표면에 결합시킴으로써 행할 수 있으며, 술폰기, 카르복실기, 아민기, 하이드록실기, 사이올기, 포스페이트 기 등의 관능기를 갖는 화합물을 중합체 표면에 결합시킴으로써 양이온 또는 음이온으로의 개질이 가능하다. The ionization modification can be carried out by bonding an ion group-containing compound including a sulfone group or the like to the polymer surface, and a compound having a functional group such as a sulfone group, a carboxyl group, an amine group, a hydroxyl group, a siol group, or a phosphate group is bonded to the polymer surface. This allows modification to cations or anions.

이온결합으로 결합시키기 위한 금속 층은, 개질된 중합체 표면의 이온 상태에 따라 양이온 또는 음이온으로 해리될 수 있는 금속 화합물, 금속 콤플렉스를 사용할 수 있으며, 특히, 니켈, 금, 은, 구리, 팔라듐, 철, 아연, 주석, 크롬, 마그네슘, 백금, 인듐 및 이들의 합금 등을 사용할 수 있다. 이들 금속 층은 금속 나노 입자 층으로서 한 층 또는 두 층 이상으로 형성시킬 수 있다. The metal layer for bonding by ionic bonding may use metal compounds, metal complexes which can be dissociated into cations or anions depending on the ionic state of the modified polymer surface, in particular nickel, gold, silver, copper, palladium, iron , Zinc, tin, chromium, magnesium, platinum, indium, and alloys thereof. These metal layers can be formed as one or more than two layers as the metal nanoparticle layer.

본 발명은 또한 중합체 비드와, 중합체 비드 표면에 이온결합으로 형성된 금속 층을 포함하여 이루어진 구조의 도전성 볼을 제공한다. 이 때 금속은 금속 나노 입자가 적층된 형태를 가지며, 나노 입자의 선택적 표면 형성에 의하여 라스베리형모폴로지 (raspberry morphology) 를 갖는다. 라스베리형 모폴로지란 표면에 나노입자 단위의 입자가 적층된 구조로서, 표면에 나노사이즈의 구형 입자가 요철을 형성한 구조를 의미한다. 이러한 라스베리형 모폴로지에 의하여 본 발명에 따 른 전도성 볼은 종래의 전도성 볼의 매끄러운 표면이 아니라 금속 층임에도 거친 표면이 형성된다. The present invention also provides a conductive ball having a structure comprising a polymer bead and a metal layer formed by ion bonding on the polymer bead surface. At this time, the metal has a form in which metal nanoparticles are stacked, and have a raspberry morphology by forming a selective surface of the nanoparticles. The raspberry morphology is a structure in which particles of nanoparticle units are stacked on a surface, and nanostructured spherical particles have a structure in which irregularities are formed on the surface. By such a raspberry-type morphology, the conductive ball according to the present invention forms a rough surface even though it is a metal layer rather than the smooth surface of the conventional conductive ball.

본 발명은 특히 중합체 비드와, 중합체 비드 표면에 이온결합으로 형성된 니켈 층, 니켈 층상에 형성된 금 층을 포함하여 이루어진 구조의 도전성 볼을 제공하며, 특히 니켈 층 및 금 층은 나노입자 적층 형태이며, 나노입자의 선택적 표면형성에 의하여 라스베리형 모폴로지를 갖는다. The present invention particularly provides a conductive ball having a structure comprising a polymer bead, a nickel layer formed by ion bonding on the surface of the polymer bead, and a gold layer formed on the nickel layer, wherein the nickel layer and the gold layer are in the form of a nanoparticle stack, It has a raspberry morphology by selective surface formation of nanoparticles.

본 발명은 또한 중합체비드 표면을 술폰기로 직접 술폰화시켜 개질하는 제1단계; 개질된 중합체비드에 팔라듐 이온을 흡착시키는 제2단계; 중합체비드에 흡착된 팔라듐 이온을 환원시키는 제3단계; 팔라듐이 코팅된 중합체비드 표면에 니켈 층을 형성하는 제4단계; 및 니켈 층이 형성된 중합체비드 표면에 금 층을 형성시키는 제5단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법을 제공한다. The present invention also includes a first step of modifying the polymer bead surface by sulfonation directly with a sulfone group; Adsorbing palladium ions to the modified polymer beads; A third step of reducing palladium ions adsorbed to the polymer beads; Forming a nickel layer on the surface of the polymer beads coated with palladium; And a fifth step of forming a gold layer on the surface of the polymer bead having the nickel layer formed thereon.

본 발명은 또한 중합체 비드, 중합체 비드 표면에 이온결합된 팔라듐 이온층, 팔라듐 이온층 상에 형성된 니켈층, 및 니켈층 상에 형성된 금 층을 포함하여 이루어진 구조의 도전성 볼을 제공하며, 이들 니켈 층 및/또는 금 층은 나노입자 구조로 적층되는 것이 바람직하다. The present invention also provides conductive balls having a structure comprising a polymer bead, a palladium ion layer ionically bonded to the polymer bead surface, a nickel layer formed on the palladium ion layer, and a gold layer formed on the nickel layer, wherein the nickel layer and / or Alternatively, the gold layer is preferably laminated in a nanoparticle structure.

이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명의 도전성 볼 제조방법에 의하면 금속층과 중합체비드의 화학적 결합을 통해 강한 결합력을 유도한다. 따라서 금속과 중 합체계면의 균열 및 금속층의 분리 현상을 방지한다. 또 코팅된 금속표면을 형태적으로 제어하여, 가해지는 압력을 효과적으로 분산시킴으로써, 금속층의 균열에 의한 도전성 저하를 방지한다. 이에 따라 표면 도전성이 개선된 도전성 볼이 제공된다. According to the conductive ball manufacturing method of the present invention as described above, a strong bonding force is induced through the chemical bonding of the metal layer and the polymer beads. This prevents cracking of metal and polymer system surfaces and separation of metal layers. In addition, by controlling the coated metal surface in a morphological manner, by effectively dispersing the applied pressure, the conductivity of the metal layer is prevented from being degraded. This provides a conductive ball with improved surface conductivity.

이하에서는 본 발명의 구체예를 통하여 본 발명에 따른 제조방법의 각 단계에 대해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, each step of the manufacturing method according to the present invention through the embodiments of the present invention will be described in more detail.

제1단계 - Step 1- 술폰기로Sulfone 개질된Modified 중합체비드의Polymer beads 제조 Produce

중합체 제조방법은 크게 분산중합, 유화중합, 현탁중합이 있다. 현탁중합의 경우 균일한 크기의 중합체비드를 제조할 수 없으며, 유화중합의 경우 매우 균일한 크기의 볼을 만들 수 있으나 수 마이크로사이즈의 볼을 제조에 있어서는 여러 가지 단계적 방법을 통해서 제조될 수 있다. Polymer production methods include dispersion polymerization, emulsion polymerization and suspension polymerization. In the case of suspension polymerization, polymer beads of uniform size cannot be prepared, and in the case of emulsion polymerization, balls of very uniform size can be made, but in the manufacture of several micro-sized balls, they can be prepared through various stepwise methods.

술폰기의 면이 술폰기로 개질된 비드 형태의 중합체는 직접 술폰화하는 과정을 통하여 얻어진다. 즉, 중합체 비드 표면에 촉매층을 형성시키기 위하여 기존 의 방법인 틴클로라이드를 이용하거나 표면 거칠기를 이용하는 방법을표 사용하지 않고, 중합체 비드 표면에 직접 촉매층을 형성하는 방법을 사용한다. The polymer in the form of beads in which the side of the sulfone group is modified with the sulfone group is obtained through a process of directly sulfonating. That is, a method of forming a catalyst layer directly on the surface of the polymer bead is used without using a conventional method of using tin chloride or surface roughness to form a catalyst layer on the surface of the polymer bead.

표면 개질된 중합체비드는, 중합체비드를 용매 중에서 1 내지 24 시간 동안 반응시킨 후 원심분리하여 얻어진다. 이때 사용 가능한 용매 중에는 클로로술폰산, 술폰산, 아세틱 술파이드 등이 포함된다. 본 발명에서 사용 가능한 비드 형태 의 중합체에는 당 업계에서 사용되는 모든 중합체가 포함된다. 비드의 크기 또한 통상 사용 가능한 모든 크기로 변형 가능하며, 특히 한정되지 않는다.Surface modified polymer beads are obtained by reacting the polymer beads in a solvent for 1 to 24 hours and then centrifuging. At this time, the solvents that can be used include chlorosulfonic acid, sulfonic acid, acetic sulfide and the like. Bead polymers usable in the present invention include all polymers used in the art. The size of the beads can also be modified to all available sizes, without being particularly limited.

제2단계- 표면 Stage 2-Surface 개질된Modified 중합체비드Polymer Beads 상에 팔라듐 이온의 흡착 Adsorption of Palladium Ions on the Phase

제1단계에서 수득한 표면이 술폰기로 개질된 중합체비드를 팔라듐용액과 혼합시켜, 표면에 형성된 술폰기와 양이온 팔라듐의 이온결합을 유도한다. 이때 이온이 개질된 표면에 충분히 흡착될 수 있도록 적정한 시간 동안 함침을 해주는 것이 바람직하며, 이 시간은 사용되는 팔라듐용액의 농도와 온도에 따라서 적절하게 선택할 수 있다. The polymer beads obtained by modifying the surface obtained in the first step with a sulfone group are mixed with a palladium solution to induce an ionic bond between the sulfone group and the cationic palladium formed on the surface. At this time, it is preferable to impregnate for an appropriate time so that ions can be sufficiently adsorbed on the modified surface, this time can be appropriately selected according to the concentration and temperature of the palladium solution used.

팔라듐용액으로는, 팔라듐(II)아세테이트(palladium(II) acetate), 팔라듐(II) 아세틸아세토네이트(palladium(II) acetylacetonate), 팔라듐(II) 브로마이드 (palladium(II) bromide), 팔라듐(II) 클로라이드(palladium chloride), 팔라듐(II) 사이언네이드(palladium(II) cyanide), 팔라듐(II)헥사플로로아세틸아세토네이트(palladium(II) hexafluoroacetylaccetonate), 팔라듐(II) 아이어다이드(palladium(II) iodide), 팔라듐(II) 나이트레이트 하이드레이트(palladium(II) nitrate hydrate), 팔라듐(II) 옥사이드(palladium(II) oxide), 팔라듐(II) 옥사이드 하이드레이트(palladium(II) oxide hydrate), 팔라듐(II) 포타슘 사이오설페이트 모노하이드레이트(palladium(II) potassium thiosulfate monohydrate), 팔라듐(II) 프로피오네이트(palladium(II) propionate), 팔라듐(II) 소듐 클로라이드(palladium(II) sodium chloride), 팔라듐(II) 설페이트(palladium(II) sulphate), 팔라듐(II) 트리플루오로 아세테이트(palladium(II) trifluoro acetate), 포타슘 테트라브로모팔라데이트(II)(potassium tetrabromopalladate(II)), 포타슘 테트라클로로팔라데이트(II)(potassium tetrachloropalladate(II)), 소듐 테트라브로모팔라데이트(II)(sodium tetrabromopalladate(II)), 포타슘 헥사클로로팔라데이트(IV)(potassiunm hexachloropalladate(IV)), 소듐 테트라클로로팔라데이트(II)(sodium tetrachloro palladate(II)) 등이 사용될 수 있다. As the palladium solution, palladium (II) acetate, palladium (II) acetylacetonate, palladium (II) bromide, palladium (II) Palladium chloride, palladium (II) cyanide, palladium (II) hexafluoroacetylacetonate, palladium (II) palladium (II) iodide, palladium (II) nitrate hydrate, palladium (II) oxide, palladium (II) oxide hydrate, palladium (II) ) Potassium thiosulfate monohydrate, palladium (II) propionate, palladium (II) sodium chloride, palladium (II) ) Sulfate (palladium (II) sulphate), palladium (II) Trifluoroacetic acid (palladium (II) trifluoro acetate), potassium tetrabromopalladate (II), potassium tetrachloropalladate (II), sodium tetrabromo Palladate (II), potassium hexachloropalladate (IV), sodium tetrachloro palladate (II) and the like can be used. .

술폰기와 흡착되지 못한 팔라듐 양이온들은 세척을 통하여 제거한다. 세척은 원심분리를 이용하여 분리해낸 후 증류수로 수차례 세척하는 것이 바람직하다. Palladium cations that are not adsorbed sulfone groups are removed by washing. Washing is preferably separated by centrifugation and washed several times with distilled water.

제3단계 - 흡착된 팔라듐 이온의 환원Step 3-Reduction of Adsorbed Palladium Ions

환원은 다양한 환원제를 사용하여 행할 수 있다. 예를 들면, 소듐보로하이드라이드(sodium borohydride), 하이드라진(hydrazine), 소듐설페이트(sodium sulphate), 아황산염(sulfite), 황화나트륨(sodium sulfide), 철이온, 리튬 알루미늄 하이드라이드(Lithium aluminium hydride), 리튬 하이드라이드(Lithium hydride), 디아이소부틸 알루미늄 하이드라이드(diisobutyl aluminium hydride), 옥살릭엑시드(oxalic acid), 린들라촉매(Lindler catalyst), 등을 사용할 수 있으며, 특히 소듐보로하이드라이드, 소듐설페이트, 하이드라진 등을 바람직하게 사용할 수 있다. 팔라듐 이온이 흡착된 중합체를 환원제 용액에 넣음으로써 팔라듐이 환원되도록 한다. Reduction can be performed using various reducing agents. For example, sodium borohydride, hydrazine, sodium sulphate, sulfite, sodium sulfide, iron ions, lithium aluminum hydride Lithium hydride, diisobutyl aluminum hydride, oxalic acid, Lindler catalyst, and the like, in particular sodium borohydride, Sodium sulfate, hydrazine, etc. can be used preferably. The palladium is reduced by placing a polymer having palladium ions adsorbed into a reducing agent solution.

제4단계 - Step 4- 니켈 층Nickel layer 형성 formation

팔라듐이 코팅된 중합체비드를 니켈 용액에 함침시켜 니켈층을 형성시킨다. 이 반응은 환원제가 필요 없는 반응이기 때문에 자동적으로 환원을 일으켜 니켈층을 형성한다. 여기서 사용된 니켈 용액은 시판되는 제품을 구입하여 사용하거나 다양한 조성의 니켈용액을 제조하여 사용할 수 있다. Palladium-coated polymer beads are impregnated into the nickel solution to form a nickel layer. Since this reaction does not require a reducing agent, it automatically reduces to form a nickel layer. The nickel solution used herein may be used by purchasing a commercially available product or by preparing a nickel solution having various compositions.

대표적인 예로서, 니켈(II)아세테이트 테트라하이드라이트(nickel(II)acetate tetrahydrate), 니켈(II) 아세틸아세토네이트(nickel(II) acetylacetonate), 니켈(II)비스(2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄다이오네이트)(nickel(II)bis(2,2,6,6-tetramethyl- 3,5-heptanedionate)), 니켈(II) 브로마이드(nickel(II) bromide), 니켈(II) 브로마이드 하이드레이트(nickel(II) bromide hydrate), 니켈(II) 브로마이드-에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 화합물(nickel(II) bromide ethylene glycol dimethyl ether complex), 니켈(II) 카보네이트 하이드록사이드 테트라하이드레이트(nickel(II) carbonate hydroxide tetrahydrate), 니켈(II)클로라이드(nickel(II) chloride), 니켈(II)클로라이드 헥사하이드레이트(nickel(II) chloride hexahydrate), 니켈(II) 클로라이드 하이드레이트(nickel(II) chloride hydrate), 니켈(II) 사이클로헥산부틸레이트(nickel(II) cyclohexane butylate), 니켈(II) 2-에틸헥산노에이트(nickel(II) 2-ethylhexanoate), 니켈(II) 플로라이드(nickel(II) fluoride), 니켈(II) 플로라이드 테트라하이드레이트(nickel(II) fluoride tetrahydrate), 니켈(II) 헥사플로로아세틸아세토네이트 하이드레이트(nickel(II) hexafluoroacetylacetonate hydrate), 니켈(II)하이록사이드(nickel(II) hydroxide), 니켈(II) 아이오다이드(nickel(II) iodide), 니켈(II)몰리브데이트(nickel(II) molybdate), 니켈(II) 나이트레이트 헥사하이드레이트(nickel(II) nitrate hexahydrate), 니켈(II) 5,9,14,18,23,27,32,36-옥타부톡시-2,3-나프탈로사이아닌(nickel(II) 5,9,14,18,23,27,32,36-octabutoxy-2,3- naphthalocyanine), 니켈(II) 옥타노에이트 하이드레이트(nickel(II)octanoate hydrate), 니켈(II)옥사이드(nickel(II) oxide), 니켈(II) 퍼옥사이드 하이드레이트(nickel(II) peroxide hydrate), 니켈(II) 포스파이드(nickel(II) phosphide), 니켈(II) 시트레이트(nickel(II) citrate), 니켈(II) 설파메이트 테트라하이드레이트(nickel sulfamate tetrahydrate), 니켈(II)설페이트 헥사하이드레이트(nickel(II) sulfate hexahydrate), 니켈(II) 설페이트 헵타하이드레이트(nickel(II) sulfate heptahydrate), 니켈(III) 옥사이드(nickel(III) oxide), 니켈(III) 하이드록사이드(nickel(III) hydroxide), 포타슘 니켈(IV) 플루오라이드(potassium nickel(IV) fluoride) 및 니켈(II), (III) 사이올레이트 화합물(nickel(II),(III) thiolate complexes), 포타슘 테트라사이아노니켈레이트(II)(potassium tetracyanonickelate(II)), 포타슘 테트라사이아노니켈레이트(II)하이드레이트(potassium tetracyanonickelate(II) hydrate등이 있다. As a representative example, nickel (II) acetate tetrahydrate, nickel (II) acetylacetonate, nickel (II) bis (2,2,6,6- Tetramethyl-3,5-heptanedionate) (nickel (II) bis (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate)), nickel (II) bromide, nickel (II) bromide hydrate (nickel (II) bromide hydrate), nickel (II) bromide ethylene glycol dimethyl ether complex (nickel (II) bromide ethylene glycol dimethyl ether complex), nickel (II) carbonate hydroxide tetrahydrate (II) carbonate hydroxide tetrahydrate, nickel (II) chloride, nickel (II) chloride hexahydrate, nickel (II) chloride hydrate ), Nickel (II) cyclohexane butylate, nickel (II) 2-ethylhex Nickel (II) 2-ethylhexanoate, Nickel (II) fluoride, Nickel (II) fluoride tetrahydrate, Nickel (II) hexafluoro Acetylacetonate hydrate (nickel (II) hexafluoroacetylacetonate hydrate), nickel (II) hydroxide (nickel (II) hydroxide), nickel (II) iodide (nickel (II) iodide), nickel (II) molybdate ( nickel (II) molybdate), nickel (II) nitrate hexahydrate, nickel (II) 5,9,14,18,23,27,32,36-octabutoxy-2, 3-naphthalocyanine (nickel (II) 5,9,14,18,23,27,32,36-octabutoxy-2,3-naphthalocyanine), nickel (II) octanoate hydrate (nickel (II) octanoate hydrate, nickel (II) oxide, nickel (II) peroxide hydrate, nickel (II) phosphide, nickel (II) Citrate, nickel (II) Nickel sulfamate tetrahydrate, nickel (II) sulfate hexahydrate, nickel (II) sulfate heptahydrate, nickel (III) oxide III) oxide, nickel (III) hydroxide, potassium nickel (IV) fluoride and nickel (II), (III) thiolate compounds (II), (III) thiolate complexes, potassium tetracyanonickelate (II), and potassium tetracyanonickelate (II) hydrate.

제5단계 - 금 층 형성Step 5-Form the Gold Layer

제4단계에서 수득된 니켈이 코팅된 중합체비드를 금 용매에 분산시켜 니켈 층 상에 금 층을 형성시킨다. 금 용액은 시판되는 제품을 구입하여 사용하거나 다양한 금 용액을 제조하여 사용할 수 있다.The nickel-coated polymer beads obtained in the fourth step are dispersed in a gold solvent to form a gold layer on the nickel layer. Gold solutions can be purchased and used on the market or a variety of gold solutions can be used.

금 용액의 대표적인 예로서는, 골드(III) 브로마이드 하이드레이트(gold bromide hydrate), 골드(I) 클로라이드(gold(I) chloride), 골드(III) 클로라이드(gold(III) chloride), 골드(III) 클로라이드 트리하이드레이트(gold(III) chloride trihydrate), 골드(I) 사이어네이드(gold(I) cyanide), 골드(III) 하이드록사이드(gold(III) hydroxide), 골드(I) 아이어다이드(gold(I) iodide), 골드(III) 옥사이드 하이드레이트(gold(III) oxide hydrate), 골드(I) 설파이드(gold(I) sulfide), 골드(III) 설파이드(gold(III) sulfide), 포타슘 테트라브로모아우레이트(potassium tetrabromoaurate), 소듐 테트라브로모아우레이트(III) 하이드레이트(sodium tetrabromoaurate(III) hydrate), 소듐테트라클로로아우레이트(III) 디하이드레이트(sodium tetrachloroaurate(III) dihydrate), 소듐 테트라아우레이트(III) 하이드레이트(sodium tetraaurate(III) hydrate), 포타슘 골드(III) 클로라이드(potassium gold(III) chloride), 리튬 테트라클로로아우레이트(III)(lithium tetrachloroaurate(III)), 소듐 테트라브로모아우레이트(III) 하이드레이트(sodium tetrabromoaurate(III) hydrate), 포타슘 테트라아이오도아우레이트(III)(potassium tetraiodoaurate(III)) 등을 들 수 있다. Representative examples of the gold solution include gold (III) bromide hydrate, gold (I) chloride, gold (III) chloride, and gold (III) chloride tri. Hydrate (gold (III) chloride trihydrate), gold (I) cyanide, gold (III) hydroxide, gold (I) iodide ) iodide), gold (III) oxide hydrate, gold (I) sulfide, gold (III) sulfide, potassium tetrabromoau Potassium tetrabromoaurate, sodium tetrabromoaurate (III) hydrate, sodium tetrachloroaurate (III) dihydrate, sodium tetraaurate (III) ) Sodium tetraaurate (III) hydrate, potassium gold (III) claw Potassium gold (III) chloride, lithium tetrachloroaurate (III), sodium tetrabromoaurate (III) hydrate, potassium tetraiodoau And latex (III) (potassium tetraiodoaurate (III)).

이러한 방법으로 제조된 도전성 볼은 표면에 나노입자 사이즈의 요철이 형성되어 종래의 매끄러운 표면을 갖지 않고 거친 표면을 갖게 된다. 이러한 표면 구 조는 상기한 본 발명의 제조 방법에 따라 제조될 수 있으며, 팔라듐 이온과 같이 이온결합이 가능한 금속 이온층과, 이온결합이 가능할 수 있는 이온해리성 금속 층이라면 니켈 층, 금 층 이외의 다른 금속 층도 사용 가능하며, 특히 나노 입자 사이즈의 금속 층을 사용하는 것이 바람직하다. Electroconductive balls produced in this way is a surface of the nanoparticle size irregularities are formed to have a rough surface without having a conventional smooth surface. Such a surface structure may be prepared according to the manufacturing method of the present invention described above, and other than the nickel layer and the gold layer as long as the ion dissociable metal layer may be ion-bonded, such as palladium ions, and the ion dissociable metal layer may be ion-bonded. Metal layers may also be used, in particular using metal layers of nanoparticle size.

이러한 방법으로 제조된 도전성 볼은, 중합체 비드, 중합체 비드 표면에 이온결합된 금속 이온층, 및 금속 이온층 상에 형성된 이온해리성 금속층이 중합체비드에 결합된 구조로서, 도전성 볼의 표면에 나노입자 사이즈의 요철이 형성된 모폴로지를 갖게 된다. The conductive balls produced by this method are a structure in which a polymer bead, a metal ion layer ionically bonded to the polymer bead surface, and an ion dissociable metal layer formed on the metal ion layer are bonded to the polymer bead. It will have a morphology with irregularities formed.

이하, 본 발명의 최적의 실시예를 통해 보다 구체적으로 설명한다. 본 발명은 하기 실시예에 의하여 제한되는 것은 아니며, 본 기술분야의 숙련된 당업자라면 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 범위는 특정 실시예가 아니라, 첨부된 특허청구범위에 기재된 사항에 의해 정해지는 것임을 자명하다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The present invention is not limited by the following examples, and those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention. Therefore, it is apparent that the scope of the present invention is defined by the matter described in the appended claims rather than the specific embodiments.

실시예Example

1) 중합체 비드 제조1) Polymer Bead Preparation

분산중합을 통해 단일 공정으로 수 마이크로 사이즈를 갖는 균일한 중합체비드를 제조하였다. 에탄올, 이소프로필알콜, 증류수, 톨루엔, 메탄올 등 용매에 개시제(벤조일페록사이트, AIBN), 분산제로서 폴리비닐피롤리돈(polyvinylpyrrolidone), 폴리비닐아세테이트(polyvinylacetate), 하이드록실프 로필-셀룰로오즈(hydroxylpropyl-cellulose), 부틸 아크릴레이트(butyl acrylate), 스티렌 모노머, 디비닐벤젠(divinylbenzen)을 단독적 및 일정비율로 혼합하여 녹인 후 반응온도 50-70℃ 에서 12-24시간 동안 반응을 시켜 폴리스티렌 중합체 비드를 제조하였다. 폴리스티렌비드의 크기는 500nm-10μm 임을 확인하였다. 제조된 폴리스티렌비드를 에탄올, 메탄올, 증류수로 수회 세척한 후, 원심분리기, 동결건조기를 이용하여 건조시켰다. Through dispersion polymerization, uniform polymer beads having several micro sizes were prepared in a single process. Initiators (benzoyl peroxide, AIBN), polyvinylpyrrolidone, polyvinylacetate, hydroxylpropyl-cellulose (hydroxylpropyl-cellulose) as a dispersant in a solvent such as ethanol, isopropyl alcohol, distilled water, toluene, methanol cellulose, butyl acrylate, styrene monomer, and divinylbenzen were mixed and dissolved at a predetermined ratio to prepare polystyrene polymer beads by reacting at 50-70 ° C. for 12-24 hours. It was. It was confirmed that the size of the polystyrene beads is 500nm-10μm. The prepared polystyrene beads were washed several times with ethanol, methanol and distilled water, and then dried using a centrifuge and a lyophilizer.

2) 술폰기로 표면 개질된 중합체비드 제조2) Preparation of polymer beads surface-modified with sulfone groups

제조한 폴리스티렌비드를 클로로술폰산, 술폰산, 아세틱 술파이드용액과 함께 반응조에 넣고 10-150rpm의 교반속도로 반응시켰다. 반응온도는 0-30℃로 유지하였다. 5시간 동안 반응시킨 후, 에탄올, 메탄올, 증류수 등으로 중화시켜 술폰화된 폴리스티렌비드를 얻었다. 중화과정 동안의 반응열로 인하여 반응조의 온도가 급격히 올라갈 수 있으므로 액체질소로 온도 상승을 억제하였다.The prepared polystyrene beads were added together with chlorosulfonic acid, sulfonic acid, and acetic sulfide solution in a reaction tank and reacted at a stirring speed of 10-150 rpm. The reaction temperature was maintained at 0-30 ° C. After reacting for 5 hours, neutralization was performed with ethanol, methanol, distilled water, and the like to obtain sulfonated polystyrene beads. Because of the heat of reaction during the neutralization process, the temperature of the reaction tank can be raised sharply, thereby suppressing the temperature rise with liquid nitrogen.

3) 팔라듐 촉매층 형성3) palladium catalyst layer formation

50mmol 팔라듐(II)클로라이드(PdCl2) 용액 100㎖를 비커에 넣고 약 50rpm의 속도로 교반하면서 반응온도 60℃로 유지시키면서 표면 개질된 폴리스티렌비드를 약 0.5g을 투입하여 1시간 정도 충분히 흡착될 수 있도록 함침해 주었다. 팔라듐 이온이 개질된 표면에 충분히 흡착될 수 있도록 농도와 온도에 따라 10분 내지24시간 동안 함침을 해 줄 수 있다. 100 ml of 50 mmol palladium (II) chloride (PdCl 2 ) solution was added to a beaker and stirred at a rate of about 50 rpm, while maintaining the reaction temperature at 60 ° C., and about 0.5 g of surface-modified polystyrene beads could be adsorbed for about 1 hour. Impregnated so that. The palladium ions may be impregnated for 10 minutes to 24 hours depending on the concentration and the temperature so as to be sufficiently adsorbed on the modified surface.

원심분리기를 통해 4000rpm으로 회전시켜 팔라듐 촉매층이 형성된 폴리스티 렌비드를 얻었다. 증류수로 5회 이상 세척하고 소듐보로하이드라이드(NaBH4) 0.1M의 용액 400㎖에 넣고 천천히 교반시켰다. 이때 반응 온도는 60℃, 반응시간은 12시간이었다.It was rotated at 4000 rpm through a centrifugal separator to obtain polystyrene beads having a palladium catalyst layer. The mixture was washed 5 times or more with distilled water, and added to 400 ml of a solution of sodium borohydride (NaBH 4 ) 0.1M, and stirred slowly. At this time, the reaction temperature was 60 ℃, the reaction time was 12 hours.

4) 니켈 층 형성4) Nickel layer formation

촉매층이 형성된 폴리스티렌 비드를 니켈용액 1ℓ에 넣고 88℃에서 25분 동안 천천히 교반시키면서 반응시켰다. 반응 종결 후 남아 있는 니켈 용액을 제거하기 위해 원심분리와 증류수를 사용하였다. 수세 과정은 5회 시행하였다.The polystyrene beads in which the catalyst layer was formed were added to 1 L of nickel solution and reacted with agitation at 88 ° C. for 25 minutes. Centrifugation and distilled water were used to remove the nickel solution remaining after the reaction. The washing process was carried out five times.

5) 금 층 형성5) gold layer forming

니켈 층이 형성된 폴리스티렌 비드를 금 용액 1ℓ에 넣고 90℃에서 30분간 교반을 통해 반응시켰다. 니켈 층 형성시와 동일한 수세과정을 통해 미반응 금 용액을 제거하였다. The polystyrene beads having the nickel layer formed therein were placed in 1 L of gold solution and reacted at 90 ° C. for 30 minutes by stirring. Unreacted gold solution was removed by the same washing process as the nickel layer was formed.

[시험예][Test Example]

실시예에 따라 제조된 도전성 볼에 대해 물성을 확인하기 위한 하기와 같은 테스트를 실시하였다. The conductive test prepared according to the embodiment was subjected to the following test for confirming the physical properties.

시험예Test Example 1:  One: 모폴로지Morphology 비교 compare

종래의 도전성 볼(A): 종래의 도전성볼의 제조방법은 표면을 슬폰산 또는 다른 관능기로 개질하지 않은 중합체 비이드에 틴클로라이드(tin chloride)을 흡착시킨 후 팔라듐을 환원시키는 방법으로 틴클로라이드와 중합체의 결합은 물리적결합력으로 인해 약한 결합력을 발생시킨다. 비교를 위해 상업적으로 판매하는 Sekisui 사의 전도성볼을 이용하여 금속의 모폴로지와 전기적 특성을 조사하였다. 본 발명의 실시예에 따라 제조된 도전성 볼(B)의 모폴로지를 확인하기 위하여 전계방사주사전자현미경(field emission scanning electron microscope, SEM, JEOL. JSM 890) 사진을 도 1에 나타내었다. 종래의 (Sekisui 사) 도전성 볼(A)의 경우 금속층이 매끄러운 표면을 형성하고 있는 것을 확인할 수 있었다. 반면 본 실시예의 도전성의 볼(B)의 경우 수많은 금 나노입자들이 폴리스티렌 표면에 형성되어 있음을 확인할 수 있다. Conventional Conductive Ball (A): The conventional conductive ball manufacturing method is a method of adsorbing tin chloride to polymer beads whose surface is not modified with sulfonic acid or other functional groups and then reducing palladium. Bonding of the polymer results in weak bonding due to physical bonding. For comparison, the morphology and electrical properties of metals were investigated using commercially available conductive balls from Sekisui. A field emission scanning electron microscope (SEM, JEOL. JSM 890) photograph is shown in FIG. 1 to confirm the morphology of the conductive ball B prepared according to the embodiment of the present invention. In the conventional (Sekisui) conductive ball A, it was confirmed that the metal layer forms the smooth surface. On the other hand, in the conductive ball (B) of the present embodiment it can be seen that a large number of gold nanoparticles are formed on the polystyrene surface.

시험예Test Example 2: 접속저항 시험 2: connection resistance test

마이크로 컴프레션 테스터(micro-compression tester, Shimadzu, MCT-W)와 디지털 멀티미터(Advantest, R6552)를 이용하여 측정한 하중 대 변형(force vs strain)의 그래프와 저항의 변화를 도 2에 각각 나타내었다. Figure 2 shows a graph of force vs. strain and resistance change measured using a micro-compression tester (Shimazu, MCT-W) and a digital multimeter (Advantest, R6552), respectively. .

종래의 도전성 볼(A)에서는 변형이 40% 이상인 경우 더 이상 저항이 측정이 되지 않았는데, 그 이유는 코팅된 금속층이 폴리스티렌 표면에서 완전분리가 되기 때문으로 추측된다. 또 변형 10% 이내, 20%, 32% 부근에서 저항이 올라가는 현상이 보이는데, 이는 금속층과 중합체 사이에서 부분적 적층 분리(Delamination)의 형상으로 인하여 발생되는 현상으로 생각되어진다. In the conventional conductive ball A, the resistance was not measured any more when the strain was 40% or more, since the coated metal layer is completely separated from the polystyrene surface. In addition, resistance increases within 10%, 20%, and 32% of deformation, which is thought to be caused by the shape of partial lamination between the metal layer and the polymer.

이와 달리 본 실시예에 의해 제조된 도전성 볼(B)의 경우 변형이 40% 이상인 경우에도 금속층의 분리현상이 관찰되지 않았고, 저항도 전범위에서 안정적으로 측정되었다. 이는 금속층과 폴리머스티렌의 화학적 결합에 의해 강한 결합력이 형성되었음을 나타내는 것이다. 또한 금 나노입자의 형태학적 구조는 가해지는 압력을 분산되게 하기 때문에, 저항에 나쁜 영향을 미치지 않음을 직접 확인할 수 있다.On the contrary, in the conductive ball B manufactured according to the present embodiment, even when the deformation was 40% or more, the separation phenomenon of the metal layer was not observed, and the resistance was also stably measured in the entire range. This indicates that a strong bonding force is formed by chemical bonding of the metal layer and the polymer styrene. In addition, since the morphological structure of the gold nanoparticles causes the applied pressure to be dispersed, it can be directly confirmed that it does not adversely affect the resistance.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따라 형성된 도전성 볼의 각 층들을 도식적으로 나타낸 도면으로서, A는 술폰화 과정에 의해 음이온으로 표면 개질된 중합체비드, B1과 B2는 팔라듐 이온 개질된 중합체비드에 흡착(B1) 및 환원(B2)된 형태, C는 니켈층이 형성된 형태, D는 금 층이 형성된 형태의 모식도를 각각 나타낸다. 1 is a schematic view of each layer of a conductive ball formed in accordance with an embodiment of the present invention, where A is a polymer bead surface-modified by an anion by a sulfonation process, B1 and B2 is a palladium ion-modified polymer bead The form of adsorption (B1) and reduction (B2), C is a form in which a nickel layer is formed, and D represents a schematic diagram of a form in which a gold layer is formed.

도 2는 종래의 도전성 볼의 표면을 찍은 주사전자현미경 사진(A)과 본 발명의 실시예에 따라 제조된 도전성 볼의 표면을 찍은 주사전자현미경 사진(B)를 각각 나타낸다. 2 shows a scanning electron micrograph A of a conventional conductive ball and a scanning electron micrograph B of a conductive ball manufactured according to an embodiment of the present invention.

도 3은 종래의 도전성 볼에 대한 하중-인장 곡선과 저항에 대한 그래프(A)와 본 발명의 실시예에 따라 제조된 도전성 볼에 대한 하중-인장 곡선과 저항에 대한 그래프(B)를 각각 나타낸다. 3 shows a graph (A) for the load-tensile curve and resistance for a conventional conductive ball and a graph (B) for the load-tensile curve and resistance for a conductive ball made according to an embodiment of the present invention, respectively. .

Claims (17)

중합체비드 표면을 이온화 개질시키는 제1단계;A first step of ionizing and modifying the polymer bead surface; 개질된 중합체비드에 이온을 흡착시키는 제2단계;Adsorbing ions to the modified polymer beads; 흡착된 이온을 환원시키는 제3단계; 및 A third step of reducing the adsorbed ions; And 환원된 이온층 상에 금속층을 이온결합으로 형성시키는 제4단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. And a fourth step of forming a metal layer by ion bonding on the reduced ion layer. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 제1단계에서의 이온화 개질은, Ionization reforming in the first stage, 술폰기, 카르복실기, 아민기, 하이드록실기, 사이올기, 포스페이트기 중 선택된 관능기를 중합체비드 표면에 결합시킴으로써 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. A method for producing a conductive ball, characterized in that the functional group selected from a sulfone group, a carboxyl group, an amine group, a hydroxyl group, a siol group, and a phosphate group is bonded to the polymer bead surface. 제2항에 있어서, The method of claim 2, 상기 이온화 개질로서 술폰기를 결합시키는 것은, Bonding a sulfone group as the ionization modification, 클로로술폰산, 술폰산, 또는 아세틱 술파이드를 중합체 표면에 반응시켜 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법.Chlorosulfonic acid, sulfonic acid, or acetic sulfide is made to react with a polymer surface, and the manufacturing method of the conductive ball characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 제2단계에서의 이온흡착은 이온개질된 중합체 비드에 팔라듐 화합물 용액을 함침시켜 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. Ion adsorption in the second step is carried out by impregnating a palladium compound solution in the ion-modified polymer beads. 제4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 팔라듐 화합물은, The palladium compound, 팔라듐(II)나이트레이트하이드레이트, 팔라듐(II)옥사이드, 팔라듐(II)옥사이드하이드레이트, 팔라듐(II)포타슘사이오설페이트모노하이드레이트, 팔라듐(II)프로페이오네이트, 팔라듐(II)소듐클로라이드, 팔라듐(II)설페이트, 팔라듐(II)트리플루오로아세테이트, 포타슘테트라클로로팔라데이트(II), 소듐테트라브로모팔라데이트(II), 소듐테트라브로모팔라데이트(II)하이드레이트, 포타슘 헥사클로로팔라데이트(IV), 소듐테트라클로로팔라데이트(II)로 이루어지는 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. Palladium (II) nitrate hydrate, palladium (II) oxide, palladium (II) oxide hydrate, palladium (II) potassiumthiosulfate monohydrate, palladium (II) propionate, palladium (II) sodium chloride, palladium ( II) sulfate, palladium (II) trifluoroacetate, potassium tetrachloropalladate (II), sodium tetrabromopalladate (II), sodium tetrabromopalladate (II) hydrate, potassium hexachloropalladate (IV ), Sodium tetrachloropalladate (II). The manufacturing method of the conductive ball characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 제3단계에서의 흡착된 이온의 환원은, Reduction of adsorbed ions in the third step, 소듐보로하이드라이드, 하이드라진, 소듐설페이트, 아황산염, 황화나트륨, 철이온, 리튬 알루미늄 하이드라이드, 리튬 하이드라이드, 디아이소부틸알루미늄 하이드라이드, 옥살릭엑시드, 린들라촉매로 이루어지는 군에서 선택된 환원제를 사용하여 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. Using a reducing agent selected from the group consisting of sodium borohydride, hydrazine, sodium sulfate, sulfite, sodium sulfide, iron ions, lithium aluminum hydride, lithium hydride, diisobutylaluminum hydride, oxalic acid and lindla catalyst And conductive ball production. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 제4단계에서의 금속층의 형성은 개질된 표면 이온 상태에 따라 양이온 또는 음이온으로 해리될 수 있는 금속 화합물을 사용하여 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. The formation of the metal layer in the fourth step is carried out using a metal compound which can be dissociated into a cation or an anion depending on the modified surface ion state. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 제4단계에서의 금속층은, 니켈, 금, 은, 구리, 팔라듐, 철, 아연, 주석, 크롬, 마그네슘, 백금, 인듐 및 이들의 합금으로 이루어진 그룹에서 선택된 것을 사용하여 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. The metal layer in the fourth step is conducted using a metal selected from the group consisting of nickel, gold, silver, copper, palladium, iron, zinc, tin, chromium, magnesium, platinum, indium and alloys thereof. Method of preparation. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 제4단계에서의 금속층의 형성은, 니켈층을 형성한 후, 형성된 니켈층 상에 금 층을 형성하는 것임을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. The metal layer is formed in the fourth step, after the nickel layer is formed, a gold layer is formed on the formed nickel layer. 제9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 니켈 층의 형성은, Formation of the nickel layer, 니켈(II)아세테이트 테트라하이드라이트, 니켈(II) 아세틸아세토네이트, 니켈(II)비스(2,2,6,6-테트라메틸-3,5 헵탄다이오네이트), 니켈(II) 브로마이드, 니켈(II) 브로마이드 하이드레이트, 니켈(II) 브로마이드-에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 화합물, 니켈(II) 카보네이트 하이드록사이드 테트라하이드레이트, 니켈(II)클 로라이드, 니켈(II)클로라이드 헥사하이드레이트, 니켈(II) 클로라이드 하이드레이트, 니켈(II) 사이클로헥산부틸레이트, 니켈(II) 2-에틸헥산노에이트, 니켈(II) 플로라이드, 니켈(II) 플로라이드 테트라하이드레이트, 니켈(II) 헥사플로로아세틸아세토네이트 하이드레이트, 니켈(II)하이록사이드, 니켈(II) 아이오다이드, 니켈(II)몰리브데이트, 니켈(II) 나이트레이트 헥사하이드레이트, 니켈(II) 5,9,14,18,23,27,32,36-옥타부톡시-2,3-나프탈로사이아닌, 니켈(II) 옥타노에이트 하이드레이트, 니켈(II)옥사이드, 니켈(II) 퍼옥사이드 하이드레이트, 니켈(II) 포스파이드, 니켈(II) 시트레이트, 니켈(II) 설파메이트 테트라하이드레이트, 니켈(II)설페이트 헥사하이드레이트, 니켈(II) 설페이트 헵타하이드레이트, 니켈(III) 옥사이드, 니켈(III) 하이드록사이드, 포타슘 니켈(IV) 플루오라이드 및 니켈(II),(III) 사이올레이트 화합물 로 이루어지는 군에서 선택된 니켈화합물을 사용하여 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼 제조 방법.Nickel (II) Acetate Tetrahydrite, Nickel (II) Acetacetonate, Nickel (II) Bis (2,2,6,6-Tetramethyl-3,5 Heptanedionate), Nickel (II) Bromide, Nickel ( II) bromide hydrate, nickel (II) bromide-ethylene glycol dimethyl ether compound, nickel (II) carbonate hydroxide tetrahydrate, nickel (II) chloride, nickel (II) chloride hexahydrate, nickel (II) chloride hydrate , Nickel (II) cyclohexane butyrate, nickel (II) 2-ethylhexanoate, nickel (II) fluoride, nickel (II) fluoride tetrahydrate, nickel (II) hexafluoroacetylacetonate hydrate, nickel (II) Hydroxide, nickel (II) iodide, nickel (II) molybdate, nickel (II) nitrate hexahydrate, nickel (II) 5,9,14,18,23,27,32,36 Octabutoxy-2,3-naphthalocyanine, nickel (II) Octanoate hydrate, nickel (II) oxide, nickel (II) peroxide hydrate, nickel (II) phosphide, nickel (II) citrate, nickel (II) sulfamate tetrahydrate, nickel (II) sulfate Hexahydrate, nickel (II) sulfate heptahydrate, nickel (III) oxide, nickel (III) hydroxide, potassium nickel (IV) fluoride and nickel (II), (III) thioleate compounds The electroconductive ball manufacturing method characterized by using a nickel compound. 제9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 금 층의 형성은, Formation of the gold layer, 골드(III) 브로마이드 하이드레이트, 골드(I) 클로라이드, 골드(III) 클로라이드, 골드(III) 클로라이드 트리하이드레이트, 골드(I) 사이어네이드, 골드(III) 하이드록사이드, 골드(I) 아이어다이드, 골드(III) 옥사이드 하이드레이트, 골드(I) 설파이드, 골드(III) 설파이드, 포타슘 테트라브로모아우레이트, 소듐 테트라브로모아우레이트(III) 하이드레이트, 소듐테트라클로로아우레이트(III) 디하이 드레이트, 소듐 테트라아우레이트(III) 하이드레이트, 포타슘 골드(III) 클로라이드, 리튬 테트라클로로아우레이트(III), 소듐 테트라브로모아우레이트(III) 하이드레이트 및 포타슘 테트라아이오도아우레이트(III)로 이루어지는 군에서 선택된 금 용액을 사용하여 행하는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법. Gold (III) bromide hydrate, gold (I) chloride, gold (III) chloride, gold (III) chloride trihydrate, gold (I) sineide, gold (III) hydroxide, gold (I) iodide, Gold (III) oxide hydrate, Gold (I) sulfide, Gold (III) sulfide, potassium tetrabromoaurate, sodium tetrabromoaurate (III) hydrate, sodium tetrachloroaurate (III) dihydrate, sodium Gold selected from the group consisting of tetraaurate (III) hydrate, potassium gold (III) chloride, lithium tetrachloroaurate (III), sodium tetrabromoaurate (III) hydrate and potassium tetraiodoaurate (III) It performs using a solution, The manufacturing method of the conductive ball characterized by the above-mentioned. 중합체비드 표면을 술폰기로 직접 술폰화시켜 개질하는 제1단계; A first step of modifying the polymer bead surface by sulfonating directly with a sulfone group; 개질된 중합체비드에 팔라듐 이온을 흡착시키는 제2단계; Adsorbing palladium ions to the modified polymer beads; 중합체비드에 흡착된 팔라듐 이온을 환원시키는 제3단계;A third step of reducing palladium ions adsorbed to the polymer beads; 팔라듐이 코팅된 중합체비드 표면에 니켈 층을 형성하는 제4단계; 및 Forming a nickel layer on the surface of the polymer beads coated with palladium; And 니켈 층이 형성된 중합체비드 표면에 금 층을 형성시키는 제5단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 도전성 볼의 제조 방법.And a fifth step of forming a gold layer on the surface of the polymer bead having the nickel layer formed thereon. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 중합체 비드와, 중합체 비드 표면에 이온결합으로 형성된 니켈 층, 니켈 층상에 형성된 금 층을 포함하여 이루어진 구조의 도전성 볼로서, A conductive ball having a structure comprising a polymer bead, a nickel layer formed by ion bonding on the surface of the polymer bead, and a gold layer formed on the nickel layer, 상기 니켈 층 및 금 층은 나노입자 적층 형태이며, 나노입자의 선택적 표면형성에 의하여 라스베리형 모폴로지를 갖는 것을 특징으로 하는 도전성 볼. The nickel layer and the gold layer is in the form of a nanoparticle stack, conductive ball, characterized in that having a raspberry-type morphology by the selective surface formation of the nanoparticles.
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