KR100887869B1 - Multi-layered Plastic Substrate with Excellent Chemical Resistance and Fabrication Method Thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다층 플라스틱 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 특히, 접합된 2장의 플라스틱 필름 양면에 각각 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층과; 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 각 상면에 적층되되, 순서에 관계없이 1회 이상 반복하여 적층되는 가스 배리어층 및 폴리실라잔층과; 상기 가스 배리어층 또는 폴리실라잔층의 각 상면에 적층되는 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 포함하는 내화학성이 향상된 대칭 구조의 다층 플라스틱 기판 및 그 제조 방법에 대한 것이다.The present invention relates to a multilayer plastic substrate and a method of manufacturing the same. In particular, a first organic or organic-inorganic hybrid layer on each of the two bonded plastic films; A gas barrier layer and a polysilazane layer stacked on each top surface of the first organic or organic-inorganic hybrid layer and repeatedly stacked one or more times in any order; The present invention relates to a multilayer plastic substrate having a symmetrical structure having improved chemical resistance, including a second organic or organic-inorganic hybrid layer laminated on each upper surface of the gas barrier layer or the polysilazane layer.

본 발명에 따른 다층 플라스틱 기판은 작은 선팽창계수, 탁월한 치수안정성, 및 우수한 가스 배리어성을 가질 뿐만 아니라, 가교된 폴리실라잔층을 이용하므로 더욱 향상된 내화학성을 갖는 다층 플라스틱 기판을 제공할 수 있다.The multi-layered plastic substrate according to the present invention not only has a small coefficient of linear expansion, excellent dimensional stability, and excellent gas barrier properties, but also provides a multi-layered plastic substrate having further improved chemical resistance because it uses a crosslinked polysilazane layer.

플라스틱 기판, 하이브리드층, 가스 배리어성, 치수안정성, 선팽창계수 Plastic substrate, hybrid layer, gas barrier property, dimensional stability, coefficient of linear expansion

Description

내화학성이 향상된 다층 플라스틱 기판 및 그 제조 방법{Multi-layered Plastic Substrate with Excellent Chemical Resistance and Fabrication Method Thereof}Multi-layered Plastic Substrate with Excellent Chemical Resistance and Fabrication Method Thereof}

도 1은 본 발명에 따른 다층 플라스틱 기판의 대칭 구조를 개략적으로 나타낸 단면도,1 is a cross-sectional view schematically showing a symmetrical structure of a multilayer plastic substrate according to the present invention;

도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 대칭 구조의 다층 플라스틱 기판의 개략적인 구조를 나타낸 단면도이다.2 to 4 are cross-sectional views illustrating a schematic structure of a multilayer plastic substrate having a symmetrical structure according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

110 : 플라스틱 필름110: plastic film

115 : 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층115: first organic or organic-inorganic hybrid layer

120 : 가스 배리어층120: gas barrier layer

125 : 폴리실라잔층125: polysilazane layer

130 : 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층130: second organic or organic-inorganic hybrid layer

본 발명은 다층 플라스틱 기판 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하 게는 작은 선팽창 계수, 탁월한 치수안정성, 및 우수한 가스 배리어성을 가질 뿐만 아니라 더욱 향상된 내약품성을 갖는 다층 구조의 플라스틱 기판 및 그 제조 방법에 대한 것이다.The present invention relates to a multi-layered plastic substrate and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a multi-layered plastic substrate having a low coefficient of linear expansion, excellent dimensional stability, and excellent gas barrier properties as well as further improved chemical resistance and its manufacture It's about how.

표시 장치, 액자, 공예, 용기 등에 사용되는 유리 기판은 작은 선팽창계수, 우수한 가스 배리어성, 높은 광투과도, 표면 평탄도, 뛰어난 내열성과 내화학성 등의 여러 장점을 가지고 있으나, 충격에 약하여 잘 깨지고 밀도가 높아서 무거운 단점이 있다.Glass substrates used for display devices, frames, crafts, containers, etc. have many advantages such as small coefficient of linear expansion, excellent gas barrier property, high light transmittance, surface flatness, excellent heat resistance and chemical resistance, but they are fragile and easily broken due to their low impact. There is a heavy disadvantage due to the high.

최근, 액정이나 유기 발광 표시 장치, 전자 종이에 대한 관심이 급증하면서 이들 표시 장치의 기판을 유리에서 플라스틱으로 대체하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 즉, 플라스틱 기판으로 유리 기판을 대체하면 표시 장치의 전체 무게가 가벼워지고 디자인의 유연성을 부여할 수 있으며, 충격에 강하며 연속 공정으로 제조할 경우 유리 기판에 비해 경제성을 가질 수 있다.In recent years, as the interest in liquid crystals, organic light emitting displays, and electronic papers has increased rapidly, studies are being actively conducted to replace the substrates of these display devices from glass to plastic. In other words, replacing the glass substrate with a plastic substrate may reduce the overall weight of the display device and provide design flexibility, and it may be more impact-resistant and economical than the glass substrate when manufactured in a continuous process.

한편, 표시 장치의 플라스틱 기판으로 사용되기 위해서는 트랜지스터 소자의 공정 온도, 투명 전극의 증착 온도를 견딜 수 있는 높은 유리전이 온도, 액정과 유기 발광 재료의 노화를 방지하기 위한 산소와 수증기 차단 특성, 공정 온도 변화에 따른 기판의 뒤틀림 방지를 위한 작은 선팽창계수와 치수안정성, 기존의 유리 기판에 사용되는 공정 기기와 호환성을 가지는 높은 기계적 강도, 에칭 공정에 견딜 수 있는 내화학성, 높은 광투과도 및 적은 복굴절율, 표면의 내스크레치성 등의 특성이 요구된다.Meanwhile, in order to be used as a plastic substrate of a display device, a process temperature of a transistor element, a high glass transition temperature capable of withstanding the deposition temperature of a transparent electrode, oxygen and water vapor blocking characteristics to prevent aging of liquid crystals and organic light emitting materials, and a process temperature Small coefficient of linear expansion and dimensional stability to prevent warpage of substrates due to changes, high mechanical strength compatible with process equipment used in conventional glass substrates, chemical resistance to etch process, high light transmittance and low birefringence, Properties such as scratch resistance of the surface are required.

그러나, 이러한 조건들을 모두 만족하는 고기능성 고분자 기재 필름(고분자 필름과 고분자-무기물 복합 필름 포함)은 존재하지 않으므로, 고분자 기재 필름에 여러 층의 기능성 코팅을 하여 상기 물성을 만족시키려는 노력이 행해지고 있다.However, since there is no high functional polymer base film (including a polymer film and a polymer-inorganic composite film) satisfying all of these conditions, efforts have been made to satisfy the above properties by applying a functional coating of several layers to the polymer base film.

대표적인 코팅층의 예로서는, 고분자 표면의 결함을 줄이고 평탄성을 부여하는 유기 평탄화층, 산소와 수증기 등의 가스 차단을 위한 무기물로 이루어진 가스 배리어층, 표면의 내스크레치성 부여를 위한 유기 또는 유기-무기 하드 코팅층 등을 들 수 있다.Examples of representative coating layers include organic planarization layers that reduce defects on the surface of polymers and impart flatness, gas barrier layers made of inorganic materials for blocking gases such as oxygen and water vapor, and organic or organic-inorganic hard coating layers for imparting scratch resistance to surfaces. Etc. can be mentioned.

종래의 많은 다층 플라스틱 기판의 경우, 고분자 기재에 무기물 가스 배리어층을 코팅하고, 가스 배리어층 위에 하드 코팅층을 형성하는 과정을 거치는 데, 이러한 다층 구조로 제조할 때의 문제점은 고분자 기재와 가스 배리어층 사이의 큰 선팽창계수 차이에 따른 고분자 기재의 변형과 무기 박막의 크랙, 및 박리가 발생할 수 있다는 점이다. 따라서, 각 층의 계면에서의 응력을 최소화할 수 있는 적절한 다층 구조의 설계와 코팅층 간의 접착성이 매우 중요하다고 할 수 있다.In the case of many conventional multilayer plastic substrates, a process of coating an inorganic gas barrier layer on a polymer substrate and forming a hard coating layer on the gas barrier layer is a problem when manufacturing the multilayer structure is a polymer substrate and a gas barrier layer Deformation of the polymer substrate and cracking of the inorganic thin film due to the large difference in coefficient of linear expansion between them, and peeling may occur. Therefore, it can be said that the adhesion between the coating layer and the design of a suitable multi-layer structure that can minimize the stress at the interface of each layer.

미국의 바이텍스(Vitex Systems)사의 고분자 기재 필름에 단량체 박막을 형성하고, 여기에 자외선(UV)을 조사하여 중합 반응시켜 고분자화(고체화한 유기층)하고, 그 위에 스퍼터링 방법으로 무기 박막을 성막하는 과정을 반복하여 여러 층의 유기-무기층을 제조하였고, 우수한 가스 차단성을 가진 유연한 기판을 제조하였다.A monomer thin film is formed on a polymer substrate film of Vitex Systems of the United States, polymerized by irradiation with ultraviolet (UV) light and polymerized (solidified organic layer), and an inorganic thin film is formed thereon by sputtering. The process was repeated to prepare several layers of organic-inorganic layers, and a flexible substrate having excellent gas barrier properties.

그러나, 비록 위의 방법에 의해 우수한 가스 차단성을 가진 제품을 얻을 수는 있지만, 낮은 선팽창 계수가 요구되는 디스플레이의 용도로써는 적합하지 않으며, 이에 대한 해결책에 대하여도 제시하지 못하고 있다.However, although a product having excellent gas barrier properties can be obtained by the above method, it is not suitable for use of a display requiring a low coefficient of linear expansion, and it does not provide a solution.

미국 등록특허 제6,465,953호에서는 산소와 수증기에 민감한 유기 발광 기기에 플라스틱 기판을 사용하기 위해, 유입되는 산소 및 수증기와 반응할 수 있는 게터 입자들을 플라스틱 기판에 분산시키는 방법을 제시하였다. 게터 입자들의 크기는 발광되는 특정 파장의 크기보다 충분히 작고 분산이 골고루 되어 발광되는 빛이 산란되지 않고 기판을 투과할 수 있어야 한다. 또한, 이러한 방법은 플라스틱 기판에 무기물로 이루어진 가스 배리어막을 코팅함으로써 유입되는 산소와 수증기의 양을 최소화하고자 하였다. 그러나, 이러한 방법은 100 내지 200 nm 크기의 나노 입자를 골고루 분산시켜서 기판을 제조하기 어렵고 산소 및 수증기와 반응할 수 있는 게터 입자들을 다량 함유시키기 위해 플라스틱 기판의 두께가 두꺼워야 하며 플라스틱 기판 위에 무기물 가스 배리어막이 직접 코팅되기 때문에, 온도 변화에 의해 가스 배리어막에 크랙이나 박리가 일어날 가능성이 많다.US Patent No. 6,465,953 discloses a method for dispersing getter particles that can react with incoming oxygen and water vapor on a plastic substrate in order to use the plastic substrate in an organic light emitting device sensitive to oxygen and water vapor. The size of the getter particles should be sufficiently smaller than the size of the particular wavelength to be emitted, and the dispersion should be evenly distributed so that the emitted light can pass through the substrate without being scattered. In addition, this method was intended to minimize the amount of oxygen and water vapor introduced by coating a gas barrier film made of an inorganic material on the plastic substrate. However, this method is difficult to manufacture a substrate by uniformly dispersing nanoparticles of 100 to 200 nm in size, and the thickness of the plastic substrate must be thick to contain a large amount of getter particles that can react with oxygen and water vapor and the inorganic gas on the plastic substrate. Since the barrier film is directly coated, there is a high possibility that cracks or peeling will occur on the gas barrier film due to temperature changes.

미국 등록특허 제6,322,860호에서는 반응 압출하여 제조한 1 mm 두께 이내의 폴리글루타이미드 시트의 한쪽면 또는 양면에 경우에 따라 실리카 입자 등을 포함하는 가교가 가능한 조성물(다관능기 아크릴레이트계 모노머 또는 올리고머, 알콕시실란 등과 이들의 혼합물)을 코팅한 후 이를 광경화 또는 열경화시켜 가교 코팅막을 제조하고, 그 위에 가스 배리어막을 코팅한 후, 경우에 따라 다시 가교 코팅막을 배리어막에 코팅하여 표시장치용 플라스틱 기판을 제조한 바 있다. 그러나, 이러한 방법은 몇몇 특수한 경우에만 산소투과율과 수증기 투과율이 액정 표시장치에 이용할 수 있을 정도로 작을 뿐, 유리 대체용 기판으로 사용하기 위해 필수적으로 요구되는 낮은 선팽창 계수 및 우수한 치수안정성에 대해서는 여전히 개선되지 않았다.U.S. Patent No. 6,322,860 discloses a crosslinkable composition comprising a silica particle or the like on one side or both sides of a polyglutamide sheet within 1 mm thickness prepared by reaction extrusion (a polyfunctional acrylate monomer or oligomer). , Alkoxysilane, and mixtures thereof), followed by photocuring or thermosetting, to prepare a crosslinked coating film, coating a gas barrier film thereon, and optionally coating the crosslinking coating film on the barrier film to display plastics for display devices. The substrate was manufactured. However, this method is only small enough that the oxygen and water vapor transmission rates can be used for liquid crystal displays in some special cases, and still does not improve on the low linear expansion coefficient and excellent dimensional stability required for use as glass replacement substrates. Did.

미국 등록특허 제6,503,634호에는 유기-무기 하이브리드인 ORMOCER와 산화규소층을 한 고분자 기재 위에 또는 두 고분자 기재의 가운데 층에 코팅하여 산소 투과율이 코팅하기 전의 고분자 기재의 1/30 이하, 수증기 투과율이 코팅하기 전의 고분자 기재의 1/40 이하인 다층 필름을 제시하였다. 그러나, 이러한 방법은 산소, 수증기 투과율이 코팅하기 전의 고분자 기재에 비해 상당히 감소하여 포장재의 재료로 사용될 수 있는 가능성을 제시하였으나, 선팽창계수 및 치수안정성 개선에 대한 언급은 없다.US Patent No. 6,503,634 discloses an organic-inorganic hybrid ORMOCER and a silicon oxide layer coated on one polymer substrate or in the middle layer of two polymer substrates, which are 1/30 or less of the polymer substrate before the oxygen permeability coating, and the water vapor transmission rate. The multilayer film which is 1/40 or less of the polymer base material before is shown. However, this method presented a possibility that oxygen, water vapor transmission rate can be significantly reduced compared to the polymer base material before coating, and can be used as a packaging material, but there is no mention of improving the coefficient of linear expansion and dimensional stability.

따라서, 본 발명은 낮은 선팽창 계수, 탁월한 치수 안정성, 및 우수한 가스 배리어성을 동시에 만족하며, 또한 층간의 선팽창계수의 차이에 기인한 문제점이 없으면서 내화학성이 더욱 향상된 다층 플라스틱 기판 및 그 제조 방법을 제공하고자 함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention provides a multilayer plastic substrate and a method of manufacturing the same, which satisfy both low linear expansion coefficient, excellent dimensional stability, and excellent gas barrier property, and further improve chemical resistance without problems due to the difference in coefficient of linear expansion between layers. The purpose is to.

상기의 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 접합된 2장의 플라스틱 필름 양면에 각각 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층과; 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 각 상면에 적층되되, 순서에 관계없이 1회 이상 반복하여 적층되는 가스 배리어층 및 폴리실라잔층과; 상기 가스 배리어층 또는 폴리실라잔층의 각 상면에 적층되는 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 포함하는 대칭구조의 다층 플라스틱 기판을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention, the first organic or organic-inorganic hybrid layer on each of the two bonded plastic film; A gas barrier layer and a polysilazane layer stacked on each top surface of the first organic or organic-inorganic hybrid layer and repeatedly stacked one or more times in any order; Provided is a symmetrical multilayer plastic substrate comprising a second organic or organic-inorganic hybrid layer laminated on each top surface of the gas barrier layer or polysilazane layer.

또한, 상기의 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은,In addition, the present invention to achieve the above other technical problem,

(a) 플라스틱 필름의 한쪽 면에 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 형성용 조성물을 코팅하고 경화하여 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 형성하는 단계;(a) coating and curing the composition for forming an organic or organic-inorganic hybrid layer on one side of the plastic film to form a first organic or organic-inorganic hybrid layer;

(b) 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 상면에, 가스 배리어층과, 폴리실라잔층을 순서에 관계없이 적어도 1회 이상 반복하여 다층 필름을 형성하는 단계; (b) forming a multi-layer film on the upper surface of the first organic or organic-inorganic hybrid layer by repeating the gas barrier layer and the polysilazane layer at least once in any order;

(c) 상기 다층 필름의 상부 전면에 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 형성용 조성물을 코팅하고 경화하여 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 형성하는 단계;(c) forming a second organic or organic-inorganic hybrid layer by coating and curing an organic or organic-inorganic hybrid layer-forming composition on the entire upper surface of the multilayer film;

(d) 상기 단계 (a) 내지 (c)의 과정을 반복하여 상기 단계 (c)와 동일한 구조의 다층 필름을 1종 더 제조하는 단계; 및(d) repeating the steps (a) to (c) to prepare one more multilayer film having the same structure as in step (c); And

(e) 상기 단계 (c) 및 (d)에서 제조한 각 다층 필름의 층이 형성되지 않은 각각의 플라스틱 필름 면을 서로 접합하여 대칭 구조를 형성하는 단계(e) bonding the surfaces of each of the plastic films on which the layers of each of the multilayer films prepared in steps (c) and (d) are not formed to each other to form a symmetrical structure;

를 포함하는 내화학성이 향상된 다층 플라스틱 기판의 제조 방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing a multilayer plastic substrate having improved chemical resistance comprising a.

이하, 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 내화학성이 향상된 다층 플라스틱 기판은, 접합된 2장의 플라스틱 필름을 중심으로, 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층과; 순서에 관계없이 적어도 1회 이상 반복 적층되는 가스 배리어층 및 폴리실라잔층과; 제2의 유기 또는 유기-무기 하이브리드층이 순차 적층되어 대칭적인 다층 구조를 갖는다.The multilayer plastic substrate of the present invention has improved chemical resistance, comprising: a first organic or organic-inorganic hybrid layer centered on two bonded plastic films; A gas barrier layer and a polysilazane layer that are repeatedly stacked at least once in any order; Second organic or organic-inorganic hybrid layers are sequentially stacked to have a symmetrical multilayer structure.

본 발명은 상기 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을, 상기 플라스틱 필름과, 상기 가스 배리어층 및 폴리실라잔층을 순서에 관계없이 1회 이상 반복 적층시켜 형성한 다층 필름과의 사이에 위치시키고, 또한 상기 다층 필름의 상부 전면에 각각 위치시켜 층간 선팽창계수 차이를 최소화하고 층간 접착력을 향상시킨다.The present invention is to position the organic or organic-inorganic hybrid layer between the plastic film and the multilayer film formed by repeatedly laminating the gas barrier layer and the polysilazane layer one or more times in any order. Positioned on the upper front of the multilayer film, respectively, to minimize the difference in the inter-layer coefficient of expansion and improve the adhesion between the layers.

상기 플라스틱 필름은 단일 고분자, 2 종 이상의 고분자 블렌드, 및 유기 또는 무기 첨가물이 함유된 고분자 복합 재료로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용할 수 있다.The plastic film may be used by selecting one or more from the group consisting of a single polymer, two or more polymer blends, and a polymer composite material containing an organic or inorganic additive.

상기 고분자의 바람직한 일례로, 본 발명의 플라스틱 기판이 액정 표시 장치의 기판으로 사용되는 경우, 박막 트랜지스터와 투명 전극을 형성하는 제조 공정이 200 ℃ 이상의 고온에서 이루어지기 때문에 이러한 고온에 견딜 수 있는 고 내열성을 가지는 고분자가 요구된다. 상기한 특성을 가지는 고분자로는 폴리노보넨, 아로마틱 플로렌 폴리에스테르, 폴리에테르설폰, 비스페놀에이폴리설폰, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 또한, 최근의 고온 기판 공정 온도를 저온으로 내리는 연구가 진행되면서 150 ℃ 부근의 온도까지 사용할 수 있는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈렌, 폴리아릴레이트, 폴리카보네이트, 환상형 올레핀 공중합체 등의 고분자를 사용할 수 있다.As a preferable example of the polymer, when the plastic substrate of the present invention is used as a substrate of the liquid crystal display device, since the manufacturing process for forming the thin film transistor and the transparent electrode is performed at a high temperature of 200 ° C or higher, high heat resistance that can withstand such high temperature A polymer having is required. Examples of the polymer having the above-mentioned properties include polynorbornene, aromatic florene polyester, polyethersulfone, bisphenol A polysulfone, polyimide and the like. In addition, as the recent research on lowering the temperature of high temperature substrate process is progressing, polymers such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalene, polyarylate, polycarbonate, and cyclic olefin copolymer which can be used up to a temperature of around 150 ° C can be used. have.

또한, 상기 플라스틱 필름으로는 고분자에 나노 물질을 분산시킨 것으로, 유기 또는 무기 첨가물이 함유된 고분자 복합 재료를 사용할 수도 있다.In addition, as the plastic film, a nanomaterial is dispersed in a polymer, and a polymer composite material containing an organic or inorganic additive may be used.

상기 고분자 복합 재료로는 클레이 나노 물질이 고분자 매트릭스에 분산된 폴리머-클레이 나노 복합체를 들 수 있다. 상기 폴리머-클레이 나노 복합체는 클레이의 작은 입자 크기(< 1 ㎛)와 큰 종횡비의 특성으로 인해 기존에 사용되던 유리 섬유 등의 복합체에 비해 적은 양의 클레이로 고분자의 기계적 물성, 내열성, 가스 배리어성, 치수안정성 등의 물성을 향상시킬 수 있다. 즉, 상기한 물성들을 향상시키기 위해서는 층상 구조의 클레이 층을 벗겨내어 고분자 매트릭스에 잘 분산시키는 것이 중요한데, 이를 만족하는 것이 상기 폴리머-클레이 나노 복합체이다.The polymer composite material may include a polymer-clay nanocomposite in which clay nanomaterials are dispersed in a polymer matrix. The polymer-clay nanocomposite has a smaller amount of clay than a conventional composite such as glass fiber due to the small particle size (<1 μm) and the large aspect ratio of the clay. And physical properties such as dimensional stability can be improved. That is, in order to improve the above properties, it is important to peel off the clay layer having a layered structure and disperse it well in the polymer matrix, and to satisfy this, the polymer-clay nanocomposite is satisfied.

상기 폴리머-클레이 나노 복합체에 사용될 수 있는 고분자로는 폴리스타이렌, 폴리메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈렌, 폴리아릴레이트, 폴리카보네이트, 환상형 올레핀 공중합체, 폴리노보넨, 아로마틱 플로렌 폴리에스테르, 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 에폭시레진, 다관능성아크릴레이트 등이 있으며, 클레이로는 라포나이트, 몬모릴로나이트, 메가디트 등을 사용할 수 있다.Polymers that can be used in the polymer-clay nanocomposite include polystyrene, polymethacrylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalene, polyarylate, polycarbonate, cyclic olefin copolymer, polynorbornene, aromatic florene polyester, Polyether sulfone, polyimide, epoxy resin, polyfunctional acrylate, and the like, and as the clay, laponite, montmorillonite, megadite and the like can be used.

상기 플라스틱 필름은 그 두께가 10 내지 2,000 ㎛ 의 필름 또는 시트 형태인 것이 바람직하다.The plastic film is preferably in the form of a film or sheet having a thickness of 10 to 2,000 ㎛.

본 발명의 다층 플라스틱 기판에 있어서, 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은 플라스틱 필름과 가스 배리어층 또는 폴리실라잔층 간의 큰 선팽창계수의 차이를 완화시키고, 유기물과 무기물의 조성을 적절히 조절함으로써 플라스틱 필름과 가스 배리어층 간의 접착력을 향상시킬 수 있는 역할을 한다. 또한, 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은 플라스틱 필름의 표면을 평탄화할 수 있어 가스 배리어 층의 증착시 형성되는 결함을 최소화할 수도 있다.In the multi-layered plastic substrate of the present invention, the first organic or organic-inorganic hybrid layer is a plastic material by mitigating the difference in the large coefficient of linear expansion between the plastic film and the gas barrier layer or the polysilazane layer and appropriately adjusting the composition of the organic and inorganic materials. It serves to improve the adhesion between the film and the gas barrier layer. In addition, the first organic or organic-inorganic hybrid layer may planarize the surface of the plastic film to minimize defects formed during deposition of the gas barrier layer.

본 발명의 다층 플라스틱 기판에 있어서, 상기 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은 가스 배리어층 또는 폴리실라잔층의 크랙을 방지하는 보호층의 역할을 할 뿐 아니라, 상기 가스 배리어층의 결함을 메꾸어 가스 배리어성을 더욱 향상시키는 역할을 한다. 또한, 투명 전도성 막의 형성시 우수한 평탄화 기능으로 인해 낮은 저항을 이룰 수 있는 역할도 할 수 있다.In the multilayer plastic substrate of the present invention, the second organic or organic-inorganic hybrid layer not only serves as a protective layer to prevent cracking of the gas barrier layer or the polysilazane layer, but also bridges the defect of the gas barrier layer. It serves to further improve gas barrier properties. In addition, it may also play a role in achieving low resistance due to the excellent planarization function in the formation of the transparent conductive film.

이때, 상기 제1 및 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은, 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 유기화합물의 모노머, 또는 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 중량평균분자량 100 이상 1,000 이하의 올리고머; 및 분자 내에 1개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 중량평균분자량 1,000 이상 500,000 이하의 유기화합물을 함유하는 코팅용 조성물을 UV 경화 단독으로, 또는 열경화 방법과 함께 사용하여 경화시켜 형성할 수 있다.In this case, the first and second organic or organic-inorganic hybrid layer is a monomer of an organic compound having two or more polymerizable unsaturated groups in a molecule, or a weight average molecular weight of 100 or more having 1,000 or more polymerizable unsaturated groups in a molecule The following oligomers; And a coating composition containing an organic compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 500,000 or less having one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, and cured by using UV curing alone or in combination with a thermosetting method.

또한, 상기 제1 및 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은, In addition, the first and second organic or organic-inorganic hybrid layer,

(A) 하기 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 유기실란 부분 가수분해물; 및/또는 (B) 하기 화학식 4로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 금속알콕사이드 부분 가수분해물을 UV 경화 단독으로, 또는 열경화 방법과 함께 사용하여 경화시켜 형성할 수 있다.(A) an organosilane partial hydrolyzate selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (1) to (3); And / or (B) at least one metal alkoxide partial hydrolyzate selected from the group consisting of compounds represented by the following formula (4) may be formed by curing by using UV curing alone or in combination with a thermosetting method.

(R1)m-Si-X(4-m) (R 1 ) m -Si-X (4-m)

(R1)m-O-Si-X(4-m) (R 1 ) m -O-Si-X (4-m)

(R1)m-N(R2)-Si-X(4-m) (R 1 ) m -N (R 2 ) -Si-X (4-m)

M-(R3)z M- (R 3 ) z

상기 화학식 1 내지 화학식 3에서, In Chemical Formulas 1 to 3,

X는 서로 같거나 다를 수 있으며, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 아실옥시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 또는 -N(R2)2이고, X may be the same or different from each other, hydrogen, halogen, alkoxy, acyloxy, alkylcarbonyl, alkoxycarbonyl, or -N (R 2 ) 2 having 1 to 12 carbon atoms,

R1은 서로 같거나 다를 수 있으며, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아릴알킬, 알킬아릴, 아릴알케닐, 알케닐아릴, 아릴알키닐, 알키닐아릴, 할로겐, 아마이드, 알데하이드, 케톤, 알킬카보닐, 카복시, 머캅토, 시아노, 하이드록시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시카보닐, 설폰산, 인산, 아크릴옥시, 메타크릴옥시, 에폭시, 또는 비닐기이며, R 1 may be the same or different from each other, alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, arylalkyl, alkylaryl, arylalkenyl, alkenylaryl, arylalkynyl, alkynylaryl, halogen, amide having 1 to 12 carbon atoms , Aldehydes, ketones, alkylcarbonyl, carboxy, mercapto, cyano, hydroxy, alkoxycarbon having 1 to 12 carbon atoms, alkoxycarbonyl having 1 to 12 carbon atoms, sulfonic acid, phosphoric acid, acryloxy, methacrylicoxy, epoxy, Or vinyl group,

R2는 수소, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이고, R 2 is hydrogen or alkyl having 1 to 12 carbon atoms,

m은 1 내지 3의 정수이고,m is an integer of 1 to 3,

상기 화학식 4에서, In Chemical Formula 4,

M은 알루미늄, 지르코늄, 및 티타늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 나타내며, M represents a metal selected from the group consisting of aluminum, zirconium, and titanium,

R3은 서로 같거나 다를 수 있으며, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알콕시, 아실옥시, 또는 하이드록시기이며, R 3 may be the same as or different from each other, and is a halogen, an alkyl, alkoxy, acyloxy, or hydroxy group having 1 to 12 carbon atoms,

Z는 3 또는 4의 정수이다.Z is an integer of 3 or 4.

상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층과, 상기 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 각각의 두께는 크게는 0.1 내지 50㎛, 작게는 0.1~20㎛로 사용할 수 있으며, 0.1~10㎛인 것이 바람직하다. 상기한 범위에서 핀홀 결함으로 인한 장애를 용이하게 극복할 수 있으며, 표면 요철 형성이 용이할 수 있다. Each of the first organic or organic-inorganic hybrid layer and the second organic or organic-inorganic hybrid layer may have a thickness of 0.1 to 50 μm, 0.1 to 20 μm, and 0.1 to 10 μm. It is preferable that it is micrometer. In the above range, the obstacle due to the pinhole defect may be easily overcome, and surface irregularities may be easily formed.

본 발명의 다층 플라스틱 기판에 있어서, 상기 가스 배리어층은 산소와 수증기 등의 가스를 차단할 수 있는 것으로서, 작은 선팽창 계수를 가지는 고밀도 무기물 층인 것이 바람직하다. In the multilayer plastic substrate of the present invention, the gas barrier layer can block gases such as oxygen and water vapor, and is preferably a high density inorganic layer having a small coefficient of linear expansion.

상기 가스 배리어층은 예컨데, SiOx(여기서, x는 1 내지 4의 정수), SiOxNy(여기서, x 및 y는 각각 1 내지 3의 정수), Al2O3, 및 ITO로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 무기물로부터 형성된 것이 바람직하다.The gas barrier layer is, for example, a group consisting of SiO x (where x is an integer of 1 to 4), SiO x N y (where x and y are each an integer of 1 to 3), Al 2 O 3 , and ITO It is preferred that it is formed from one or more inorganic substances selected from.

이때, 상기 가스 배리어층은 그 두께가 5 내지 1,000nm 혹은 10~500nm로 사용할 수 있으며, 20~300nm인 것이 가장 바람직하다. 상기한 범위에서 산화규소를 포함한 층상 산란체의 분산 상태가 충분하고, 가스 배리어층의 균질성이 확보될 수 있으며, 가스 배리어성 발현 및 취급 시의 크랙의 발생을 방지할 수 있다.In this case, the thickness of the gas barrier layer may be 5 to 1,000 nm or 10 to 500 nm, most preferably 20 to 300 nm. In the above-described range, the dispersed state of the layered scatterer including silicon oxide is sufficient, homogeneity of the gas barrier layer can be ensured, and the occurrence of gas barrier properties and cracks during handling can be prevented.

본 발명의 다층 플라스틱 기판에 있어서, 상기 폴리실라잔층은 하기 화학식 5로 표시되는 퍼하이드로폴리실라잔; 및 하기 화학식 6으로 표시되는 유기폴리실라잔과 화학식 7로 표시되는 유기폴리실라잔 중 적어도 어느 하나를 가교하여 형성된 것이 바람직하다.In the multilayer plastic substrate of the present invention, the polysilazane layer may include perhydropolysilazane represented by Chemical Formula 5; And at least one of an organopolysilazane represented by Formula 6 and an organopolysilazane represented by Formula 7.

Figure 112006055964975-pat00001
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Figure 112006055964975-pat00002
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Figure 112006055964975-pat00003
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상기 화학식 5에서, n은 양의 정수이다. In Formula 5, n is a positive integer.

상기 화학식 6에서, n은 양의 정수, R4, R5, 및 R6는 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 탄소수 1 내지 12의 알킬시릴, 탄소수 1 내지 12의 알킬아미노, 탄소수 1 내지 12의 사이클로알킬, 탄소수 1 내지 12의 알케닐, 및 탄소수 1 내지 12의 알릴로부터 선택된다. In Formula 6, n is a positive integer, R 4 , R 5 , and R 6 is hydrogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, alkoxy of 1 to 12 carbon atoms, alkylsilyl of 1 to 12 carbon atoms, of 1 to 12 carbon atoms Alkylamino, cycloalkyl having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl having 1 to 12 carbon atoms, and allyl having 1 to 12 carbon atoms.

상기 화학식 7에서, n, m은 양의 정수, R은 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.In Formula 7, n and m are positive integers, R is alkyl having 1 to 12 carbon atoms.

상기 폴리실라잔층은 그 두께가 5 내지 1,000 nm인 것이 바람직하다. 상기 두께가 5 nm 보다 얇을 경우에는, 높은 내스크레치성이 얻어지기 어려우며, 상기 두께가 1,000 nm 보다 두꺼울 경우에는, 피복층의 수축에 의한 기판의 컬링 문제가 있다.The polysilazane layer preferably has a thickness of 5 to 1,000 nm. When the thickness is thinner than 5 nm, high scratch resistance is hardly obtained, and when the thickness is thicker than 1,000 nm, there is a problem of curling of the substrate due to shrinkage of the coating layer.

이하, 발명의 다층 플라스틱 기판을 제조하는 방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같으나, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, a method of manufacturing the multilayer plastic substrate of the present invention will be described in detail as follows, but the scope of the present invention is not limited thereto.

먼저, 플라스틱 필름을 준비한다.First, a plastic film is prepared.

본 발명의 다층 플라스틱 기판에서 플라스틱 필름은 그 두께가 10 내지 2,000 ㎛의 필름 또는 시트 형태인 것이 바람직하다. In the multilayer plastic substrate of the present invention, the plastic film is preferably in the form of a film or sheet having a thickness of 10 to 2,000 m.

상기 플라스틱 필름은 용액 캐스팅 방법이나 필름 압출 공정을 통해 제조될 수 있으며, 제조 후 온도에 따른 변형을 최소화하기 위해 유리 전이 온도 부근에서 수초에서 수분 간 짧게 어닐링하는 것이 좋다. 어닐링 이후에는 코팅성 및 접착성을 향상시키기 위해 플라스틱 필름 표면에 프라이머 코팅을 하거나 코로나, 산소 또는 이산화탄소를 사용한 플라즈마 처리, 자외선-오존 처리, 반응 기체를 유입한 이온빔 처리 방법 등으로 표면 처리를 할 수도 있다.The plastic film may be manufactured through a solution casting method or a film extrusion process, and may be briefly annealed for a few seconds to several minutes in the vicinity of the glass transition temperature in order to minimize deformation due to temperature after the manufacture. After annealing, primer coating may be applied to the surface of the plastic film to improve the coating property and adhesion, or the surface may be treated by plasma treatment using corona, oxygen or carbon dioxide, ultraviolet-ozone treatment, ion beam treatment with a reaction gas, or the like. have.

단계 (a)에서는, 상기 플라스틱 필름의 한쪽 면에 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 형성용 조성물을 코팅하고 경화하여 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 형성한다.In step (a), one side of the plastic film is coated with a composition for forming an organic or organic-inorganic hybrid layer and cured to form a first organic or organic-inorganic hybrid layer.

상기 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은 상술한 코팅용 조성물, (A) 상기 유기실란 부분 가수분해물, 및/또는 (B) 금속 알콕사이드 부분 가수분해물로 이루어지는 군에서 1종 이상 선택된 화합물로부터 제조될 수 있으며, 이때, 상기 화합물에 충진제, 및 용매를 추가적으로 첨가할 수 있다.The organic or organic-inorganic hybrid layer may be prepared from at least one compound selected from the group consisting of the coating composition described above, (A) the organosilane partial hydrolyzate, and / or (B) metal alkoxide partial hydrolyzate. In this case, a filler and a solvent may be additionally added to the compound.

상기 충진제는 금속, 유리분말, 다이아몬드분말, 실리콘옥사이드, 클레이, 칼슘포스페이트, 마그네슘포스페이트, 바륨설페이트, 알루미늄 플루오라이드, 칼슘실리케이트, 마그네슘 실리케이트, 바륨실리케이트, 바륨카보네이트, 바륨하이드록사이드, 및 알루미늄실리케이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용할 수 있다.The fillers are metal, glass powder, diamond powder, silicon oxide, clay, calcium phosphate, magnesium phosphate, barium sulfate, aluminum fluoride, calcium silicate, magnesium silicate, barium silicate, barium carbonate, barium hydroxide, and aluminum silicate. It can select and use 1 or more types from the group which consists of.

상기 용매는 통상의 부분 가수분해 반응에 사용되는 용매를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 증류수를 사용할 수 있다. 또한, 촉매를 사용할 수도 있으며, 특별히 한정되지는 않으나, 바람직하게는 알루미늄부톡사이드 및 지르코늄 프로폭 사이드를 사용할 수 있다.The solvent may be used a solvent used for a conventional partial hydrolysis reaction, preferably distilled water may be used. In addition, a catalyst may also be used, although not particularly limited, preferably aluminum butoxide and zirconium propoxide.

상기 충진제, 용매, 및 촉매의 사용량은 필요에 따라 첨가되는 것으로서 특별히 한정되지는 않는다.The amount of the filler, the solvent, and the catalyst used is not particularly limited as it is added as needed.

본 발명에서 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 표면의 평탄도 Ra(average of roughness)는 매우 중요한데, 상기 층이 평탄하지 않으면 배리어층이 증착될 때 결함이 발생하고, 결국 배리어성이 나오지 않는 결과를 초래한다. 따라서, 평탄도의 값은 낮으면 낮을수록 배리어성이 증가하는 결과를 나타낸다. In the present invention, the flatness of roughness (Ra) of the surface of the first organic or organic-inorganic hybrid layer is very important. If the layer is not flat, defects occur when the barrier layer is deposited, and thus barrier property does not come out. Results. Therefore, the lower the flatness value, the higher the barrier property.

본 발명에서는 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 표면 평탄도는 1 nm 내외가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 nm 이내의 평탄도가 좋다. 구체적으로, 평탄도는 0.1 내지 1.2의 Ra 값을 가질 수 있다.In the present invention, the surface flatness of the first organic or organic-inorganic hybrid layer is preferably about 1 nm, more preferably 1 nm or less. Specifically, the flatness may have a Ra value of 0.1 to 1.2.

단계 (b)에서는, 상기 단계 (a)에서 제조된 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 상면에, 무기물이 증착된 가스 배리어층과 폴리실라잔층을 순서에 관계없이 1회 이상 반복하여 다층 필름을 형성한다.In step (b), the gas barrier layer and the polysilazane layer on which the inorganic material is deposited are repeated on the upper surface of the first organic or organic-inorganic hybrid layer prepared in step (a) one or more times in any order. Form a film.

상기 단계 (a)에서 제조된 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 위에 형성될 수 있는 무기물층인 가스 배리어층을 적층하면 무기물층과 상기 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 사이의 접착력이 우수하고, 무기물층에 의해 가스 배리어 특성이 향상되며 무기물층 자체의 모듈러스가 높고 선팽창계수가 작기 때문에 전체 기판의 기계적 특성 또한 향상시킬 수 있다.When the gas barrier layer, which is an inorganic material layer that may be formed on the first organic or organic-inorganic hybrid layer prepared in step (a), is laminated, the adhesion between the inorganic material layer and the organic or organic-inorganic hybrid layer is excellent. The gas barrier properties are improved by the inorganic layer, and the mechanical properties of the entire substrate can also be improved because the modulus of the inorganic layer itself is high and the coefficient of linear expansion is small.

상기 가스 배리어층을 형성하는 방법은 플라스틱 필름 자체의 산소 투과도와 수증기 투과도가 대개 수십에서 수천 단위의 값을 가지기 때문에, 밀도가 높은 투 명 무기물이나 나노미터 단위의 얇은 금속 박막을 고분자 필름 위에 물리적 또는 화학적 방법으로 증착 코팅하여 산소와 수증기를 차단하는 방법이 사용될 수 있다. The method of forming the gas barrier layer is because the oxygen permeability and the water vapor permeability of the plastic film itself usually have a value of several tens to thousands of units. Chemical vapor deposition may be used to block oxygen and water vapor by coating.

이때, 투명 무기 산화 박막의 경우 핀홀이나 크랙 등의 결함이 존재하면 충분한 산소 및 수증기 차단 효과를 얻기 어렵고, 얇은 금속 박막의 경우에는 결점이 없는 수 나노미터 두께의 균일한 박막을 얻기 힘들 뿐 아니라, 가시광선 영역의 광투과도가 80 %를 넘기 어려운 단점이 있다. 이 때문에, 상기 방법을 통해 형성된 가스 배리어층의 두께는 5 내지 1,000 nm, 바람직하게는 10 내지 500 nm, 보다 바람직하게는 20 내지 300 nm인 것이 좋다. In this case, in the case of a transparent inorganic oxide thin film, if a defect such as a pinhole or crack is present, it is difficult to obtain sufficient oxygen and water vapor blocking effects, and in the case of a thin metal thin film, it is difficult to obtain a uniform thin film having a few nanometers thickness without defects. The light transmittance in the visible light region is difficult to exceed 80%. For this reason, the thickness of the gas barrier layer formed through the above method is preferably 5 to 1,000 nm, preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 to 300 nm.

상기 무기물로는 SiOx(여기서, x는 1 내지 4의 정수), SiOxNy(여기서, x 및 y는 각각 1 내지 3의 정수), Al2O3, 및 ITO로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 산화 금속이나 질화 금속을 사용할 수 있다. The inorganic material may be one selected from the group consisting of SiO x (where x is an integer of 1 to 4), SiO x N y (where x and y are each an integer of 1 to 3), Al 2 O 3 , and ITO The metal oxide or metal nitride selected above can be used.

상기 증착 코팅 방법으로는 스퍼터링법, 화학 증착법, 이온 플레이팅법, 플라즈마 화학 증착법, 졸-겔법 등을 사용할 수 있다.As the deposition coating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, an ion plating method, a plasma chemical vapor deposition method, a sol-gel method, or the like can be used.

상기 배리어층 위에 형성될 수 있는 폴리실라잔층은 상술한 바와 같은, 화학식 5로 표시되는 퍼하이드로폴리실라잔; 및 상기 화학식 6 또는 화학식 7로 표시되는 유기폴리실라잔을 가교하여 형성될 수 있다.The polysilazane layer which may be formed on the barrier layer may include perhydropolysilazane represented by Chemical Formula 5 as described above; And it may be formed by crosslinking the organopolysilazane represented by the formula (6) or (7).

상기 폴리실라잔층은 바람직하게는, 상기 퍼하이드로폴리실라잔, 및 유기폴리실라잔을 100/0 내지 50/50의 중량비로 배합한 조성물에 대하여 300 ℃ 이하의 온도와, 50 % 이상의 상대 습도 하에서 가교하여 형성한 것이다. 상기한 범위에서 밀도 높은 층을 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 평탄화에 기여하는 피복층을 형성할 수 있게 된다. 이때, 추가적으로 상압 이하에서 산소를 이용한 플라즈마 처리를 수행할 수 있다.The polysilazane layer is preferably, at a temperature of 300 ° C. or less and a relative humidity of 50% or less with respect to the composition in which the perhydropolysilazane and the organopolysilazane are blended in a weight ratio of 100/0 to 50/50. It is formed by crosslinking. In addition to forming a dense layer in the above-described range, it is possible to form a coating layer that contributes to planarization. In this case, plasma treatment using oxygen may be additionally performed at atmospheric pressure or lower.

상기 폴리실라잔층의 가교 반응을 촉진시키기 위한 촉매로서, 1-메틸피페라진, 1-메틸피페리딘, 4,4'-트리메틸렌디피페리딘, 4,4'-트리메틸렌비스(1-메틸피페리딘), 디아자비사이클로-[2,2,2]옥탄, 시스-2-6-디메틸피페라진, 4-(4-메틸피페리진)피리딘, 피리딘, 디피리딘, α-피콜린, β-피콜린, γ-피콜린, 피페리딘, 루티딘, 피리미딘, 피리다진, 4,4'-트리메틸렌디피리딘, 2-(메틸아미노)피리딘, 피라진, 퀴놀린, 퀴녹살린, 트리아진, 피롤, 3-피롤린, 이미다졸, 트리아졸, 또는 1-메틸피롤리딘의 N-헤테로사이클릭 화합물; 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 프로필아민, 디프로필아민, 디헵틸아민, 옥틸아민, 디옥틸아민, 트리옥틸아민, 페닐아민, 디페닐아민, 또는 트리페닐아민의 아민류; 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]7-운데센, 1,5-디아자비사이클로[4,3,0]5-노넨, 1,5,9-트리아자사이클로도데칸, 및 1,4,7-트리아자사이클로노난으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택하여 사용할 수 있으며, 그 사용량은 생성물의 성질을 본질적으로 손상하지 않는 범위로서, 상기 폴리실라잔에 대하여 0.5 내지 10 중량부로 배합하여 사용하는 것이 바람직하다. As a catalyst for promoting the crosslinking reaction of the polysilazane layer, 1-methylpiperazine, 1-methylpiperidine, 4,4'-trimethylenedipiperidine, 4,4'-trimethylenebis (1-methyl Piperidine), diazabicyclo- [2,2,2] octane, cis-2-6-dimethylpiperazine, 4- (4-methylpiperizine) pyridine, pyridine, dipyridine, α-picoline, β -Picoline, γ-picoline, piperidine, lutidine, pyrimidine, pyridazine, 4,4'-trimethylenedipyridine, 2- (methylamino) pyridine, pyrazine, quinoline, quinoxaline, triazine, N-heterocyclic compounds of pyrrole, 3-pyrroline, imidazole, triazole, or 1-methylpyrrolidine; Methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, diheptylamine, octylamine, dioctylamine, trioctylamine, phenylamine, diphenylamine, or Amines of triphenylamine; 1,8-diazabicyclo [5,4,0] 7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] 5-nonene, 1,5,9-triazacyclododecane, and It can be used by selecting one or more from the group consisting of 1,4,7-triazacyclononane, the amount of use is in the range that does not substantially impair the properties of the product, blended in 0.5 to 10 parts by weight relative to the polysilazane It is preferable to use.

상기와 같이 폴리실라잔층은 그 두께가 5 내지 1,000 nm인 것이 바람직하다. 상기 두께가 5 nm 보다 얇을 경우에는, 높은 내스크레치성이 얻어지기 어려우며, 상기 두께가 1,000 nm 보다 두꺼울 경우에는, 피복층의 체적 수축에 의한 기판의 컬링이 발생할 문제가 있다.As described above, the polysilazane layer preferably has a thickness of 5 to 1,000 nm. When the thickness is thinner than 5 nm, high scratch resistance is hardly obtained, and when the thickness is thicker than 1,000 nm, curling of the substrate due to volume shrinkage of the coating layer occurs.

단계 (c)에서는, 상기 단계 (b)에서 제조된 다층 필름의 상면에 유기 또는 유기-무기 하이브리드층 형성용 조성물을 코팅하고 경화하여 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 형성한다.In step (c), the organic or organic-inorganic hybrid layer-forming composition is coated and cured on the upper surface of the multilayer film prepared in step (b) to form a second organic or organic-inorganic hybrid layer.

상기 단계 (b)에서 제조된 가스 배리어층, 및 폴리실라잔층으로 구성된 다층 필름 위에 형성되는 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은 상기 다층 필름에 크랙이 발생할 수 있는 가능성을 최소화하고 표면에 사용되어 다층 플라스틱 필름에 내화학성과 내스크레치성을 부여한다. The second organic or organic-inorganic hybrid layer formed on the multilayer film composed of the gas barrier layer prepared in step (b) and the polysilazane layer is used on the surface to minimize the possibility of cracking in the multilayer film. To impart chemical resistance and scratch resistance to the multilayer plastic film.

또한, 본 발명에서는 무기물 층에 존재할 수 있는 핀홀, 크랙 등의 결함 부분에서 무기물 층의 하이드록시기와 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 하이드록시기 간에 수화반응이 일어나서 무기물 층의 결함을 치유하여 가스 배리어성을 더욱 향상시킬 수 있다. In addition, in the present invention, a hydration reaction occurs between the hydroxyl group of the inorganic layer and the hydroxyl group of the organic or organic-inorganic hybrid layer at a defective portion such as pinholes or cracks that may be present in the inorganic layer to heal the defect of the inorganic layer, thereby preventing the gas barrier. The sex can be further improved.

상기 가스 배리어층(무기물층) 또는 폴리실라잔층 위에 적층되는 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 조성물은 상기 플라스틱 필름 위에 코팅되는 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 조성물과 같지만, 코팅용 조성물, 유기실란, 및 금속알콕사이드, 충진제의 비율과 코팅되는 두께는 경우에 따라 다를 수도 있다.The composition of the second organic or organic-inorganic hybrid layer laminated on the gas barrier layer (inorganic layer) or polysilazane layer is the same as the composition of the first organic or organic-inorganic hybrid layer coated on the plastic film, but the coating The composition and organosilane, the metal alkoxide, and the proportion of the filler and the thickness to be coated may vary depending on the case.

상기 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 형성 방법은 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 형성 방법과 동일한 방법으로 졸 상태의 용액을 스핀코팅, 롤코팅, 바코팅, 딥코팅, 그라비어 코팅, 스프레이 코팅 등의 방법으로 고분자 필름에 코팅하고, 열경화, UV 경화, 적외선 경화, 고주파 열처리 방법으로 경화하여 제조할 수 있으며, 경화 후의 두께는 0.1 내지 50㎛, 바람직하게는 0.1 내지 10㎛, 보다 바람직하게는 1 내지 10㎛이다. 상기한 범위에서 내화학성 및 내스크레치성이 우수하며, 상기 가스 배리어층 또는 폴리실라잔층의 크랙을 방지하는 보호층의 역할을 충분히 수행할 수 있다.The method of forming the second organic or organic-inorganic hybrid layer may be performed by spin coating, roll coating, bar coating, dip coating, sol solution in the same manner as the method of forming the first organic or organic-inorganic hybrid layer. Coating on the polymer film by a method such as gravure coating, spray coating, and can be prepared by curing by thermal curing, UV curing, infrared curing, high frequency heat treatment method, the thickness after curing is 0.1 to 50㎛, preferably 0.1 to 10 Μm, more preferably 1 to 10 µm. It is excellent in chemical resistance and scratch resistance in the above range, it can fully serve as a protective layer to prevent cracking of the gas barrier layer or polysilazane layer.

본 발명에서 상기 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 평탄도 역시 매우 중요한데, LCD 공정 혹은 OLED 공정에서 사용되는 ITO 같은 소자들이 제 2의 유기-무기 하이브리드 층에 직접 증착되므로, 이런 소자들은 평탄도가 높으면 전류가 집중되는 현상으로 제 기능을 할 수가 없다. 현재 추세는 LCD 보다는 차세대 디스플레이인 OLED에서 더 우수한 평탄도가 요구된다.The flatness of the second organic or organic-inorganic hybrid layer is also very important in the present invention, since devices such as ITO used in the LCD process or the OLED process are deposited directly on the second organic-inorganic hybrid layer. If the degree is high, the current is concentrated and cannot function properly. Current trends require better flatness in OLEDs, the next generation of displays rather than LCDs.

따라서, 본 발명은 이러한 조건을 만족할 수 있도록 상기 제2의 유기-무기 하이브리드층의 표면 평탄도 역시 1 nm 내외가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 nm 이내의 평탄도가 좋다. 구체적으로, 평탄도는 0.1 내지 1.2의 Ra 값을 가질 수 있다.Therefore, in the present invention, the surface flatness of the second organic-inorganic hybrid layer is also about 1 nm, and more preferably within 1 nm, so as to satisfy such conditions. Specifically, the flatness may have a Ra value of 0.1 to 1.2.

단계 (d)에서는, 대칭 구조의 다층 플라스틱 기판을 제조하기 위하여, 상기 단계 (a) 내지 (c)의 과정을 반복하여 상기 단계 (c)와 동일한 구조의 다층 필름을 1종 더 제작한다.In step (d), in order to manufacture a multilayer plastic substrate having a symmetrical structure, the above steps (a) to (c) are repeated to produce one more multilayer film having the same structure as in step (c).

단계 (e)에서는, 상기 단계 (c) 및 (d)에서 제조한 각 다층 필름의 층이 형성되지 않은 각각의 플라스틱 필름 면을 서로 접합하여 대칭 구조를 형성한다.In step (e), the surfaces of the respective plastic film on which the layers of each of the multilayer films prepared in steps (c) and (d) are not formed are bonded to each other to form a symmetrical structure.

상기 일면이 코팅되지 않은 다층 플라스틱 필름 간의 접합은 통상 접착제로 사용되는 아크릴계 접착제 또는 열접합 방법에 의해 이루어질 수 있으며, 이에 반드시 한정되는 것은 아니다. 이때, 접착제를 사용할 경우, 그 함량은 특별히 한정되지는 않으나, 형성된 접착층의 두께는 0초과 50㎛이하, 바람직하게는 0초과 10㎛이하, 더욱 바람직하게는 0초과 5㎛이하인 것이 좋다.Bonding between the multi-layered plastic film not coated on one side may be made by an acrylic adhesive or a thermal bonding method that is usually used as an adhesive, but is not necessarily limited thereto. At this time, when the adhesive is used, the content is not particularly limited, but the thickness of the formed adhesive layer is greater than 0 and 50 µm or less, preferably 0 and 10 µm or less, and more preferably 0 and 5 µm or less.

이상과 같은, 본 발명의 다층 구조의 플라스틱 기판은 선팽창계수가 최대 6.5 ppm/K로 매우 작으며, 산소 투과율이 0.05 cc/㎡/day/atm 미만이고, 수증기 투과율이 0.005 g/㎡/day 미만으로서 우수한 가스 배리어성을 가지며 치수안정성도 우수하다. 따라서, 본 발명의 다층 플라스틱 기판은 종래 표시 장치 등에서 주로 사용되어오던 깨지기 쉽고 무거운 유리 기판을 대체할 수 있으며, 그 밖에 우수한 가스 배리어성이 요구되는 재질로도 사용될 수 있다.As described above, the plastic substrate of the multi-layered structure of the present invention has a very small linear expansion coefficient of 6.5 ppm / K, an oxygen transmission rate of less than 0.05 cc / m 2 / day / atm, and a water vapor transmission rate of less than 0.005 g / m 2 / day. It has excellent gas barrier property and excellent dimensional stability. Therefore, the multi-layered plastic substrate of the present invention can replace the fragile and heavy glass substrate that has been mainly used in conventional display devices, etc., and can also be used as a material requiring excellent gas barrier properties.

이하, 본 발명을 하기 실시예에 의하여 보다 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시되는 하기 실시예는 본 발명의 바람직한 최선의 실시예를 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예만으로 한정되거나 제한되지 않음은 물론이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by the following examples. However, the following examples presented to aid the understanding of the present invention are merely to illustrate the best preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples, of course.

<< 실시예Example 1> 1>

이축 연신 압출공정으로 양면 아크릴 프라이머 코팅하여 제조된 100 ㎛ 두께의 PET(Polyethyleneterephthalate, 상품명 SH38, ㈜ SK) 필름을 150 ℃ 대류 오븐에서 1 분간 열처리하여 잔류 응력을 제거한 후 플라스틱 필름으로 사용하였다.A 100 μm thick PET (Polyethyleneterephthalate, SH38, SK) film prepared by coating a double-sided acrylic primer by a biaxial stretching extrusion process was heat treated in a convection oven at 150 ° C. for 1 minute to remove residual stress, and then used as a plastic film.

유기 혹은 유기-무기 하이브리드층(115)을 형성하기 위한 개시물로는 전체 조성물에 대하여 테트라에톡시실란 32.5 중량부, 글리시딜옥시프로필트리메톡시실 란 64.0 중량부, 아미노프로필트리메톡시실란 0.5 중량부, 알루미늄부톡사이드 2.0 중량부, 및 지르코늄 프로폭사이드 1.0 중량부를 사용하였고, 여기에 증류수 80.0 중량부를 첨가하여 25 ℃에서 24 시간 동안 부분 가수분해 반응하여 졸 상태의 코팅 조성물을 제조하였다. 상기 조성물을 PET의 한쪽 면에 바 코팅하여 50 ℃에서 3분간 용매 건조 후 125 ℃의 대류 오븐에서 20 분 동안 젤 반응을 진행하였다. 젤 반응 후 알파 스테퍼로 측정한 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 두께는 1 ㎛이었다. Initiators for forming the organic or organic-inorganic hybrid layer 115 include 32.5 parts by weight of tetraethoxysilane, 64.0 parts by weight of glycidyloxypropyltrimethoxysilane, and aminopropyltrimethoxysilane, based on the total composition. 0.5 part by weight, 2.0 parts by weight of aluminum butoxide, and 1.0 part by weight of zirconium propoxide were used, and 80.0 parts by weight of distilled water was added thereto to partially hydrolyze at 25 ° C. for 24 hours to prepare a sol coating composition. The composition was bar-coated on one side of PET, and the solvent was dried at 50 ° C. for 3 minutes, followed by gel reaction for 20 minutes in a convection oven at 125 ° C. The thickness of the organic or organic-inorganic hybrid layer measured by alpha stepper after the gel reaction was 1 μm.

젤 반응이 끝난 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층(115) 위에 아텍시스템사의 DC/RF 마그네트론 스퍼터기를 사용하여 Ar 가스를 40 sccm, O2 가스를 10 sccm을 주입하고 5 mtorr의 압력 하에서 1000 Watt의 RF(13.56MHz) power로 7 분간 증착하여 가스 배리어층으로서 산화규소(SiOx, x=1.8의 정수) 박막(120)을 증착하였다. SEM으로 관찰한 산화규소막(120)의 두께는 20 nm이었다. 40 sccm of Ar gas and 10 sccm of O 2 gas are injected onto the organic or organic-inorganic hybrid layer 115 of the gel reaction using Atec Systems' DC / RF magnetron sputter, and 1000 Watt of RF is applied under a pressure of 5 mtorr. A silicon oxide (SiOx, integer of x = 1.8) thin film 120 was deposited as a gas barrier layer by vapor deposition at (13.56 MHz) power for 7 minutes. The thickness of the silicon oxide film 120 observed by SEM was 20 nm.

증착된 산화 규소 박막(120) 위에 다시 크실렌에 20 중량%로 용해된 퍼하이드로폴리실라잔과 0.15 중량%의 4,4'-트리메틸렌비스(1-메틸피페리딘)이 촉매로 혼합된 코팅액을 바 코팅하여 50 ℃에서 3 분간 용매 건조 후 상대습도 90 %의 항온항습기내에서 125 ℃하에 20 분간 가교반응을 진행한 후, 그 표면을 산소플라즈마 처리하였다. 가교반응이 끝난 후 알파 스텝퍼로 측정한 폴리실라잔 층(125)의 두께는 대략 1 ㎛이었다. A coating liquid mixed with a perhydropolysilazane dissolved in xylene at 20% by weight and 0.15% by weight of 4,4'-trimethylenebis (1-methylpiperidine) as a catalyst on the deposited silicon oxide thin film 120. After bar coating and drying the solvent at 50 ° C. for 3 minutes, the cross-linking reaction was carried out at 125 ° C. for 20 minutes in a constant temperature and humidity chamber of 90% relative humidity, and then the surface was subjected to oxygen plasma treatment. After completion of the crosslinking reaction, the thickness of the polysilazane layer 125 measured by alpha stepper was approximately 1 μm.

폴리실라잔층(125) 위에 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층(130)을 형 성하기 위해 상기 제조한 하이브리드 코팅 조성물을 바 코팅하여 50 ℃에서 3 분간 용매 건조 후 125 ℃의 대류 오븐에서 20 분 동안 젤 반응을 진행하였다. 젤 반응 후 알파 스테퍼로 측정한 유기-무기 하이브리드층의 두께는 1 ㎛이었다.In order to form the second organic or organic-inorganic hybrid layer 130 on the polysilazane layer 125, the coating composition prepared above was bar-coated, and the solvent was dried at 50 ° C. for 3 minutes, followed by 20 ° C in a convection oven at 125 ° C. The gel reaction proceeded for a minute. The thickness of the organic-inorganic hybrid layer measured by alpha stepper after the gel reaction was 1 μm.

상기의 과정을 반복하여 상기와 같은 다층 플라스틱 필름을 1종 더 제작하였다. 상기의 코팅되지 않은 플라스틱의 일면끼리 합지하고 열접합하여 도 2와 같은 대칭 구조의 다층 플라스틱 기판을 제작하였다.The above process was repeated to produce one more multilayer plastic film as described above. One side of the uncoated plastic was laminated and thermally bonded to prepare a multilayer plastic substrate having a symmetrical structure as shown in FIG. 2.

<< 실시예Example 2>  2>

실시예 1과 동일한 방식으로 다층 플라스틱 기판을 제작함에 있어서, 폴리실라잔층(125)과 가스 배리어층(120)의 순서만을 바꾸어 적층한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 도 3에서와 같은 대칭구조의 다층 플라스틱 기판을 제작하였다.In manufacturing the multi-layered plastic substrate in the same manner as in Example 1, except that the polysilazane layer 125 and the gas barrier layer 120 are stacked in the same manner as in Example 1, in FIG. A multilayer plastic substrate having a symmetrical structure as described above was manufactured.

<< 실시예Example 3> 3>

실시예 1과 동일한 방식으로 다층 플라스틱 기판을 제작함에 있어서, 폴리실라잔층을 형성한 이후에 무기 박막 가스 배리어층을 적층하는 과정을 순차적으로 2 회 반복 실시한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법에 의해, 도 4에서와 같은 대칭구조의 다층 플라스틱 기판을 제작하였다.In fabricating a multilayer plastic substrate in the same manner as in Example 1, except that the inorganic thin film gas barrier layer was sequentially repeated two times after the polysilazane layer was formed, in the same manner as in Example 1. As a result, a multilayer plastic substrate having a symmetrical structure as shown in FIG. 4 was produced.

<비교 <Comparison 실시예Example 1> 1>

실시예 1에서 증착된 산화 규소 박막(120) 위에 크실렌에 20 중량%로 용해된 퍼하이드로폴리실라잔만을 가교반응시켜 폴리실라잔층을 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 다층 플라스틱 기판을 제조하였다.The multilayer plastic substrate was formed in the same manner as in Example 1, except that the polysilazane layer was formed by crosslinking only perhydropolysilazane dissolved in xylene at 20 wt% on the silicon oxide thin film 120 deposited in Example 1. Was prepared.

<< 실험예Experimental Example >>

실시예 1~3 및 비교 실시예 1에 의해 제작된 다층 플라스틱 기판에 대해, 표시장치용 기판으로서의 주요 요구 물성인 광투과도, 헤이즈, 가스투과율을 측정하였다. 상기 각 물성 측정방법은 아래와 같으며 모든 실시예에 동일하게 적용하였다.About the multilayer plastic substrate produced by Examples 1-3 and Comparative Example 1, the light transmittance, haze, and gas transmittance which are main required physical properties as a board | substrate for display apparatuses were measured. The measurement method of each physical property is as follows and applied to all the same examples.

1) 광투과도: ASTM D1003에 근거하여 각각 Varian사의 UV-분광계를 사용하여 가시광선 영역인 380에서 780nm의 범위에서 측정하였다.1) Light transmittance: Based on ASTM D1003, each was measured in the visible light range of 380 to 780 nm using a Varian UV-spectrometry.

2) 헤이즈: Tokyo Denshoku사의 Hazemeter TC-H3DPK로 ASTM D1003의 방법으로 측정하였다.2) Haze: Hazemeter TC-H3DPK of Tokyo Denshoku was measured by the method of ASTM D1003.

3) 산소투과율: MOCON사의 OX-TRAN 2/20을 사용하여 ASTM D 3985의 방법으로 상온에서 0 %의 상대습도로 측정하였다.3) Oxygen Permeability: Using OX-TRAN 2/20 of MOCON, measured by relative humidity of 0% at room temperature by the method of ASTM D 3985.

4) 수증기 투과율: PERMATRAN-W-3/33을 사용하여 ASTM F 1249의 방법으로 100 %의 상대습도로 상온에서 48 시간 동안 측정하였다.4) Water vapor transmission rate: Using a PERMATRAN-W-3 / 33 was measured for 48 hours at room temperature with a relative humidity of 100% by the method of ASTM F 1249.

5) 연필경도 : 200 g의 하중 하에서 ASTM D3363의 방법으로 측정하였다.5) Pencil hardness: measured by the method of ASTM D3363 under a load of 200 g.

6) 내화학성 : 액정표시기판 장치 제작 공정 중 쓰이는 스트리퍼 용액에 제작된 플라스틱 기판을 80 ℃에서 30 분간 담지한 후, 상기 1)~5)의 물성을 재평가하여 그 편차가 1 %이내인 경우 우수로 표기하였다. 6) Chemical resistance: Excellent when the plastic substrate prepared in the stripper solution used in the liquid crystal display device manufacturing process is immersed at 80 ° C. for 30 minutes, and re-evaluated the properties of the above 1) to 5) and the deviation is within 1%. Indicated as.

기재된 모든 물성치는 통계적인 대표성을 가질 수 있도록 최소한 5 개 이상의 측정치에 대한 평균값을 나타내었다. 그 실험 결과를 하기 표 1에 나타내었다. All properties described are averaged for at least five measurements so that they can be statistically representative. The experimental results are shown in Table 1 below.

참고로, 실시예 1에 쓰인 PET 필름 자체의 산소, 및 수증기 투과율은 각각 25 cc/㎡/day/atm, 4.5 g/㎡/day이며, 선팽창계수는 22.4 ppm/K 이었다.For reference, the oxygen and water vapor transmission rates of the PET film itself used in Example 1 were 25 cc / m 2 / day / atm and 4.5 g / m 2 / day, respectively, and the coefficient of linear expansion was 22.4 ppm / K.

구분division 산소투과율 (cc/㎡/day/atm)Oxygen transmittance (cc / ㎡ / day / atm) 수증기 투과율 (g/㎡/day)Water vapor transmission rate (g / ㎡ / day) 광투과도 (400nm)Light transmittance (400nm) 헤이즈 (%)Haze (%) 연필경도Pencil hardness 내화학성Chemical resistance 실시예 1Example 1 < 0.05 기기측정범위이하<0.05 below measuring range < 0.005 기기측정범위이하<0.005 Below instrument measuring range > 85 %> 85% < 0.3<0.3 > 1H> 1H 우수Great 실시예 2Example 2 < 0.05 기기측정범위이하<0.05 below measuring range < 0.005 기기측정범위이하<0.005 Below instrument measuring range > 85 %> 85% < 0.3<0.3 > 1H> 1H 우수Great 실시예 3Example 3 < 0.05 기기측정범위이하<0.05 below measuring range < 0.005 기기측정범위이하<0.005 Below instrument measuring range > 85 %> 85% < 0.3<0.3 > 1H> 1H 우수Great 비교실시예 1Comparative Example 1 < 0.05 기기측정범위이하<0.05 below measuring range < 0.005 기기측정범위이하<0.005 Below instrument measuring range > 85 %> 85% < 0.3<0.3 > 1H> 1H 다소양호Somewhat good

표 1에서 보는 바와 같이, 비교 실시예 1의 기판은 가스배리어성, 표면경도 등이 실시예 1~3과 유사하였으나, 내화학성이 다소 떨어지는 것을 확인하였다.As shown in Table 1, the substrate of Comparative Example 1 was similar to Examples 1 to 3 in gas barrier properties, surface hardness, etc., but it was confirmed that the chemical resistance was somewhat inferior.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 다층 플라스틱 기판은, 작은 선팽창계수, 우수한 가스 배리어성, 치수안정성의 특성들을 동시에 만족시킬 뿐 아니라, 종래 기판보다 더욱 향상된 내화학성을 갖는다. 또한, 본 발명의 다층 플라스틱 기판은 액정표시장치를 포함하는 화상표시 장치용 플라스틱 기판으로 유리 기판 대신 사용할 수 있으며, 또한 가스 배리어성이 요구되는 포장재와 용기의 재질로서도 매우 유용하게 활용될 수 있다.As described above, the multilayer plastic substrate of the present invention not only satisfies the characteristics of small linear expansion coefficient, excellent gas barrier property and dimensional stability at the same time, but also has more improved chemical resistance than the conventional substrate. In addition, the multilayer plastic substrate of the present invention may be used instead of the glass substrate as a plastic substrate for an image display device including a liquid crystal display device, and may also be usefully used as a material for packaging and containers requiring gas barrier properties.

Claims (20)

접합된 2장의 플라스틱 필름 양면에 각각 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층과; 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 각 상면에 적층되되, 순서에 관계없이 1회 이상 반복하여 적층되는 가스 배리어층 및 두께가 5 내지 1,000 ㎚인 폴리실라잔층과; 상기 가스 배리어층 또는 폴리실라잔층의 각 상면에 적층되는 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 포함하는 다층 플라스틱 기판.A first organic or organic-inorganic hybrid layer on each of the two bonded plastic films; A gas barrier layer laminated on each upper surface of the first organic or organic-inorganic hybrid layer, and repeatedly stacked one or more times regardless of the order, and a polysilazane layer having a thickness of 5 to 1,000 nm; And a second organic or organic-inorganic hybrid layer laminated on each top surface of the gas barrier layer or the polysilazane layer. 제1항에 있어서, 상기 플라스틱 필름이 단일 고분자, 1 종 이상의 고분자 블렌드, 및 유기 또는 무기 첨가물이 함유된 고분자 복합 재료로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택된 다층 플라스틱 기판.The multilayer plastic substrate of claim 1, wherein the plastic film is selected from the group consisting of a single polymer, at least one polymer blend, and a polymer composite material containing organic or inorganic additives. 제2항에 있어서, 상기 단일 고분자 또는 고분자 블렌드를 위한 고분자가 폴리노보넨, 아로마틱 플로렌 폴리에스테르, 폴리에테르설폰, 비스페놀에이폴리설폰, 폴리이미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈렌, 폴리아릴레이트, 폴리카보네이트, 및 환상형 올레핀 공중합체로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택된 다층 플라스틱 기판.The method of claim 2, wherein the polymer for the single polymer or the polymer blend is polynorbornene, aromatic florene polyester, polyethersulfone, bisphenolA polysulfone, polyimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalene, polyarylate, poly At least one selected from the group consisting of carbonates and cyclic olefin copolymers. 제2항에 있어서, 상기 무기 첨가물이 함유된 고분자 복합 재료는 클레이 나노 물질이 고분자 매트릭스에 분산된 폴리머-클레이 나노 복합체인 다층 플라스틱 기판.The multilayer plastic substrate of claim 2, wherein the polymer composite material containing the inorganic additive is a polymer-clay nanocomposite in which clay nanomaterials are dispersed in a polymer matrix. 제4항에 있어서, 상기 고분자 복합 재료에 사용되는 고분자는 폴리스타이렌, 폴리메타아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈렌, 폴리아릴레이트, 폴리카보네이트, 환상형 올레핀 공중합체, 폴리노보넨, 아로마틱 플로렌 폴리에스테르, 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 에폭시레진, 다관능성아크릴레이트로부터 1종 이상이 선택되고, 상기 클레이로는 라포나이트, 몬모릴로나이트, 및 메가디트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택된 다층 플라스틱 기판.The method of claim 4, wherein the polymer used in the polymer composite material is polystyrene, polymethacrylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalene, polyarylate, polycarbonate, cyclic olefin copolymer, polynorbornene, aromatic florene poly At least one selected from the group consisting of esters, polyethersulfones, polyimides, epoxy resins, and polyfunctional acrylates, wherein the clay is at least one selected from the group consisting of laponite, montmorillonite, and megadite. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층은, 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 유기화합물의 모노머, 또는 분자 내에 2개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 중량평균분자량 100 이상 1,000 이하의 올리고머; 및 분자 내에 1개 이상의 중합성 불포화기를 갖는 중량평균분자량 1,000 이상 500,000 이하의 유기화합물을 함유하는 코팅용 조성물을 경화시켜 형성한 것인 다층 플라스틱 기판.The organic or organic-inorganic hybrid layer according to any one of claims 1 to 5 has a monomer of an organic compound having two or more polymerizable unsaturated groups in a molecule, or two or more polymerizable unsaturated groups in a molecule. An oligomer having a weight average molecular weight of 100 or more and 1,000 or less; And a coating composition containing a weight average molecular weight of 1,000 or more and 500,000 or less of an organic compound having one or more polymerizable unsaturated groups in a molecule thereof. 제6항에 있어서, 상기 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층이 금속, 유리분말, 다이아몬드분말, 실리콘옥사이드, 클레이, 칼슘포스페이트, 마그네슘포스페이트, 바륨설페이트, 알루미늄 플루오라이드, 칼슘실리케이트, 마그네슘 실리케이트, 바륨실리케이트, 바륨카보네이트, 바륨하이드록사이드, 및 알루미늄실리케이트로 이 루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 충진제; 및 용매를 추가적으로 포함하는 조성물로 제조되는 것인 다층 플라스틱 기판.The method of claim 6, wherein the organic or organic-inorganic hybrid layer is a metal, glass powder, diamond powder, silicon oxide, clay, calcium phosphate, magnesium phosphate, barium sulfate, aluminum fluoride, calcium silicate, magnesium silicate, barium silicate, At least one filler selected from the group consisting of barium carbonate, barium hydroxide, and aluminum silicate; And a solvent further comprising a composition. 제1항에 있어서, 상기 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층이, The method of claim 1, wherein the organic or organic-inorganic hybrid layer, (A) 하기 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 유기실란 부분 가수분해물; 또는 (B) 하기 화학식 4로 표시되는 화합물로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 금속알콕사이드 부분 가수분해물을 경화시켜 형성된 다층 플라스틱 기판,(A) an organosilane partial hydrolyzate selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (1) to (3); Or (B) a multilayer plastic substrate formed by curing at least one metal alkoxide partial hydrolyzate selected from the group consisting of compounds represented by the following formula (4), [화학식 1][Formula 1] (R1)m-Si-X(4-m) (R 1 ) m -Si-X (4-m) [화학식 2][Formula 2] (R1)m-O-Si-X(4-m) (R 1 ) m -O-Si-X (4-m) [화학식 3][Formula 3] (R1)m-N(R2)-Si-X(4-m) (R 1 ) m -N (R 2 ) -Si-X (4-m) [화학식 4][Formula 4] M-(R3)z M- (R 3 ) z 상기 화학식 1 내지 화학식 3에서, In Chemical Formulas 1 to 3, X는 서로 같거나 다를 수 있으며, 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 아실옥시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 또는 -N(R2)2이고, X may be the same or different from each other, hydrogen, halogen, alkoxy, acyloxy, alkylcarbonyl, alkoxycarbonyl, or -N (R 2 ) 2 having 1 to 12 carbon atoms, R1은 서로 같거나 다를 수 있으며, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아릴알킬, 알킬아릴, 아릴알케닐, 알케닐아릴, 아릴알키닐, 알키닐아릴, 할로겐, 아마이드, 알데하이드, 케톤, 알킬카보닐, 카복시, 머캅토, 시아노, 하이드록시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시카보닐, 설폰산, 인산, 아크릴옥시, 메타크릴옥시, 에폭시, 또는 비닐기이며,R 1 may be the same or different from each other, alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, arylalkyl, alkylaryl, arylalkenyl, alkenylaryl, arylalkynyl, alkynylaryl, halogen, amide having 1 to 12 carbon atoms , Aldehydes, ketones, alkylcarbonyl, carboxy, mercapto, cyano, hydroxy, alkoxycarbon having 1 to 12 carbon atoms, alkoxycarbonyl having 1 to 12 carbon atoms, sulfonic acid, phosphoric acid, acryloxy, methacrylicoxy, epoxy, Or vinyl group, R2는 수소, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬이고,R 2 is hydrogen or alkyl having 1 to 12 carbon atoms, m은 1 내지 3의 정수이고,m is an integer of 1 to 3, 상기 화학식 4에서,In Chemical Formula 4, M은 알루미늄, 지르코늄, 및 티타늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 나타내며,M represents a metal selected from the group consisting of aluminum, zirconium, and titanium, R3은 서로 같거나 다를 수 있으며, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알콕시, 아실옥시, 또는 하이드록시기이며,R 3 may be the same as or different from each other, and is a halogen, an alkyl, alkoxy, acyloxy, or hydroxy group having 1 to 12 carbon atoms, Z는 3 또는 4의 정수이다.Z is an integer of 3 or 4. 제8항에 있어서, 상기 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층이 금속, 유리분말, 다이아몬드분말, 실리콘옥사이드, 클레이, 칼슘포스페이트, 마그네슘포스페이트, 바륨설페이트, 알루미늄 플루오라이드, 칼슘실리케이트, 마그네슘 실리케이트, 바륨실리케이트, 바륨카보네이트, 바륨하이드록사이드, 및 알루미늄실리케이트로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 충진제; 및 용매를 추가적으로 포함하는 조성물로 제조되는 것인 다층 플라스틱 기판.The method of claim 8, wherein the organic or organic-inorganic hybrid layer is a metal, glass powder, diamond powder, silicon oxide, clay, calcium phosphate, magnesium phosphate, barium sulfate, aluminum fluoride, calcium silicate, magnesium silicate, barium silicate, At least one filler selected from the group consisting of barium carbonate, barium hydroxide, and aluminum silicate; And a solvent further comprising a composition. 제6항에 있어서, 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층과, 상기 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 각각의 두께가 0.1 내지 50㎛인 다층 플라스틱 기판.The multilayer plastic substrate of claim 6, wherein each of the first organic or organic-inorganic hybrid layer and the second organic or organic-inorganic hybrid layer has a thickness of 0.1 to 50 μm. 제6항에 있어서, 상기 가스 배리어층이 SiOx(여기서, x는 1 내지 4의 정수), SiOxNy(여기서, x 및 y는 각각 1 내지 3의 정수), Al2O3, 및 ITO로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 무기물로부터 형성된 것인 다층 플라스틱 기판.The method of claim 6, wherein the gas barrier layer comprises SiO x (where x is an integer of 1 to 4), SiO x N y (where x and y are integers of 1 to 3, respectively), Al 2 O 3 , and A multilayer plastic substrate formed from at least one inorganic material selected from the group consisting of ITO. 제6항에 있어서, 상기 가스 배리어층은 두께가 5 내지 1,000 nm인 것인 다층 플라스틱 기판.The multilayer plastic substrate of claim 6, wherein the gas barrier layer has a thickness of 5 to 1,000 nm. 제1항 내지 제5항 및 제8항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리실라잔층이 하기 화학식 5로 표시되는 퍼하이드로폴리실라잔; 및 하기 화학식 6으로 표시되는 유기폴리실라잔과 화학식 7로 표시되는 유기폴리실라잔 중 적어도 어느 하나를 가교하여 형성된 것인 다층 플라스틱 기판,The method according to any one of claims 1 to 5 and 8 to 9, wherein the polysilazane layer is a perhydropolysilazane represented by the following formula (5); And a multilayer plastic substrate formed by crosslinking at least one of an organopolysilazane represented by Chemical Formula 6 and an organopolysilazane represented by Chemical Formula 7, [화학식 5][Formula 5]
Figure 112008077342825-pat00004
Figure 112008077342825-pat00004
[화학식 6][Formula 6]
Figure 112008077342825-pat00005
Figure 112008077342825-pat00005
[화학식 7][Formula 7]
Figure 112008077342825-pat00006
Figure 112008077342825-pat00006
상기 화학식 5에서, n은 양의 정수이고;In Formula 5, n is a positive integer; 상기 화학식 6에서, n은 양의 정수, R4, R5, 및 R6는 수소, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 탄소수 1 내지 12의 알킬시릴, 탄소수 1 내지 12의 알킬아미노, 탄소수 1 내지 12의 사이클로알킬, 탄소수 1 내지 12의 알케닐, 및 탄소수 1 내지 12의 알릴로부터 선택되며;In Formula 6, n is a positive integer, R 4 , R 5 , and R 6 is hydrogen, alkyl of 1 to 12 carbon atoms, alkoxy of 1 to 12 carbon atoms, alkylsilyl of 1 to 12 carbon atoms, of 1 to 12 carbon atoms Alkylamino, cycloalkyl having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl having 1 to 12 carbon atoms, and allyl having 1 to 12 carbon atoms; 상기 화학식 7에서, n, m은 양의 정수, R은 탄소수 1 내지 12의 알킬이다.In Formula 7, n and m are positive integers, R is alkyl having 1 to 12 carbon atoms.
제13항에 있어서, 상기 퍼하이드로폴리실라잔 또는 유기폴리실라잔의 가교 반응을 촉진시키기 위하여 촉매로, 1-메틸피페라진, 1-메틸피페리딘, 4,4'-트리메틸렌디피페리딘, 4,4'-트리메틸렌비스(1-메틸피페리딘), 디아자비사이클로-[2,2,2]옥탄, 시스-2-6-디메틸피페라진, 4-(4-메틸피페리진)피리딘, 피리딘, 디피리딘, α-피콜린, β-피콜린, γ-피콜린, 피페리딘, 루티딘, 피리미딘, 피리다진, 4,4'-트리메틸렌디피리딘, 2-(메틸아미노)피리딘, 피라진, 퀴놀린, 퀴녹살린, 트리아진, 피롤, 3-피롤린, 이미다졸, 트리아졸, 또는 1-메틸피롤리딘의 N-헤테로사이클릭 화합물; 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 프로필아민, 디프로필아민, 디헵틸아민, 옥틸아민, 디옥틸아민, 트리옥틸아민, 페닐아민, 디페닐아민, 또는 트리페닐아민의 아민류; 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]7-운데센, 1,5-디아자비사이클로[4,3,0]5-노넨, 1,5,9-트리아자사이클로도데칸, 및 1,4,7-트리아자사이클로노난으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상이 사용되는 것인 다층 플라스틱 기판.The method according to claim 13, wherein as a catalyst for promoting crosslinking reaction of the perhydropolysilazane or organopolysilazane, 1-methylpiperazine, 1-methylpiperidine, 4,4'-trimethylenedipiperidine , 4,4'-trimethylenebis (1-methylpiperidine), diazabicyclo- [2,2,2] octane, cis-2-6-dimethylpiperazine, 4- (4-methylpiperidin) Pyridine, pyridine, dipyridine, α-picolin, β-picolin, γ-picolin, piperidine, lutidine, pyrimidine, pyridazine, 4,4'-trimethylenedipyridine, 2- (methylamino N-heterocyclic compounds of pyridine, pyrazine, quinoline, quinoxaline, triazine, pyrrole, 3-pyrroline, imidazole, triazole, or 1-methylpyrrolidine; Methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, propylamine, dipropylamine, diheptylamine, octylamine, dioctylamine, trioctylamine, phenylamine, diphenylamine, or Amines of triphenylamine; 1,8-diazabicyclo [5,4,0] 7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] 5-nonene, 1,5,9-triazacyclododecane, and A multilayer plastic substrate, wherein at least one selected from the group consisting of 1,4,7-triazacyclononane is used. 삭제delete (a) 플라스틱 필름의 한쪽 면에 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 형성용 조성물을 코팅하고 경화하여 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 형성하는 단계;(a) coating and curing the composition for forming an organic or organic-inorganic hybrid layer on one side of the plastic film to form a first organic or organic-inorganic hybrid layer; (b) 상기 제1의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층의 상면에, 가스 배리어층과, 두께가 5 내지 1,000 ㎚인 폴리실라잔층을 순서에 관계없이 1회 이상 반복하여 다층 필름을 형성하는 단계;(b) forming a multi-layer film on the upper surface of the first organic or organic-inorganic hybrid layer by repeating a gas barrier layer and a polysilazane layer having a thickness of 5 to 1,000 nm one or more times in any order; (c) 상기 다층 필름의 상면에 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층 형성용 조성물을 코팅하고 경화하여 제2의 유기 혹은 유기-무기 하이브리드층을 형성하는 단계;(c) coating and curing an organic or organic-inorganic hybrid layer-forming composition on the upper surface of the multilayer film to form a second organic or organic-inorganic hybrid layer; (d) 상기 단계 (a) 내지 (c)의 과정을 반복하여 상기 단계 (c)와 동일한 구조의 다층 필름을 1종 더 제조하는 단계; 및(d) repeating the steps (a) to (c) to prepare one more multilayer film having the same structure as in step (c); And (e) 상기 단계 (c) 및 (d)에서 제조한 각 다층 필름의 층이 형성되지 않은 각각의 플라스틱 필름 면을 서로 접합하여 대칭 구조를 형성하는 단계(e) bonding the surfaces of each of the plastic films on which the layers of each of the multilayer films prepared in steps (c) and (d) are not formed to each other to form a symmetrical structure; 를 포함하는 다층 플라스틱 기판의 제조 방법.Method for producing a multilayer plastic substrate comprising a. 제16항에 있어서, 상기 (e) 단계에서 접합은 아크릴계 접착제 또는 열 접합방법에 의해 이루어지는 다층 플라스틱 기판의 제조방법.The method of claim 16, wherein the bonding in the step (e) is made by an acrylic adhesive or a thermal bonding method. 제1항 내지 제5항 및 제8항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 다층 플라스틱 기판을 구비한 화상표시장치.An image display apparatus comprising the multilayer plastic substrate according to any one of claims 1 to 5 and 8 to 9. 제6항에 따른 다층 플라스틱 기판을 구비한 화상표시장치.An image display device comprising the multilayer plastic substrate according to claim 6. 제13항에 따른 다층 플라스틱 기판을 구비한 화상표시장치.An image display device provided with the multilayer plastic substrate according to claim 13.
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