KR100883967B1 - Calibration device with buil-in camera - Google Patents
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Abstract
본 발명은 실제 작업장에서 자동으로 보정작업을 수행할 수 있는 캘리브레이션 장치에 관한것으로, 광을 발생하는 광원부와, 상기 광원부에서 발생하는 광을 반사하는 스캔부와 상기 스캔부에서 반사된 광을 스테이지부에 주사시키는 투광부와 패턴정보부에서 전송받은 전기적 신호에 의해 원하는 패턴을 형성하도록 상기 광원부, 스캔부 및 스테이지부를 조정하여 광의 궤적을 조절하는 제어부와 상기 광의 궤적을 촬상하는 카메라부를 포함하는 캘리브레이션 장치에 있어서, 상기 카메라부는 상기 패턴정보부에 저장된 표준이미지에 대응되는 광의 경로를 따라 좌표 이동하도록 상기 스테이지부상에 장착된 것을 특징으로 하여, 실제 현장 작업중에도 광경로의 보정을 가능하도록 구성하여 제품의 작업성과 편의성을 향상시키는 효력을 발휘하는 발명이다.The present invention relates to a calibration device capable of automatically performing a calibration operation in an actual workplace, comprising: a light source unit for generating light, a scan unit for reflecting light generated from the light source unit, and a stage unit for light reflected from the scan unit And a control unit for adjusting the light trajectory by adjusting the light source unit, the scan unit, and the stage unit to form a desired pattern by an electric signal transmitted from the light transmitting unit and the pattern information unit to scan the light, and a camera unit for capturing the trajectory of the light. The camera unit may be mounted on the stage unit to move along a path of light corresponding to a standard image stored in the pattern information unit. The camera unit may be configured to enable correction of the optical path during actual field work. Foot that improves convenience People.
캘리브레이션, 에칭장치 Calibration, Etching Equipment
Description
도 1은 일반적인 레이저 에칭시의 렌즈부 투과상태를 나타내는 사시도,1 is a perspective view showing the transmission state of the lens unit during general laser etching;
도 2의 (a)는 이상적인 에칭상태를 나타내는 사시도,2 (a) is a perspective view showing an ideal etching state,
도 2의 (b)는 일반적인 레이저 에칭시의 에칭상태를 나타내는 사시도,2B is a perspective view showing an etching state in general laser etching;
도 3은 종래기술에 의한 캘리브레이션 장치의 개략적인 구성도,3 is a schematic configuration diagram of a calibration apparatus according to the prior art,
도 4는 본 발명에 의한 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치의 4 is a calibration device using a built-in camera according to the present invention
개략적인 구성도,Schematic diagram,
도 5는 본 발명에 의한 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치의 5 is a calibration device using a built-in camera according to the present invention
일 실시예를 나타내는 사시도,Perspective view showing an embodiment,
도 6은 본 발명에 의한 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치의 6 is a calibration device using a built-in camera according to the present invention
다른 실시예를 나타내는 사시도.Perspective view showing another embodiment.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10 : 스테이지부 20 : 광원부10: stage portion 20: light source portion
30 : 스캔부 40 : 투광부30: scanning unit 40: light transmitting unit
50 : 수광부 60 : 제어부50: light receiver 60: controller
70 :패턴정보부 180 : 카메라부70: pattern information unit 180: camera unit
181 : 촬영부 182 : 지지부181: photographing unit 182: support
183 : 필터부183: filter section
본 발명은 레이저 에칭 작업시 이용되는 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치에 관한 것으로, 레이저 에칭장치의 표준 패턴에 따라 좌표 변경이 가능하도록 스테이지부상에 카메라를 장착하고, 카메라에 의해 촬상된 광괘적과 미리 저장된 표준패턴과의 편차를 측정하는 비교부를 제어부내에 구비하여 현장 작업중에도 광경로의 보정을 자동으로 수행할 수 있도록 구성하여 제품의 작업성과 편의성 향상시키는 효력을 발휘하는 발명이다.The present invention relates to a calibration device using a built-in camera used in the laser etching operation, the camera is mounted on the stage portion so that the coordinates can be changed in accordance with the standard pattern of the laser etching device, and the preliminary image captured by the camera and stored in advance It is an invention that has the effect of improving the workability and convenience of the product by providing a comparator to measure the deviation from the standard pattern in the control unit to automatically perform the correction of the optical path during the field work.
근래 레이저 기술의 발달로 레이저를 이용한 산업설비의 수요가 증가되고, 각종 레이저 장비가 반도체, LCD등의 마킹 및 패턴공정 등 광범위한 분야에 이용되고 있다. 특히 패턴공정의 경우, 과거에는 마스크패턴에 의해 노광된 레지스트막을 에칭공정에 의해 제거하는 왯(wet) 에칭방법을 주로 이용하였으나 최근 들어 레이저를 이용한 드라이(dry) 에칭방법이 주류를 이루고 있다.Recently, with the development of laser technology, the demand of industrial equipment using laser is increasing, and various laser equipments are used in a wide range of fields such as marking and pattern processing of semiconductors and LCDs. In particular, in the case of the pattern process, in the past, the wet etching method of removing the resist film exposed by the mask pattern is mainly used, but in recent years, the dry etching method using a laser has become the mainstream.
이러한 레이저 에칭장치는 광을 발생하는 광원과, 제어부에 의해 상기 광원에서 발생되는 광의 경로를 조절하여 원하는 위치에 상기 광을 투사하는 스캐너 및 반사렌즈등으로 구성되는데 레이저 에칭장치를 사용하는 경우 기존의 방법에 비하여 작업 공정이 간이하며 스테이지부에 원하는 정밀한 패턴을 형성시키는 장점이 있다.The laser etching apparatus includes a light source for generating light, a scanner and a reflecting lens for projecting the light at a desired position by adjusting a path of light generated by the light source by a control unit. Compared to the method, the working process is simple and there is an advantage of forming the desired precise pattern on the stage.
다만 이러한 장점에 불구하고 레이저 에칭장치는 레이저의 굴절각에 따라 목표좌표에 도달하기 위한 경로길이가 달라지게 되고(도 1의 d1과 d참조) 이러한 경로길이의 차이가 축적되어 의도하였던 표준 패턴(도 2의(a))과는 상이한 왜곡된 패턴(도 2의 (b))을 형성하는 단점이 있었다. However, despite this advantage, the laser etching apparatus has a path length for reaching the target coordinate according to the refractive angle of the laser (see d1 and d in FIG. 1). There was a disadvantage of forming a distorted pattern (Fig. 2 (b)) different from 2 (a).
상기 단점을 보완하기 위해 많은 방법이 제안되었는데, 이에 대한 일 예로 주사된 광의 실제위치를 결정하기 위해 테스트된 광의 괘적을 측정하고 계획된 표준 이미지와 실제 측정된 이미지를 비교하여 그 차이를 보정인자로 이용하는 방법을 이용하는 캘리브레이션 장치들이 개시되어 왔다.Many methods have been proposed to compensate for the above disadvantages. For example, a rule of the tested light is measured to determine the actual position of the scanned light, and the difference between the planned standard image and the actual measured image is used as a correction factor. Calibration devices using the method have been disclosed.
이하 첨부한 도면에 의하여 종래 기술에 의한 캘리브레이션 장치에 대해 상술한다.Hereinafter, a calibration apparatus according to the related art will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 종래기술에 의한 캘리브레이션 장치의 개략적인 구성도인데, 상기 도면에서 도시하는 바와 같이 종래의 캘리브레이션 장치는 광을 발생하는 광원부(20)과, 상기 광원부(20)에서 발생하는 광을 반사하는 스캔부(30)와 상기 스캔부(30)에서 반사된 광을 스테이지부(10)에 주사시키는 투광부(40)와 패턴정보부(70)에서 전송받은 전기적 신호에 의해 원하는 패턴을 형성하도록 상기 광원부(20), 스캔부(30) 및 스테이지부(10)를 조정하여 원하는 패턴을 형성하도록 광의 궤적을 조절하는 제어부(60)와 상기 주사된 광의 궤적을 촬상하는 비젼카메라(80)를 포함하여 구성된다.FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a calibration apparatus according to the prior art. As shown in the drawing, a conventional calibration apparatus includes a
상기 제어부(60)는 광원부(20), 스캔부(30), 스테이지부(10) 및 비젼카메라(80)를 순차적으로 제어하게 되는데, 먼저 스테이지부(10)상에 LCD패널, 스테이지부 등의 작업 대상물을 로딩 후 패턴정보부(70)에서 미리 입력된 패턴정보를 소정의 알고리즘과 함께 제어부(60)로 전달하면 상기 제어부(60)에서 광원부(20), 스캔부(30) 및 투광부(40)를 순차적으로 조절하여 테스트 단계의 패턴 작업을 실시한다.The
상기 테스트 단계의 패턴작업이 완료되면 비젼카메라(80)를 이용하여 상기 스테이지부상의 패턴을 촬상하고 촬상된 패턴이미지와 이상적인 패턴이미지를 비교하여 편차량을 측정하고 측정된 편차량을 반영하여 패턴정보부를 수정함으로써 보정작업을 실시하였다.When the patterning step of the test step is completed, the pattern on the stage is photographed using the
상기와 같은 캘리브레이션 장치의 경우 비교적 정확한 패턴 작업을 가능하게 하는 장점이 있으나, 비젼카메라 및 편차의 측정장비가 구비된 작업장 내지 실험실에 한하여 보정작업이 가능하였고 별도로 패턴정보부를 수정하는 단계를 거친 후에야 보정작업이 완료되어, 비젼카메라가 구비되지 않은 작업장 또는 작업 환경이 변화하여 작업중 새로운 편차가 발생한 경우 신속하게 보정작업을 수행하지 못하는 문제점이 있었다. The calibration device as described above has the advantage of enabling a relatively accurate pattern work, but can be corrected only in the workplace or laboratory equipped with a vision camera and the measurement equipment of the deviation, and only after the step of modifying the pattern information unit separately When the work is completed, when a new deviation occurs during the work due to the change in the workplace or the work environment where the vision camera is not provided, there is a problem in that the corrective work cannot be performed quickly.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 레이저 에칭장치의 표준 패턴에 따라 좌표 변경이 가능하도록 스테이지부상에 카메라를 장착하고 카메라부에 의해 촬상된 광괘적과 미리 저장된 표준패턴과의 편차를 비교하는 비교부를 제어부상에 구비하여 현장에서 작업중에도 광경로의 보정을 가능하게 하여 효율적인 작업이 가능하도록 구성함으로써 작업성과 편의성을 향상시키는 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention is to solve the above problems, the camera is mounted on the stage to enable the coordinate change according to the standard pattern of the laser etching apparatus, and the deviation between the optical path taken by the camera and the pre-stored standard pattern It is an object of the present invention to provide a calibration device using a built-in camera to improve the workability and convenience by providing a comparison unit on the control unit on the control unit to enable the correction of the optical path while working in the field to enable efficient work.
상기 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 광을 발생하는 광원부와, 상기 광원부에서 발생하는 광을 반사하는 스캔부와 상기 스캔부에서 반사된 광을 스테이지부에 주사시키는 투광부와 패턴정보부에서 전송받은 전기적 신호에 의해 원하는 패 턴을 형성하도록 상기 광원부, 스캔부 및 스테이지부를 조정하여 광의 궤적을 조절하는 제어부와 상기 광의 궤적을 촬상하는 카메라부를 포함하여 형성된 캘리브레이션 장치에 있어서, 상기 카메라부는 상기 패턴정보부에 저장된 표준이미지에 대응되는 광의 경로를 따라 좌표 이동하도록 상기 스테이지부상에 장착된 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a light source unit for generating light, a scan unit for reflecting the light generated by the light source unit, and a light transmitting unit for scanning the light reflected from the scan unit to the stage unit and an electrical signal transmitted from the pattern information unit. A calibration device formed by including a control unit for adjusting the light trajectory of the light source, the scan unit and the stage unit to form a desired pattern by a signal and a camera unit for photographing the trajectory of the light, wherein the camera unit is stored in the pattern information unit. And mounted on the stage to move the coordinates along a path of light corresponding to the standard image.
이하 첨부한 도면에 따라 본 발명의 구성을 설명한다.Hereinafter, the configuration of the present invention according to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 의한 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치의 개략적인 구성도이고, 도 5는 본 발명에 의한 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치의 일 실시예를 나타내는 사시도이며, 도 6은 본 발명에 의한 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치의 다른 실시예를 나타내는 사시도이다.4 is a schematic configuration diagram of a calibration apparatus using a built-in camera according to the present invention, Figure 5 is a perspective view showing an embodiment of a calibration apparatus using a built-in camera according to the present invention, Figure 6 is a built-in according to the present invention A perspective view showing another embodiment of a calibration device using a camera.
도 4 내지 도 6에서 도시하는 바와 같이 본 발명은 광을 발생하는 광원부(20)와, 상기 광원부(20)에서 발생하는 광을 반사하는 스캔부(30)와 상기 스캔부(30)에서 반사된 광을 스테이지부(10)에 주사시키는 투광부(40)와 패턴정보부(70)에서 전송받은 전기적 신호에 의해 원하는 패턴을 형성하도록 상기 광원부(20), 스캔부(30) 및 스테이지부(10)를 조정하여 광의 궤적을 조절하는 제어부(60)와 상기 광의 궤적을 촬상하는 카메라부를 포함하여 형성된 캘리브레이션장치에 있어서, 상기 카메라부(180)는 상기 패턴정보부(70)에 저장된 표준이미지에 대응되는 광의 경로를 따라 좌표 이동하도록 상기 스테이지부(10)상에 장착된 것을 특징으로 한다.As shown in FIG. 4 to FIG. 6, the present invention includes a
상기 광을 발생시키는 광원부(20)는 점광의 레이저 광을 출사하는 레이저 다이오드를 사용하여 실시할 수 있고, 광의 굴절각을 변경시켜 광경로를 조정하는 스캔부(30)의 경우, 그 일 예로 광을 반사하도록 회전가능하게 장착된 미러부와, 상기 미러부를 회동시키는 구동부로 구성된 통상적인 갈바노미터스캐너를 장착하여 실시할 수 있다. 이러한 경우 2기의 갈바노스캐너를 각 미러부가 직교하도록 구성하여 광 경로의 X좌표 및 Y좌표를 조절하도록 실시할 수 있다. (도 5 참조)The
상기 스캔부(30)의 또 다른 예로, 도 6에서 도시하는 바와 같이 폴리곤스캐너(31)와 갈바노미터스캐너(32)를 결합하여 실시하는 경우 상기 폴리곤스캐너(31)는 6개의 반사면이 등 간격으로 배치되어 지지프레임에 결합된 스핀들모터(미도시)에 의해 회전 가능하도록 구성하고 여기에 통상적인 갈바노미터스캐너(32)를 장착하여 실시함이 타당하다.As another example of the
이러한 경우 상기 광원부(20)의 광발생부(21)는 점광의 레이저 광을 출사하는 레이저 다이오드를 사용하되, 광발생부(21)와 스캔부(30)사이의 광경로에는 콜리메이팅렌즈(22) 및 촛점렌즈(232)가 설치되어 상기 광발생부(21)에서 출사된 광을 선형으로 결상시켜 사용한다.In this case, the
상기 스캔부(30)에 의해 반사된 광은 투광부(40)를 통하여 스테이지부(10)상에 입사되는데, 도 5에서 도시하는 바와 같이 갈바노미터스캐너(30)를 사용하는 경우 상기 투광부(40)는 에프쎄타렌즈(F-theta lens)를 사용하여 갈바노미터스캐너(30)에서 반사된 광의 초점거리를 일정하게 조절하여 주사된 광을 스테이지부(10)로 결상시킨다. The light reflected by the
또한, 도 6에서 도시하는 바와 같이 스캔부(30)를 폴리곤스캐너(31)와 갈바노미터스캐너(32)를 결합하여 사용하는 경우 상기 투광부(40)는 주주사방향으로 스캔되는 광을 상기 스테이지부(10)에 초점이 맞추어지도록 결상시키는 이미징렌즈(41)와 이미징렌즈(41)에서 결상되는 광을 소정 경로로 반사하는 반사미러(42)로 구성할 수 있으며, 스캔부(30)에서 반사되는 광의 유효 광경로를 수광하여 제어부(60)로 전달하는 광로인식부(51, 52)를 구비하여 실시할 수 있다. 이때 상기 광로인식부(51, 52)는 통상적인 포토다이오드를 사용하여 실시함이 타당하다. In addition, as shown in FIG. 6, when the
상기 스테이지부(10)는 LCD 패널, 기판등의 작업물이 로딩되는 작업대로, 로딩된 작업물이 주주사 방향(Y) 내지 부주사방향(X)으로 이동되도록 제어부(60)에 의해 조정되고, 작업물에 형성될 패턴정보를 제공하는 패턴정보부(70)은 미리 설정된 데이터를 패턴정보로 프로그래밍하여 소정의 알고리즘과 함께 상기 제어부(60)로 공급하는 일반적인 컴퓨터 등을 사용할 수 있다.The
상기 스테이지부(10)상에는 상기 투광부(40)를 통하여 스테이지부(10)에 결상되는 광의 괘적을 촬영하는 카메라부(180)가 구비되는데, 상기 카메라부(180)는 광의 괘적을 촬상하는 촬영부(181)와 상기 촬영부(181)를 스테이지부(10)에 장착시키는 지지부(182)로 이루어진다.On the
상기 촬영부(181)의 일예로는 CCD카메라를 사용할 수 있는데, 특히 그 시야(field of view)는 5~70mm, 해상도(resolution)는 1024 x 768이상의 사양을 가진 CCD카메라를 사용함이 타당하다. As an example of the photographing
참고로 CCD(charge coupled device)란 빛을 전기 신호로 변환하는 광전변환 센서인데, 광원부(20)에서 출사한 광이 카메라부(180) 전단의 촬영부(181)로 입사하면 입사한 광의 세기는 CCD에 기록되어 촬영된 영상이 CCD에 붙은 RGB색필터에 의해 각기 다른 색으로 분리된다. 이때 분리된 색은 CCD를 구성하는 수십 만 개의 광센서(화소에 대응하는)에서 전기적 신호로 변환되는데, CCD에서 나온 아날로그 신호는 0과 1의 디지털 신호로 변환되어 영상 신호가 출력된다. 상기 과정에 의해 촬영부(181)는 입사된 광을 수광하여 전기적 영상신호를 형성한다. For reference, a charge coupled device (CCD) is a photoelectric conversion sensor that converts light into an electrical signal. When light emitted from the
상기 지지부(182)를 통상적인 브라켓 및 고정수단을 사용하여 실시하는 경우 지지부(182)에 의해 상기 촬영부(181)를 스테이지부(10)상에 고정 설치하며, 이러한 경우 상기 카메라부(180)는 스테이지부(10)의 이동에 의해 좌표변경을 시킬 수 있는데 패턴정보부(70)에서 제공하는 표준이미지에 따라 제어부(60)가 제어하는 지지드라이버(63)에 의해 스테이지부(10)의 X좌표 및 Y좌표를 이동하여 상기 스테이지부(10)에 장착된 카메라부(180)가 광의 입사좌표에 위치하도록 실시할 수 있다.When the
또한 상기 지지부(182)에 대한 다른 실시예로 상기 스테이지부(10)의 이동 이외에 상기 카메라부(180)를 스테이지부(10) 상에서 평면이동 할 수 있도록 장착하여 실시할 수 있는데, 이러한 경우 상기 지지부(182)는 통상적인 리니어모터 및 슬라이딩휠 등으로 구성된 구동수단을 사용할 수 있으며, 스테이지부(10)상에 격자형의 레일을 설치하고 상기 레일 위를 슬라이딩 이동하도록 구성하여 상기 촬영부(181)를 상기 패턴정보부(70)에 저장된 표준이미지에 대응되는 광의 경로를 따라 상기 스테이지부(10)상에서 좌표 이동하도록 설정하여 실시할 수 있다.In addition, as another embodiment of the
특히 상기 카메라부(180)의 전단부, 즉 광이 입사하는 상기 촬영부(181)를 구성하는 렌즈의 전단부에는 통상적인 광학렌즈 또는 광학필터로 구성된 필터부(183)를 장착하여 상기 광은 필터부(183)를 거쳐 촬영부(181)로 입사할 수 있도록 구성하여 실시함이 타당하다.In particular, the front end of the
상기 제어부(60)는 상기 광원부(20)를 구동하는 구동하는 광원 드라이버(61)와, 상기 스캔부(30)를 구동하는 스캔드라이버(62)와, 스테이지부(10)를 구동하는 지지드라이버(63)를 구비하며, 특히 본 실시예의 경우 상기 카메라부(180)를 구동 시키는 카메라드라이버(164)와 함께 상기 카메라부(180)에 의해 촬상된 광의 궤적을 전송받아 전송된 이미지와 저장된 표준 이미지 사이의 편차를 측정하는 비교부(165)를 포함하여 실시할 수 있다.The
이하 본 발명의 작동을 설명한다.The operation of the present invention will be described below.
원하는 패턴작업을 위해 패턴정보부(70)에서 설정된 데이터를 패턴정보로 프로그래밍하여 상기 제어부(60)로 공급하면, 상기 제어부(60)는 패턴정보부(70)에서 제공되는 패턴정보를 근거로 하여, 상기 광원부(20)의 온/오프 제어 및 그 온/오프 시간을 제어하며 광의 출력을 조정한다.When the data set in the
또한 상기 제어부(60)는 모터드라이버(62) 및 지지드라이버(63)를 조정하여 미리 저장된 표준 패턴을 반영하여 스캔부(30), 투광부(40)를 통하여 스테이지부(10)로 광을 분사하는데, 이때 분사되는 광은 필터부(183)를 거쳐 촬영부(181)로 입사하게 되므로 광에 의한 촬영부(181)의 손상을 방지한다. 만일 필터부(183)를 구비하지 않고 실시하는 경우에는 상기 광원드라이버(61)에 의해 광원부(20)를 조절하여 광의 출력을 조정함으로써 상기 촬영부(182)를 보호한다.In addition, the
상기 스테이지부(10)로 광이 입사하는 경우 상기 카메라부(180) 역시 제어부(60)에 의해 저장된 표준패턴에 의해 광의 입사좌표로 위치하는데, 상기 카메라 부(180)가 스테이지부(10)에 고정 장착된 경우는 상기 지지드라이버(63)의 구동에 의해, 또한 상기 카메라부(180)가 스테이지부(10) 상에서 구동하는 경우는 상기 지지드라이버(63)에 의한 스테이지부(10)의 구동과 함께 촬영부(181)의 센서 중앙을 스테이지부(10)의 좌표값과 일치시켜 카메라의 위치를 판별 후, 카메라드라이버(164)에 의해 카메라부(180)를 구동시켜 입사되는 광의 괘적에 맞춰 카메라부(180)의 좌표를 변경하여 입사광의 괘적을 상기 카메라부(180)의 촬영부(181)에서 촬상한다. When light is incident on the
상기 카메라부(180)로 부터 촬상된 광의 실제 좌표는 비교부(165)로 전송되고 비교부(165)에서 제어부(60)에 미리 저장되어 있는 보상 알고리즘을 통하여 패턴정보부(70)에 저장되어 있는 표준 패턴의 이미지와 직접 촬상되어 전송된 실제 패턴 이미지를 비교하여 양 이미지 사이에 발생하는 편차를 측정하고 측정된 편차량을 분석한다.Actual coordinates of the light captured by the
카메라부(180)의 영상정보가 일정한 해상도를 지니고 있는 경우 표준 패턴 이미지에 의해 입사되어야 하는 광의 위치와 실제로 입사된 광의 중심 위치 사이의 픽셀 수를 측정하여 오차를 결정하는데, 측정된 픽셀 수는 출사 높이 및 광의 절대 좌표값을 매개로 삼각법을 이용하여 절대거리로 환산하여 편차량을 산출하고 산출된 편차량의 검토 결과 상기 광원부(20) 또는 스캔부(30)의 조정이 필요하다고 판단되는 경우 상기 제어부(60)에서는 편차량에 따라 광원드라이버(61) 및 구동드라 이버(62)를 제어하여 상기 광의 X좌표값 및 Y좌표값을 보정한다.When the image information of the
광경로의 보정 완료된 후, 스테이지부(10)상에 작업물을 로딩하고 보정된 제어부(60)에서는 보정된 패턴이미지에 따라 광의 분사 및 스캔작업을 조정하여 의도하였던 표준 패턴 이미지와 동일한 패턴을 작업물에 형성할 수 있도록 한다.After the correction of the optical path is completed, the workpiece is loaded on the
이러한 구성을 가지는 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션에 장치에 의해 에칭작업을 실시하는 경우 실제 현장 작업시에서도 표준 패턴과 실제 작업 패턴의 편차측정 및 분석이 가능하게 되고 이에 따라 다양한 작업상의 이점이 발생한다.When etching is performed by a device for calibration using a built-in camera having such a configuration, deviations between the standard pattern and the actual working pattern can be measured and analyzed even in actual field work, and thus various operational advantages occur.
상기에서 설명한 바와 같이 본 발명은 레이저 에칭 작업시 이용되는 빌트인 카메라를 이용한 캘리브레이션 장치에 관한 것으로, 레이저 에칭장치의 표준 패턴에 따라 좌표 변경이 가능하도록 스테이지부상에 카메라를 장착하고, 카메라에 의해 촬상된 광괘적과 미리 저장된 표준패턴과의 편차를 비교하는 비교부를 제어부상에 구비하여 현장 작업중에도 광경로의 보정을 자동으로 수행할 수 있도록 구성하여 제품의 작업성과 편의성 향상시키는 탁월한 효력을 발휘하는 발명이다.As described above, the present invention relates to a calibration apparatus using a built-in camera used in a laser etching operation, comprising a camera mounted on a stage portion to enable coordinate change according to a standard pattern of a laser etching apparatus, It is an invention that has an excellent effect of improving the workability and convenience of the product by providing the comparator on the control unit for comparing the deviation between the light path and the pre-stored standard pattern to automatically perform the correction of the optical path even during the field work. .
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