KR100874561B1 - 이미지 프로세싱 장치 및 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
여기서, X는 콘트라스트 강화 값이 예를 들어, 1-32를 할당받는 영역을 나타내고, α 및 γ(감마 기호를 의미함, 본 명세서에서 기재된 γ는 감마의 소문자 기재에 해당함, 수학식에서의 r 기호와 동일 기호에 해당함)는 실험 상수이며, Nx는 대응되는 영역에 있는 픽셀들의 수를 나타내고, Ntotal은 총 픽셀 수를 나타낸다. 예를 들어, 32 영역들 중 영역 1의 콘트라스트 강화 값을 계산함에 있어서, 예를 들어, cv1, N1은 영역 1에서의 픽셀 수를 나타내고, Ntotal은 총 픽셀 수를 나타낸다. 예시적인 실시예에서, α는 1이고 γ는 0.5이다.
Claims (50)
- 입력 이미지를 프로세싱하는 방법에 있어서, 상기 방법은:상기 입력 이미지를 발광도 값을 갖는 픽셀 출력 신호를 생성하는 픽셀 어레이로 입력하는 단계;상기 픽셀 출력 신호 상에서 이미지 에지를 정의하는 픽셀들을 검출하는 이미지 에지 검출 루틴을 실행하는 단계;상기 에지 정의 픽셀들을 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 기초하여 소정의 복수 개의 영역들로 분류하는 단계;상기 픽셀 어레이의 발광도 값 범위에 걸쳐 비선형 변형 함수 동작을 정의하기 위해 상기 분류를 이용하는 단계;상기 입력 이미지를 캡쳐하는 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 상기 비선형 변형 함수를 적용하는 단계;상기 입력 이미지로부터 강화된 이미지를 생성하기 위해 적용된 비선형 변형 함수를 가진 에지 정의 픽셀들을 이용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제1항에 있어서,상기 에지 검출 루틴은 상기 이미지에서 수평 및 수직 에지를 인식하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제2항에 있어서,상기 에지 검출 루틴은 상기 이미지에서 45 및 135 도의 에지를 더 인식하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제1항에 있어서,상기 발광도 값 범위는 밝고 어두운 픽셀들의 발광도 값들을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제4항에 있어서,상기 밝고 어두운 픽셀들의 상기 발광도 값은 0 내지 255를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제1항에 있어서,상기 발광도 값들의 범위는 어두운 픽셀들의 발광도 값들을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제6항에 있어서,상기 어두운 픽셀들의 상기 발광도 값들은 0 내지 128을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제1항에 있어서,상기 발광도 값 범위는 밝은 픽셀들의 발광도 값을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제8항에 있어서,상기 밝은 픽셀들의 상기 발광도 값들은 129 내지 255를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제1항에 있어서,상기 소정의 복수 개의 영역들은 32개인 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제10항에 있어서,상기 32개 영역들 각각은 동일한 수의 발광도 값들을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제11항에 있어서,상기 32개 영역들 각각은 8개의 발광도 값들을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제10항에 있어서,상기 32개 영역들 각각은 동일하지 않은 수의 발광도 값들을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제1항에 있어서,상기 비선형 변형 함수를 적용하는 단계는:상기 소정의 복수 개의 영역들 각각에 콘트라스트 강화 값을 할당하는 단계;상기 할당된 콘트라스트 강화 값들 각각을 표준화하는 단계;상기 표준화된 콘트라스트 값들 각각에 관한 변형 함수를 생성하는 단계; 및상기 변형 함수로부터 상기 비선형 변형 함수를 추정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제15항에 있어서,α는 1이고 γ는 0.5 인 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제14항에 있어서,상기 복수 개의 영역들 중 가장 어두운 영역은 콘트라스트 강화 값 1을 할당받는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제17항에 있어서,상기 복수 개의 영역들 중 가장 밝은 영역은 콘트라스트 강화 값 1을 할당받는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.
- 제14항에 있어서,상기 추정하는 단계는 다음의 공식에 따라 계산되는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 방법.(여기서, F는 함수를 나타내고, Y는 상기 입력 발광 히스토그램의 개별적인 강도 레벨을 나타내고, Cvx는 상기 소정의 개수의 영역들에 할당되는 표준화된 콘트라스트 강화 값을 나타내며, Z는 P에 의해 분할되는 강도 레벨의 수를 나타내고, P 는 소정의 개수의 영역들의 수를 나타내고, Ox = 합계 (CM) * I 이다. 이때, CM은 앞서의 개별적인 강도의 콘트라스트 강화 값 각각에 더해지는 개별적인 강도 레벨의 할당된 콘트라스트 강화 값을 나타내고, I는 상기 입력 발광 히스토그램에서의 강도 값들의 수를 나타냄)
- 이미지 프로세싱 장치에 있어서,발광도 값을 갖는 픽셀 출력 신호를 생성하는 픽셀 어레이로부터 이미지를 입력하는 단계;이미지 에지를 정의하는 픽셀들을 검출하는 이미지 에지 검출 루틴을 실행하는 단계;상기 에지 정의 픽셀들을 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 기초하여 소정의 복수 개의 영역들로 분류하는 단계;상기 픽셀 어레이의 발광도 값 범위에 걸쳐 비선형 변형 함수 동작을 정의하기 위해 상기 분류를 이용하는 단계;상기 입력 이미지를 캡쳐하는 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 상기 비선형 변형 함수를 적용하는 단계; 및상기 입력 이미지로부터 강화된 이미지를 생성하기 위해 적용된 비선형 변형 함수를 가진 에지 정의 픽셀들을 이용하는 단계를 실행하는 프로세서를 구비하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제22항에 있어서,상기 장치에 의해 실행되는 상기 에지 검출 루틴은 상기 이미지에서 수평 및 수직 에지를 인식하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제23항에 있어서,상기 장치에 의해 실행되는 상기 에지 검출 루틴은 상기 이미지에서 45 및 135 도 에지를 더 인식하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
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- 제27항에 있어서,상기 어두운 픽셀들의 상기 발광도 값은 0 내지 128을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제22항에 있어서,상기 발광도 값들 범위는 밝은 픽셀들의 발광도 값을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제29항에 있어서,상기 밝은 픽셀들의 상기 발광도 값은 129 내지 255를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제22항에 있어서,상기 소정의 복수 개의 영역들은 32개인 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제31항에 있어서,상기 32개 영역들 각각은 동일한 수의 발광도 값들을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제32항에 있어서,상기 32개 영역들 각각은 8개의 발광도 값들을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제22항에 있어서,상기 비선형 변형 함수를 적용하는 단계는:상기 소정의 복수 개의 영역들 각각에 콘트라스트 강화 값을 할당하는 단계;상기 할당된 콘트라스트 강화 값들 각각을 표준화하는 단계;상기 표준화된 콘트라스트 값들 각각에 관한 변형 함수를 생성하는 단계; 및상기 변형 함수로부터 상기 비선형 변형 함수를 추정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제34항에 있어서,상기 장치는 상기 복수 개의 영역들 중 가장 어두운 영역에 콘트라스트 강화 값 1을 할당하는 단계를 더 실행하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제36항에 있어서,상기 장치는 상기 복수 개의 영역들 중 가장 밝은 영역에 콘트라스트 강화 값 1을 할당하는 단계를 더 실행하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제34항에 있어서,상기 추정하는 단계는 다음의 공식에 따라 계산되는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.(여기서, F는 함수를 나타내고, Y는 상기 입력 발광 히스토그램의 개별적인 강도 레벨을 나타내고, Cvx는 상기 소정의 개수의 영역들에 할당되는 표준화된 콘트라스트 강화 값을 나타내며, Z는 P에 의해 분할되는 강도 레벨의 수를 나타내고, P는 소정의 개수의 영역들의 수를 나타내고, Ox = 합계 (CM) * I 이다. 이때, CM은 앞서의 개별적인 강도의 콘트라스트 강화 값 각각에 더해지는 개별적인 강도 레벨의 할당된 콘트라스트 강화 값을 나타내고, I는 상기 입력 발광 히스토그램에서의 강도 값들의 수를 나타냄)
- 이미지를 프로세싱하는 장치에 있어서,프로세서 및상기 프로세서에 연결되고, 이미지를 프로세싱하는 프로그램을 가진 컴퓨터 판독가능 저장 매체를 포함하고,상기 프로그램은:발광도 값을 갖는 픽셀 출력 신호를 생성하는 픽셀 어레이로부터 이미지를 입력하는 단계;이미지 에지를 정의하는 픽셀들을 검출하는 이미지 에지 검출 루틴을 실행하는 단계;상기 에지 정의 픽셀들을 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 기초하여 소정의 복수 개의 영역들로 분류하는 단계;상기 소정의 복수 개의 영역들 각각에 콘트라스트 강화 값을 할당하는 단계;상기 콘트라스트 강화 값을 표준화하는 단계;상기 표준화된 콘트라스트 값에 기초하여 변형 함수를 생성하는 단계;상기 변형 함수에 기초하여 비선형 변형 함수를 추정하는 단계;상기 입력 이미지를 캡쳐하는 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 상기 비선형 변형 함수를 적용하는 단계; 및상기 입력 이미지로부터 강화된 이미지를 생성하기 위해 적용된 비선형 변형 함수를 가진 에지 정의 픽셀들을 이용하는 단계를 실행하는 것을 특징으로 하는 이미지를 프로세싱하는 장치.
- 이미징 장치에 있어서,이미지를 발광도 값을 갖는 픽셀 출력 신호를 생성하는 픽셀 어레이로 입력하는 입력 수단;입력 이미지의 이미지 에지를 정의하는 픽셀들을 검출하는 수단;상기 에지 정의 픽셀들을 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 기초하여 소정의 복수 개의 영역들로 분류하는 수단;상기 소정의 복수 개의 영역들 각각에 콘트라스트 강화 값을 할당하는 수단;상기 콘트라스트 강화 값을 표준화하는 수단;상기 표준화된 콘트라스트 값에 기초하여 변형 함수를 생성하는 수단;상기 변형 함수에 기초하여 비선형 변형 함수를 추정하는 수단;상기 입력 이미지를 캡쳐하는 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 상기 비선형 변형 함수를 적용하는 수단; 및상기 입력 이미지로부터 강화된 이미지를 생성하기 위해 적용된 비선형 변형 함수를 가진 에지 정의 픽셀들을 이용하는 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 이미징 장치.
- 프로세서 시스템에 있어서,발광도 값을 갖는 픽셀 출력 신호를 생성하는 픽셀 어레이로부터 이미지를 입력하는 단계;이미지 에지를 정의하는 픽셀들을 검출하는 이미지 에지 검출 루틴을 실행하는 단계;상기 에지 정의 픽셀들을 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 기초하여 소정의 복수 개의 영역들로 분류하는 단계;상기 픽셀 어레이의 발광도 값 범위에 걸쳐 비선형 변형 함수 동작을 정의하기 위해 상기 분류를 이용하는 단계;상기 입력 이미지를 캡쳐하는 상기 에지 정의 픽셀들의 발광도 값에 상기 비선형 변형 함수를 적용하는 단계; 및상기 입력 이미지로부터 강화된 이미지를 생성하기 위해 적용된 비선형 변형 함수를 가진 에지 정의 픽셀들을 이용하는 단계를 실행하는 프로세서를 구비하는 이미지 프로세싱 장치를 포함하는 프로세서 시스템.
- 제43항에 있어서,상기 이미지 프로세싱 장치는 상보형 금속 산화막 반도체(CMOS) 이미저인 것을 특징으로 하는 프로세서 시스템.
- 제43항에 있어서,상기 이미지 프로세싱 장치는 전자 결합 소자(CCD)인 것을 특징으로 하는 프로세서 시스템.
- 제43항에 있어서,상기 이미지 프로세싱 장치는 디지털 복사기인 것을 특징으로 하는 프로세서 시스템.
- 제43항에 있어서,상기 이미지 프로세싱 장치는 팩시밀리인 것을 특징으로 하는 프로세서 시스템.
- 제43항에 있어서,상기 이미지 프로세싱 장치는 스캐너인 것을 특징으로 하는 프로세서 시스템.
- 제 22항에 있어서,상기 프로세서는 이미저 다이 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
- 제 22항에 있어서,상기 프로세서는 이미저 다이와 분리되어 별도로 위치하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로세싱 장치.
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