KR100855808B1 - Electroplating Apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 균일한 두께의 도금층을 형성할 수 있는 전해 도금 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electrolytic plating apparatus capable of forming a plating layer having a uniform thickness on a printed circuit board by making the current density distribution uniform.
본 발명에 따르면, 차폐판의 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성되어 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 되어 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성된다.According to the present invention, the outer edge of the shielding plate is formed to be bent to uniform the current density of the entire shielding plate so that the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board is uniformly formed.
차폐판, 전해 도금, 투공, 전류 밀도 Shield plate, electroplating, perforation, current density
Description
도 1은 종래기술에 따른 인쇄회로기판의 차폐판을 나타내는 도면.1 is a view showing a shield of a conventional printed circuit board.
도 2는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.2 is a view showing a shield plate according to a first embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.3 is a view showing a shielding plate according to a second embodiment of the present invention.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.4A and 4B illustrate a shielding plate according to a third embodiment of the present invention.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.5A and 5B illustrate a shielding plate according to a fourth embodiment of the present invention.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.6A and 6B illustrate a shielding plate according to a fifth embodiment of the present invention.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.7A and 7B illustrate a shielding plate according to a sixth embodiment of the present invention.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.8A and 8B illustrate a shielding plate according to a seventh embodiment of the present invention.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.9A and 9B illustrate a shielding plate according to an eighth embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
10, 100 : 차폐판 102, 102a, 102b, 104, 104a, 104b : 투공10, 100:
110 : 전류 분산 유도부 110a : 반원홈110: current
110b : 반원 돌출부 112a : 사각홈110b:
112b : 사각 돌출부112b: square protrusion
본 발명은 전해 도금 장치에 관한 것으로, 특히 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 균일한 두께의 도금층을 형성할 수 있는 전해 도금 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrolytic plating apparatus, and more particularly, to an electrolytic plating apparatus capable of forming a plating layer having a uniform thickness on a printed circuit board by making the current density distribution uniform.
인쇄회로기판(Printed Circuit Borad; PCB)이란 전자부품 상호 간의 전기배선을 회로설계에 기초하여, 절연기판 위에 도체를 형성하는 프린트 배선판으로 PCB기판, 프린트회로판 또는 인쇄배선기판(Printed Wiring Board)이라고 한다.Printed Circuit Board (PCB) is a printed wiring board that forms conductors on insulating boards based on circuit design. The electrical wiring between electronic components is called a PCB board, printed circuit board, or printed wiring board. .
일반적으로 인쇄회로기판은 페놀수지 절연판 또는 에폭시수지 절연판 등의 표면에 구리 박판을 부착시킨 후, 회로의 배선패턴에 따라 에칭하여 필요한 회로를 구성하고 그 위에 IC, 콘덴서, 저항 등의 여러 가지 전기전자부품을 조밀하게 탑재할 수 있게 하는 절연평판이다.In general, a printed circuit board is formed by attaching a copper thin plate to a surface of a phenol resin insulator or an epoxy resin insulator, and then etching it according to the wiring pattern of the circuit to form a necessary circuit, and various electrical and electronic devices such as IC, capacitor, and resistor thereon. It is an insulating flat plate that allows compact mounting of parts.
즉, 각 전자부품 상호 간을 연결하는 회로를 절연판의 표면에 배선모양으로 형성시킨 것이다. 인쇄회로기판은 배선회로판의 면수에 따라 단면기판, 양면기판, 다층기판 등으로 분류되고 있으며, 층수가 많을수록 부품의 실장력이 우수하고 고정밀제품에 사용된다.That is, a circuit for connecting the electronic components with each other is formed in the shape of a wiring on the surface of the insulating plate. Printed circuit boards are classified into single-sided boards, double-sided boards, and multilayer boards according to the number of printed circuit boards. The higher the number of layers, the better the mounting force of the parts and the high-precision products.
이러한, 인쇄회로기판은 전해도금 공정을 통해 도금층을 형성한 후 노광 및 현상 공정을 통해 회로를 형성하게 된다.The printed circuit board forms a plating layer through an electroplating process and then forms a circuit through an exposure and development process.
이때, 인쇄회로기판의 단면 또는 양면에 전해도금을 하는 경우 도금액이 수용된 도금조에 양극과 도금 대상물인 인쇄회로기판이 대향되도록 배치하고, 양극으로부터 인쇄회로기판을 향해 전류를 흘려 도금층을 형성하게 된다.In this case, when electroplating the end surface or both sides of the printed circuit board, the anode and the printed circuit board as the plating target are disposed to face the plating bath in which the plating solution is accommodated, and a current flows from the anode toward the printed circuit board to form the plating layer.
그러나, 일반적으로 도금조에 인쇄회로기판을 침지시켜 도금층을 형성할 경우 인쇄회로기판의 에지부(edge)에 전류 밀도가 집중되어 중앙부와 에지부의 도금 두께가 다르게 형성되게 된다.However, in general, when the plating layer is formed by immersing the printed circuit board in the plating bath, the current density is concentrated at the edge of the printed circuit board, and thus the plating thickness of the center part and the edge part is different.
이에 따라, 도 1에 도시된 차폐판(10)을 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치하여 에지부로 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하여 도금층을 균일하게 형성하게 된다.Accordingly, the
그러나, 이와 같은 종래의 차폐판(10)을 이용하여 인쇄회로기판에 도금층을 형성하더라도 차폐판(10)이 사각형 형태로 형성되기 때문에 양극으로부터의 전류가 차폐판(10)의 가장자리 부분에 집중되는 문제가 있다.However, even when the plating layer is formed on the printed circuit board by using the
다시 말해, 차폐판(10)의 가장자리가 직선으로 형성되어 전류가 닿는 길이가 짧기 때문에 도 1에 도시된 차폐판(10)을 이용하여 도금층을 형성하더라도 인쇄회로기판의 가장자리에 형성되는 도금층과 중앙부에 형성되는 도금층의 두께가 다르게 형성되는 문제가 있다.In other words, since the edge of the
따라서, 본 발명은 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 균일한 두께의 도금층을 형성할 수 있는 전해 도금 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an electroplating apparatus capable of forming a plating layer having a uniform thickness on a printed circuit board by making the current density distribution uniform.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 전해 도금 장치는 도금액이 수용된 도금조; 상기 도금조 내에 양극과 대향 되도록 배치된 인쇄회로기판; 및 외곽 테두리가 굴곡지도록 외곽으로 돌출되는 돌출부와 상기 돌출부와 대응되는 형태의 홈이 중심부를 향해 요입 되도록 교대로 형성되어 상기 인쇄회로기판과 상기 양극 사이에 설치된 차폐판을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an electrolytic plating apparatus according to an embodiment of the present invention is a plating bath containing a plating solution; A printed circuit board disposed to face the anode in the plating bath; And a shielding plate formed between the printed circuit board and the anode so as to be alternately formed to protrude outward so that the outer edge is curved, and a groove having a shape corresponding to the protrusion is concave toward the center.
본 발명의 다른 실시 예에 따른 전해 도금 장치는 도금액이 수용된 도금조; 상기 도금조 내에 양극과 대향 되도록 배치된 인쇄회로기판; 및 중심부에 상기 중심부를 향해 돌출되는 돌출부와 상기 돌출부와 대응되는 형태의 홈이 외곽을 향해 요입 되도록 교대로 형성된 전류 분산 유도부가 홈 형태로 형성되고 상기 전류 분산 유도부와 직사각형 형태의 외곽 테두리 사이에 투공이 격자 형태로 형성된 차폐판을 포함하는 것을 특징으로 한다.Electrolytic plating apparatus according to another embodiment of the present invention is a plating bath containing a plating solution; A printed circuit board disposed to face the anode in the plating bath; And a current distributing induction part alternately formed in the center so that the protrusion protruding toward the center and the groove corresponding to the protrusion are formed in the groove shape, and is formed between the current dispersion induction part and the rectangular outer edge. The ball is characterized in that it comprises a shield plate formed in the form of a grid.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.2 is a view showing a shielding plate according to a first embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판은 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(110)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(110)는 반원 형태의 반원 돌출부(110b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 반원 돌출부(110b)와 대응되는 형태로 반원홈(110a)이 요입되며, 반원 돌출부(110b)와 반원홈(110a)이 교대로 형성되어 전류의 분산을 유도하게 된다. 이에 따라, 단위 면적당 전류가 닿는 경계 길이가 길어지게 되어 차폐판(100)의 가장 자리 부분의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.Referring to FIG. 2, the shielding plate according to the first embodiment of the present invention is formed such that the current
다시 말해, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리에 반원 형태의 반원 돌출부(110b)와 반원 형태로 요입되는 반원홈(110a)을 교대로 형성하여 단위 면적당 전류가 닿는 길이를 넓혀 전류의 분산을 유도하여 차폐판(100) 외곽의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.In other words, the shielding plate according to the first exemplary embodiment of the present invention alternately forms a
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The
이와 같은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 도금액이 수용된 도금조에 도금 대상물인 인쇄회로기판과 양극이 대향되도록 배치한다. 이후, 인쇄회로기판과 양극 사이에 전류 분산 유도부(110)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된 차폐판(100)을 설치한다. 이후, 양극으로부터 인쇄회로기판을 향해 전류를 흘러 인쇄회로기판의 단면 또는 양면에 도금층을 형성한다.Referring to the method of electroplating a printed circuit board using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention as follows. First, the printed circuit board, which is the plating target, and the anode are disposed to face the plating bath in which the plating liquid is accommodated. Thereafter, the
이때, 도금층은 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성된 차폐판(100)이 인쇄회로기판의 에지부로 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하기 때문에 균일하게 형성되게 된다.In this case, the plating layer is uniformly formed because the
도 3은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.3 is a view showing a shielding plate according to a second embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판은 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판과 동일하게 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(112)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(112)는 정사각형 형태의 사각 돌출부(112b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 사각 돌출부(112b)와 대응되는 형태로 사각홈(112a)이 요입되며, 사각 돌출부(112b)와 사각홈(112a)이 교대로 형성되어 전류의 분산을 유도하게 된다. 이에 따라, 단위 면적당 전류가 닿는 경계 길이가 길어지게 되어 차폐판(100)의 가장 자리 부분의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.Referring to FIG. 3, in the shielding plate according to the second embodiment of the present invention, the current
다시 말해, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리에 정사각형 형태로 외곽 방향으로 돌출되는 사각 돌출부(112b)와 정사각형 형태로 요입되는 사각홈(112a)이 교대로 형성하여 단위 면적당 전류가 닿는 길이를 넓혀 전류의 분산을 유도하여 차폐판(100) 외곽의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.In other words, in the shielding plate according to the second embodiment of the present invention, a
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The
이와 같은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the second embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.4A and 4B are views illustrating a shielding plate according to a third embodiment of the present invention.
도 4a 및 도 4b에 도시된 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판은 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판과 비교하여 차폐판(100)의 중심부에 투공(102)이 형성된 것을 제외하면 그 형상이 동일하게 형성되므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.The shielding plate according to the third embodiment of the present invention illustrated in FIGS. 4A and 4B has a
투공(102,104)은 차폐판(100)의 중앙부에 격자형태로 형성되어 차폐판(100) 중앙부에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지한다. 다시 말해, 투공(102,104)은 차폐판(100) 중앙부에 단위 면적당 전류가 닿는 경계면을 길게 하여 차폐판(100) 전체로 전류를 균일하게 분포하는 역할을 한다. 이때, 투공(102,104)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding
이와 같은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the third embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.5A and 5B are views illustrating a shielding plate according to a fourth embodiment of the present invention.
도 5a 및 도 5b에 도시된 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판은 도 3에 도시된 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판과 비교하여 차폐판(100)의 중심부에 투공(102)이 형성된 것을 제외하면 그 형상이 동일하게 형성되므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.The shielding plate according to the fourth embodiment of the present invention shown in FIGS. 5A and 5B has a
또한, 투공(102,104)은 도 4a 및 도 4b에 도시된 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판과 동일하게 형성되고, 동일한 역할을 하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.In addition, since the through-
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding
이와 같은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the fourth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.6A and 6B are views illustrating a shielding plate according to a fifth embodiment of the present invention.
도 6a 및 도 6b를 참조하면, 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판은 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(110)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(110)는 반원 형태의 반원 돌출부(110b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 반원 돌출부(110b)와 대응되는 형태로 반원홈(110a)이 요입되며, 반원 돌출부(110b)와 반원홈(110a)이 교대로 형성된다. 또한, 차폐판(100)의 중심부에는 제 1 투공(102a,104a)이 격자 형태로 형성되고, 반원 돌출부(110b)에는 제 2 투공(102b,104b)이 형성된다.6A and 6B, the shielding plate according to the fifth embodiment of the present invention is formed such that the current
이에 따라, 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판은 차폐판(100)의 중심부와 반원 돌출부(110b)에 형성된 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)에 의해 차폐판(100)에 단위 면적당 전류가 닿는 경계면이 길어지게 되어 차폐판(100) 전체에 균일한 전류 밀도 분포를 갖게 한다. 이로 인해, 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판 전체에 도금층이 균일한 두께로 형성되게 된다.Accordingly, the shielding plate according to the fifth embodiment of the present invention is shielded by the first through holes (102a, 104a) and the second through holes (102b, 104b) formed in the central portion and the semi-circular projection (110b) of the
여기서, 제 1 투공(102a,104a)은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판에서 설명된 바와 같이 차폐판(100) 중앙부에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하고, 제 2 투공(102b,104b)은 차폐판(100)의 외곽 가장자리에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지한다.Here, the first through holes (102a, 104a) to prevent the current density is concentrated in the center of the
이러한, 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.The first and
또한, 제 1 투공(102a,104a)은 차폐판(100) 전체에 전류 밀도를 균일하게 분포시키기 위해 제 2 투공(102b,104b)과 동일한 크기로 형성되거나 더 크게 형성된다.In addition, the first through
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding
이상 설명에서, 투공(102a,102b,104a,104b)이 차폐판(100)의 중심부와 반원 돌출부(110b)에 형성된 차폐판(100)에 대해 설명하였으나 투공(102a,102b,104a,104b)은 반원 돌출부(110b)에만 형성될 수도 있다.In the above description, the shielding
이와 같은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Such a method of electroplating a printed circuit board using the shielding plate according to the fifth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention. Replace with.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.7A and 7B are views illustrating a shielding plate according to a sixth embodiment of the present invention.
도 7a 및 도 7b를 참조하면, 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판은 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(112)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(112)는 정사각형 형태의 사각 돌출부(112b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 사각 돌출부(1120a)와 대응되는 형태로 사각홈(112a)이 요입되며, 사각 돌출부(112b)와 사각홈(112a)이 교대로 형성된다. 또한, 차폐판(100)의 중심부에는 제 1 투공(102a,104a)이 격자 형태로 형성되고, 반원 돌출부(110b)에는 제 2 투공(102b,104b)이 형성된다.7A and 7B, the shielding plate according to the sixth embodiment of the present invention is formed such that the current
이에 따라, 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판은 차폐판(100)의 중심부와 사각 돌출부(112b)에 형성된 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)에 의해 차폐판(100)에 단위 면적당 전류가 닿는 경계면이 길어지게 되어 차폐판(100) 전체에 균일한 전류 밀도 분포를 갖게 한다. 이로 인해, 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판 전체에 도금층이 균일한 두께로 형성되게 된다.Accordingly, the shielding plate according to the sixth embodiment of the present invention is shielded by the first through holes (102a, 104a) and the second through holes (102b, 104b) formed in the central portion and the
여기서, 제 1 투공(102a,104a)은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판에서 설명된 바와 같이 차폐판(100) 중앙부에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하고, 제 2 투공(102b,104b)은 차폐판(100)의 외곽 가장자리에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지한다.Here, the first through holes (102a, 104a) to prevent the current density is concentrated in the center of the
이러한, 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.The first and
또한, 제 1 투공(102a,104a)은 차폐판(100) 전체에 전류 밀도를 균일하게 분포시키기 위해 제 2 투공(102b,104b)과 동일한 크기로 형성되거나 더 크게 형성된다.In addition, the first through
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding
이상 설명에서, 투공(102a,102b,104a,104b)이 차폐판(100)의 중심부와 사각 돌출부(112b)에 형성된 차폐판(100)에 대해 설명하였으나 투공(102a,102b,104a,104b)은 사각 돌출부(112b)에만 형성될 수도 있다.In the above description, the shielding
이와 같은 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the sixth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.8A and 8B are views illustrating a shielding plate according to a seventh embodiment of the present invention.
도 8a 및 도 8b를 참조하면, 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리가 사각형 형태로 형성되고, 외곽 테두리 부근 다시 말해, 차폐판(100)의 외 곽 테두리와 중심부 사이에 투공(102,104)이 격자 형태로 형성된다. 또한, 차폐판(100)은 중심부에 전류 분산을 위한 전류 분산 유도부(110)가 굴곡지도록 형성된다. 8A and 8B, the shielding plate according to the seventh embodiment of the present invention has an outer border formed in a rectangular shape, that is, near the outer border, that is, perforated between the outer border and the center of the
이때, 전류 분산 유도부(110)는 반원 형태의 반원 돌출부(110b)가 차폐판(100)의 중심을 향하도록 돌출되고, 반원 돌출부(110b)와 대응되게 반원홈(110a)이 차폐판(100)의 외곽 테두리 방향으로 요입되도록 형성되며, 반원 돌출부(110b)와 반원홈(110a)이 교대로 형성되어 차폐판(100) 중심부의 전류 분산을 유도하게 된다.In this case, the current spreading
여기서, 투공(102,104)은 차폐판(100)의 외곽 테두리와 중심부에만 형성되어 있으나, 반원 돌출부(110b)에도 형성될 수 있다.Here, the through
이에 따라, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부와 전류 분산 유도부(110)는 전류 밀도를 분산시키고, 반원 돌출부(110b) 및 반원홈(110a)에 의해 구멍이 형성된 중앙부는 전류 밀도를 관통시키게 된다. 이때, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부는 전류 분산 유도부(110)보다 더 많은 전류 밀도를 분산시킨다.Accordingly, the outer portion of the
이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판은 중심부에 형성된 반원 돌출부(110b) 및 반원홈(110a)과 외곽 테두리와 중심부 사이에 형성된 투공(102,104)에 의해 전류 밀도가 균일하게 분포되게 된다.The shielding plate according to the seventh embodiment of the present invention having such a configuration has a uniform current density by
여기서, 투공(102,104)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형 태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.Here, the
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding
이와 같은 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the seventh embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.9A and 9B are views illustrating a shielding plate according to an eighth embodiment of the present invention.
도 9a 및 도 9b를 참조하면, 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리가 사각형 형태로 형성되고, 외곽 테두리 부근 다시 말해, 차폐판(100)의 외곽 테두리와 중심부 사이에 투공(102,104)이 격자 형태로 형성된다. 또한, 차폐판(100)은 중심부에 전류 분산을 위한 전류 분산 유도부(112)가 굴곡지도록 형성된다. 9A and 9B, the shielding plate according to the eighth embodiment of the present invention has an outer border formed in a quadrangular shape, that is, near the outer border, that is, a perforation between the outer border and the center of the shielding plate 100 ( 102, 104 are formed in the form of a lattice. In addition, the shielding
이때, 전류 분산 유도부(112)는 정사각형 형태의 사각 돌출부(112b)가 차폐판(100)의 중심을 향하도록 돌출되고, 사각 돌출부(112b)와 대응되게 사각홈(112a)이 차폐판(100)의 외곽 테두리 방향으로 요입되도록 형성되며, 사각 돌출부(112b)와 사각홈(112a)이 교대로 형성되어 차폐판(100) 중심부의 전류 분산을 유도하게 된다.In this case, the current
여기서, 투공(102,104)은 차폐판(100)의 외곽 테두리와 중심부에만 형성되어 있으나, 사각 돌출부(112b)에도 형성될 수 있다.Here, the through
이에 따라, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부와 전류 분산 유도부(112)는 전류 밀도를 분산시키고, 사각 돌출부(112b) 및 사각홈(112a)에 의해 구멍이 형성된 중앙부는 전류 밀도를 관통시키게 된다. 이때, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부는 전류 분산 유도부(112)보다 더 많은 전류 밀도를 분산시킨다.Accordingly, the outer portion of the
이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판은 중심부에 형성된 사각 돌출부(112b) 및 사각홈(112a)과 외곽 테두리와 중심부 사이에 형성된 투공(102,104)에 의해 전류 밀도가 균일하게 분포되게 된다.In the shielding plate according to the eighth embodiment of the present invention having such a configuration, the current density is uniform by the
여기서, 투공(102,104)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.Here, the
이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding
이와 같은 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the eighth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.
이상 설명한 바와 같이 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 굴곡지도록 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금 층의 두께를 균일하게 형성할 수 있게 된다.As described above, the present invention may be formed to bend the outer edge of the shielding plate so that the current density of the entire shielding plate may be uniform to form a uniform thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.
또한, 본 발명은 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성된 차폐판 내부에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있게 된다.In addition, the present invention by forming a hole in the shielding plate formed so that the outer edge is curved to uniform the current density of the entire shielding plate it is possible to uniformly form the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.
그리고, 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 사각형 형태로 형성하고 중심부를 굴곡지도록 형성하며 외곽 테두리와 중심부 사이에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있게 된다.In addition, the present invention is formed by forming the outer edge of the shielding plate in a rectangular shape, the center portion is formed to be bent, and forming a perforation between the outer edge and the center portion of the plating layer formed on the printed circuit board to uniform the current density of the entire shielding plate. The thickness can be formed uniformly.
상술한 바와 같이, 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 굴곡지도록 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.As described above, according to the present invention, the outer edge of the shielding plate may be bent to uniformly form the current density of the entire shielding plate to uniformly form the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.
또한, 본 발명은 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성된 차폐판 내부에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.In addition, the present invention can form a through hole inside the shielding plate formed so that the outer edge is curved to uniform the current density of the entire shielding plate to uniformly form the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.
그리고, 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 사각형 형태로 형성하고 중심부를 굴곡지도록 형성하며 외곽 테두리와 중심부 사이에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.In addition, the present invention is formed by forming the outer edge of the shielding plate in a rectangular shape, the center portion is formed to be bent, and forming a perforation between the outer edge and the center portion of the plating layer formed on the printed circuit board to uniform the current density of the entire shielding plate. The thickness can be formed uniformly.
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