KR100855808B1 - Electroplating Apparatus - Google Patents

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안진용
윤희수
김주욱
류창섭
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명은 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 균일한 두께의 도금층을 형성할 수 있는 전해 도금 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electrolytic plating apparatus capable of forming a plating layer having a uniform thickness on a printed circuit board by making the current density distribution uniform.

본 발명에 따르면, 차폐판의 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성되어 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 되어 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성된다.According to the present invention, the outer edge of the shielding plate is formed to be bent to uniform the current density of the entire shielding plate so that the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board is uniformly formed.

차폐판, 전해 도금, 투공, 전류 밀도 Shield plate, electroplating, perforation, current density

Description

전해 도금 장치{Electroplating Apparatus}Electroplating Apparatus {Electroplating Apparatus}

도 1은 종래기술에 따른 인쇄회로기판의 차폐판을 나타내는 도면.1 is a view showing a shield of a conventional printed circuit board.

도 2는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.2 is a view showing a shield plate according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.3 is a view showing a shielding plate according to a second embodiment of the present invention.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.4A and 4B illustrate a shielding plate according to a third embodiment of the present invention.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.5A and 5B illustrate a shielding plate according to a fourth embodiment of the present invention.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.6A and 6B illustrate a shielding plate according to a fifth embodiment of the present invention.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.7A and 7B illustrate a shielding plate according to a sixth embodiment of the present invention.

도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.8A and 8B illustrate a shielding plate according to a seventh embodiment of the present invention.

도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면.9A and 9B illustrate a shielding plate according to an eighth embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

10, 100 : 차폐판 102, 102a, 102b, 104, 104a, 104b : 투공10, 100: shielding plate 102, 102a, 102b, 104, 104a, 104b: through hole

110 : 전류 분산 유도부 110a : 반원홈110: current dispersion induction unit 110a: semicircular groove

110b : 반원 돌출부 112a : 사각홈110b: semicircular protrusion 112a: square groove

112b : 사각 돌출부112b: square protrusion

본 발명은 전해 도금 장치에 관한 것으로, 특히 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 균일한 두께의 도금층을 형성할 수 있는 전해 도금 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrolytic plating apparatus, and more particularly, to an electrolytic plating apparatus capable of forming a plating layer having a uniform thickness on a printed circuit board by making the current density distribution uniform.

인쇄회로기판(Printed Circuit Borad; PCB)이란 전자부품 상호 간의 전기배선을 회로설계에 기초하여, 절연기판 위에 도체를 형성하는 프린트 배선판으로 PCB기판, 프린트회로판 또는 인쇄배선기판(Printed Wiring Board)이라고 한다.Printed Circuit Board (PCB) is a printed wiring board that forms conductors on insulating boards based on circuit design. The electrical wiring between electronic components is called a PCB board, printed circuit board, or printed wiring board. .

일반적으로 인쇄회로기판은 페놀수지 절연판 또는 에폭시수지 절연판 등의 표면에 구리 박판을 부착시킨 후, 회로의 배선패턴에 따라 에칭하여 필요한 회로를 구성하고 그 위에 IC, 콘덴서, 저항 등의 여러 가지 전기전자부품을 조밀하게 탑재할 수 있게 하는 절연평판이다.In general, a printed circuit board is formed by attaching a copper thin plate to a surface of a phenol resin insulator or an epoxy resin insulator, and then etching it according to the wiring pattern of the circuit to form a necessary circuit, and various electrical and electronic devices such as IC, capacitor, and resistor thereon. It is an insulating flat plate that allows compact mounting of parts.

즉, 각 전자부품 상호 간을 연결하는 회로를 절연판의 표면에 배선모양으로 형성시킨 것이다. 인쇄회로기판은 배선회로판의 면수에 따라 단면기판, 양면기판, 다층기판 등으로 분류되고 있으며, 층수가 많을수록 부품의 실장력이 우수하고 고정밀제품에 사용된다.That is, a circuit for connecting the electronic components with each other is formed in the shape of a wiring on the surface of the insulating plate. Printed circuit boards are classified into single-sided boards, double-sided boards, and multilayer boards according to the number of printed circuit boards. The higher the number of layers, the better the mounting force of the parts and the high-precision products.

이러한, 인쇄회로기판은 전해도금 공정을 통해 도금층을 형성한 후 노광 및 현상 공정을 통해 회로를 형성하게 된다.The printed circuit board forms a plating layer through an electroplating process and then forms a circuit through an exposure and development process.

이때, 인쇄회로기판의 단면 또는 양면에 전해도금을 하는 경우 도금액이 수용된 도금조에 양극과 도금 대상물인 인쇄회로기판이 대향되도록 배치하고, 양극으로부터 인쇄회로기판을 향해 전류를 흘려 도금층을 형성하게 된다.In this case, when electroplating the end surface or both sides of the printed circuit board, the anode and the printed circuit board as the plating target are disposed to face the plating bath in which the plating solution is accommodated, and a current flows from the anode toward the printed circuit board to form the plating layer.

그러나, 일반적으로 도금조에 인쇄회로기판을 침지시켜 도금층을 형성할 경우 인쇄회로기판의 에지부(edge)에 전류 밀도가 집중되어 중앙부와 에지부의 도금 두께가 다르게 형성되게 된다.However, in general, when the plating layer is formed by immersing the printed circuit board in the plating bath, the current density is concentrated at the edge of the printed circuit board, and thus the plating thickness of the center part and the edge part is different.

이에 따라, 도 1에 도시된 차폐판(10)을 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치하여 에지부로 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하여 도금층을 균일하게 형성하게 된다.Accordingly, the shielding plate 10 shown in FIG. 1 is installed between the printed circuit board and the anode to prevent the current density from concentrating on the edge portion, thereby uniformly forming the plating layer.

그러나, 이와 같은 종래의 차폐판(10)을 이용하여 인쇄회로기판에 도금층을 형성하더라도 차폐판(10)이 사각형 형태로 형성되기 때문에 양극으로부터의 전류가 차폐판(10)의 가장자리 부분에 집중되는 문제가 있다.However, even when the plating layer is formed on the printed circuit board by using the conventional shielding plate 10, the current from the anode is concentrated on the edge of the shielding plate 10 because the shielding plate 10 is formed in a rectangular shape. there is a problem.

다시 말해, 차폐판(10)의 가장자리가 직선으로 형성되어 전류가 닿는 길이가 짧기 때문에 도 1에 도시된 차폐판(10)을 이용하여 도금층을 형성하더라도 인쇄회로기판의 가장자리에 형성되는 도금층과 중앙부에 형성되는 도금층의 두께가 다르게 형성되는 문제가 있다.In other words, since the edge of the shielding plate 10 is formed in a straight line and the length of the current is short, the plating layer and the central portion formed at the edge of the printed circuit board are formed even when the plating layer is formed using the shielding plate 10 shown in FIG. 1. There is a problem that the thickness of the plating layer formed on the different.

따라서, 본 발명은 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 균일한 두께의 도금층을 형성할 수 있는 전해 도금 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an electroplating apparatus capable of forming a plating layer having a uniform thickness on a printed circuit board by making the current density distribution uniform.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 전해 도금 장치는 도금액이 수용된 도금조; 상기 도금조 내에 양극과 대향 되도록 배치된 인쇄회로기판; 및 외곽 테두리가 굴곡지도록 외곽으로 돌출되는 돌출부와 상기 돌출부와 대응되는 형태의 홈이 중심부를 향해 요입 되도록 교대로 형성되어 상기 인쇄회로기판과 상기 양극 사이에 설치된 차폐판을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, an electrolytic plating apparatus according to an embodiment of the present invention is a plating bath containing a plating solution; A printed circuit board disposed to face the anode in the plating bath; And a shielding plate formed between the printed circuit board and the anode so as to be alternately formed to protrude outward so that the outer edge is curved, and a groove having a shape corresponding to the protrusion is concave toward the center.

본 발명의 다른 실시 예에 따른 전해 도금 장치는 도금액이 수용된 도금조; 상기 도금조 내에 양극과 대향 되도록 배치된 인쇄회로기판; 및 중심부에 상기 중심부를 향해 돌출되는 돌출부와 상기 돌출부와 대응되는 형태의 홈이 외곽을 향해 요입 되도록 교대로 형성된 전류 분산 유도부가 홈 형태로 형성되고 상기 전류 분산 유도부와 직사각형 형태의 외곽 테두리 사이에 투공이 격자 형태로 형성된 차폐판을 포함하는 것을 특징으로 한다.Electrolytic plating apparatus according to another embodiment of the present invention is a plating bath containing a plating solution; A printed circuit board disposed to face the anode in the plating bath; And a current distributing induction part alternately formed in the center so that the protrusion protruding toward the center and the groove corresponding to the protrusion are formed in the groove shape, and is formed between the current dispersion induction part and the rectangular outer edge. The ball is characterized in that it comprises a shield plate formed in the form of a grid.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.2 is a view showing a shielding plate according to a first embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판은 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(110)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(110)는 반원 형태의 반원 돌출부(110b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 반원 돌출부(110b)와 대응되는 형태로 반원홈(110a)이 요입되며, 반원 돌출부(110b)와 반원홈(110a)이 교대로 형성되어 전류의 분산을 유도하게 된다. 이에 따라, 단위 면적당 전류가 닿는 경계 길이가 길어지게 되어 차폐판(100)의 가장 자리 부분의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.Referring to FIG. 2, the shielding plate according to the first embodiment of the present invention is formed such that the current dispersion induction part 110 is bent at an outer edge for current dispersion. In this case, the current dispersion induction part 110 is formed so that the semi-circular semicircular protrusion 110b protrudes in the outward direction, and the semi-circular groove 110a is recessed in a form corresponding to the semicircular protrusion 110b, and the semicircular protrusion 110b. And semicircular grooves 110a are alternately formed to induce current dispersion. Accordingly, the boundary length through which the current per unit area reaches is increased, thereby lowering the current density distribution of the edge portion of the shielding plate 100.

다시 말해, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리에 반원 형태의 반원 돌출부(110b)와 반원 형태로 요입되는 반원홈(110a)을 교대로 형성하여 단위 면적당 전류가 닿는 길이를 넓혀 전류의 분산을 유도하여 차폐판(100) 외곽의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.In other words, the shielding plate according to the first exemplary embodiment of the present invention alternately forms a semicircular protrusion 110b having a semicircular shape and a semicircular groove 110a recessed in a semicircular shape at the outer edge thereof to widen the length of the current per unit area. By inducing the dispersion of the current it is possible to lower the current density distribution outside the shield plate (100).

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이와 같은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 도금액이 수용된 도금조에 도금 대상물인 인쇄회로기판과 양극이 대향되도록 배치한다. 이후, 인쇄회로기판과 양극 사이에 전류 분산 유도부(110)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된 차폐판(100)을 설치한다. 이후, 양극으로부터 인쇄회로기판을 향해 전류를 흘러 인쇄회로기판의 단면 또는 양면에 도금층을 형성한다.Referring to the method of electroplating a printed circuit board using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention as follows. First, the printed circuit board, which is the plating target, and the anode are disposed to face the plating bath in which the plating liquid is accommodated. Thereafter, the shielding plate 100 is formed between the printed circuit board and the anode so that the current dispersion induction part 110 is bent at the outer edge. Thereafter, current flows from the anode toward the printed circuit board to form a plating layer on one or both surfaces of the printed circuit board.

이때, 도금층은 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성된 차폐판(100)이 인쇄회로기판의 에지부로 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하기 때문에 균일하게 형성되게 된다.In this case, the plating layer is uniformly formed because the shielding plate 100 formed to bend the outer edge prevents the current density from being concentrated on the edge portion of the printed circuit board.

도 3은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.3 is a view showing a shielding plate according to a second embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판은 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판과 동일하게 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(112)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(112)는 정사각형 형태의 사각 돌출부(112b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 사각 돌출부(112b)와 대응되는 형태로 사각홈(112a)이 요입되며, 사각 돌출부(112b)와 사각홈(112a)이 교대로 형성되어 전류의 분산을 유도하게 된다. 이에 따라, 단위 면적당 전류가 닿는 경계 길이가 길어지게 되어 차폐판(100)의 가장 자리 부분의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.Referring to FIG. 3, in the shielding plate according to the second embodiment of the present invention, the current dispersion induction unit 112 has an outer edge for current distribution in the same manner as the shielding plate according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. It is formed to be curved. In this case, the current dispersion induction part 112 is formed such that the square protrusion 112b having a square shape protrudes in the outward direction, the square groove 112a is recessed in a shape corresponding to the square protrusion 112b, and the square protrusion 112b is provided. And square grooves 112a are alternately formed to induce dispersion of current. Accordingly, the boundary length through which the current per unit area reaches is increased, thereby lowering the current density distribution of the edge portion of the shielding plate 100.

다시 말해, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리에 정사각형 형태로 외곽 방향으로 돌출되는 사각 돌출부(112b)와 정사각형 형태로 요입되는 사각홈(112a)이 교대로 형성하여 단위 면적당 전류가 닿는 길이를 넓혀 전류의 분산을 유도하여 차폐판(100) 외곽의 전류 밀도 분포를 낮출 수 있게 된다.In other words, in the shielding plate according to the second embodiment of the present invention, a rectangular protrusion 112b protruding in the outward direction in a square shape and a square groove 112a concaved in the square shape alternately form a current on a periphery edge. By widening the length of the contact to induce the dispersion of the current it is possible to lower the current density distribution of the outside of the shield plate (100).

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이와 같은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the second embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.4A and 4B are views illustrating a shielding plate according to a third embodiment of the present invention.

도 4a 및 도 4b에 도시된 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판은 도 2에 도시된 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판과 비교하여 차폐판(100)의 중심부에 투공(102)이 형성된 것을 제외하면 그 형상이 동일하게 형성되므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.The shielding plate according to the third embodiment of the present invention illustrated in FIGS. 4A and 4B has a hole 102 in the center of the shielding plate 100 as compared to the shielding plate according to the first embodiment of the present invention illustrated in FIG. 2. Except for the formation of), the shape is formed in the same manner, so the detailed description will be replaced with the above description.

투공(102,104)은 차폐판(100)의 중앙부에 격자형태로 형성되어 차폐판(100) 중앙부에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지한다. 다시 말해, 투공(102,104)은 차폐판(100) 중앙부에 단위 면적당 전류가 닿는 경계면을 길게 하여 차폐판(100) 전체로 전류를 균일하게 분포하는 역할을 한다. 이때, 투공(102,104)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.Perforations 102 and 104 are formed in the center of the shield plate 100 in a grid shape to prevent the current density is concentrated in the center of the shield plate (100). In other words, the perforations 102 and 104 serve to uniformly distribute the current throughout the shielding plate 100 by lengthening the interface where the current per unit area reaches the central portion of the shielding plate 100. In this case, the perforations 102 and 104 may be formed of any one of a circle or a polygon such as a rectangle or a rhombus, but more preferably, may be formed in a rhombus shape in order to make the interface length to which the current reaches the same.

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이와 같은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the third embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.5A and 5B are views illustrating a shielding plate according to a fourth embodiment of the present invention.

도 5a 및 도 5b에 도시된 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판은 도 3에 도시된 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 차폐판과 비교하여 차폐판(100)의 중심부에 투공(102)이 형성된 것을 제외하면 그 형상이 동일하게 형성되므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.The shielding plate according to the fourth embodiment of the present invention shown in FIGS. 5A and 5B has a hole 102 in the center of the shielding plate 100 as compared to the shielding plate according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 3. Except for the formation of), the shape is formed in the same manner, so the detailed description will be replaced with the above description.

또한, 투공(102,104)은 도 4a 및 도 4b에 도시된 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판과 동일하게 형성되고, 동일한 역할을 하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.In addition, since the through-holes 102 and 104 are formed in the same manner as the shielding plate according to the third embodiment of the present invention shown in FIGS. 4A and 4B and play the same role, the detailed description will be replaced with the above description.

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이와 같은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the fourth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.

도 6a 및 도 6b는 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.6A and 6B are views illustrating a shielding plate according to a fifth embodiment of the present invention.

도 6a 및 도 6b를 참조하면, 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판은 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(110)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(110)는 반원 형태의 반원 돌출부(110b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 반원 돌출부(110b)와 대응되는 형태로 반원홈(110a)이 요입되며, 반원 돌출부(110b)와 반원홈(110a)이 교대로 형성된다. 또한, 차폐판(100)의 중심부에는 제 1 투공(102a,104a)이 격자 형태로 형성되고, 반원 돌출부(110b)에는 제 2 투공(102b,104b)이 형성된다.6A and 6B, the shielding plate according to the fifth embodiment of the present invention is formed such that the current dispersion induction part 110 is bent at an outer edge for current dispersion. In this case, the current dispersion induction part 110 is formed so that the semi-circular semicircular protrusion 110b protrudes in the outward direction, and the semi-circular groove 110a is recessed in a form corresponding to the semicircular protrusion 110b, and the semicircular protrusion 110b. And semicircular grooves 110a are alternately formed. In addition, first center holes 102a and 104a are formed in the center of the shielding plate 100 in a lattice shape, and second hole holes 102b and 104b are formed in the semicircular protrusions 110b.

이에 따라, 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판은 차폐판(100)의 중심부와 반원 돌출부(110b)에 형성된 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)에 의해 차폐판(100)에 단위 면적당 전류가 닿는 경계면이 길어지게 되어 차폐판(100) 전체에 균일한 전류 밀도 분포를 갖게 한다. 이로 인해, 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판 전체에 도금층이 균일한 두께로 형성되게 된다.Accordingly, the shielding plate according to the fifth embodiment of the present invention is shielded by the first through holes (102a, 104a) and the second through holes (102b, 104b) formed in the central portion and the semi-circular projection (110b) of the shielding plate 100 The boundary surface at which the electric current per unit area reaches the plate 100 becomes long, so that the entire shield plate 100 has a uniform current density distribution. As a result, the plating layer is formed to have a uniform thickness on the entire printed circuit board during the electroplating process.

여기서, 제 1 투공(102a,104a)은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판에서 설명된 바와 같이 차폐판(100) 중앙부에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하고, 제 2 투공(102b,104b)은 차폐판(100)의 외곽 가장자리에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지한다.Here, the first through holes (102a, 104a) to prevent the current density is concentrated in the center of the shield plate 100, as described in the shielding plate according to the third embodiment of the present invention, the second through holes (102b, 104b) ) Prevents current density from concentrating on the outer edge of the shield plate 100.

이러한, 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.The first and second holes 102a and 104a and 102b and 104b may be formed of any one of a polygon, such as a circle, a quadrangle, and a rhombus, but are formed in a rhombus shape in order to make the same interface length to which an electric current is applied. More preferably.

또한, 제 1 투공(102a,104a)은 차폐판(100) 전체에 전류 밀도를 균일하게 분포시키기 위해 제 2 투공(102b,104b)과 동일한 크기로 형성되거나 더 크게 형성된다.In addition, the first through holes 102a and 104a are formed to have the same size as or larger than the second through holes 102b and 104b so as to uniformly distribute the current density throughout the shield plate 100.

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이상 설명에서, 투공(102a,102b,104a,104b)이 차폐판(100)의 중심부와 반원 돌출부(110b)에 형성된 차폐판(100)에 대해 설명하였으나 투공(102a,102b,104a,104b)은 반원 돌출부(110b)에만 형성될 수도 있다.In the above description, the shielding plate 100 formed in the central portion of the shielding plate 100 and the semicircular protrusion 110b has been described, but the perforations 102a, 102b, 104a, 104b are described. It may be formed only in the semi-circular projection (110b).

이와 같은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Such a method of electroplating a printed circuit board using the shielding plate according to the fifth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention. Replace with.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.7A and 7B are views illustrating a shielding plate according to a sixth embodiment of the present invention.

도 7a 및 도 7b를 참조하면, 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판은 전류 분산을 위해 전류 분산 유도부(112)가 외곽 테두리에 굴곡지도록 형성된다. 이때, 전류 분산 유도부(112)는 정사각형 형태의 사각 돌출부(112b)가 외곽 방향으로 돌출되도록 형성되고, 사각 돌출부(1120a)와 대응되는 형태로 사각홈(112a)이 요입되며, 사각 돌출부(112b)와 사각홈(112a)이 교대로 형성된다. 또한, 차폐판(100)의 중심부에는 제 1 투공(102a,104a)이 격자 형태로 형성되고, 반원 돌출부(110b)에는 제 2 투공(102b,104b)이 형성된다.7A and 7B, the shielding plate according to the sixth embodiment of the present invention is formed such that the current dispersion induction part 112 is bent at the outer edge for current dispersion. In this case, the current dispersion induction part 112 is formed such that the square protrusion 112b having a square shape protrudes in the outward direction, the square groove 112a is recessed in a shape corresponding to the square protrusion 1120a, and the square protrusion 112b is provided. And square grooves 112a are alternately formed. In addition, first center holes 102a and 104a are formed in the center of the shielding plate 100 in a lattice shape, and second hole holes 102b and 104b are formed in the semicircular protrusions 110b.

이에 따라, 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판은 차폐판(100)의 중심부와 사각 돌출부(112b)에 형성된 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)에 의해 차폐판(100)에 단위 면적당 전류가 닿는 경계면이 길어지게 되어 차폐판(100) 전체에 균일한 전류 밀도 분포를 갖게 한다. 이로 인해, 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판 전체에 도금층이 균일한 두께로 형성되게 된다.Accordingly, the shielding plate according to the sixth embodiment of the present invention is shielded by the first through holes (102a, 104a) and the second through holes (102b, 104b) formed in the central portion and the rectangular protrusion 112b of the shielding plate (100). The boundary surface at which the electric current per unit area reaches the plate 100 becomes long, so that the entire shield plate 100 has a uniform current density distribution. As a result, the plating layer is formed to have a uniform thickness on the entire printed circuit board during the electroplating process.

여기서, 제 1 투공(102a,104a)은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 차폐판에서 설명된 바와 같이 차폐판(100) 중앙부에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지하고, 제 2 투공(102b,104b)은 차폐판(100)의 외곽 가장자리에 전류 밀도가 집중되는 것을 방지한다.Here, the first through holes (102a, 104a) to prevent the current density is concentrated in the center of the shield plate 100, as described in the shielding plate according to the third embodiment of the present invention, the second through holes (102b, 104b) ) Prevents current density from concentrating on the outer edge of the shield plate 100.

이러한, 제 1 투공(102a,104a) 및 제 2 투공(102b,104b)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.The first and second holes 102a and 104a and 102b and 104b may be formed of any one of a polygon, such as a circle, a quadrangle, and a rhombus, but are formed in a rhombus shape in order to make the same interface length to which an electric current is applied. More preferably.

또한, 제 1 투공(102a,104a)은 차폐판(100) 전체에 전류 밀도를 균일하게 분포시키기 위해 제 2 투공(102b,104b)과 동일한 크기로 형성되거나 더 크게 형성된다.In addition, the first through holes 102a and 104a are formed to have the same size as or larger than the second through holes 102b and 104b so as to uniformly distribute the current density throughout the shield plate 100.

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이상 설명에서, 투공(102a,102b,104a,104b)이 차폐판(100)의 중심부와 사각 돌출부(112b)에 형성된 차폐판(100)에 대해 설명하였으나 투공(102a,102b,104a,104b)은 사각 돌출부(112b)에만 형성될 수도 있다.In the above description, the shielding plate 100 formed in the center of the shielding plate 100 and the rectangular protrusion 112b is formed in the through holes 102a, 102b, 104a and 104b, but the through holes 102a, 102b, 104a and 104b are described. It may be formed only in the rectangular protrusion 112b.

이와 같은 본 발명의 제 6 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the sixth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.

도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.8A and 8B are views illustrating a shielding plate according to a seventh embodiment of the present invention.

도 8a 및 도 8b를 참조하면, 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리가 사각형 형태로 형성되고, 외곽 테두리 부근 다시 말해, 차폐판(100)의 외 곽 테두리와 중심부 사이에 투공(102,104)이 격자 형태로 형성된다. 또한, 차폐판(100)은 중심부에 전류 분산을 위한 전류 분산 유도부(110)가 굴곡지도록 형성된다. 8A and 8B, the shielding plate according to the seventh embodiment of the present invention has an outer border formed in a rectangular shape, that is, near the outer border, that is, perforated between the outer border and the center of the shielding plate 100. 102 and 104 are formed in a lattice form. In addition, the shielding plate 100 is formed such that the current dispersion induction part 110 for current dispersion in the center portion is bent.

이때, 전류 분산 유도부(110)는 반원 형태의 반원 돌출부(110b)가 차폐판(100)의 중심을 향하도록 돌출되고, 반원 돌출부(110b)와 대응되게 반원홈(110a)이 차폐판(100)의 외곽 테두리 방향으로 요입되도록 형성되며, 반원 돌출부(110b)와 반원홈(110a)이 교대로 형성되어 차폐판(100) 중심부의 전류 분산을 유도하게 된다.In this case, the current spreading induction part 110 protrudes so that the semi-circular semicircular protrusion 110b faces the center of the shielding plate 100, and the semicircular groove 110a corresponds to the semicircular protrusion 110b. It is formed to be concaved in the outer edge direction of, the semi-circular protrusion 110b and the semi-circular groove (110a) are formed alternately to induce current dispersion in the center of the shielding plate (100).

여기서, 투공(102,104)은 차폐판(100)의 외곽 테두리와 중심부에만 형성되어 있으나, 반원 돌출부(110b)에도 형성될 수 있다.Here, the through holes 102 and 104 are formed only at the outer edge and the center of the shielding plate 100, but may also be formed at the semicircular protrusion 110b.

이에 따라, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부와 전류 분산 유도부(110)는 전류 밀도를 분산시키고, 반원 돌출부(110b) 및 반원홈(110a)에 의해 구멍이 형성된 중앙부는 전류 밀도를 관통시키게 된다. 이때, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부는 전류 분산 유도부(110)보다 더 많은 전류 밀도를 분산시킨다.Accordingly, the outer portion of the shielding plate 100 where the holes 102 and 104 are formed and the current dispersion induction unit 110 distribute the current density, and the center portion formed by the semicircular protrusion 110b and the semicircular groove 110a has a current. It will penetrate the density. At this time, the outer portion of the shielding plate 100 in which the perforations 102 and 104 are formed distributes more current density than the current dispersion induction unit 110.

이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판은 중심부에 형성된 반원 돌출부(110b) 및 반원홈(110a)과 외곽 테두리와 중심부 사이에 형성된 투공(102,104)에 의해 전류 밀도가 균일하게 분포되게 된다.The shielding plate according to the seventh embodiment of the present invention having such a configuration has a uniform current density by semicircular protrusions 110b and semicircular grooves 110a formed in the center and through holes 102 and 104 formed between the outer edge and the center. Will be distributed.

여기서, 투공(102,104)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형 태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.Here, the perforations 102 and 104 may be formed of any one of a circle or a polygon such as a rectangle or a rhombus, but it is more preferable to form a rhombus shape in order to make the interface length to which the current reaches the same.

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이와 같은 본 발명의 제 7 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the seventh embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.

도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판을 나타내는 도면이다.9A and 9B are views illustrating a shielding plate according to an eighth embodiment of the present invention.

도 9a 및 도 9b를 참조하면, 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판은 외곽 테두리가 사각형 형태로 형성되고, 외곽 테두리 부근 다시 말해, 차폐판(100)의 외곽 테두리와 중심부 사이에 투공(102,104)이 격자 형태로 형성된다. 또한, 차폐판(100)은 중심부에 전류 분산을 위한 전류 분산 유도부(112)가 굴곡지도록 형성된다. 9A and 9B, the shielding plate according to the eighth embodiment of the present invention has an outer border formed in a quadrangular shape, that is, near the outer border, that is, a perforation between the outer border and the center of the shielding plate 100 ( 102, 104 are formed in the form of a lattice. In addition, the shielding plate 100 is formed such that the current dispersion induction part 112 for current dispersion in the center portion is bent.

이때, 전류 분산 유도부(112)는 정사각형 형태의 사각 돌출부(112b)가 차폐판(100)의 중심을 향하도록 돌출되고, 사각 돌출부(112b)와 대응되게 사각홈(112a)이 차폐판(100)의 외곽 테두리 방향으로 요입되도록 형성되며, 사각 돌출부(112b)와 사각홈(112a)이 교대로 형성되어 차폐판(100) 중심부의 전류 분산을 유도하게 된다.In this case, the current dispersion induction part 112 is projected so that the square protrusion 112b having a square shape is directed toward the center of the shielding plate 100, and the square groove 112a is formed to correspond to the square protrusion 112b. It is formed to be concaved in the outer edge direction of, the rectangular protrusion 112b and the square groove 112a are formed alternately to induce current dispersion in the center of the shielding plate (100).

여기서, 투공(102,104)은 차폐판(100)의 외곽 테두리와 중심부에만 형성되어 있으나, 사각 돌출부(112b)에도 형성될 수 있다.Here, the through holes 102 and 104 are formed only at the outer edge and the center of the shielding plate 100, but may also be formed at the rectangular protrusion 112b.

이에 따라, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부와 전류 분산 유도부(112)는 전류 밀도를 분산시키고, 사각 돌출부(112b) 및 사각홈(112a)에 의해 구멍이 형성된 중앙부는 전류 밀도를 관통시키게 된다. 이때, 투공(102,104)이 형성된 차폐판(100)의 외곽부는 전류 분산 유도부(112)보다 더 많은 전류 밀도를 분산시킨다.Accordingly, the outer portion of the shielding plate 100 in which the holes 102 and 104 are formed and the current dispersion induction portion 112 distribute the current density, and the center portion formed by the square protrusion 112b and the square groove 112a has a current. It will penetrate the density. At this time, the outer portion of the shielding plate 100 in which the perforations 102 and 104 are formed distributes more current density than the current dispersion inducing unit 112.

이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판은 중심부에 형성된 사각 돌출부(112b) 및 사각홈(112a)과 외곽 테두리와 중심부 사이에 형성된 투공(102,104)에 의해 전류 밀도가 균일하게 분포되게 된다.In the shielding plate according to the eighth embodiment of the present invention having such a configuration, the current density is uniform by the rectangular protrusion 112b formed in the center and the through holes 102 and 104 formed between the square groove 112a and the outer edge and the center. Will be distributed.

여기서, 투공(102,104)은 원형 또는 사각형, 마름모 등의 다각형 중 어느 하나로 형성될 수 있으나 전류가 닿는 경계면 길이를 동일하게 하기 위해 마름모 형태로 형성하는 게 더욱 바람직하다.Here, the perforations 102 and 104 may be formed of any one of a circle or a polygon, such as a square or a rhombus, but more preferably formed in a rhombus shape in order to make the interface length to which an electric current reaches the same.

이러한, 차폐판(100)은 전해 도금 공정 시 인쇄회로기판과 양극 사이에 설치되어 인쇄회로기판의 에지부와 중심부에 전류 밀도 분포를 균일하게 하여 전해 도금 공정에 의해 형성되는 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한다.The shielding plate 100 is installed between the printed circuit board and the anode during the electroplating process to uniformly distribute the current density at the edges and the center of the printed circuit board so that the thickness of the plated layer formed by the electroplating process is uniform. To form.

이와 같은 본 발명의 제 8 실시 예에 따른 차폐판을이용하여 인쇄회로기판에 전해 도금하는 방법은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 차폐판을이용한 전해 도금 방법과 동일하므로 자세한 설명은 상술한 설명으로 대치하기로 한다.Since the electroplating method on the printed circuit board using the shielding plate according to the eighth embodiment of the present invention is the same as the electroplating method using the shielding plate according to the first embodiment of the present invention, the detailed description will be given above. Replace with.

이상 설명한 바와 같이 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 굴곡지도록 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금 층의 두께를 균일하게 형성할 수 있게 된다.As described above, the present invention may be formed to bend the outer edge of the shielding plate so that the current density of the entire shielding plate may be uniform to form a uniform thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.

또한, 본 발명은 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성된 차폐판 내부에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있게 된다.In addition, the present invention by forming a hole in the shielding plate formed so that the outer edge is curved to uniform the current density of the entire shielding plate it is possible to uniformly form the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.

그리고, 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 사각형 형태로 형성하고 중심부를 굴곡지도록 형성하며 외곽 테두리와 중심부 사이에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있게 된다.In addition, the present invention is formed by forming the outer edge of the shielding plate in a rectangular shape, the center portion is formed to be bent, and forming a perforation between the outer edge and the center portion of the plating layer formed on the printed circuit board to uniform the current density of the entire shielding plate. The thickness can be formed uniformly.

상술한 바와 같이, 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 굴곡지도록 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.As described above, according to the present invention, the outer edge of the shielding plate may be bent to uniformly form the current density of the entire shielding plate to uniformly form the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.

또한, 본 발명은 외곽 테두리가 굴곡지도록 형성된 차폐판 내부에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.In addition, the present invention can form a through hole inside the shielding plate formed so that the outer edge is curved to uniform the current density of the entire shielding plate to uniformly form the thickness of the plating layer formed on the printed circuit board.

그리고, 본 발명은 차폐판의 외곽 테두리를 사각형 형태로 형성하고 중심부를 굴곡지도록 형성하며 외곽 테두리와 중심부 사이에 투공을 형성함으로써 차폐판 전체의 전류 밀도를 균일하게 하여 인쇄회로기판에 형성되는 도금층의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.In addition, the present invention is formed by forming the outer edge of the shielding plate in a rectangular shape, the center portion is formed to be bent, and forming a perforation between the outer edge and the center portion of the plating layer formed on the printed circuit board to uniform the current density of the entire shielding plate. The thickness can be formed uniformly.

Claims (19)

도금액이 수용된 도금조;A plating bath in which a plating solution is accommodated; 상기 도금조 내에 양극과 대향 되도록 배치된 인쇄회로기판; 및A printed circuit board disposed to face the anode in the plating bath; And 외곽 테두리가 굴곡지도록 외곽으로 돌출되는 돌출부와 상기 돌출부와 대응되는 형태의 홈이 중심부를 향해 요입 되도록 교대로 형성되어 상기 인쇄회로기판과 상기 양극 사이에 설치된 차폐판을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.Electrolytic plating, characterized in that it comprises a shielding plate provided between the printed circuit board and the anode is formed alternately formed so that the protrusion protruding outwardly and the groove of the shape corresponding to the protrusion so that the outer edge is bent toward the center. Device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 돌출부는 외곽 테두리를 향해 반원 형태로 돌출되도록 형성되고 상기 홈은 상기 차폐판 내부를 향하도록 반원 형태로 요입되는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The protruding portion is formed to protrude in a semicircular shape toward the outer edge and the groove is recessed in a semicircular shape to face the inside of the shielding plate. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 차폐판의 중심부에 격자 형태로 투공이 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.Electrolytic plating apparatus characterized in that the perforation is formed in the center of the shield plate in the form of a lattice. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 돌출부에 투공이 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.Electrolytic plating apparatus, characterized in that the hole is formed in the protrusion. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 투공은 원형 또는 마름모 중 어느 하나의 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The perforation is an electroplating apparatus, characterized in that formed in the form of any one of a circular or rhombus. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 차폐판의 중심부에 형성된 투공은 상기 반원 돌출부에 형성된 투공과 동일한 크기를 갖도록 형성되거나 더 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The hole formed in the center of the shielding plate is formed to have the same size or larger than the hole formed in the semi-circular projection portion, characterized in that the electroplating apparatus. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 돌출부는 상기 외곽 테두리를 향해 정사각형 형태로 돌출되도록 형성되고, 상기 홈은 상기 차폐판 내부를 향하도록 정사각형 형태로 요입되는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The protruding portion is formed to protrude in a square shape toward the outer edge, the groove is indented in a square shape to face the inside of the shielding plate. 삭제delete 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 차폐판의 중심부에 격자 형태로 투공이 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.Electrolytic plating apparatus characterized in that the perforation is formed in the center of the shield plate in the form of a lattice. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 돌출부에 투공이 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.Electrolytic plating apparatus, characterized in that the hole is formed in the protrusion. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 투공은 원형 또는 마름모 중 어느 하나의 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The perforation is an electroplating apparatus, characterized in that formed in the form of any one of a circular or rhombus. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 차폐판의 중심부에 형성된 투공은 상기 돌출부에 형성된 투공과 동일한 크기를 갖도록 형성되거나 더 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The hole formed in the center of the shielding plate is formed to have the same size or larger than the hole formed in the protrusion portion, characterized in that the electroplating apparatus. 도금액이 수용된 도금조;A plating bath in which a plating solution is accommodated; 상기 도금조 내에 양극과 대향 되도록 배치된 인쇄회로기판; 및A printed circuit board disposed to face the anode in the plating bath; And 중심부에 상기 중심부를 향해 돌출되는 돌출부와 상기 돌출부와 대응되는 형태의 홈이 외곽을 향해 요입 되도록 교대로 형성된 전류 분산 유도부가 홈 형태로 형성되고 상기 전류 분산 유도부와 직사각형 형태의 외곽 테두리 사이에 투공이 격자 형태로 형성된 차폐판을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The current-dispersion induction part alternately formed in the center so that the protrusion protruding toward the center and the groove corresponding to the protrusion is recessed toward the outside is formed in the shape of a groove, and a hole is formed between the current-dispersion induction part and the rectangular outer edge. Electrolytic plating apparatus comprising a shield plate formed in the form of a grid. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 전류 분산 유도부는 반원 형태의 반원 돌출부가 상기 차폐판의 중심부를 향하도록 돌출되고, 상기 반원 돌출부와 대응되게 반원홈이 상기 차폐판의 외곽 테두리를 향하도록 요입되는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The current distributing induction part of the electroplating apparatus, characterized in that the semi-circular semi-circular protrusion projecting toward the center of the shield plate, the semi-circular groove is inclined toward the outer edge of the shield plate to correspond to the semi-circular projection. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 반원 돌출부에 투공이 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.Electrolytic plating device characterized in that the hole is formed in the semi-circular projection. 제 15 항에 있어서,The method of claim 15, 상기 투공은 원형 또는 마름모 중 어느 하나의 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The perforation is an electroplating apparatus, characterized in that formed in the form of any one of a circular or rhombus. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 전류 분산 유도부는 정사각형 형태의 사각 돌출부가 상기 차폐판의 중심부를 향하도록 돌출되고, 상기 사각 돌출부와 대응되는 사각홈이 상기 차폐판의 외곽 테두리를 향하도록 요입되는 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.And the current spreading induction part protrudes such that a square projecting portion having a square shape faces toward the center of the shielding plate, and a square groove corresponding to the rectangular projecting portion is directed toward an outer edge of the shielding plate. 제 17 항에 있어서,The method of claim 17, 상기 사각 돌출부에 투공이 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.Electrolytic plating apparatus, characterized in that the perforations are formed in the rectangular projection. 제 18 항에 있어서,The method of claim 18, 상기 투공은 원형 또는 마름모 중 어느 하나의 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 전해 도금 장치.The perforation is an electroplating apparatus, characterized in that formed in the form of any one of a circular or rhombus.
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