KR100854982B1 - Process for production of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and/or pentafluoroethane and applications of the same - Google Patents
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Abstract
1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 포함하는 주생성물, 상기 주생성물과의 공비 혼합물로서 불화 수소 및 적어도 불포화 화합물을 포함하는 불순물 성분으로 이루어지는, 불화 수소와 트리클로로에틸렌 및/또는 테트라클로로에틸렌을 반응시켜 얻어진 조생성물을 정제하는 공정으로 고순도 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 제조하는 공정에 있어서, 상기 정제 공정은 상기 조생성물에 새로이 불화 수소를 첨가함으로써 얻어진 혼합물을 기상으로 불소화 촉매와 접촉시켜 상기 조생성물에 함유된 불포화 화합물의 함량을 감소시키는 공정 및 증류 공정을 포함한다.Hydrogen fluoride, comprising a main product comprising 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, and an impurity component comprising hydrogen fluoride and at least an unsaturated compound as an azeotrope with the main product; A process for purifying crude product obtained by reacting trichloroethylene and / or tetrachloroethylene to produce high purity 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, wherein the purification process Includes a step and a distillation step of reducing the content of unsaturated compounds contained in the crude product by contacting the mixture obtained by newly adding hydrogen fluoride to the crude product in a gas phase.
Description
본 발명은 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법 및 그 용도에 관한 것이다.The present invention relates to a process for the preparation of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane and its use.
1,1,1,2-테트라플루오로에탄(HFC-134a 또는 CF3CH2F) 및 펜타플루오로에탄(HFC-125 또는 CF3CHF2)의 제조방법으로서, 종래부터 이하의 방법이 알려져 왔다.As a method for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane (HFC-134a or CF 3 CH 2 F) and pentafluoroethane (HFC-125 or CF 3 CHF 2 ), the following methods are conventionally known. come.
1,1,1,2-테트라플루오로에탄의 제조방법으로서, 예컨대, 불소 촉매의 존재하에 트리클로로에틸렌과 불화수소를 반응시키는 제조방법이 알려져 있다. 또한, 펜타플루오로에탄의 제조방법으로서, 불화 촉매의 존재하에, 테트라클로로에틸렌 및 불화 수소를 반응시키는 제조방법이 알려져 있다. 이들 방법에 의해 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및 펜타플루오로에탄을 제조하는 경우, 사용되는 반응 조건에 따라서 부산물로서, 각종 불순물이 생성된다. 이들 불순물은 CF2=CClF, CF2=CHCl, CHF=CClF, CClF=CHCl, CHCl=CHF, CF2=CHF, 및 CF2=CClF 등의 불포화 화합물이 포함 되고, CCl2F2, CH2ClF, CH2ClCClF2, CF3CHCl2 및 CF3CClF2 등의 클로로플루오로카본 및 CH2F2, CF3CH3 및 CHF2CHF2 등의 히드로플루오로카본이 포함된다.As a method for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane, for example, a method for producing trichloroethylene and hydrogen fluoride in the presence of a fluorine catalyst is known. Moreover, as a manufacturing method of pentafluoroethane, the manufacturing method which makes tetrachloroethylene and hydrogen fluoride react in presence of a fluorination catalyst is known. When 1,1,1,2-tetrafluoroethane and pentafluoroethane are produced by these methods, various impurities are produced as by-products depending on the reaction conditions used. These impurities include unsaturated compounds such as CF 2 = CClF, CF 2 = CHCl, CHF = CClF, CClF = CHCl, CHCl = CHF, CF 2 = CHF, and CF 2 = CClF, and CCl 2 F 2 , CH 2 Chlorofluorocarbons such as ClF, CH 2 ClCClF 2 , CF 3 CHCl 2 and CF 3 CClF 2 , and hydrofluorocarbons such as CH 2 F 2 , CF 3 CH 3 and CHF 2 CHF 2 .
이들 불순물 중, 히드로플루오로카본은 소량으로 존재하는 한, 어떠한 문제를 일으키지 않지만, 상기 불포화 화합물 및 상기 클로로플루오로카본의 함량은 가능한 많이 감소시키는 것이 필수이다. 이들은 분별 증류 등에 의해 일정 범위로 감소될 수 있다. 그러나, 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및 펜타플루오로에탄의 비점과 가까운 비점을 갖는 불순물은 분별 증류에 의해 실질적으로 존재하지 않는 충분히 낮은 레벨까지 제거되는 것이 매우 곤란하다. 또한, 전자와 동일한 방법으로 공비 조성물 및 공비류 조성물을 형성하는 불순물을 제거하는 것은 곤란하다. 이러한 이유로, 이들 문제를 해결하기 위한 방법으로서, 각종 방법이 제안되어 있다.Of these impurities, hydrofluorocarbons do not cause any problems as long as they are present in small amounts, but it is essential to reduce the content of the unsaturated compound and the chlorofluorocarbon as much as possible. These can be reduced to a certain range by fractional distillation or the like. However, impurities having boiling points close to those of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and pentafluoroethane are very difficult to be removed by fractional distillation to sufficiently low levels that are substantially absent. In addition, it is difficult to remove the impurities forming the azeotropic composition and the azeotropic composition in the same manner as the former. For this reason, various methods have been proposed as a method for solving these problems.
예컨대, 불소화 촉매의 존재하에 CF3CH2F와 공비 성분으로서 불화수소를 반응시킴으로써, 염화수소가 어느 정도 제거된 조 CF3CH2F 중에 불순물로서 포함되는 불포화 화합물(주로, CF2=CHCl)을 정제시키는 방법(일본특허공개 평6-184015호)이 알려져 있다. 그러나, 상기 방법은 상기 목표 CF3CH2F에 함유된 중간체 2-클로로-1,1,1-트리플루오로에탄(CF3CH2Cl)의 탈할로겐화 반응에 의해 불포화 화합물의 생성 및 불소화 촉매의 수명 단축 등의 기술적 문제가 남아있다.For example, by reacting CF 3 CH 2 F with hydrogen fluoride as an azeotropic component in the presence of a fluorination catalyst, an unsaturated compound (mainly CF 2 = CHCl) contained as an impurity in crude CF 3 CH 2 F from which some hydrogen chloride has been removed to some extent is removed. A method of purifying (Japanese Patent Laid-Open No. 6-184015) is known. However, the process is effective for the production of unsaturated compounds and defluorination catalysts by dehalogenation of intermediate 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane (CF 3 CH 2 Cl) contained in the target CF 3 CH 2 F. Technical issues such as shortening the lifespan remain.
본 발명에 의해 해결되는 문제는 상기 종래 기술의 문제를 해결하기 위한 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 신규한 제조방법 및 그 용도를 제공하는 것이다.The problem solved by the present invention is to provide a novel method for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane and its use for solving the problems of the prior art.
상기 상황을 감안하여, 공업적으로 사용할 수 있고, 경제적인 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법을 발견하기 위해 본 발명자들이 예의검토한 결과, 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 포함하는 주생성물, 상기 주생성물과의 공비 성분으로서 불화 수소 및 적어도 불포화 화합물을 포함하는 불순물 성분으로 이루어지는, 불화 수소와 트리클로로에틸렌 및/또는 테트라클로로에틸렌을 반응시킴으로써 얻어진 조생성물을 정제하는 공정에 의해 고순도 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 제조하는 방법에 있어서, 상기 정제 공정은 상기 조생성물에 새로운 불화 수소를 첨가하여 얻어진 혼합물을 기체상으로 불소화 촉매와 접촉시켜 상기 조생성물에 함유된 불포화 화합물의 함량을 감소시키는 공정 및 증류 공정을 포함하는 제조방법을 사용하여 상기 문제를 해결할 수 있다는 것을 발견하여 본 발명이 달성되었다.In view of the above situation, as a result of careful consideration by the present inventors to find a method for producing industrially usable and economical 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, 1 Hydrogen fluoride and trichloro consisting of a main product comprising 1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, an impurity component comprising hydrogen fluoride and at least an unsaturated compound as an azeotropic component with the main product. A process for producing high purity 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane by the step of purifying crude product obtained by reacting low ethylene and / or tetrachloroethylene, wherein the purification step The mixture obtained by adding fresh hydrogen fluoride to the crude product was brought into contact with the fluorination catalyst in the gas phase to reduce the amount of unsaturated compounds contained in the crude product. The present invention by using a manufacturing method which comprises the steps and the distillation step of cattle found that can solve the problems has been achieved.
즉, 본 발명은 예컨대, 이하 (1)~(13)의 수법을 포함한다.That is, this invention includes the method of the following (1)-(13), for example.
(1)1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 포함하는 주생성물, 상기 주생성물과의 공비 성분으로서 불화 수소 및 적어도 불포화 화합물을 포함하는 불순물 성분으로 이루어지는, 불화 수소와 트리클로로에틸렌 및/또는 테트라클로로에틸렌을 반응시킴으로써 얻어지는 조생성물을 정제하는 공정에 의해 고순도 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 제조하는 방법에 있어서, 상기 정제 공정은 상기 조생성물에 새로이 첨가한 불화 수소에 의해 얻어지는 혼합물을 기상으로 불소화 촉매와 접촉시켜 상기 조생성물에 함유된 불포화 화합물의 함량을 감소시키는 공정 및 증류 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(1) a main product comprising 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, comprising an impurity component containing hydrogen fluoride and at least an unsaturated compound as an azeotropic component with the main product, In the method for producing high purity 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane by a step of purifying a crude product obtained by reacting hydrogen fluoride with trichloroethylene and / or tetrachloroethylene. The purification step includes a step of reducing the content of unsaturated compounds contained in the crude product by contacting the mixture obtained by hydrogen fluoride newly added to the crude product with a fluorination catalyst in a gas phase, and a distillation process. Process for preparing 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane.
(2)상기 (1)에 있어서, 상기 조생성물에 불순물로서 함유된 염화수소의 함량은 2몰% 이하인 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(2) The content of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane according to (1), wherein the content of hydrogen chloride contained as impurities in the crude product is 2 mol% or less. Manufacturing method.
(3)상기 (1) 또는 (2)에 있어서, 상기 조생성물에 함유된 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 농도가 70몰% 이상인 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(3) The concentration of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane contained in the crude product according to (1) or (2), wherein the concentration is 70 mol% or more. Process for preparing 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane.
(4)상기 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 있어서, 상기 불포화 화합물은 1,1-디플루오로-2-클로로에틸렌, 1,2-디플루오로-1-클로로에틸렌, 1-클로로-2-플루오로에틸렌, 1,1,2-트리플루오로에틸렌 및 1-클로로-1,2,2-트리플루오로에틸렌으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물인 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(4) The method of any one of (1) to (3), wherein the unsaturated compound is 1,1-difluoro-2-chloroethylene, 1,2-difluoro-1-chloroethylene, 1-chloro 1,1, characterized in that at least one compound selected from the group consisting of -2-fluoroethylene, 1,1,2-trifluoroethylene and 1-chloro-1,2,2-trifluoroethylene Method for preparing 1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane.
(5)상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, 상기 불소화 촉매는 Cu, Mg, Zn, Pb, V, Bi, Cr, In, Mn, Fe, Co, Ni 및 Al로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 금속 원소를 포함하는 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(5) In any one of (1) to (4), the fluorination catalyst is selected from the group consisting of Cu, Mg, Zn, Pb, V, Bi, Cr, In, Mn, Fe, Co, Ni, and Al. A process for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, comprising at least one metal element selected.
(6)상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 상기 혼합물 및 상기 불소화 촉매간의 접촉 온도는 130~280℃의 범위내에 있는 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(6) 1,1,1,2-tetrafluoro, according to any one of (1) to (5) above, wherein the contact temperature between the mixture and the fluorination catalyst is in the range of 130 to 280 ° C. Process for preparing ethane and / or pentafluoroethane.
(7)상기 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 1,1,1,2-테트라플루오로에탄을 포함하는 주생성물, 상기 주생성물과의 공비 성분으로서 불화 수소 및 적어도 불포화 화합물을 포함하는 불순물 성분으로 이루어지는 조생성물에 불화 수소를 새로 첨가함으로써 얻어진 혼합물이 기상으로 불소화 촉매와 접촉하여 상기 조생성물에 함유된 불포화 화합물의 함량을 감소시키는 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(7) Said main product containing 1,1,1,2- tetrafluoroethane, hydrogen fluoride and an at least unsaturated compound in any one of said (1)-(6) as an azeotropic component with the said main product 1,1,1,2- characterized in that the mixture obtained by newly adding hydrogen fluoride to a crude product composed of an impurity component included therein is in contact with the fluorination catalyst in the gas phase to reduce the content of the unsaturated compound contained in the crude product. Method for preparing tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane.
(8)상기 (7)에 있어서, 상기 혼합물과 상기 불소화 촉매간의 접촉 온도는 130~200℃의 범위내에 있는 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(8) The 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoro, according to (7), wherein the contact temperature between the mixture and the fluorination catalyst is in the range of 130 to 200 ° C. Method for producing ethane.
(9)상기 (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 있어서, 상기 증류 공정에서 불화 수소를 분리하고, 상기 조생성물을 얻기 위한 공정에 그 분리된 불화 수소를 재순환시키는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법.(9) The process according to any one of (1) to (8), further comprising the step of separating hydrogen fluoride in the distillation step and recycling the separated hydrogen fluoride in a step for obtaining the crude product. A method for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane.
(10)상기 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 제조방법에 의해 얻어진 1,1,1,2-테트라플루오로에탄에 있어서, 상기 1,1,1,2-테트라플루오로에탄에서의 염소 함유 화합물의 총함량은 2부피ppm 이하인 것을 특징으로 하는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄.(10) 1,1,1,2-tetrafluoroethane obtained by the production method according to any one of (1) to (9), wherein the 1,1,1,2-tetrafluoroethane is used. The total content of the chlorine-containing compound is 1,1,1,2-tetrafluoroethane, characterized in that 2 ppm by volume or less.
(11)상기 (10)에 기재된 1,1,1,2-테트라플루오로에탄과 불소 가스가 희석 가스의 존재하에 반응하는 것을 특징으로 하는 펜타플루오로에탄 및/또는 헥사플루오로에탄의 제조방법.(11) A process for producing pentafluoroethane and / or hexafluoroethane, wherein 1,1,1,2-tetrafluoroethane and fluorine gas according to (10) are reacted in the presence of a diluent gas. .
(12)상기 (11)에 기재된 제조방법에 의해 얻어지는 펜타플루오로에탄 및/또는 헥사플루오로에탄을 포함하는 것을 특징으로 하는 에칭가스.(12) An etching gas comprising pentafluoroethane and / or hexafluoroethane obtained by the production method described in the above (11).
(13)상기 (11)에 기재된 제조방법에 의해 얻어지는 펜타플루오로에탄 및/또는 헥사플루오로에탄을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정가스.(13) A cleaning gas comprising pentafluoroethane and / or hexafluoroethane obtained by the production method described in (11) above.
본 발명에 따라서, 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄에 함유된 불포화 불순물의 함량을 저감시킴으로써, 저온냉매, 에칭가스 또는 세정가스로서 유리하게 사용할 수 있는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 얻기 위한 공업적으로 유리한 제조방법 및 그 용도가 제공될 수 있다. According to the present invention, by reducing the content of unsaturated impurities contained in 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, 1 can be advantageously used as a low temperature refrigerant, etching gas or cleaning gas. Industrially advantageous production methods and their use for obtaining, 1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane can be provided.
이하, 본 발명에 대해서 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.
CF3CH2F의 제조방법으로서, 예컨대, 불소화 촉매의 존재하에 트리클로로에틸렌과 불화수소를 2개의 공정으로 반응시켜 제조하는 방법이 알려져 있다. 또한, CF3CHF2의 제조방법으로서, 예컨대, 불소화 촉매의 존재하에 테트라클로로에틸렌 및 불화 수소를 2개의 공정으로 반응시켜 제조하는 방법이 알려져 있다. 이들 방법을 사용하여 CF3CH2F 및 CF3CHF2를 제조하는 경우, 일반적으로 실용되는 증류 공정 등에 의해 정제되는 경우라도, 목적 CF3CH2F 및 CF3CHF2로부터 분리되기 어려운 불순물은 함유된다. 이들 불순물로서, 예컨대, 상기 불포화 화합물, 클로로플루오로카본, 히드로플루오로카본 등이 언급될 수 있다. 이들 불순물을 가능한 많이 제거하여 고순도를 얻을 필요가 있다.As a method for producing CF 3 CH 2 F, for example, a method of producing trichloroethylene and hydrogen fluoride by reacting in two steps in the presence of a fluorination catalyst is known. Further, as the production method of the CF 3 CHF 2, for example, in the presence of a fluorination catalyst it is known a method of producing by reacting tetrachlorethylene and hydrogen fluoride to the two processes. In the case of producing CF 3 CH 2 F and CF 3 CHF 2 using these methods, impurities that are difficult to separate from the target CF 3 CH 2 F and CF 3 CHF 2 , even when purified by a generally practical distillation process or the like, It is contained. As these impurities, for example, the above unsaturated compounds, chlorofluorocarbons, hydrofluorocarbons and the like can be mentioned. It is necessary to remove as many of these impurities as possible to obtain high purity.
본 발명의 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄의 제조방법은 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 포함하는 주생성물, 상기 주생성물과의 공비 성분으로서 불화 수소 및 적어도 불포화 화합물을 포함하는 불순물 성분으로 이루어지는, 불화 수소와 트리클로로에틸렌 및/또는 테트라클로로에틸렌을 반응시킴으로써 얻어지는 조생성물을 정제하는 공정에 의해 고순도 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및/또는 펜타플루오로에탄을 제조하는 방법에 있어서, 상기 정제 공정은 상기 조생성물에 불화 수소를 새로이 첨가함으로써 얻어지는 혼합물을 기상으로 불소화 촉매와 접촉시켜 상기 조생성물에 함유된 불포화 화합물의 함량을 저감시키는 공정 및 증류 공정을 포함한다.The process for producing 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane of the present invention comprises a main product comprising 1,1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane. High purity 1, by a step of purifying a crude product obtained by reacting hydrogen fluoride with trichloroethylene and / or tetrachloroethylene comprising an impurity component containing hydrogen fluoride and at least an unsaturated compound as an azeotropic component with the main product. In the process for producing 1,1,2-tetrafluoroethane and / or pentafluoroethane, the purification step is carried out by contacting the mixture obtained by newly adding hydrogen fluoride to the crude product in contact with the fluorination catalyst in the gas phase. And a process for reducing the content of unsaturated compounds contained in the product and a distillation process.
히드로플루오로카본류의 많은 화합물은 불화 수소와 공비 혼합물을 형성한다고 알려져 있다. 또한, CF3CH2F 및 CF3CHF2는 불화 수소와 함께 공비 혼합물을 형성한다. 예컨대, CF3CH2F와 불화 수소의 공비 혼합물의 몰비는 HF/CF3CH2F=약 0.12이다. 예컨대, 상기 일본특허공개 평6-184015호 공보는 상기 공비 혼합물 및 1,1-디플루오로-2-클로로에틸렌(CF2=CHCl) 등의 불포화 불순물을 포함하는 혼합물을 200~380℃의 온도에서 크롬계 촉매와 접촉시켜 상기 불포화 화합물을 저감시키는 방법이 기재되어 있다. 그러나, 이것은 상기 접촉 온도가 높아지면, 상기 혼합물에 함유된 2-클로로-1,1,1-트리플루오로에탄(CF3CH2Cl)의 탈할로겐화 반응이 일어나 부산물로서, 1,1-디플루오로-2-클로로에틸렌이 생성되어 그것을 따라 촉매 표면의 코킹(coking)이 진행되고, 촉매 수명이 짧아진다는 문제가 있다. 본 발명에 있어서, CF3CH2F 및/또는 CF3CHF2를 포함하는 주생성물, 상기 주생성물과의 공비 성분으로서 불화 수소 및 1종 이상의 불포화 화합물을 포함하는 혼합물에 불화 수소를 새로이 첨가하고, 이 혼합물을 기상 상태로 불소화 촉매와 접촉시킴으로써, 상기 목적 생성물의 손실없이 상기 불포화 화합물의 함량이 감소되고, 또한 촉매 수명이 연장될 수 있다는 잇점이 얻어진다.Many compounds of hydrofluorocarbons are known to form an azeotrope with hydrogen fluoride. In addition, CF 3 CH 2 F and CF 3 CHF 2 form an azeotrope with hydrogen fluoride. For example, the molar ratio of the azeotropic mixture of CF 3 CH 2 F and hydrogen fluoride is HF / CF 3 CH 2 F = about 0.12. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-184015 discloses a mixture containing an azeotropic mixture and unsaturated impurities such as 1,1-difluoro-2-chloroethylene (CF 2 = CHCl) at a temperature of 200 to 380 ° C. A method of reducing the unsaturated compound by contacting with a chromium-based catalyst is described. However, this results in the dehalogenation reaction of 2-chloro-1,1,1-trifluoroethane (CF 3 CH 2 Cl) contained in the mixture when the contact temperature is increased, resulting in 1,1-di There is a problem that fluoro-2-chloroethylene is produced and coking of the catalyst surface proceeds along it, and the catalyst life is shortened. In the present invention, hydrogen fluoride is newly added to a main product comprising CF 3 CH 2 F and / or CF 3 CHF 2 , a mixture containing hydrogen fluoride and at least one unsaturated compound as an azeotropic component with the main product. By contacting this mixture with the fluorination catalyst in a gaseous state, the advantage is obtained that the content of the unsaturated compound can be reduced and the catalyst life can be extended without loss of the desired product.
상기 트리클로로에틸렌 및 불화 수소를 반응시킨 후, 상기 조 정제 공정을 행함으로써 얻어진 CF3CH2F 조생성물은 공비 성분으로서 불화 수소, 1종 이상의 불포화 화합물 및 상기 CF3CH2F의 제조시의 중간체로서 CF3CH2Cl을 포함한다. 일반적으로, 상기 CF3CH2Cl의 농도는 약 10몰% 이하이고, 상기 목적 CF3CH2F의 농도는 70몰% 이상이다. 상기 중간체의 CF3CH2Cl은 상기 불화 수소와 함께 공비 혼합물을 형성한다. 상기 공비 혼합물의 몰비는 HF/CF3CH2Cl=약 1.0이다.After reacting the trichloroethylene and hydrogen fluoride, the CF 3 CH 2 F crude product obtained by performing the crude purification step is prepared as azeotropic components in the production of hydrogen fluoride, at least one unsaturated compound and the CF 3 CH 2 F. CF 3 CH 2 Cl as intermediate. In general, the concentration of CF 3 CH 2 Cl is about 10 mol% or less, and the concentration of the target CF 3 CH 2 F is 70 mol% or more. CF 3 CH 2 Cl of the intermediate forms an azeotropic mixture with the hydrogen fluoride. The molar ratio of the azeotropic mixture is HF / CF 3 CH 2 Cl = about 1.0.
또한, 상기 불포화 화합물의 총함량은 사용되는 촉매 및 반응 조건에 따라서 달라지지만, 일반적으로 약 0.4~0.9몰%이다. 상기 불포화 화합물로서, 1,1-디플루오로-2-클로로에틸렌, 1,2-디플루오로-1-클로로에틸렌, 1-클로로-2-플루오로에틸렌, 1,1,2-트리플루오로에틸렌 및 1-클로로-1,2,2-트리플루오로에틸렌이 언급될 수 있다. 상기 CF3CH2F 및 불화 수소의 공비 혼합물의 몰비는 HF/CF3CH2F = 약 0.12이고, 따라서, 새로이 첨가된 불화 수소의 양은 이보다 많게 되는 것이 바람직하다. 상기 CF3CH2F와의 몰비가 HF/CF3CH2F=0.3이상이 되도록 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 불화 수소의 첨가량이 증가하면, 상기 불포화 화합물에 불화 수소의 첨가 반응이 용이하게 진행되어 반응 온도가 감소될 수 있다. 이것은 부산물의 생성 억제와 목적 생성물의 손실 감소 및 촉매의 연장된 수명 등의 큰 잇점이 얻어진다. 또한, 상기 조생성물이 CF3CHF2이면, 상기 CF3CHF2 및 불화 수소의 공비 혼합물의 몰비는 HF/CF3CHF=약 0.1이고, 따라서, 새로이 첨가되는 불화 수소는 HF/CF3 CHF2=0.2이상의 CF3CHF2와의 몰비가 되는 양으로 첨가되는 것이 바람직하다. 본 발명의 방법에 있어서, 상기 조생성물에 불화 수소를 새로이 첨가함으로써 얻어진 혼합물을 기상으로 불소화 촉매와 접촉시키는 공정은 불화 수소와 상기 CF3CH2F 및 CF3CHF2를 단독으로 혼합시켜 그 혼합물을 상기 불소화 촉매와 접촉시키는 것을 포함해도 좋고, 또는 2개의 화합물이 혼합된 상태로 불화 수소와의 혼합물을 형성하고, 그 혼합물을 상기 불소화 촉매와 접촉시켜도 좋다. 2개의 화합물이 혼합된 상태로 그 혼합물을 상기 불소화 촉매와 접촉시킨 후, 증류 제거하고, 그들을 분리하는 방법이 바람직하다. 또한, 새로이 첨가되는 불화 수소를 공급하는 방법으로서, 일괄 공급 방식 및 분활 공급 방식 중 어느 하나를 선택할 수 있다.In addition, the total content of the unsaturated compound is generally about 0.4 to 0.9 mol%, depending on the catalyst and reaction conditions used. As the unsaturated compound, 1,1-difluoro-2-chloroethylene, 1,2-difluoro-1-chloroethylene, 1-chloro-2-fluoroethylene, 1,1,2-trifluoro Mention may be made of ethylene and 1-chloro-1,2,2-trifluoroethylene. The molar ratio of the azeotropic mixture of CF 3 CH 2 F and hydrogen fluoride is HF / CF 3 CH 2 F = about 0.12, therefore, the amount of newly added hydrogen fluoride is preferably higher. Wherein the CF 3 CH 2 F with the molar ratio is preferably added such that the HF / CF 3 CH 2 F = 0.3 or more. When the amount of the hydrogen fluoride added is increased, the reaction of adding hydrogen fluoride to the unsaturated compound may be easily progressed to decrease the reaction temperature. This has the great advantage of inhibiting the production of by-products, reducing the loss of the desired product and extending the life of the catalyst. Further, when the crude product is CF 3 CHF 2 , the molar ratio of the azeotropic mixture of CF 3 CHF 2 and hydrogen fluoride is HF / CF 3 CHF = about 0.1, thus, the newly added hydrogen fluoride is HF / CF 3 CHF 2 It is preferable to add in an amount which is a molar ratio with CF 3 CHF 2 of = 0.2 or more. In the process of the present invention, the step of contacting the mixture obtained by newly adding hydrogen fluoride to the crude product with the fluorination catalyst in the gas phase is carried out by mixing hydrogen fluoride with the CF 3 CH 2 F and CF 3 CHF 2 alone and the mixture. May be brought into contact with the fluorination catalyst, or a mixture with hydrogen fluoride may be formed in a state where two compounds are mixed, and the mixture may be brought into contact with the fluorination catalyst. The method of contacting the mixture with the fluorination catalyst in the state where two compounds are mixed, followed by distillation and separation of them is preferred. In addition, as a method of supplying newly added hydrogen fluoride, any one of a batch supply system and a split supply system can be selected.
본 발명의 방법에 사용되는 불소화 촉매는 불소화 반응에 대하여 촉매 작용을 갖는 어떠한 것이어도 좋다. 상기 촉매로서, Cu, Mg, Zn, Pb, V, Bi, Cr, In, Mn, Fe, Co, Ni 및 Al로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 원소를 포함하 는 주기율표의 IB족, IIA족, IIB족, IVB족, VA족, VB족, VIA족, VIIA족 및 VIII족으로 이루어지는 불소화 촉매, 예컨대, 주로 3가 산화 크롬을 포함하는 벌크 촉매, 또는 담체로서 알루미나, 불화 알루미늄 또는 활성탄을 사용한 담지 촉매가 선택될 수 있다. 상기 불소화 촉매의 제조방법으로서, 일반적인 방법이 적용될 수 있다. 이것은 예컨대, 염화 코발트 수용액과 알루미나를 함침시키고, 건조시킨 후, 이것을 공기 흐름하에서 소성시킴으로써 제조할 수 있다. 이렇게 제조된 촉매는 반응을 위해 사용되기 전에, 질소 및/또는 불화 수소를 사용하여 활성화시키는 것이 바람직하다.The fluorination catalyst used in the method of the present invention may be any one having a catalytic action against the fluorination reaction. Group IB, IIA of the periodic table containing at least one element selected from the group consisting of Cu, Mg, Zn, Pb, V, Bi, Cr, In, Mn, Fe, Co, Ni and Al as the catalyst Fluorinated catalysts composed of Groups II, IIB, IVB, VA, VB, VIA, VIIA and VIII, such as bulk catalysts containing mainly trivalent chromium oxide, or alumina, aluminum fluoride or activated carbon as carrier The supported catalyst used can be selected. As a method for producing the fluorination catalyst, a general method may be applied. It can be produced, for example, by impregnating an aqueous cobalt chloride solution with alumina, drying and firing it under an air stream. The catalyst thus prepared is preferably activated with nitrogen and / or hydrogen fluoride before it is used for the reaction.
상기 조생성물 및 불소화 촉매를 접촉시키는 온도는 130~280℃의 범위내인 것이 바람직하고, 130~200℃의 범위내인 것이 더욱 바람직하다. 상기 온도가 130℃미만이면, 상기 불포화 화합물의 반응 속도가 느려지는 경우가 있는 반면에, 280℃를 초과하는 온도에서는, 상술의 부반응의 비율의 증가 경향이 보인다. It is preferable that it is in the range of 130-280 degreeC, and, as for the temperature which makes the said crude product and a fluorination catalyst contact, it is more preferable to exist in the range of 130-200 degreeC. When the said temperature is less than 130 degreeC, the reaction rate of the said unsaturated compound may become slow, whereas at the temperature over 280 degreeC, the tendency of the ratio of the above-mentioned side reaction to increase is seen.
상기 조생성물에 불순물로서 함유된 염화 수소의 함량은 2몰% 이하가 바람직하다. 상기 염화 수소의 함량이 2몰%를 초과하면, 불순물이 증가되는 경향이 있다.The content of hydrogen chloride contained as impurities in the crude product is preferably 2 mol% or less. When the content of hydrogen chloride exceeds 2 mol%, impurities tend to increase.
상기 조생성물 및 불소화 촉매를 접촉시킨 후, 상기 공비 성분의 불화 수소 및 새로이 첨가된 상기 불화 수소의 적어도 일부분이 증류 공정에서 분리되고, 그 분리된 불화 수소가 얻어진 조생성물의 공정으로 재순환되는 것이 바람직하다. 상기 CF3CH2F는 증류에 의해 분리 및 정제될 수 있어 불포화 화합물 및 염소 함유 화합물이 거의 함유되어 있지 않은 고순도 CF3CH2F가 고수율로 얻어질 수 있다. 상기 염소 함유 화합물의 총함량은 2부피ppm 이하로 감소될 수 있다.After contacting the crude product and the fluorination catalyst, it is preferable that at least a portion of the hydrogen fluoride and the newly added hydrogen fluoride of the azeotropic component are separated in a distillation process, and the separated hydrogen fluoride is recycled to the obtained crude product. Do. The CF 3 CH 2 F can be separated and purified by distillation so that high purity CF 3 CH 2 F containing little unsaturated compound and chlorine-containing compound can be obtained in high yield. The total content of the chlorine-containing compound can be reduced to 2 ppm by volume or less.
상기 CF3CH2F에 함유된 불순물의 함량은 가스크로마토그래피(GC)의 TCD법 또는 FID법, 가스크로마토그래피-질량분석기(GC-MS)법 등에 의해 측정될 수 있다.The content of impurities contained in the CF 3 CH 2 F may be measured by TCD method or FID method of gas chromatography (GC), gas chromatography-mass spectrometry (GC-MS) method and the like.
또한, 희석 가스의 존재하에서 이러한 고순도 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및 불소 가스를 반응시킴으로써, 펜타플루오로에탄 및/또는 헥사플루오로에탄이 제조될 수 있다. 본 발명의 제조방법에 따라서, 상기 펜타플루오로에탄 및 헥사플루오로에탄을 제조하기 위한 재료로서, 상기 1,1,1,2-테트라플루오로에탄은 불순물로서 함유된 염소 함유 화합물의 총량이 매우 적으므로, 고순도 펜타플루오로에탄 및 헥사플루오로에탄이 제조될 수 있다. 예컨대, 상기 펜타플루오로에탄은 99.9998부피% 이상의 순도를 제공할 수 있다.Furthermore, pentafluoroethane and / or hexafluoroethane can be prepared by reacting such high purity 1,1,1,2-tetrafluoroethane and fluorine gas in the presence of a diluent gas. According to the production method of the present invention, as a material for producing the pentafluoroethane and hexafluoroethane, the total amount of the chlorine-containing compound containing 1,1,1,2-tetrafluoroethane as an impurity is very high. As such, high purity pentafluoroethane and hexafluoroethane can be produced. For example, the pentafluoroethane may provide a purity of at least 99.9998% by volume.
다음에, 상기 제조방법을 사용하여 얻어지는 고순도 펜타플루오로에탄 및 헥사플루오로에탄의 용도에 관해서 설명한다. 상기 고순도 펜타플루오로에탄은, 예컨대, He, N2 또는 Ar 등의 불활성 가스 및 O2 또는 NF3 등의 가스와 혼합(이하, "펜타플루오로에탄 생성물"로서 언급되는 경우도 있음)되고, 반도체 장치 제조방법에서의 에칭 공정의 에칭 가스로서 사용되어도 좋다. 또한, 반도체 장치 제조공정에서의 세정가스로서 상기 고순도 헥사플루오로에탄이 사용될 수 있다.Next, the use of the high purity pentafluoroethane and hexafluoroethane obtained using the said manufacturing method is demonstrated. The high purity pentafluoroethane is, for example, mixed with an inert gas such as He, N 2 or Ar and a gas such as O 2 or NF 3 (hereinafter sometimes referred to as a "pentafluoroethane product"), It may be used as an etching gas of an etching step in the semiconductor device manufacturing method. In addition, the high purity hexafluoroethane may be used as the cleaning gas in the semiconductor device manufacturing process.
이하, 본 발명은 실시예 및 비교예로 더욱 자세히 설명되지만, 본 발명은 이들 예로 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
조 1,1,1,2-테트라플루오로에탄의 조제예(원료예 1)Preparation example of crude 1,1,1,2-tetrafluoroethane (raw material example 1)
출발 원료로서 트리클로로에틸렌(CCl2=CHCl)을 사용하여 크롬계 불소화 촉매의 존재하에 기상으로 불화 수소와 반응을 행하여 주로 CF3CH2Cl의 중간체를 얻고, 이것을 상기 크롬계 불소화 촉매로 채워진 다른 반응기에 도입시키고, 불화 수소와 더 반응시키는 2개 공정 반응이 행해졌다. 상기 조 정제 공정 후에 얻어진 상기 조 1,1,1,2-테트라플루오로에탄을 분석하였더니, 하기 조성을 가졌다:Trichloroethylene (CCl 2 = CHCl) as a starting material is reacted with hydrogen fluoride in the gas phase in the presence of a chromium-based fluorination catalyst to obtain an intermediate of mainly CF 3 CH 2 Cl, which is filled with other chromium-based fluorination catalysts. Two process reactions were carried out which were introduced into the reactor and further reacted with hydrogen fluoride. The crude 1,1,1,2-tetrafluoroethane obtained after the crude purification process was analyzed and had the following composition:
CF3CH2F 81.2080 CHCl = CHF 0.0020CF 3 CH 2 F 81.2080 CHCl = CHF 0.0020
CF3CH2Cl 6.2400 CF3CH3 0.5630CF 3 CH 2 Cl 6.2 400 CF 3 CH 3 0.5630
CF3CHF2 0.5320 CF3CHClF 0.5310CF 3 CHF 2 0.5 320 CF 3 CHClF 0.5310
CHF2CHF2 0.1600 CF3CClF2 0.0540CHF 2 CHF 2 0.1600 CF 3 CClF 2 0.0540
CF2=CHCl 0.6420 HF(불화 수소) 9.5060CF 2 = CHCl 0.6420 HF (hydrogen fluoride) 9.5060
HCl(염화 수소) 0.5620 Hydrogen Chloride (HCl) 0.5620
단위: 부피% Unit: volume%
조 펜타플루오로에탄의 조제예(원료예 2)Preparation example of crude pentafluoroethane (raw material example 2)
출발 원료로서 테트라클로로에틸렌(CCl2=CCl2)을 사용하여 크롬계 촉매의 존재하에 기상으로 불화 수소와 반응시켜 주로 중간체로서 CF3CHCl2 및 CF3CHClF를 얻었고, 이것을 크롬계 불소화 촉매로 채워진 다른 반응기에 도입시켜 불화 수소와 반응시키는 2개 공정 반응을 행하였다. 상기 조 정제 공정후에 얻어진 조 펜타플루 오로에탄을 분석하였더니, 하기 조성을 가졌다:Tetrachloroethylene (CCl 2 = CCl 2 ) as a starting material was reacted with hydrogen fluoride in the gas phase in the presence of a chromium-based catalyst to obtain CF 3 CHCl 2 and CF 3 CHClF mainly as intermediates, which were filled with a chromium-based fluorination catalyst. Two process reactions were carried out which were introduced into another reactor and reacted with hydrogen fluoride. The crude pentafluuroethane obtained after the crude purification process was analyzed and had the following composition:
CF3CHF2 86.9712 CF3CHClF 3.8204CF 3 CHF 2 86.9712 CF 3 CHClF 3.8204
CF3CHCl2 0.0051 CF3CClF2 0.3121CF 3 CHCl 2 0.0051 CF 3 CClF 2 0.3121
CF3CH3 0.0161 CH2F2 0.0121CF 3 CH 3 0.0161 CH 2 F 2 0.0121
CF2=CClF 0.0241 CF2=CHF 0.0012CF 2 = CClF 0.0241 CF 2 = CHF 0.0012
HF 8.3276 HCl 0.4820HF 8.3276 HCl 0.4820
기타 0.0281 Other 0.0281
단위: 부피% Unit: volume%
촉매 제조예 1(촉매예 1)Catalyst Preparation Example 1 (Catalyst Example 1)
0.6리터의 순수한 물을 10리터 용기에 채웠고, 교반하였다. 1.2리터의 순수한 물 및 0.31리터의 28% 암모니아수에 452g의 Cr(NO3)3·9H2O 및 42g의 In(NO3)3·nH2O(n은 약 5이다.)를 용해시켜 얻어진 용액을 상기 반응액의 pH가 7.5~8.5의 범위가 되도록 상기 2종의 수용액의 유량을 조절하면서, 약 1시간에 걸쳐 상기 용기에 적하시켰다. 얻어진 슬러리가 여과된 후, 순수한 물로 여과된 고형분을 잘 세정하였고, 12시간에 걸쳐 120℃에서 건조하였다. 상기 건조된 고형분이 분쇄된 후, 그라파이트와 혼합되었고, 정제성형기로 성형하여 펠릿을 제조하였다. 상기 펠릿은 질소 가스의 흐름하에 4시간 동안 400℃에서 소성되어 촉매 전구체가 얻어졌다. 다음에, 350℃에서 불화 수소가 불소화(촉매의 활성화)에 사용되는 인코넬 반응기에 상기 촉매 전구체가 채워져 촉매가 제조되었다.0.6 liters of pure water was charged to a 10 liter vessel and stirred. Obtained by dissolving 452 g of Cr (NO 3 ) 3 · 9H 2 O and 42 g of In (NO 3 ) 3 · nH 2 O (n is approximately 5) in 1.2 liters of pure water and 0.31 liters of 28% ammonia water. The solution was dripped in the said container over about 1 hour, adjusting the flow volume of the said 2 aqueous solution so that pH of the said reaction liquid might be in the range of 7.5-8.5. After the resulting slurry was filtered, the solid filtered off with pure water was washed well and dried at 120 ° C. over 12 hours. The dried solid was pulverized, mixed with graphite, and molded into a tablet molding machine to prepare pellets. The pellet was calcined at 400 ° C. for 4 hours under a flow of nitrogen gas to obtain a catalyst precursor. Next, a catalyst was prepared by filling the catalyst precursor in an Inconel reactor where hydrogen fluoride was used for fluorination (activation of the catalyst) at 350 ° C.
촉매 제조예 2(촉매예 2)Catalyst Preparation Example 2 (Catalyst Example 2)
132ml의 순수한 물에 191.5g의 염화 크롬(CrCl3·6H2O)이 채워진 후, 배스(bath)상에서 70~80℃로 가열하여 염화 크롬을 용해시켰다. 상기 용액이 실온까지 냉각된 후, 400g의 활성 알루미나(Nikki Universal Co.,Ltd제작 NST-7)가 침지되어 상기 알루미나가 상기 촉매액의 전체량을 흡수하였다. 그런 후, 상기 촉매액에 의해 젖은 알루미나가 90℃ 배스에서 건조되었고, 고형물로 건조되었다. 공기순환형 열풍 건조기에 의해 3시간 동안 110℃에서 상기 고형화된 촉매가 건조되었고, 건조 촉매가 SUS제의 용기에 채워진 후, 공기의 순환하에 온도가 400℃로 상승되어 촉매 전구체가 제조되었다. 상기 촉매의 불소화(촉매의 활성화)는 촉매 제조예 1과 동일한 절차 및 동일한 조건하에서 행해져 촉매가 제조되었다.After 132 ml of pure water was charged with 191.5 g of chromium chloride (CrCl 3 · 6H 2 O), the chromium chloride was dissolved by heating to 70-80 ° C. in a bath. After the solution was cooled to room temperature, 400 g of activated alumina (NST-7 manufactured by Nikki Universal Co., Ltd.) was immersed to absorb the entire amount of the catalyst solution. The wet alumina was then dried in a 90 ° C. bath by the catalyst solution and dried to a solid. The solidified catalyst was dried at 110 ° C. for 3 hours by an air circulation hot air dryer, and after the drying catalyst was filled in a container made of SUS, the temperature was raised to 400 ° C. under circulation of air to prepare a catalyst precursor. Fluorination of the catalyst (activation of the catalyst) was carried out under the same procedure and under the same conditions as in Preparation Example 1 to produce a catalyst.
촉매 제조예 3(촉매예 3)Catalyst Preparation Example 3 (Catalyst Example 3)
촉매예 2에 제2성분으로서, 16.6g의 염화 아연(ZnCl2)을 첨가하는 것을 제외하고는 촉매 제조예 2에서와 동일한 절차 및 조작이 행해져 촉매가 제조되었다.A catalyst was prepared in the same manner as in Catalyst Preparation Example 2, except that 16.6 g of zinc chloride (ZnCl 2 ) was added as the second component to Catalyst Example 2.
비교예Comparative example
촉매 제조예 1(촉매예 1)에서 얻어진 80ml의 촉매가 내부 직경 1인치 및 길이 1m인 인코넬 600형 반응기에 채워졌다. 상기 반응기의 온도가 질소 가스의 흐름하에 180℃로 유지되었고, 조 1,1,1,2-테트라플루오로에탄(원료예 1)이 상기 반응기에 도입된 후, 질소 가스의 공급이 정지되었다. 상기 조 1,1,1,2-테트라플루오로 에탄만이 72NL/hr로 촉매에 공급되었다. 약 4시간 경과 후, 배출 가스는 알칼리 수용액에 의해 산성분이 제거된 후, 가스크로마토그래피를 사용하여 기체 조성이 분석되었다. 상기 가스는 하기 조성을 갖는다:80 ml of the catalyst obtained in Preparation Example 1 (Catalyst Example 1) were charged to an Inconel 600 reactor having an internal diameter of 1 inch and a length of 1 m. The temperature of the reactor was maintained at 180 ° C. under the flow of nitrogen gas, and after the crude 1,1,1,2-tetrafluoroethane (raw material example 1) was introduced into the reactor, the supply of nitrogen gas was stopped. Only the crude 1,1,1,2-tetrafluoro ethane was fed to the catalyst at 72 NL / hr. After about 4 hours, the gas was analyzed using gas chromatography after the acid component was removed by aqueous alkali solution. The gas has the following composition:
CF3CH2F 90.2993 CHCl=CHF 0.0003CF 3 CH 2 F 90.2993 CHCl = CHF 0.0003
CF3CH2Cl 7.6247 CF3CH3 0.6260CF 3 CH 2 Cl 7.6247 CF 3 CH 3 0.6260
CF3CHF2 0.5916 CF3CHClF 0.5904CF 3 CHF 2 0.5916 CF 3 CHClF 0.5904
CHF2CHF2 0.1779 CF3CClF2 0.0601CHF 2 CHF 2 0.1779 CF 3 CClF 2 0.0601
CF2=CHC1 0.0278 CH2ClCHF2 0.0019CF 2 = CHC 1 0.0278 CH 2 ClCHF 2 0.0019
단위: 부피% Unit: volume%
상기 분석결과로부터 명백하듯이, 상기 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 중의 불포화 화합물의 전환율은 약 95.8%이었고, 이것은 이들이 완전히 제거될 수 없다는 것을 증명하였다.As is clear from the analysis, the conversion rate of the unsaturated compounds in the 1,1,1,2-tetrafluoroethane was about 95.8%, which proved that they could not be completely removed.
다음에, 상기 반응이 상기 조건하에서 계속되었다. 2400시간 경과 후에, 배출 가스의 조성이 분석되었다. 그 결과, CF2=CHCl의 함량이 증가되었다는 것이 확인되었다. 상기 불포화 화합물의 전환율은 약 93%로 저감되었다. 상기 반응은 이 시점에서 정지되었고, 상기 촉매는 추출되었으며, 상기 표면을 관찰하였더니 상기 촉매 표면 상에 탄소(블랙)의 증착이 확인되었다.Next, the reaction was continued under the above conditions. After 2400 hours, the composition of the exhaust gas was analyzed. As a result, it was confirmed that the content of CF 2 = CHCl was increased. The conversion of the unsaturated compound was reduced to about 93%. The reaction was stopped at this point, the catalyst was extracted, and the surface was observed to confirm the deposition of carbon (black) on the catalyst surface.
실시예 1Example 1
내부 직경 1인치 및 길이 1m인 인코넬 600형 반응기가 상기 비교예와 동일한 방법으로, 촉매 제조예(촉매예 1)에서 얻어진 80ml의 촉매로 채워졌고, 질소 가스를 통과시키면서, 상기 반응기 중의 온도를 180℃로 유지하였고, 반응기의 입구로부터 10NL/hr로 불화 수소가 공급된 후, 상기 반응기에 조 1,1,1,2-테트라플루오로에탄(원료예 1)이 72NL/hr로 공급된 후, 질소 가스의 주입이 정지되었다. 4시간 경과 후, 배출 가스는 알칼리 수용액에 의해 산성분이 제거된 후, 가스크로마토그래피로 상기 가스 조성이 분석되었다. 이것은 이하의 조성을 가졌다.An Inconel 600 reactor having an internal diameter of 1 inch and a length of 1 m was filled with 80 ml of the catalyst obtained in the catalyst preparation example (catalyst example 1) in the same manner as the comparative example, and the temperature in the reactor was changed to 180 while passing nitrogen gas. After the hydrogen fluoride was supplied at 10 Nl / hr from the inlet of the reactor, and crude 1,1,1,2-tetrafluoroethane (raw material example 1) was fed at 72 Nl / hr, Injection of nitrogen gas was stopped. After 4 hours, the gas was analyzed by gas chromatography after the acid component was removed by aqueous alkali solution. This had the following composition.
CF3CH2F 90.2998 CHCl=CHF < 0.0001CF 3 CH 2 F 90.2998 CHCl = CHF <0.0001
CF3CH2Cl 7.6524 CF3CH3 0.6259CF 3 CH 2 Cl 7.6524 CF 3 CH 3 0.6259
CF3CHF2 0.5918 CF3CHClF 0.5902CF 3 CHF 2 0.5 918 CF 3 CHClF 0.5902
CHF2CHF2 0.1777 CF3CClF2 0.0600CHF 2 CHF 2 0.1777 CF 3 CClF 2 0.0600
CF2=CHCl <0.0001 CH2ClCHF2 0.0020CF 2 = CHCl <0.0001 CH 2 ClCHF 2 0.0020
단위: 부피 % Unit: volume%
분석 결과로부터 명백하듯이, 상기 불포화 화합물의 전환율은 상기 조 1,1,1,2-테트라플루오로에탄에 불화 수소를 새로이 첨가함으로써 약 99.9%가 되었다.As apparent from the analysis results, the conversion rate of the unsaturated compound was about 99.9% by newly adding hydrogen fluoride to the crude 1,1,1,2-tetrafluoroethane.
다음에, 상기 알칼리 수용액에 의해 산성분이 제거된 가스를 실린더를 냉각하면서, 회수하였고, 증류하여 저비점 부분을 커트하고, 고비점 부분을 커트하여 고순도 1,1,1,2-테트라플루오로에탄이 얻어졌다. 상기 순도는 가스크로마토그래피(TCD법 또는 FID법) 및 가스크로마토그래피 질량 분석기(GC-MS법)에 의해 분석되었다. 이것은 이하의 조성을 가졌다:Next, the gas from which the acid component was removed by the alkaline aqueous solution was recovered while cooling the cylinder, and distilled to cut the low boiling point portion, and the high boiling point portion was cut to obtain high-purity 1,1,1,2-tetrafluoroethane. Obtained. The purity was analyzed by gas chromatography (TCD method or FID method) and gas chromatography mass spectrometer (GC-MS method). It has the following composition:
CF3CH2F 99.9956 CHF2CHF2 0.0042CF 3 CH 2 F 99.9956 CHF 2 CHF 2 0.0042
염소 함유 화합물 < 0.0002Chlorine-containing compound <0.0002
단위: 부피% Unit: volume%
상기 결과로부터 명백하듯이, 상기 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 중에 상기 염소 함유 화합물은 2부피ppm이하의 양으로 함유되어 있었다. 이성체 1,1,2,2-테트라플루오로에탄과 조합되면, 상기 순도는 약 99.999부피% 이상이 된다.As apparent from the above results, the chlorine-containing compound was contained in an amount of 2 vol ppm or less in the 1,1,1,2-tetrafluoroethane. When combined with the isomer 1,1,2,2-tetrafluoroethane, the purity is at least about 99.999% by volume.
또한, 상기와 동일한 조건하에 상기 조 1,1,1,2-테트라플루오로에탄의 정제 반응을 계속하였고, 2400시간 경과후의 배출 가스의 조성을 분석하면, 비교예에서 나타낸 바와 같은 CF2=CHCl의 증가는 확인되지 않았다. 상기 불포화 화합물의 전환율도 약 99% 이상으로 유지되었다.In addition, purifying reaction of the crude 1,1,1,2-tetrafluoroethane was continued under the same conditions as above, and after analyzing the composition of the exhaust gas after 2400 hours, CF 2 = CHCl No increase was confirmed. The conversion of the unsaturated compound was also maintained at about 99% or more.
비교예와 동일한 방법으로, 상기 반응이 이 시점에서 정지되었고, 촉매를 제거하여 표면을 관찰한 경우, 탄소의 증착은 확인되지 않았다. 그런 후, 상기 촉매가 반응기에 다시 채워졌고, 동일한 조건하에서 2000시간 동안 반응을 연속하였지만, 상기 불포화 화합물의 전환율은 약 99% 이상으로 유지되었다.In the same manner as in Comparative Example, the reaction was stopped at this point, and when the surface was observed by removing the catalyst, no deposition of carbon was confirmed. The catalyst was then charged back to the reactor and the reaction continued for 2000 hours under the same conditions, but the conversion of the unsaturated compound was maintained above about 99%.
실시예 2Example 2
내부 직경 20.6mm 및 길이 500mm인 인코넬 600반응기(전기히터 가열방식: 불 소 가스로 온도 500℃에서 패시베이션이 완료됨)에 의해 30NL/hr로 질소 가스가 공급되었고, 온도가 280℃로 상승되었다. 그런 후, 희석 가스로서, 상기 불화 수소가 50NL/hr로 공급되었고, 실시예 1에서 얻은 1,1,1,2-테트라플루오로에탄이 분기된 희석 가스의 가스 흐름 중 하나에 1.8N/hr로 공급되었다. 그런 후, 불소 가스가 상기와 동일한 방법으로 분기된 희석 가스의 다른 가스 기류에 2.7NL/hr로 공급되었고, 반응이 행해졌다. 3시간 경과 후, 상기 반응 가스는 수산화칼륨 수용액 및 요오드화칼륨 수용액에 의해 불화 수소 및 불소 가스가 제거된 후, 가스크로마토그래피에 의해 조성이 분석되었다. 상기 가스 조성은 이하와 같다:Nitrogen gas was supplied at 30 NL / hr by an Inconel 600 reactor having an inner diameter of 20.6 mm and a length of 500 mm (electric heater heating method: passivation completed at a temperature of 500 ° C. with fluorine gas) and the temperature was raised to 280 ° C. Then, as the diluent gas, the hydrogen fluoride was supplied at 50 NL / hr, and 1.8 N / hr to one of the gas streams of the dilution gas branched with 1,1,1,2-tetrafluoroethane obtained in Example 1 Was supplied. Thereafter, fluorine gas was supplied at 2.7 NL / hr to another gas stream of the diluting gas branched in the same manner as above, and the reaction was performed. After 3 hours, the reaction gas was analyzed by gas chromatography after hydrogen fluoride and fluorine gas were removed by an aqueous potassium hydroxide solution and an aqueous potassium iodide solution. The gas composition is as follows:
CF4 0.4870 CF3CF3 49.6001CF 4 0.4870 CF 3 CF 3 49.6001
CF3CHF2 49.9126 CF3CH2F < 0.0001CF 3 CHF 2 49.9 126 CF 3 CH 2 F <0.0001
염소 함유 화합물 < 0.0002Chlorine-containing compound <0.0002
단위: 부피 % Unit: volume%
다음에, 실린더가 냉각되면서, 불화 수소 및 불소 가스가 제거된 가스가 회수되었고, 증류되어 CF3CF3 및 CF3CHF2를 분리하였다. 그들의 저비점 부분 및 고비점 부분이 커트된 후, 가스크로마토그래피 및 GC-MS에 의해 그 결과가 분석되었다. 상기 CF3CF3의 순도는 99.9999부피% 이상이었고, 상기 CF3CHF2의 순도는 99.9998부피% 이었고, 따라서 고순도 생성물이 획득될 수 있었다.Next, as the cylinder was cooled, a gas from which hydrogen fluoride and fluorine gas had been removed was recovered and distilled to separate CF 3 CF 3 and CF 3 CHF 2 . After their low boiling point portion and high boiling point portion were cut, the results were analyzed by gas chromatography and GC-MS. The purity of the CF 3 CF 3 was greater than 99.9999 volume% and the purity of the CF 3 CHF 2 was 99.9998 volume%, thus high purity product could be obtained.
실시예 3Example 3
내부 직경 1인치 및 길이 1m인 인코넬 600형 반응기가 촉매 제조예 2(촉매예 2)에서 얻어진 80ml의 촉매로 채워졌다. 질소 가스를 공급하면서, 상기 반응기 중의 온도를 180℃로 유지하였고, 반응기의 입구로부터 불화 수소가 10NL/hr로 공급된 후, 반응기에 72NL/hr로 조 펜타플루오로에탄(원료예 2)이 공급된 후, 질소 가스의 공급이 정지되었다. 4시간 경과 후, 배출 가스는 알칼리 수용액에 의해 산성분이 제거된 후, 가스크로마토그래피를 사용하여 분석되었다. 이것은 이하의 조성을 가졌다.An Inconel 600 reactor having an internal diameter of 1 inch and a length of 1 m was filled with 80 ml of catalyst obtained in Catalyst Preparation Example 2 (Catalyst Example 2). While supplying nitrogen gas, the temperature in the reactor was maintained at 180 ° C., hydrogen fluoride was supplied at 10 NL / hr from the inlet of the reactor, and then crude pentafluoroethane (raw material example 2) was supplied to the reactor at 72 NL / hr. After that, the supply of nitrogen gas was stopped. After 4 hours, the exhaust gas was analyzed using gas chromatography after the acid component was removed by alkaline aqueous solution. This had the following composition.
CF3CHF2 95.3734 CF3CHClF 4.2156CF 3 CHF 2 95.3 734 CF 3 CHClF 4.2156
CF3CHCl2 0.0056 CF3CClF2 0.3422CF 3 CHCl 2 0.0056 CF 3 CClF 2 0.3422
CF3CH3 0.0176 CH2F2 0.0133CF 3 CH 3 0.0176 CH 2 F 2 0.0133
CF2=CClF2 <0.0002 CF2=CHF <0.0001CF 2 = CClF 2 <0.0002 CF 2 = CHF <0.0001
CF3CH2F 0.0012 기타 0.0308CF 3 CH 2 F 0.0012 Other 0.0308
단위: 부피 % Unit: volume%
상기 결과로부터 명백하듯이, 상기 조 펜타플루오로에탄 중의 약 99%의 불포화 화합물이 제거(전환)될 수 있었다.As is apparent from the above results, about 99% of the unsaturated compounds in the crude pentafluoroethane could be removed (converted).
실시예 4Example 4
내부 직경 1인치 및 길이 1m인 인코넬 600형 반응기가 촉매 제조예 3(촉매예 3)에서 얻어진 80ml의 촉매로 채워졌다. 질소 가스를 공급하면서, 상기 반응기 중의 온도를 180℃로 유지하였고, 반응기의 입구로부터 불화 수소가 10NL/hr로 공급 된 후, 36N/hr의 조 1,1,1,2-테트라플루오로에탄(원료예 1) 및 3NL/hr의 조펜타플루오로에탄(원료예 2)가 반응기의 입구에서 혼합되어 반응기에 공급되었다. 그런 후, 질소 가스의 주입이 정지되었다. 4시간 경과 후, 배출 가스는 알칼리 수용액에 의해 산성분이 제거된 후, 가스크로마토그래피로 가스 조성이 분석되었다. 함유된 불포화 화합물의 약 99%가 제거(전환)될 수 있었다.An Inconel 600 reactor having an internal diameter of 1 inch and a length of 1 m was filled with 80 ml of catalyst obtained in Catalyst Preparation Example 3 (Catalyst Example 3). While supplying nitrogen gas, the temperature in the reactor was maintained at 180 ° C., and hydrogen fluoride was supplied at 10 NL / hr from the inlet of the reactor, followed by 36 N / hr of crude 1,1,1,2-tetrafluoroethane ( Raw material example 1) and 3 NL / hr of jofentafluoroethane (raw material example 2) were mixed at the inlet of the reactor and fed to the reactor. Then, the injection of nitrogen gas was stopped. After 4 hours, the gas was analyzed by gas chromatography after the acid component was removed by aqueous alkali solution. About 99% of the unsaturated compounds contained could be removed (converted).
본 발명은 저온용 냉매, 에칭 가스 및 세정 가스로서 유리하게 사용할 수 있는 1,1,1,2-테트라플루오로에탄 및 펜타플루오로에탄의 제조에 유용하다.The present invention is useful for the production of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and pentafluoroethane which can advantageously be used as low temperature refrigerants, etching gases and cleaning gases.
Claims (13)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004095012 | 2004-03-29 | ||
JPJP-P-2004-00095012 | 2004-03-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070002001A KR20070002001A (en) | 2007-01-04 |
KR100854982B1 true KR100854982B1 (en) | 2008-08-28 |
Family
ID=37869145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020067018420A KR100854982B1 (en) | 2004-03-29 | 2005-03-28 | Process for production of 1,1,1,2-tetrafluoroethane and/or pentafluoroethane and applications of the same |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100854982B1 (en) |
CN (1) | CN1938249A (en) |
TW (1) | TW200536812A (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2993213B1 (en) * | 2013-04-30 | 2020-07-15 | AGC Inc. | Composition containing trifluoroethylene |
CN103611525A (en) * | 2013-11-13 | 2014-03-05 | 浙江衢化氟化学有限公司 | Catalyst for producing pentafluoroethane through vapor phase method and preparation method thereof |
CN105884569B (en) * | 2016-04-22 | 2019-03-12 | 北京宇极科技发展有限公司 | The method for preparing 1,2- dichloro hexafluoro cyclopentene |
CN107694509B (en) * | 2017-10-24 | 2020-09-04 | 苏州金宏气体股份有限公司 | Adsorbent for removing hexafluoropropylene in octafluorocyclobutane and preparation method thereof |
CN110092703A (en) * | 2018-01-31 | 2019-08-06 | 上海汇友精密化学品有限公司 | A kind of preparation method of pentafluoroethane |
CN112174774A (en) * | 2020-11-06 | 2021-01-05 | 福建省清流县东莹化工有限公司 | Purification process of pentafluoroethane |
CN114456046B (en) * | 2021-12-31 | 2023-10-27 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | High-purity hydrofluoroether and process for purifying same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0152580B1 (en) * | 1995-08-23 | 1998-10-15 | 김은영 | Method of preparing 1,1,1,2-tetrafluoroethane, pentafluoroethane and 1,1,1-trifluoroethane |
US5892134A (en) * | 1997-06-18 | 1999-04-06 | Showa Denko K.K. | Method for producing perfluorocarbon |
US20020183568A1 (en) * | 2000-06-21 | 2002-12-05 | Hiromoto Ohno | Process for producing hexafluoroethane and use thereof |
-
2005
- 2005-03-25 TW TW094109474A patent/TW200536812A/en unknown
- 2005-03-28 KR KR1020067018420A patent/KR100854982B1/en active IP Right Grant
- 2005-03-28 CN CNA2005800106274A patent/CN1938249A/en active Pending
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---|---|---|---|---|
KR0152580B1 (en) * | 1995-08-23 | 1998-10-15 | 김은영 | Method of preparing 1,1,1,2-tetrafluoroethane, pentafluoroethane and 1,1,1-trifluoroethane |
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US20020183568A1 (en) * | 2000-06-21 | 2002-12-05 | Hiromoto Ohno | Process for producing hexafluoroethane and use thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1938249A (en) | 2007-03-28 |
KR20070002001A (en) | 2007-01-04 |
TW200536812A (en) | 2005-11-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
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E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130801 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140808 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150716 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
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|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170720 Year of fee payment: 10 |