KR100853274B1 - transportation equipment of etching chamber - Google Patents

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Abstract

본 발명은 식각 작업용 챔버의 이송장치에 관한 것으로; 외주면에 다수의 고리가 고정되는 반도체 식각작업용 챔버에 있어서; 상기 챔버의 상부에 위치하며 다수의 고정공이 관통되게 형성되어 일부 고정공에는 상기 고리에 결합되는 챔버지지용 와이어가 연결되고 나머지 고정공에는 상하 승강용 와이어 및 웨빙이 고정되는 챔버지지판과; 상기 챔버지지판의 상부에 위치하되 상기 승강용 와이어 및 웨빙이 이동가능한 관통공이 형성되는 소정면적의 베이스판넬의 상부에 구비되는 웨빙권취기 및 모터와, 그 모터의 구동축에 결합되는 구동기어와, 그 구동축에 평행하며 상기 구동기어와 치합되는 제1 종동기어와 상기 일부 승강용 와이어가 권취되는 다수의 보빈이 동일축상에 구비되는 제1 회전축과, 상기 제1 회전축에 평행하며 상기 제1 종동기어와 치합되는 제2 종동기어와 상기 나머지 승강용 와이어가 권취되는 다수의 보빈이 동일축상에 구비되는 제2 회전축이 브라켓에 회전가능하게 지지되는 승강수단;으로 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a conveying apparatus of an etching operation chamber; A semiconductor etching chamber in which a plurality of rings are fixed to an outer circumferential surface thereof; A chamber support plate positioned at an upper portion of the chamber and having a plurality of fixing holes penetrated therein, the chamber supporting wires being connected to some of the fixing holes and the fixing wires and the webbing being fixed to the other fixing holes; A webbing retractor and a motor located on an upper portion of the chamber support plate and provided on an upper portion of a base panel having a predetermined area in which a lifting hole for moving the lifting wire and the webbing is formed; a drive gear coupled to a drive shaft of the motor; A first rotating gear parallel to the drive shaft and engaged with the drive gear and a plurality of bobbins on which the some lifting wires are wound are provided on the same axis; and a first driven gear parallel to the first rotating shaft and And a lifting means for rotatably supporting the second driven gear to be engaged with the second rotating shaft having the plurality of bobbins on which the remaining lifting wires are wound on the same axis.

본 발명에 따르면; 일반적인 챔버의 이송수단에 비해 다수의 승강용 와이어 및 웨빙권취기를 구비하여 챔버를 이용한 반도체 장치의 식각작업을 수행한 후 이송시에 승강용 와이어가 부식에 의해 끊어지거나 모터의소손이 발생되어 챔버가 추락하는 경우 웨빙권취기가 독립적으로 잡아주어 챔버의 추락을 방지시켜 작업자가 안전하게 작업에 임할 수 있는 효과가 있다. According to the invention; Compared with the conveying means of the general chamber, a plurality of lifting wires and webbing take-ups are provided to perform etching of the semiconductor device using the chamber, and the lifting wires are broken by corrosion or the motor is burned out during transportation. In case of falling, the webbing retractor is independently held to prevent the fall of the chamber, so that the worker can safely work on the work.

반도체, 식각, 가스, 챔버, 모터 Semiconductor, etching, gas, chamber, motor

Description

식각 작업용 챔버의 이송장치 { transportation equipment of etching chamber }Transport equipment of etching chamber {transportation equipment of etching chamber}

도 1은 종래 일반적인 식각 작업용 챔버의 이송장치를 개략적으로 도시한 도면.1 is a view schematically showing a transfer device of a conventional general etching operation chamber.

도 2는 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 사시도.Figure 2 is a perspective view showing a transfer device of the etching operation chamber according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 평면도.Figure 3 is a plan view showing a transfer device of the etching operation chamber according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 정면도.Figure 4 is a front view showing a transfer device of the etching operation chamber according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 우측면도.Figure 5 is a right side view showing the transfer device of the etching operation chamber according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 승강수단의 사시도.6 is a perspective view of the lifting means according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 승강수단의 평면도.7 is a plan view of the lifting means according to the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치의 회로 블럭도.8 is a circuit block diagram of a transfer apparatus of an etching operation chamber according to the present invention.

***도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*** *** Description of the symbols for the main parts of the drawings ***

1: 챔버 5,5': 지지프레임1: chamber 5,5 ': support frame

6: 웨빙 100: 승강수단6: webbing 100: lifting means

114: 안내롤러 190: 웨빙권취기114: guide roller 190: webbing retractor

200: 챔버지지판 300: 수평이동수단200: chamber support plate 300: horizontal movement means

310: X축가이드부재 320: Y축가이드부재310: X axis guide member 320: Y axis guide member

324: 안내롤러 400: 컨트롤판넬324: guide roller 400: control panel

본 발명은 식각작업용 챔버의 이송장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 반도체(半導體) 장치의 표면 식각 작업을 수행하는데 사용되는 챔버의 추락을 방지하고 그 이송을 용이하게 하는 구조를 가지는 식각작업용 챔버의 이송장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for transferring an etching chamber, and more particularly, to an apparatus for preventing etching of a chamber used for performing a surface etching operation of a semiconductor device and having a structure for facilitating the transfer. It relates to a conveying device.

일반적으로 반도체 산업이 발달함에 따라 반도체장치는 고용량 및 고기능화를 추구하고 있으며, 그에 따라서 한정된 영역에 보다 많은 소자의 집적이 필요하게 되어 반도체장치 제조기술은 패턴을 극미세화 및 고집적화시키도록 연구 및 개발되고 있다.In general, with the development of the semiconductor industry, semiconductor devices are pursuing high capacity and high functionality. Accordingly, more devices are required to be integrated in a limited area, and thus, semiconductor device manufacturing technology is researched and developed to make patterns fine and highly integrated. have.

그리고, 극미세화되고 고집적화된 반도체 장치를 구현하기 위한 반도체장치 제조공정에는 식각(蝕刻)가스를 사용하는 건식식각 기술이 맣이 이용되고 있으며, 건식식각 기술로써 가장 일반화된 것이 플라즈마 응용 식각방법이다.In addition, a dry etching technique using an etching gas is used in a semiconductor device manufacturing process for implementing an ultra-fine and highly integrated semiconductor device, and the most common dry etching technique is a plasma application etching method.

이때, 상기 식각가스에는 육불화황(SF6), 브롬화수소(HBr), 염소(Cl2), 사불 화탄소(CF4) 및 헬륨(He) 등과 같은 종류를 일반적으로 사용한다. 이와같은 식각가스들은 일반적인 대기압(大氣壓) 하에서는 쉽게 확산이 되므로 밀폐된 공간상에서 반도체 장치의 표면을 식각하게 되므로, 일정한 크기의 원통형 챔버(chamber)를 사용하게 된다. In this case, a type such as sulfur hexafluoride (SF 6 ), hydrogen bromide (HBr), chlorine (Cl 2 ), carbon tetrafluoride (CF 4 ) and helium (He) is generally used. Since the etching gases are easily diffused under a general atmospheric pressure, the surface of the semiconductor device is etched in an enclosed space, and thus a cylindrical chamber of a constant size is used.

이와같은 식각작업이 수행되는 챔버는 도 1에 도시한 바와 같은 일반적인 승강수단(10)을 작동시킴으로써 상하로 승강되는 것이다. 이에 따르면, 식각가스용 챔버(1)의 외부 일측면에는 챔버(1)를 지탱하기 위한 3개의 고리(2)가 일정간격을 유지하며 일체로 부착형성된다. 그리고 챔버(1)의 상부에는 일정간격을 유지하며, 소정두께의 원판형상의 챔버지지판(20)이 구비된다. 이 챔버지지판(20)은 상기 챔버(1)의 고리(2)와 수직한 위치에 고정공(미도시됨)이 형성되어 그 고정공을 관통하는 다수의 체인(3)의 일단부가 챔버지지판(20)의 상부면(20a)에 지지되고 그 체인(3)의 타단부는 상기 챔버(1)의 고리(2)에 연결하게 된다. The chamber in which such an etching operation is performed is lifted up and down by operating the general lifting means 10 as shown in FIG. 1. According to this, three rings 2 for supporting the chamber 1 are integrally attached to the outer side surface of the chamber 1 for etching gas while maintaining a predetermined interval. And the upper part of the chamber 1 maintains a predetermined space | interval, and the chamber support plate 20 of disk shape of predetermined thickness is provided. The chamber support plate 20 has a fixing hole (not shown) is formed at a position perpendicular to the loop 2 of the chamber 1, and one end of the plurality of chains 3 passing through the fixing hole has a chamber support plate ( It is supported on the upper surface 20a of the 20 and the other end of the chain 3 is connected to the ring 2 of the chamber 1.

그리고, 상기 챔버지지판(20)의 중앙부에 중앙관통공(미도시됨)이 형성되어 승강용 와이어(4)의 일단부가 중앙관통공을 관통하여 고정된다. 한편, 챔버지지판(20)의 상부에는 승강수단(10)이 설치된다. 상기 승강수단(10)은 판형상의 베이스판넬(11)의 일측에 모터(12)가 구비되고 그 모터(12)의 구동축에는 상기 승강용 와이어(4)의 타단부가 고정되어 모터(12)의 정역회전시에 상기 승강용 와이어(4)가 권취되는 보빈(bobbin)(13)이 연결되고, 그 보빈(13)의 하단에 위치하는 베이스판넬(11)에는 상기 승강용 와이어(4)가 상하로 이동할 수 있는 와이어 이송용 관통 공(11a)이 형성된다. In addition, a central through hole (not shown) is formed at the center of the chamber support plate 20 so that one end of the lifting wire 4 is fixed through the central through hole. On the other hand, the elevating means 10 is installed on the chamber support plate 20. The elevating means 10 is provided with a motor 12 on one side of the plate-shaped base panel 11 and the other end of the elevating wire 4 is fixed to the drive shaft of the motor 12 to the A bobbin 13 to which the lifting wire 4 is wound at the time of forward and reverse rotation is connected, and the lifting wire 4 is vertically mounted on the base panel 11 positioned at the lower end of the bobbin 13. The through hole 11a for wire transfer which can move to is formed.

이와같은 구성에 따라 모터(12)를 정역회전시키게 되면, 모터(12)의 구동축에 결합된 보빈(13) 역시 함께 회전하게 되어 승강용 와이어(4)가 보빈(13)에 감기거나 풀리면서 승강용 와이어(4)에 고정된 챔버지지판(20)을 상하 승강시키게 되고, 그로 인해 챔버지지판(20)의 측면에 고정되는 체인(3)에 의해 챔버(1)를 상부로 들어올리거나 하부로 내리는 작용을 하게 되는 것이다. When the motor 12 is rotated forward and backward according to such a configuration, the bobbin 13 coupled to the drive shaft of the motor 12 also rotates together, and the lifting wire 4 is lifted or wound while the bobbin 13 is wound or unwound. The chamber support plate 20 fixed to the dragon wire 4 is moved up and down, thereby raising or lowering the chamber 1 upwards by the chain 3 fixed to the side of the chamber support plate 20. Will be.

그런데, 상기 승강수단(10)은 모터(12)의 회전시 1가닥의 승강용 와이어(4)를 감거나 풀게 되므로 챔버(1)의 하중이 분산되지 못하고 고스란히 받게 되므로 승강용 와이어(4)가 받는 하중이 크고, 챔버(1)를 들어올리던 중 승강용 와이어(4)가 끊어지면 일정한 중량을 가지는 챔버(1)가 작업테이블(미도시됨) 상에 떨어져 고가(高價)의 반도체 식각 공정용 장비가 훼손되는 문제점을 가지고 있다.However, the elevating means 10 is wound or unwound one strand of the elevating wire (4) when the motor 12 rotates, so that the load of the chamber (1) is not dispersed and is received intact, so that the elevating wire (4) If the load to be received is large and the lifting wire 4 is broken while lifting the chamber 1, the chamber 1 having a constant weight falls on the worktable (not shown) for the expensive semiconductor etching process. The equipment is damaged.

그리고, 기존의 챔버 이송장치는 단순히 상하로 승강하고 작업 위치를 변경하기 위해 X축/Y축 이송을 위해서는 챔버(1)의 외부 일측을 밀거나 당겨 원하는 위치로 이동시켜야 하기 때문에 이같은 챔버(1)의 이송시에 승강용 와이어(4)가 끊어질 경우 챔버(1)가 떨어져 작업자가 부상당할 위험이 더욱 커지는 문제점도 가지고 있다.In addition, the existing chamber transfer apparatus simply moves up and down and moves to the desired position by pushing or pulling one outer side of the chamber 1 for the X-axis / Y-axis transfer in order to change the working position. If the elevating wire 4 is broken during the transfer of the chamber 1 has a problem that the risk of injury to the operator is further increased.

한편, 반도체장치의 표면 식각 작업을 하던 중 챔버(1)내의 식각가스가 미세한 틈으로 새어나와 금속의 표면과 접촉하게 되면 부식을 일으키게 되어 장기간 누출되면 승강용 와이어(4)가 부식되어 강도가 약해져 끊어지게 되므로 주기적으로 유지보수를 위한 점검을 실시해야 하는 번거로움도 있다.On the other hand, during the surface etching operation of the semiconductor device, the etching gas in the chamber 1 leaks into fine gaps and comes into contact with the surface of the metal, causing corrosion, and if it leaks for a long time, the lifting wire 4 becomes corroded and weakens. There is also the hassle of having to carry out periodic maintenance checks.

물론 이와 같은 문제점을 해소하고자 본 출원인은 등록특허 제0540342호에서 보조 와이어를 이용하여 추락을 방지하는 구조를 개시한 바 있다.Of course, in order to solve such a problem, the present applicant has disclosed a structure for preventing the fall using the auxiliary wire in Patent No. 0540342.

그런데, 상기 등록특허의 경우에는 베이스판넬에 구비되는 모터의 정역구동에 의해 4개의 승강용 와이어와 한가닥의 보조 와이어가 함께 승강되는 구조로서 챔버지지판에 설치되는 모터가 과부하 등으로 인해 소손되는 경우 챔버의 하중에 의해 제1 내지 제5 보빈이 모두 풀리게 되어 추락하게 되는 단점을 가지고 있다.However, in the case of the registered patent, the four lifting wires and one strand of auxiliary wires are lifted together by the forward and backward driving of the motor provided in the base panel. When the motor installed in the chamber support plate is damaged due to overload, the chamber The first to fifth bobbins are all released by the load of and have the disadvantage of falling.

또한, 상기 등록특허는 그 X이송축과 Y이송축이 원형의 환봉구조로 이루어져 있어 베이스판넬의 브라켓에 끼우는 작업이 용이하지 않고, 그와 같은 X이송축과 Y이송축에 윤활제를 도포해야 원활한 이송이 가능하여 정밀도를 요하는 반도체장치를 다루는 작업장에서 발생되는 먼지가 그 X이송축과 Y이송축의 표면에 들러붙어 게 되는 단점을 가지고 있다.In addition, the registered patent has a circular round bar structure of the X feed shaft and the Y feed shaft is not easy to fit to the bracket of the base panel, it is smooth to apply a lubricant to such X feed shaft and Y feed shaft It is disadvantageous that dust generated in a workshop dealing with semiconductor devices requiring precision can stick to the surfaces of the X and Y feed shafts.

따라서, 이러한 문제점들을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 반도체 장치의 식각작업을 수행한 후 이송하던 중에 챔버를 상하로 승강하는 승강용 와이어가 끊어지거나 그 승강동력을 발생하는 모터가 소손되더라도 챔버의 추락을 방지하는 식각 작업용 챔버의 이송장치를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve such problems, an object of the present invention is to burn the lifting wire for lifting the chamber up and down while performing the etching operation of the semiconductor device is broken or the motor generating the lifting power is burned out Even if it is to provide a transfer device of the chamber for etching operation to prevent the fall of the chamber.

본 발명의 다른 목적은 챔버를 X축 및/또는 Y축 방향으로 이송시에 그 이송을 위한 X이송축과 Y축이송축 등의 구조를 개선하여 윤활제를 도포할 필요가 없어 작업환경의 오염을 방지하면서 자유롭게 이동이 가능한 식각 작업용 챔버의 이송장 치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to improve the structure of the X feed axis and Y axis feed axis for the transfer when the chamber is transferred in the X-axis and / or Y-axis direction, there is no need to apply lubricant to reduce the pollution of the working environment It is to provide a transfer device of the etching chamber that can be freely moved while preventing.

본 발명은 식각 작업용 챔버의 이송장치에 관한 것으로; The present invention relates to a conveying apparatus of an etching operation chamber;

외주면에 다수의 고리가 고정되는 반도체 식각작업용 챔버에 있어서; A semiconductor etching chamber in which a plurality of rings are fixed to an outer circumferential surface thereof;

상기 챔버의 상부에 위치하며 다수의 고정공이 관통되게 형성되어 일부 고정공에는 상기 고리에 결합되는 챔버지지용 와이어가 연결되고 나머지 고정공에는 상하 승강용 와이어 및 웨빙이 고정되는 챔버지지판과; A chamber support plate positioned at an upper portion of the chamber and having a plurality of fixing holes penetrated therein, the chamber supporting wires being connected to some of the fixing holes and the fixing wires and the webbing being fixed to the other fixing holes;

상기 챔버지지판의 상부에 위치하되 상기 승강용 와이어 및 웨빙이 이동가능한 관통공이 형성되는 소정면적의 베이스판넬의 상부에 구비되는 웨빙권취기 및 모터와, 그 모터의 구동축에 결합되는 구동기어와, 그 구동축에 평행하며 상기 구동기어와 치합되는 제1 종동기어와 상기 일부 승강용 와이어가 권취되는 다수의 보빈이 동일축상에 구비되는 제1 회전축과, 상기 제1 회전축에 평행하며 상기 제1 종동기어와 치합되는 제2 종동기어와 상기 나머지 승강용 와이어가 권취되는 다수의 보빈이 동일축상에 구비되는 제2 회전축이 브라켓에 회전가능하게 지지되는 승강수단;으로 이루어진 것을 특징으로 한다.A webbing retractor and a motor located on an upper portion of the chamber support plate and provided on an upper portion of a base panel having a predetermined area in which a lifting hole for moving the lifting wire and the webbing is formed; a drive gear coupled to a drive shaft of the motor; A first rotating gear parallel to the drive shaft and engaged with the drive gear and a plurality of bobbins on which the some lifting wires are wound are provided on the same axis; and a first driven gear parallel to the first rotating shaft and And a lifting means for rotatably supporting the second driven gear to be engaged with the second rotating shaft having the plurality of bobbins on which the remaining lifting wires are wound on the same axis.

본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 첨부한 도면을 참고로 하여 이하에 상세히 기술되는 실시예에 의하여 그 특징들을 이해할 수 있을 것이다.With reference to the accompanying drawings, the transfer apparatus of the etching operation chamber according to the present invention will be understood by the embodiments described in detail below.

도 2는 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 평면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 정면도이고, 도 5는 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치를 도시한 우측면도이고, 도 6은 본 발명에 따른 승강수단의 사시도이고, 도 7은 본 발명에 따른 승강수단의 평면도이고, 도 8은 본 발명에 따른 식각 작업용 챔버의 이송장치의 회로 블럭도이다.Figure 2 is a perspective view showing a transfer device of the etching operation chamber according to the present invention, Figure 3 is a plan view showing a transfer device of the etching operation chamber according to the present invention, Figure 4 is a transfer of the etching operation chamber according to the present invention 5 is a right side view showing a conveying apparatus of an etching operation chamber according to the present invention, FIG. 6 is a perspective view of the elevating means according to the present invention, and FIG. 8 is a circuit block diagram of a transfer apparatus of an etching operation chamber according to the present invention.

먼저, 도 2 내지 도 5에 의하면, 본 발명에 따른 식각작업용 챔버의 이송장치는 반도체 장치(미도시됨)의 식각작업을 수행하기 위한 챔버(1)를 상하 승강시키기 위한 승강수단(100)이 하나이상 구비되며, 이는 반도체 장치의 식각 공정을 수행하기 위한 작업실(미도시됨)에 설치되는데, 이는 지지프레임(5,5')의 상부에 고정된다. First, according to FIGS. 2 to 5, the conveying apparatus of the chamber for etching work according to the present invention includes a lifting means 100 for raising and lowering the chamber 1 for performing an etching operation of a semiconductor device (not shown). It is provided with one or more, which is installed in a work room (not shown) for performing an etching process of the semiconductor device, which is fixed to the upper portion of the support frame (5, 5 ').

이와같은 본 발명에 따른 식각작업용 챔버의 이송장치는 지지프레임(5,5')의 상부에 X축가이드부재(310)와 Y축가이드부재(320)로 이루어진 수평이동수단(300)으로 지지된다. The conveying apparatus of the etching operation chamber according to the present invention is supported by the horizontal moving means 300 consisting of the X-axis guide member 310 and the Y-axis guide member 320 on the support frame (5, 5 '). .

이를 구체적으로 설명하면, 상기 수평이동수단(300)의 X축가이드부재(310)는 상기 Y축가이드부재(310)에 교차하게 배치되며, X축가이드부재(310)의 상부에 Y축가이드부재(320)가 구비된다. Specifically, the X-axis guide member 310 of the horizontal moving means 300 is disposed to cross the Y-axis guide member 310, the Y-axis guide member on the top of the X-axis guide member 310 320 is provided.

한편, 상기 수평이동수단(300)의 Y축가이드부재(320)는 승강수단(100)의 베이스판넬(110) 하부에 고정되는 브라켓(112)에 고정되는 안내롤러(114)에 의해 안내되어 Y축으로 이동이 가능하게 된다. 이때, 상기 승강수단(100,100',100")은 3개 가 구비됨을 도면에서 도시하였으나, 필요에 따라 1개, 2개, 4개 또는 그 이상을 구비함도 바람직하다. On the other hand, the Y-axis guide member 320 of the horizontal moving means 300 is guided by the guide roller 114 is fixed to the bracket 112 is fixed to the lower base panel 110 of the elevating means 100 Y It is possible to move to the axis. In this case, although the lifting means (100, 100 ', 100 ") is shown in the figure is provided with three, it is also preferable to have one, two, four or more if necessary.

또한, 상기 승하강 수단(100")의 일측에는 컨트롤판넬(400)이 구비되어 승강용 와이어(4)를 감거나 풀기 위한 모터(M1,M2,M3)를 제어하게 된다. In addition, the control panel 400 is provided at one side of the lifting means 100 ″ to control the motors M1, M2, and M3 for winding or unwinding the lifting wire 4.

이하, 본 발명에 따른 식각작업용 챔버 이송장치의 승강수단을 도 6 내지 도 7을 참고로 상세히 설명한다.Hereinafter, the lifting means of the chamber conveying apparatus for the etching operation according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

이에 따르면, 식각 작업용 챔버의 이송장치는 반도체 장치의 식각 작업을 수행하기 위한 챔버(1)를 상하로 승강 및 하강시키기 위한 다수의 승강수단(100)으로 이루어진다.According to this, the conveying apparatus of the etching operation chamber is composed of a plurality of lifting means 100 for lifting up and down the chamber 1 for performing the etching operation of the semiconductor device.

먼저, 챔버(1)는 반도체 장치(미도시됨)의 표면을 육불화황(SF6), 브롬화수소(HBr), 염소(Cl2), 사불화탄소(CF4) 및 헬륨(He) 등과 같은 가스를 이용하여 식각(蝕刻) 작업의 수행시 사용되는 것으로 하부가 개구된 형상이고, 그 외주면에 일정간격을 유지하며 3개의 고리(2)가 형성된다. 물론 상기 고리(2)를 3개 이상 구비함도 바람직하다. First, the chamber 1 may be disposed on a surface of a semiconductor device (not shown) such as sulfur hexafluoride (SF 6 ), hydrogen bromide (HBr), chlorine (Cl 2 ), carbon tetrafluoride (CF 4 ), helium (He), or the like. It is used to perform an etching operation using gas, and has a shape in which the lower part is opened, and three rings 2 are formed on the outer circumferential surface thereof while maintaining a constant interval. Of course, it is also preferable to provide three or more of the ring (2).

이때, 상기 챔버(1)의 상부에는 일정간격을 유지하며, 소정두께의 원판형상의 챔버지지판(200)이 구비된다. At this time, the chamber support plate 200 having a predetermined thickness and maintaining a predetermined interval on the upper portion of the chamber 1 is provided.

이와같은 챔버지지판(200)은 상기 챔버(1)의 고리(2)와 수직한 위치에 해당하는 가장자리에 3개의 체인 고정공(미도시됨)이 관통되게 형성되고, 일측에 일정 간격을 유지하며 4개의 승강용 와이어 고정공(미도시됨)이 관통되게 형성되고, 중앙에 웨빙고정공(미도시됨)이 형성된다. 이때, 상기 챔버지지판(200)과 체인(3)과 승강용 와이어(4)은 부식에 강한 스테인레스 스틸(SUS) 재질을 사용하게 된다.The chamber support plate 200 is formed such that three chain fixing holes (not shown) penetrate through an edge corresponding to a position perpendicular to the loop 2 of the chamber 1, and maintain a predetermined interval on one side. Four lifting wire fixing holes (not shown) are formed to penetrate, and webbing fixing holes (not shown) are formed in the center. At this time, the chamber support plate 200, the chain 3 and the lifting wire 4 is made of stainless steel (SUS) material resistant to corrosion.

이때, 상기 챔버지지판(200)의 체인 고정공에는 다수의 금속링이 연속적으로 연결된 체인(3)의 일단부가 고정되고, 그 체인(3)의 타단부에는 후크(7)가 형성되어 상기 챔버(1)의 측면에 구비되는 3개의 고리(2)에 각각 걸게 된다. 결국, 상기 챔버지지판(200)이 상하로 승강되면, 체인(3)에 연결된 챔버(1) 또한 함께 승하강되는 것이다. At this time, one end of the chain (3) to which a plurality of metal rings are continuously connected to the chain fixing hole of the chamber support plate 200 is fixed, the hook (7) is formed at the other end of the chain (3) the chamber ( It hangs on each of the three rings 2 provided in the side of 1). As a result, when the chamber support plate 200 is lifted up and down, the chamber 1 connected to the chain 3 is also lifted up and down together.

한편, 상기 챔버지지판(200)의 상부에는 작업장의 지지프레임(5,5')에 지지되는 승강수단(100)이 구비된다. 이때, 상기 승강수단(100)은 일정 면적을 가지는 판상의 베이스판넬(110)이 하부에 위치하게 되는데, 상기 베이스판넬(110)에는 4개의 승강용 와이어(4)와, 하나의 웨빙(6)이 상하로 이동할 수 있도록 4개의 와이어용 관통공(8) 및 웨빙용 관통공(8')이 형성된다. On the other hand, the upper portion of the chamber support plate 200 is provided with a lifting means 100 which is supported by the support frame (5, 5 ') of the workplace. At this time, the elevating means 100 is a plate-shaped base panel 110 having a predetermined area is located below, the base panel 110 has four lifting wires (4), one webbing (6) Four wire through holes 8 and webbing through holes 8 'are formed to move up and down.

그리고, 상기 베이스판넬(110)의 상부에는 컨트롤판넬(Control panel)(400)의 제어에 따라 작동하는 승강용 모터(M1)가 구비된다. 이때, 상기 모터(M1)의 구동축에는 다수의 톱니가 형성된 구동기어(150)가 구비되어 모터(M1)의 구동시 구동축과 함께 구동기어(150)가 회전하게 된다. In addition, an upper portion of the base panel 110 is provided with a lifting motor M1 that operates under the control of a control panel 400. At this time, the drive shaft of the motor (M1) is provided with a drive gear 150 having a plurality of teeth is formed so that the drive gear 150 rotates together with the drive shaft when the motor (M1) is driven.

한편, 상기 모터(M1)의 구동축과 나란하게 제1 및 제2 회전축(160,170)이 나란하게 구비된다. 이때, 상기 제1 및 제2 회전축(160,170)의 양단은 회전이 가능하도록 브라켓(162,172)에 의해 고정되고, 제1 및 제2 회전축(160,170)의 원활한 회 전을 위해 베어링(미도시됨)이 구비됨이 바람직하다. Meanwhile, first and second rotation shafts 160 and 170 are provided in parallel with the driving shaft of the motor M1. At this time, both ends of the first and second rotation shafts 160 and 170 are fixed by brackets 162 and 172 so as to be rotatable, and bearings (not shown) are provided to smoothly rotate the first and second rotation shafts 160 and 170. It is preferred to be provided.

이때, 상기 제1 회전축(160)에는 상기 구동기어(150)와 동일한 크기 및 톱니를 가지는 제1 종동기어(164)가 치합되고, 그 제1 회전축(160)의 축상에 일정간격을 유지하며 승강용 와이어(4)가 권취되는 제1 및 제2 보빈(166,167)이 구비된다. At this time, the first driven gear 164 having the same size and teeth as the drive gear 150 is meshed with the first rotation shaft 160, and is maintained at a predetermined interval on the axis of the first rotation shaft 160. First and second bobbins 166 and 167 are provided on which the dragon wire 4 is wound.

그리고, 상기 제2 회전축(170)에는 상기 제1 종동기어(164)와 동일한 크기 및 톱니를 가지는 제2 종동기어(174)가 치합되고, 일정간격을 유지하며 승강용 와이어(4)가 권취되는 제3 내지 제4 보빈(175,176)이 구비된다.In addition, a second driven gear 174 having the same size and teeth as the first driven gear 164 is engaged with the second rotation shaft 170, and maintains a predetermined interval while the lifting wire 4 is wound. Third to fourth bobbins 175 and 176 are provided.

이때, 상기 베이스판넬(110)의 상부에는 웨빙(6,6')이 권취되어 챔버(1)가 추락시 웨빙(6)을 잡아주는 공지의 웨빙권취기(190)가 구비된다. 이와 같은 웨빙권취기(190)는 일반적으로 차량의 급격한 충돌시 운전자를 보호하기 위해 설치되는 안전벨트 장치에 널리 사용되는 것으로 그 일예가 등록특허 제10-0276677호의 '웨빙 권취장치'와 같은 다수가 개시된 바 있어 이에 대한 설명은 생략한다. At this time, the upper part of the base panel 110, the webbing (6, 6 ') is wound is provided with a known webbing winder 190 to hold the webbing (6) when the chamber 1 falls. Such a webbing retractor 190 is generally widely used in a seat belt device that is installed to protect a driver during a sudden collision of a vehicle. For example, a number of such webbing retractors 190 may be used as a 'webbing reel device' of Patent No. 10-0276677. The description thereof will be omitted.

한편, 상기 웨빙권취기(190)의 웨빙(6)은 그 챔버지지판(200)에 고정시 그 웨빙(6)의 일부를 접어서 취약부(6a)를 형성하게 된다. 즉, 상기 취약부(6a)는 웨빙(6)을 일부 접은 상태의 접힘부(6b)를 일정한 지지핀(6c)으로 약하게 지지하게 된다. Meanwhile, when the webbing 6 of the webbing retractor 190 is fixed to the chamber support plate 200, a part of the webbing 6 is folded to form a weak part 6a. That is, the weakened portion 6a weakly supports the folded portion 6b in a state where the webbing 6 is partially folded with a constant support pin 6c.

따라서, 챔버(1)가 추락하는 경우 초기 추락속도는 낮으므로 챔버(1)의 추락길이가 길어지게 되는데, 이와 같은 취약부(6a)를 구비함으로서, 챔버(1)가 추락시 치약부가 펴지면서 웨빙권취기(190)를 잡아채는 속도를 증가시킴으로 인해 더욱더 견고히 웨빙(6)을 잡아주는 기능을 하게 된다. 이와 같은 웨빙(6)에 의해 챔버(1) 가 추락하더라도 물리적으로 추락을 방지하게 된다.Therefore, when the chamber 1 falls, the initial fall speed is low, so that the fall length of the chamber 1 becomes long. With such a weakened portion 6a, when the chamber 1 falls, the toothpaste portion is expanded and webbing is provided. By increasing the speed of holding the winder 190 is to function to hold the webbing 6 more firmly. Even if the chamber 1 falls by the webbing 6 as described above, the fall is physically prevented.

이와같은 구성에 따라 모터(M1)를 구동하면, 구동기어(150)와 제1 종동기어(164) 및 제2 종동기어(174)가 치합되어 회전함으로 인해 제1 및 제2 회전축(160,170)이 서로 반대방향으로 회전하게 되어 승강용 와이어(4)가 권취된 제1 내지 제4 보빈(166,168,175,176)을 회전시키게 된다.When the motor M1 is driven according to such a configuration, the first and second rotation shafts 160 and 170 are engaged by the driving gear 150, the first driven gear 164, and the second driven gear 174, which are engaged with each other to rotate. The first and fourth bobbins 166, 168, 175, and 176 on which the lifting wires 4 are wound are rotated in opposite directions.

이와같은 제1 내지 제4 보빈(166,168,175,176)의 회전에 따라 승강용 와이어(4)와 웨빙(6)이 감기거나 풀리면서 챔버지지판(200)을 상하로 승강시키고, 그 챔버지지판(200)의 하부에 위치하는 챔버(1) 역시 함께 상하로 승강된다. As the first and fourth bobbins 166, 168, 175, and 176 rotate, the elevating wire 4 and the webbing 6 are wound or unwinded, and the chamber support plate 200 is lifted up and down, and the lower portion of the chamber support plate 200 is rotated. The chamber 1 located at the same time is also lifted up and down together.

이때, 상기 구동기어(150)와, 이에 치합되는 제1 종동기어(164) 및 제2 종동기어(174)는 동일한 직경을 가지는 것을 구비하되, 상기 기어들에 비해 그 반경이 적은것을 사용하여야 서로 맞닿아 회전을 방해하는 것을 방지할 수 있게 된다. At this time, the drive gear 150, and the first driven gear 164 and the second driven gear 174 to be engaged therewith have the same diameter, but the radius is smaller than the gears to each other It is possible to prevent the abutment from interfering with rotation.

한편, 상기 제1 회전축(160)의 일단부에는 브라켓(172)의 일측부로 연장되는 돌출부(161)가 더 형성되는데 그 돌출부(161)에는 수나사산(161a)이 형성된다. 그리고, 상기 브라켓(172)의 외측부에는 상기 돌출부(161)에 치합되는 암나사산(163a)이 중앙부에 형성되는 이동부재(163)가 구비된다. 이때, 상기 이동부재(163)는 상기 돌출부(161)에 끼워져, 상기 돌출부(161)가 회전시에 이동부재(163)는 상대적으로 제1 회전축(160)의 길이방향으로 전후진되며, 그 돌출부(161)의 전후단에 각각 상하한 감지용 제1 및 제2리미트스위치(165a,165b)가 구비된다. 따라서, 제1회전축(160)이 일방향으로 회전함으로 인해 승강용 와이어(4)가 감기면서 챔버(1)가 상승하는 경우 이동부재(163)가 제1리미트스위치(165a)를 접촉하여 상한이 감지되면 모터(M1)의 작동을 정지시키고, 제1회전축(160)이 타방향으로 회전함으로 인해 승강용 와이어(4)가 풀리면서 챔버(1)가 하강하는 경우 이동부재(163)가 제2리미트스위치(165b)를 접촉하여 하한이 감지되면 모터(M1)의 작동을 정지시키게 된다. On the other hand, one end of the first rotation shaft 160 is further formed with a protrusion 161 extending to one side of the bracket 172, the male thread 161a is formed on the protrusion 161. In addition, the outer portion of the bracket 172 is provided with a moving member 163 is formed in the center of the female thread (163a) to be engaged with the protrusion 161. At this time, the movable member 163 is fitted to the protrusion 161, when the protrusion 161 is rotated, the movable member 163 is advanced back and forth in the longitudinal direction of the first rotating shaft 160, the protrusion Upper and lower sensing first and second limit switches 165a and 165b are provided at front and rear ends of the 161, respectively. Therefore, when the chamber 1 rises while the lifting wire 4 is wound due to the rotation of the first rotating shaft 160 in one direction, the movable member 163 contacts the first limit switch 165a to detect an upper limit. When the operation of the motor M1 is stopped and the first rotating shaft 160 rotates in the other direction, the lifting wire 4 is released and the chamber 1 is lowered. When the lower limit is detected by contacting the switch 165b, the operation of the motor M1 is stopped.

한편, 상기 승강수단(100)은 X/Y축으로 이동하기 위한 수평이동수단(300)에 의해 수평으로 이동이 가능하도록 베이스판넬(110)의 하부에 브라켓(112)이 고정되고 그 브라켓(112)에는 수평방향으로 설치되는 안내롤러(114)가 회전이 자유롭게 설치된다. On the other hand, the elevating means 100 is a bracket 112 is fixed to the lower portion of the base panel 110 to be moved horizontally by the horizontal moving means 300 for moving in the X / Y axis and the bracket 112 ), The guide roller 114 installed in the horizontal direction is freely rotated.

그리고, 상기 베이스판넬(110)의 Y축 이송을 원활히 수행하기 위한 Y축가이드부재(320)는 중앙부에 상단이 개구된 안내공(320a)이 길이방향으로 형성되고, 그 안내공(320a)의 양측에는 상기 안내롤러(114)의 안내홈(114a)에 접촉되는 수평돌기부(320b)가 구비된다.In addition, the Y-axis guide member 320 for smoothly carrying the Y-axis of the base panel 110 has a guide hole 320a having an upper end opened in the center thereof in a longitudinal direction, and the guide hole 320a of the guide hole 320a. Both sides are provided with a horizontal protrusion 320b in contact with the guide groove 114a of the guide roller 114.

또한, 그 Y축가이드부재(320)의 양단부는 고정구(322)에 고정되되, 그 고정구(322)의 하부에는 수평방향으로 설치되는 안내롤러(324)가 회전이 자유롭게 설치되어 X축 이송을 위한 X축가이드부재(310)에 안내되어 이송된다. In addition, both ends of the Y-axis guide member 320 is fixed to the fixture 322, the lower portion of the fixture 322, the guide roller 324 which is installed in the horizontal direction is freely rotated for X-axis transfer Guided to the X-axis guide member 310 is conveyed.

이때, 상기 X축가이드부재(310)는 중앙부에 상단이 개구된 안내공(310a)이 길이방향으로 형성되고, 그 안내공(310a)의 양측에는 상기 안내롤러(324)의 안내홈(324a)에 접촉되는 수평돌기부(310b)가 형성된다.At this time, the X-axis guide member 310 is formed with a guide hole 310a having an upper end opened in a central portion thereof, and guide grooves 324a of the guide roller 324 on both sides of the guide hole 310a. A horizontal projection 310b is formed in contact with the.

이하, 도 2 내지 도 8을 참고로 본 발명에 따른 식각작업용 챔버 이송장치의 작동 과정을 상세히 설명한다. 2 to 8 will be described in detail the operation of the chamber conveying apparatus for the etching operation according to the present invention.

본 발명에 따른 이송장치의 일측에 구비되는 조작판넬(500)에는 승강수단(100,100',100")의 모터(M1,M2,M3)를 제어하기 위한 신호를 입력하기 위한 M1 작동스위치(510)와, M2 작동스위치(520)와, M3 작동스위치(530)가 구비되어 작동신호를 입력하게 된다. 이때, 상기 각각의 작동스위치(510,520,530)는 상승/하강/정지가 가능한 3로 스위치로 이루어지거나, 상승/하강/정지를 위한 각각의 푸시버튼을 구비하여 작동하도록 함도 바람직하다.M1 operation switch 510 for inputting a signal for controlling the motor (M1, M2, M3) of the lifting means (100, 100 ', 100 ") in the operation panel 500 provided on one side of the transfer apparatus according to the present invention And, the M2 operation switch 520, and the M3 operation switch 530 is provided to input the operation signal, wherein each of the operation switch (510, 520, 530) is composed of three switches that can be raised / lowered / stopped It is also desirable to operate with a respective pushbutton for up / down / stop.

이하, 상기 모터(M1)의 작동예만을 설명하며, 나머지 모터(M2,M3) 역시 동일한 작동을 하게 된다.Hereinafter, only an operation example of the motor M1 will be described, and the remaining motors M2 and M3 also perform the same operation.

먼저, 챔버(1)가 하부에 지지되는 승강수단(100)을 식각작업을 수행하기 위한 위치로 이동하기 위해 측면의 손잡이(101)를 당기거나 밀게 되면, X축가이드부재(310)로 수평이동하고, 다시 Y축가이드부재(320)를 따라 수평이동하도록 움직이게 된다.First, when the chamber 1 is pulled or pushed by the handle 101 on the side to move the lifting means 100 supported at the bottom to a position for performing an etching operation, the horizontal movement to the X-axis guide member 310 Then, it is moved to move horizontally along the Y-axis guide member 320 again.

이와같은 상태에서 상기 M1 작동스위치(510)를 하강하도록 작동하면, 컨트롤판넬(400)에 신호가 입력된다. 이때, 상기 컨트롤판넬(400)은 그에 따른 정회전 신호를 모터드라이버(410)에 인가하여 아날로그 신호로 변환하여 모터(M1)를 정회전시키게 된다. In this state, when the M1 operation switch 510 is operated to descend, a signal is input to the control panel 400. In this case, the control panel 400 converts the forward rotation signal according to the motor driver 410 into an analog signal to rotate the motor M1 forward.

그에 따라 모터(M1)의 구동축 및 구동기어(150)를 정회전시키게 되고, 구동기어(150)에 치합되는 제1 회전축(160)의 제1 종동기어(164)가 역회전하게 된다. 이와같이 역회전하게 되면, 제1 및 제2 보빈(166,167)이 역회전하면서, 승강용 와 이어(4)를 풀어주게 된다.Accordingly, the driving shaft and the driving gear 150 of the motor M1 are rotated forward, and the first driven gear 164 of the first rotating shaft 160 meshed with the driving gear 150 is reversed. In this reverse rotation, the first and second bobbins 166 and 167 are reversely rotated, and the lifting wire 4 is released.

그리고, 상기 제1 종동기어(164)에 치합되는 제2 회전축(170)의 제2 종동기어(174)가 정회전하게 되어 제3 및 제4 보빈(175,176)이 함께 정회전하게 된다. 이때, 상기 제 1 및 제2 보빈(166,167)에 감겨진 승강용 와이어(4)의 방향과 제3 및 제4 보빈(175,176)에 감겨진 승강용 와이어(4)의 방향은 서로 반대 방향으로 형성하여여 한다. 그러는 이유는 제1 회전축(160)과 제2 회전축(170)의 회전방향이 서로 반대방향이므로 그에 따른 상승/하강시에 동일한 작용을 하기 위함이다. In addition, the second driven gear 174 of the second rotary shaft 170 meshed with the first driven gear 164 rotates forward, and the third and fourth bobbins 175 and 176 rotate forward together. In this case, the directions of the lifting wires 4 wound on the first and second bobbins 166 and 167 and the lifting wires 4 wound on the third and fourth bobbins 175 and 176 are formed in opposite directions. Should be. The reason for this is because the rotation directions of the first rotation shaft 160 and the second rotation shaft 170 are opposite to each other in order to perform the same action during the rise / fall.

이와같이 승강용 와이어(4)가 풀리게 되면 그 하부에 연결되는 챔버지지판(200)을 하강시키게 되고, 그 챔버지지판(200)은 체인(3)에 의해 연결되는 챔버(1)를 하강시키게 된다. 이때, 웨빙권취기(190)의 웨빙(6) 역시 챔버(1)의 자중(自重)에 의해 자동적으로 풀리게 되며, 챔버(1)가 하강하여 작업위치에 고정한 후 식각가스를 챔버(1)내에 투입하여 반도체 장치의 식각작업을 수행한 후 다시 M1 작동스위치(510)를 상승하도록 작동하면, 컨트롤판넬(400)에 신호가 입력되어 역회전 신호를 모터드라이버(410)에 인가하여 아날로그 신호로 변환하여 모터(M1)를 역회전시키게 된다. When the lifting wire 4 is released as described above, the chamber support plate 200 connected to the lower portion is lowered, and the chamber support plate 200 lowers the chamber 1 connected by the chain 3. At this time, the webbing 6 of the webbing retractor 190 is also automatically released by the self-weight of the chamber 1, and the chamber 1 is lowered and fixed to the working position, and then the etching gas is stored in the chamber 1. After the etching operation of the semiconductor device, the M1 operation switch 510 is raised again, and a signal is input to the control panel 400 to convert the reverse rotation signal to the motor driver 410 to convert the analog signal into an analog signal. The motor M1 is rotated in reverse.

그에 따라 모터(M1)의 구동축 및 구동기어(150)를 역회전시키게 되고, 구동기어(150)에 치합되는 제1 회전축(160)의 제1 종동기어(164)가 정회전하게 된다. 이와같이 정회전하게 되면, 제1 및 제2 보빈(166,167)이 함께 정회전하면서 승강용 와이어(4)를 감게 된다.Accordingly, the driving shaft and the driving gear 150 of the motor M1 are reversely rotated, and the first driven gear 164 of the first rotating shaft 160 meshed with the driving gear 150 is rotated forward. When the forward rotation is performed in this way, the first and second bobbins 166 and 167 are wound together while winding the lifting wire 4.

그리고, 상기 제1 종동기어(164)의 회전에 따라 제1 종동기어(164)에 치합되 는 제2 회전축(170)의 제2 종동기어(174)와 동일축상에 위치하는 제3 및 제4 보빈(175,176)이 함께 역회전하게 된다. 그러면서 제1 내지 제4 보빈(166,167,175,176)이 승강용 와이어(4)를 감게 되어 챔버지지판(200) 및 챔버(1)가 상부로 이동하게 된다. 이때, 챔버(1)가 상승되면서 웨빙(6) 역시 웨빙권취기(190)의 작동에 의해 자동으로 감기게 된다.In addition, the third and fourth positions positioned on the same axis as the second driven gear 174 of the second rotating shaft 170 engaged with the first driven gear 164 according to the rotation of the first driven gear 164. Bobbins (175,176) will be reversed together. As a result, the first to fourth bobbins 166, 167, 175, and 176 are wound around the lifting wire 4 so that the chamber support plate 200 and the chamber 1 move upward. At this time, as the chamber 1 is raised, the webbing 6 is also automatically wound by the operation of the webbing retractor 190.

이와같이 상부로 이동한 후 다시 손잡이(101)를 잡고 수평이동수단(300)의 X이송축(310), Y이송축(320)을 따라 이동시키면, 챔버(1) 역시 함께 X축 및/또는 Y축으로 이동하게 되는 것이다.After moving to the upper side and holding the handle 101 again and move along the X feed axis 310, Y feed axis 320 of the horizontal movement means 300, the chamber (1) also X axis and / or Y together Will move to the axis.

이상과 같이 본발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시예와 실질적으로 균등의 범위에 있는 것까지 본 발명의 권리범위가 미친다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and the scope of the present invention extends to the range substantially equivalent to the embodiments of the present invention.

이상의 설명에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따르면 일반적인 챔버의 이송수단에 비해 다수의 승강용 와이어 및 웨빙권취기를 구비하여 챔버를 이용한 반도체 장치의 식각작업을 수행한 후 이송시에 승강용 와이어가 부식에 의해 끊어지거나 모터의 소손이 발생되어 챔버가 추락하는 경우 웨빙권취기가 웨빙을 독립적으로 잡아주어 챔버의 추락을 방지시켜 작업자가 안전하게 작업에 임할 수 있는 효과가 있다. As can be seen from the above description, according to the present invention, the lifting wire is provided at the time of carrying out the etching operation of the semiconductor device using the chamber by providing a plurality of lifting wires and webbing winding machines as compared with the transfer means of the general chamber. When the chamber is torn down due to corrosion or burnout of the motor, the webbing retractor catches the webbing independently to prevent the fall of the chamber, so that the operator can work safely.

또한, 승강수단의 베이스판넬 하단에 안내롤러를 구비하여 X축 및/또는 Y축 방향으로 승강수단을 이송시키게 되어 별도의 윤활제를 도포할 필요가 없어 먼지 등이 들러붙지 않아 작업장의 환경 오염을 방지하고, 적은 힘으로도 자유롭게 이동하는 장점이 있다.In addition, there is a guide roller at the bottom of the base panel of the lifting means to transfer the lifting means in the X-axis and / or Y-axis direction, so there is no need to apply a separate lubricant to prevent dust from sticking to the environment. And, there is an advantage to move freely with little force.

Claims (5)

외주면에 다수의 고리가 고정되는 반도체 식각작업용 챔버에 있어서;A semiconductor etching chamber in which a plurality of rings are fixed to an outer circumferential surface thereof; 상기 챔버의 상부에 위치하며 다수의 고정공이 관통되게 형성되어 일부 고정공에는 상기 고리에 결합되는 챔버지지용 와이어가 연결되고, 나머지 고정공에는 상하 승강용 와이어 및 웨빙이 고정되는 챔버지지판과; A chamber support plate positioned at an upper portion of the chamber and having a plurality of fixing holes penetrated therein, the chamber supporting wires coupled to the hooks to some fixing holes, and the wires and webbings fixed to the upper and lower lifting wires to the other fixing holes; 상기 챔버지지판의 상부에 위치하되 상기 승강용 와이어 및 웨빙이 이동가능한 관통공이 형성되는 소정면적의 베이스판넬의 상부에 구비되는 웨빙권취기 및 모터와, 그 모터의 구동축에 결합되는 구동기어와, 그 구동축에 평행하며 상기 구동기어와 치합되는 제1 종동기어와 상기 일부 승강용 와이어가 권취되는 다수의 보빈이 동일축상에 구비되는 제1 회전축과, 상기 제1 회전축에 평행하며 상기 제1 종동기어와 치합되는 제2 종동기어와 상기 나머지 승강용 와이어가 권취되는 다수의 보빈이 동일축상에 구비되는 제2 회전축이 브라켓에 회전가능하게 지지되는 승강수단;으로 이루어진 것을 특징으로 하는 식각 작업용 챔버의 이송장치.A webbing retractor and a motor located on an upper portion of the chamber support plate and provided on an upper portion of a base panel having a predetermined area in which a lifting hole for moving the lifting wire and the webbing is formed; a drive gear coupled to a drive shaft of the motor; A first rotating gear parallel to the drive shaft and engaged with the drive gear and a plurality of bobbins on which the some lifting wires are wound are provided on the same axis; and a first driven gear parallel to the first rotating shaft and And a lifting means for rotatably supporting the second driven gear to be engaged and a second rotating shaft having a plurality of bobbins on which the remaining lifting wires are wound on the same axis to be rotatably supported by a bracket. . 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 웨빙의 일측부에는 일정한 하중이 가해지는 경우 펼쳐지도록 접혀진 상태의 취약부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 식각 작업용 챔버의 이송장치.One side of the webbing is conveying apparatus of the chamber for etching operation, characterized in that the weak portion is further provided to be folded to expand when a certain load is applied. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1 회전축의 일단부에는 브라켓의 일측부로 연장되되 수나사산이 형성되는 돌출부가 더 구비되고,One end of the first rotation shaft is further provided with a protrusion extending to one side of the bracket to form a male thread, 상기 브라켓의 외측부에는 상기 돌출부에 치합되는 암나사산이 형성되어 상기 돌출부가 정역회전시에 상기 제1 회전축의 길이방향으로 전후진되는 이동부재가 더 구비되고, A female thread is formed on the outer side of the bracket to be engaged with the protrusion so that the protrusion is moved forward and backward in the longitudinal direction of the first rotation shaft when the protrusion rotates forward and backward. 상기 돌출부의 전후단에 각각 구비되어 상기 이동부재에 의해 접촉되어 챔버의 승강시 상한과 하한을 감지하여 상기 모터를 정지시키는 제1 및 제2리미트스위치가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 식각 작업용 챔버의 이송장치.The first and second limit switches are provided on the front and rear ends of the protruding portion, respectively, and are contacted by the movable member to sense the upper and lower limits when the chamber is lifted to stop the motor. Conveying device. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 승강수단의 베이스판넬의 하부에는 회전이 자유로운 안내롤러가 축설되고, 그 하부에는 상기 안내롤러가 접촉되며 상기 승강수단이 X/Y축으로 이동하기 위한 수평이동수단이 지지프레임의 상부에 구비되는 것을 특징으로 하는 식각 작업용 챔버의 이송장치.A guide roller freely rotated is arranged under the base panel of the lifting means, the guide roller is in contact with the lower part thereof, and horizontal moving means for moving the lifting means in the X / Y axis is provided at the top of the support frame. Transfer device for the etching operation chamber, characterized in that. 제 4항에 있어서, 상기 수평이동수단은; The method of claim 4, wherein the horizontal movement means; 상기 베이스판넬의 안내롤러의 안내홈에 접촉되는 수평돌기부가 형성되어 상기 승강수단을 Y축방향으로 이송을 원활히 수행하기 위한 Y축가이드부재와,A horizontal protrusion formed in contact with the guide groove of the guide roller of the base panel, the Y-axis guide member for smoothly carrying the lifting means in the Y-axis direction; 상기 Y축가이드부재의 양단부가 고정되며 그 하부에는 회전이 자유로운 안내롤러가 구비되는 고정구와, Both ends of the Y-axis guide member is fixed, and the lower portion of the fixture which is provided with a guide roller freely rotated; 상기 고정구에 구비되는 안내롤러의 안내홈에 접촉되는 수평돌기부가 형성되어 상기 승강수단을 X축방향으로 이송을 원활히 수행하기 위한 X축가이드부재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 식각 작업용 챔버의 이송장치.The horizontal projection is in contact with the guide groove of the guide roller provided in the fixture is formed, the transport apparatus of the chamber for etching operation, characterized in that the X-axis guide member for smoothly performing the transfer in the X-axis direction.
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