KR100848340B1 - Laser Irradiation Device and Fabrication method using the same for Organic Light Emitting Diode display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레이저 조사 장치 및 그를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 관한 것으로, 레이저 소오스로부터 발생되는 레이저 빔이 역포화흡수체로 형성된 역포화흡수막을 통과하도록 하여, 상기 레이저 빔이 균질하게 하는 레이저 조사 장치 및 그를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laser irradiation apparatus and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the same, wherein a laser beam generated from a laser source passes through a desaturated absorption film formed of a desaturated absorber, thereby making the laser beam homogeneous. A method of manufacturing an irradiation apparatus and an organic light emitting display device using the same.

본 발명은 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스; 및 상기 레이저 빔을 균질하게 하기 위한 역포화흡수막을 포함하는 빔 균질기를 포함하는 레이저 조사 장치에 관한 것이다.The present invention provides a laser source for generating a laser beam; And a beam homogenizer including a desaturated absorption film for homogenizing the laser beam.

본 발명은 제 1 전극이 형성된 기판을 제공하고, 상기 기판 상에 기재 기판, 광열변환층 및 유기막층인 전사층을 포함하는 도너 기판을 라미네이션하고, 상기 도너 기판의 일부 영역에 역포화흡수막을 포함하는 레이저 조사 장치에 의해 발생된 레이저 빔을 조사하여, 상기 기판에 유기막층 패턴을 형성하고, 상기 기판으로부터 상기 도너 기판을 분리하고, 상기 유기막층 패턴을 포함하는 기판 상에 제 2 전극을 형성하는 것을 포함하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention provides a substrate on which a first electrode is formed, laminating a donor substrate including a substrate layer, a photothermal conversion layer, and a transfer layer, which is an organic layer, on the substrate, and including a reverse saturation absorption film in a portion of the donor substrate. Irradiating a laser beam generated by a laser irradiation device to form an organic film layer pattern on the substrate, separating the donor substrate from the substrate, and forming a second electrode on the substrate including the organic film layer pattern. The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting display device.

유기전계발광표시장치, 레이저 조사 장치. Organic light emitting display device, laser irradiation device.

Description

레이저 조사 장치 및 그를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법{Laser Irradiation Device and Fabrication method using the same for Organic Light Emitting Diode display device}Laser irradiation device and fabrication method of organic light emitting display device using the same {Laser Irradiation Device and Fabrication method using the same for Organic Light Emitting Diode display device}

도 1은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 조사 장치의 모식도이다.1 is a schematic diagram of a laser irradiation apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 레이저 조사 장치를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 사시도 들이다.2A to 2C are perspective views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device using a laser irradiation device according to a first embodiment of the present invention.

<도면 주요 부호들에 대한 부호의 설명><Description of Symbols for Drawing Major Symbols>

100 : 레이저 조사 장치 110 : 레이저 소오스100: laser irradiation device 110: laser source

120 : 이미지 변형 장치 130 : 빔 균질기120: image transformation device 130: beam homogenizer

140 : 프로젝션 렌즈 300 : 척140: projection lens 300: chuck

500 : 피처리물 510 : 기판500: workpiece 510: substrate

520 : 도너 기판520: donor substrate

본 발명은 레이저 조사 장치 및 그를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 관한 것으로, 레이저 소오스로부터 발생되는 레이저 빔이 역포화흡수체로 형성된 역포화흡수막을 통과하도록 하여, 상기 레이저 빔이 균질하게 하는 레이저 조사 장치 및 그를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laser irradiation apparatus and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the same, wherein a laser beam generated from a laser source passes through a desaturated absorption film formed of a desaturated absorber, thereby making the laser beam homogeneous. A method of manufacturing an irradiation apparatus and an organic light emitting display device using the same.

평판표시장치(Flat Panel Display Device)는 경량 및 박형 등의 특성으로 인해, 음극선관 표시장치(Cathode-ray Tube Display Device)를 대체하는 표시장치로서 사용되고 있다. 이러한 평판표시장치의 대표적인 예로서 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device; LCD)와 유기전계발광표시장치(Organic Light Emitting Diode; OLED)가 있다. 이 중, 유기전계발광표시장치는 액정표시장치에 비하여 휘도 특성 및 시야각 특성이 우수하고 백라이트(Back Light)를 필요로 하지 않아 초박형으로 구현할 수 있는 장점이 있다.Flat panel display devices are used as display devices replacing cathode ray-ray tube display devices due to their light weight and thinness. Representative examples of such a flat panel display include a liquid crystal display (LCD) and an organic light emitting diode (OLED). Among these, the organic light emitting display device has excellent luminance characteristics and viewing angle characteristics as compared to the liquid crystal display device, and does not require a backlight, and thus, an organic light emitting display device may have an ultra-thin shape.

이와 같은 유기전계발광표시장치는 유기박막에 음극(Cathode)과 양극(Anode)을 통하여 주입된 전자(Electron)와 정공(Hole)이 재결합하여 여기자를 형성하고, 형성된 여기자로부터의 에너지에 의해 특정한 파장의 빛이 발생되는 현상을 이용한 표시장치이다.Such an organic light emitting display device combines electrons and holes injected through a cathode and an anode to an organic thin film to recombine to form excitons, and a specific wavelength is determined by energy from the excitons formed. The display device using the phenomenon that light is generated.

상기 유기전계발광표시장치는 구동 방법에 따라 수동 구동(Passive matrix) 방식과 능동 구동(Active matrix) 방식으로 나뉘는데, 능동 구동 방식은 박막트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT)를 사용하는 회로를 가진다. 상기 수동 구동 방식은 그 표시 영역이 양극과 음극에 의하여 단순히 매트릭스 형태의 소자로 구성되어 있어 제조가 용이하다는 장점이 있으나, 해상도, 구동 전압의 상승, 재료 수명의 저하 등의 문제로 인하여 저해상도 및 소형 디스플레이의 응용 분야로 제한된다. 상기 능동 구동 방식은 표시 영역이 각 화소마다 박막트랜지스터를 장착함으로 써, 각 화소마다 일정한 전류를 공급함에 따라 안정적인 휘도를 나타낼 수 있다. 또한, 전력소모가 적어 고해상도 및 대형 디스플레이를 구현할 수 있는 중요한 역할을 한다.The organic light emitting display device is classified into a passive matrix method and an active matrix method according to a driving method, and an active driving method has a circuit using a thin film transistor (TFT). The passive driving method has an advantage in that the display area is composed of a matrix-type device by an anode and a cathode, and thus is easy to manufacture, but due to problems such as resolution, an increase in driving voltage, and a decrease in material life, Limited to the application of the display. In the active driving method, a thin film transistor is mounted in each pixel to display a stable luminance by supplying a constant current to each pixel. In addition, low power consumption plays an important role in realizing high resolution and large display.

상기 유기전계발광표시장치가 풀 컬러를 구현하기 위하여 적색, 녹색 및 청색 발광층을 형성하는 방법 중 레이저를 이용한 레이저 열전사법(Laser Induced Thermal Imaging)이 있다. 상기 레이저 열전사법은 상기 발광층을 미세하게 패터닝할 수 있고, 건식 공정이라는 장점이 있다.Laser induced thermal imaging (Laser Induced Thermal Imaging) is a method of forming red, green, and blue light emitting layers in order for the organic light emitting display device to realize full color. The laser thermal transfer method can finely pattern the light emitting layer and has an advantage of being a dry process.

상기 레이저 열전사법은 기재 기판, 광열변환층 및 전사층을 포함하는 도너 기판의 상기 기재 기판 상에 레이저 빔을 조사하여 상기 전사층을 억셉트 기판 상에 전사시킴으로써, 발광층 패턴을 형성하는 방법이다.The laser thermal transfer method is a method of forming a light emitting layer pattern by irradiating a laser beam onto a base substrate of a donor substrate including a base substrate, a photothermal conversion layer, and a transfer layer to transfer the transfer layer onto an accept substrate.

그러나 상기 레이저 열전사법에 사용되는 레이저 빔 내의 에너지 분포가 불균일하여, 상기 레이저 열전사법으로 상기 유기전계발광표시장치의 하나 또는 다수 개의 발광층을 포함하는 유기막층 패턴을 형성하는 경우, 상기 유기막층 패턴이 불균일하게 전사되어 전체적인 휘도가 불균일해 지는 문제점이 있다.However, when the energy distribution in the laser beam used in the laser thermal transfer method is uneven, and the organic layer layer pattern including one or a plurality of light emitting layers of the organic light emitting display device is formed by the laser thermal transfer method, the organic layer pattern is There is a problem that the luminance is unevenly transferred and the overall brightness is nonuniform.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 레이저 소오스로부터 발생되는 레이저 빔이 역포화흡수막을 통과하도록 하여, 상기 레이저 빔을 균질하게 하는 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 제공함에 본 발명의 목적이 있다.Accordingly, the present invention is to solve the problems of the prior art as described above, the laser irradiation device for making the laser beam homogeneous by passing the laser beam generated from the laser source through the reverse saturation absorption film and the organic electroluminescence using the same It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a display device.

본 발명의 상기 목적은 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스; 및 상기 레이저 빔을 균질하게 하기 위한 역포화흡수막을 포함하는 빔 균질기를 포함하는 레이저 조사 장치에 의해 달성된다.The object of the present invention is a laser source for generating a laser beam; And a beam homogenizer including a desaturated absorption film for homogenizing the laser beam.

또한, 본 발명의 상기 목적은 제 1 전극이 형성된 기판을 제공하고, 상기 기판 상에 기재 기판, 광열변환층 및 유기막층인 전사층을 포함하는 도너 기판을 라미네이션하고, 상기 도너 기판의 일부 영역에 역포화흡수막을 포함하는 레이저 조사 장치에 의해 발생된 레이저 빔을 조사하여, 상기 기판에 유기막층 패턴을 형성하고, 상기 기판으로부터 상기 도너 기판을 분리하고, 상기 유기막층 패턴을 포함하는 기판 상에 제 2 전극을 형성하는 것을 포함하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 의해 달성된다.In addition, the above object of the present invention is to provide a substrate on which a first electrode is formed, laminating a donor substrate including a substrate layer, a photothermal conversion layer, and a transfer layer, which is an organic film layer, on a portion of the donor substrate. Irradiating a laser beam generated by a laser irradiation apparatus including a reverse saturation absorption film to form an organic layer pattern on the substrate, separating the donor substrate from the substrate, and forming a substrate on the substrate including the organic layer layer pattern. It is achieved by a method of manufacturing an organic light emitting display device comprising forming two electrodes.

본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용 효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시 예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다. 덧붙여, 도면들에 있어서, 층 및 영역의 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있으며, 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타내고, "이미지"란 표현은 레이저 빔을 피처리물 표면에 조사하였을 때 실제 레이저 빔이 조사되는 영역을 의미한다.Details of the above object, technical configuration and effects according to the present invention will be more clearly understood by the following detailed description with reference to the drawings showing preferred embodiments of the present invention. In addition, in the drawings, the lengths, thicknesses, and the like of layers and regions may be exaggerated for convenience, and like reference numerals denote like elements throughout the specification, and the expression “image” denotes a laser beam. When irradiated to the surface of the treatment means the area to which the actual laser beam is irradiated.

본 발명에 따른 레이저 조사 장치는 레이저 소오스(Laser Source)로부터 발생된 레이저 빔이 역포화흡수체(Reverse Saturable Absorption material; RSA material)로 형성되는 역포화흡수막을 통과하도록 하여, 상기 레이저 빔을 균질하 게 하고 있다.The laser irradiation apparatus according to the present invention allows a laser beam generated from a laser source to pass through a reverse saturable absorption film formed of a reverse saturable absorbent material (RSA material), thereby making the laser beam homogeneous. Doing.

상기 역포화흡수체(RSA material)는 비선형적 광학 성질에 의해 투과하는 빛의 세기에 따라 흡수율이 달라지는 물질로, 투과하는 빛의 세기가 일정 세기 이상인 경우, 상기 일정 세기보다 초과하는 빛을 흡수하는 특징으로 가지고 있다.The RSA material is a material whose absorption rate varies according to the intensity of light transmitted by nonlinear optical properties. When the intensity of transmitted light is greater than or equal to a certain intensity, the RSA material absorbs more than the predetermined intensity. To have.

상기 역포화흡수체(RSA material)의 비선형 광학 성질을 보다 구체적으로 설명하면, 빛 또는 전기장이 어떤 물질에 가해졌을 때, 그 물질 내부에서의 전기장의 변화상태를 나타내는 것은 분극화 P(Polarization)이고, 상기 분극화 P는 다음과 같이 표시된다.In more detail, the nonlinear optical properties of the RSA material, when light or an electric field is applied to a material, is a polarization P (Polarization) indicating the state of change of the electric field inside the material. Polarization P is expressed as follows.

Figure 112007003004154-pat00001
Figure 112007003004154-pat00001

Figure 112007003004154-pat00002
Figure 112007003004154-pat00003
Figure 112007003004154-pat00002
Figure 112007003004154-pat00003

여기서,

Figure 112007003004154-pat00004
값이 선형 계수이고,
Figure 112007003004154-pat00005
값은 3차 비선형성의 전도를 나타내는 계수로서, 그 자체가 복소수(complex number)로서 물질의 복소 굴절률(complex refractive index)과 관련이 있다.here,
Figure 112007003004154-pat00004
The value is a linear coefficient,
Figure 112007003004154-pat00005
The value is a coefficient representing the conduction of third order nonlinearity, which in itself is related to the complex refractive index of the material as a complex number.

즉 비선형성을 고려한 물질의 복소 굴절률은 다음과 같이 표시된다.That is, the complex refractive index of the material considering the nonlinearity is expressed as follows.

Figure 112007003004154-pat00006
Figure 112007003004154-pat00006

Figure 112007003004154-pat00007
Figure 112007003004154-pat00007

위 식을 살펴보면 3차 비선형성에 의한 굴절률의 변화는 결국

Figure 112007003004154-pat00008
값과 비례하는 관계임을 알 수 있다. 즉, 비선형 계수의 실수부가 양인 경우는 3차 비선형 물질이 볼록렌즈 역할을 하게 되어 상기 3차 비선형 물질을 통과한 빛이 집속 작용(Focusing) 되는 자기 집속(Self-focusing) 효과를 보이고, 상기 실수부가 음인 경우는 3차 비선형 물질이 오목렌즈 역할을 하게 되어 3차 비선형 물질을 통과하는 빛이 퍼지는 효과를 보인다. 또한, 비선형 계수의 허수부가 양인 경우는 빛의 세기(Intensity)가 클수록 흡수율이 증가하는 성질을 가지고, 허수부가 음인 경우는 빛의 세기가 클수록 흡수율이 감소하는 성질을 가진다. Looking at the above equation, the change of the refractive index due to the third order nonlinearity eventually
Figure 112007003004154-pat00008
It can be seen that the relationship is proportional to the value. That is, when the real part of the nonlinear coefficient is positive, the tertiary nonlinear material acts as a convex lens, and shows a self-focusing effect in which light passing through the tertiary nonlinear material is focused. In the negative case, the third nonlinear material acts as a concave lens, so that light passing through the third nonlinear material spreads. In addition, when the imaginary part of the nonlinear coefficient is positive, the absorption rate increases as the light intensity increases, and when the imaginary part is negative, the absorption rate decreases as the light intensity increases.

따라서, 비선형 계수의 허수부가 음인 경우 포화흡수(Saturable absorption) 성질을 나타내어 비선형 물질을 통과한 빛의 세기가 일정 세기 이상이 되며, 양인 경우 역포화흡수(Reverse Saturable absorption) 성질을 나타내어 비선형 물질을 통과한 빛의 세기가 일정 세기 이하가 된다.Therefore, if the imaginary part of the nonlinear coefficient is negative, it shows a saturable absorption property, and the intensity of light passing through the nonlinear material is above a certain intensity, and if it is positive, it shows a reverse saturable absorption property and passes through the nonlinear material. The intensity of one light is below a certain intensity.

상기 역포화흡수 성질을 나타내는 물질을 역포화흡수체(RSA material)이라고 하며, 반도체 물질인 Si, GaAs, PbS, PbSe, Cds, CdSe 등과 TiO2, MnO2, ZnO 등의 메탈 산화물뿐만 아니라 C60, 포피린계 및 프탈로사이아닌계 등의 유기물에서도 매우 큰 역포화흡수 성질이 나타난다.The material exhibiting the reverse saturation absorption properties is called a reverse saturable absorber (RSA material), and is a C60, porphyrin-based and a metal oxide such as Si, GaAs, PbS, PbSe, Cds, CdSe, and other metals such as TiO2, MnO2, ZnO, and the like. Very large reverse saturation absorption properties also occur in organic substances such as phthalocyanine-based compounds.

본 발명은 상기와 같은 역포화흡수 성질을 나타내는 역포화흡수체(RSA material)에 레이저 빔이 통과하도록 하여, 상기 레이저 빔이 균질하게 되도록 한다.The present invention allows the laser beam to pass through the RSA material exhibiting the above-mentioned reverse saturation absorption properties, so that the laser beam is homogeneous.

(실시 예)(Example)

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 조사 장치를 나타낸 모식도이다.1 is a schematic diagram showing a laser irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 조사 장치(100)는 레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스(110), 이미지 변형 장치(120), 역포화흡수체(RSA material)로 형성된 역포화흡수막(미도시)을 포함하는 빔 균질기(130) 및 프로젝션 렌즈(Projection lens; 140)을 포함한다. Referring to FIG. 1, a laser irradiation apparatus 100 according to an exemplary embodiment of the present invention may include a reverse source absorbing material formed of a laser source 110 generating a laser beam, an image deforming device 120, and a desaturating absorber (RSA material). A beam homogenizer 130 and a projection lens 140 including a film (not shown).

상기 이미지 변형 장치(120)는 상기 레이저 소오스(110)으로부터 발생된 레이저 빔(L1)의 이미지의 형태를 변형시키는 장치로써, 상기 이미지 변형 장치(120)을 통과한 레이저 빔의 이미지(L2)는 일측 방향으로 길이를 가지는 라인 형태일 수 있다. 상기 라인 형태라 함은 사전적 의미의 라인 형태뿐만 아니라, 종횡비가 비교적 큰 직사각형 형상을 의미한다.The image modifying device 120 is a device for modifying the shape of the image of the laser beam (L1) generated from the laser source 110, the image (L2) of the laser beam passing through the image modifying device 120 is It may be in the form of a line having a length in one direction. The line shape means not only a line shape in a dictionary meaning, but also a rectangular shape having a relatively high aspect ratio.

도시되지는 않았지만, 상기 이미지 변형 장치(120)을 통과하여 라인 형태의 이미지를 가지는 상기 레이저 빔(L2)이 마스크(미도시)를 통과하도록 할 수 있다. 상기 마스크는 하나 또는 다수 개의 광투과 패턴 또는 광반사 패턴이 형성되어 있어, 상기 라인 형태의 이미지를 가지는 레이저 빔(L2)은 상기 마스크를 통과함으로써, 상기 하나 또는 다수 개의 광투과 패턴 또는 광반사 패턴에 의해 패터닝된 이미지를 가지게 된다. 상기 하나 또는 다수 개의 광투과 패턴 또는 광반사 패턴은 상기 레이저 빔(L2)의 라인 형태의 이미지 내에서 배열되도록 하는 것이 바람직하 며, 상기 레이저 빔(L2)의 길이 방향으로 배열되는 것이 더욱 바람직하다. Although not shown, the laser beam L2 having an image in the form of a line passing through the image transformation apparatus 120 may pass through a mask (not shown). The mask is formed with one or more light transmission patterns or light reflection patterns, so that the laser beam L2 having the line-shaped image passes through the mask, whereby the one or more light transmission patterns or light reflection patterns Will have the image patterned by Preferably, the one or more light transmission patterns or light reflection patterns are arranged in the line-shaped image of the laser beam L2, and more preferably arranged in the longitudinal direction of the laser beam L2. .

상기 빔 균질기(130)는 상기 이미지 변형 장치(120) 또는 상기 마스크를 통과한 상기 레이저 빔(L2)을 균질하게 하기 위한 것으로, 상기 레이저 빔(L2)이 역포화흡수체(RSA material)로 형성된 역포화흡수막을 통과하도록 하여, 상기 세기가 균질한 레이저 빔(L3)이 되도록 한다. 상기 빔 균질기(130)는 유리 등의 투명 기판 상에 하나 또는 다수 개의 상기 역포화흡수체(RSA material)를 증착하거나 도포하는 등의 방법에 의해 역포화흡수막을 성막할 수 있으며, 두 개의 투명 기판 사이에 액체 상태의 하나 또는 다수 개의 역포화흡수체(RSA material)을 삽입하여 형성할 수 있다.The beam homogenizer 130 is for homogenizing the laser beam L2 passing through the image modifying apparatus 120 or the mask, and the laser beam L2 is formed of a desaturated absorber (RSA material). Passing through the reverse saturation absorption film, the laser beam (L3) of the same intensity is achieved. The beam homogenizer 130 may form a desaturated absorption film by depositing or applying one or more RSA materials on a transparent substrate such as glass, and two transparent substrates. It may be formed by inserting one or a plurality of RSA materials in a liquid state therebetween.

상기 빔 균질기(130)의 역포화흡수막은 투과하는 빛의 세기에 따라 흡수율이 달라지므로, 상기 레이저 빔(L2)의 세기를 제어하여 상기 빔 균질기(130)을 통과한 레이저 빔(L3)의 형상을 탑-햇(top-hat) 등의 원하는 형상으로 만들 수 있으며, 이를 위하여 상기 이미지 변형 장치(120)는 상기 레이저 빔(L2)의 포커스(Focus)를 제어하여, 상기 빔 균질기(130)을 통과하는 상기 레이저 빔(L2)의 세기를 제어할 수 있는 광학 렌즈(미도시)를 더 포함할 수 있다. 상기 광학 렌즈는 상기 레이저 빔(L2)의 파장에 따라 가변적으로 세기를 제어하기 위하여, 상기 이미지 변형 장치(120)와 빔 균질기(130) 사이에 유동 가능하도록 할 수 있다.Since the absorption rate of the desaturated absorption film of the beam homogenizer 130 varies according to the intensity of light transmitted therethrough, the laser beam L3 passing through the beam homogenizer 130 by controlling the intensity of the laser beam L2 is controlled. Can be made into a desired shape such as a top-hat, and for this purpose, the image transformation apparatus 120 controls the focus of the laser beam L2 to control the beam homogenizer ( An optical lens (not shown) capable of controlling the intensity of the laser beam L2 passing through 130 may be further included. The optical lens may be movable between the image transformation apparatus 120 and the beam homogenizer 130 in order to variably control the intensity according to the wavelength of the laser beam L2.

상기 빔 균질기(130)를 통과한 균질하며, 라인 형태의 이미지를 가지는 상기 레이저 빔(L3)은 프로젝션 렌즈(Projection lens; 140)을 통과하여 상기 레이저 조사 장치(100) 하부에 위치하는 피처리물 표면에 조사된다.The laser beam L3 having a homogeneous and line-shaped image passing through the beam homogenizer 130 passes through a projection lens 140 and is positioned below the laser irradiation apparatus 100. Irradiated to the water surface.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 조사 장치를 이용한 레이저 열전사법으로 유기전계발광표시장치를 제조하는 방법을 순차적으로 나타낸 사시도 들이다.2A to 2C are perspective views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device by a laser thermal transfer method using a laser irradiation apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

먼저, 도 2a를 참조하면, 제 1 전극(미도시)을 형성된 기판(510) 상에 기재 기판(미도시), 광열변환층(미도시) 및 상기 유기막층으로 형성된 전사층(미도시)을 포함하는 도너 기판(520)을 상기 제 1 전극과 상기 전사층이 마주보도록 라미네이션한 후, 상기 기판(510) 및 상기 도너 기판(520)이 라미네이션된 피처리물(500)을 레이저 열전사법을 위한 레이저 조사 장치의 척(300) 상에 탑재한다.First, referring to FIG. 2A, a transfer layer (not shown) formed of a base substrate (not shown), a photothermal conversion layer (not shown), and the organic layer is formed on a substrate 510 on which a first electrode (not shown) is formed. After laminating the donor substrate 520 including the first electrode and the transfer layer to face each other, the workpiece 500 having the substrate 510 and the donor substrate 520 laminated thereon for laser thermal transfer. It is mounted on the chuck 300 of the laser irradiation apparatus.

상기 레이저 조사 장치(100)는 스테이지(200), 상기 스테이지 상에 위치하며, 피처리물(500)이 탑재되는 척(chuck, 300), 상기 척(300)을 일 방향(X 방향)으로 왕복 이동시키기 위한 척 가이드 바(chuck guide bar, 250), 앞서 설명한 레이저 소오스(110), 이미지 변형 장치(120), 빔 균질기(130) 및 프로젝션 렌즈(140)을 포함하며, 상기 척(300)에 탑재되는 피처리물(500)에 레이저를 조사하기 위한 광학계(450) 및 상기 광학계(450)가 장착된 광학계 가이드 바(laser guide bar, 400)을 포함한다. 상기 광학계(450)는 상기 광학계 가이드 바(400)를 따라 상기 척이 이동되는 방향(X 방향)과 수직되는 방향(Y 방향)으로 이동될 수 있도록 하여, 상기 피처리물(500)의 모든 영역에 레이저 빔이 조사될 수 있도록 한다.The laser irradiation apparatus 100 is positioned on the stage 200, the chuck 300 on which the workpiece 500 is mounted, and the chuck 300 reciprocates in one direction (X direction). A chuck guide bar 250 for moving, a laser source 110 described above, an image deforming device 120, a beam homogenizer 130 and a projection lens 140, the chuck 300 It includes an optical system 450 for irradiating a laser to the object to be processed 500, and an optical guide bar 400 equipped with the optical system 450. The optical system 450 may move along the optical guide bar 400 in a direction (Y direction) perpendicular to a direction in which the chuck is moved (X direction), so that all regions of the object 500 are processed. Allow the laser beam to be irradiated onto it.

이어서, 도 2b를 참조하면, 상기 피처리물(500)의 도너 기판(520)의 일부 영역(A)에 상기 광학계(450)에서 발생된 레이저 빔을 조사하면, 상기 레이저 빔은 상기 도너 기판(520)의 광열변환층이 흡수하고, 상기 광열변환층은 상기 흡수한 레이 저 빔을 열로 전환시켜 상기 레이저 빔이 조사된 영역(A)에 대응되는 전사층을 상기 제 1 전극이 형성된 기판(510) 상에 전사하여 전사층 패턴을 형성하게 된다. 상기 도너 기판(520) 상에는 상기 레이저 빔이 조사될 영역(B)이 미리 패턴 되어 있을 수 있으며, 상기 전사층은 하나 또는 다수 개의 발광층을 포함하는 유기막층일 수 있다.Subsequently, referring to FIG. 2B, when the laser beam generated by the optical system 450 is irradiated onto a portion A of the donor substrate 520 of the workpiece 500, the laser beam may generate the donor substrate ( The photothermal conversion layer of 520 absorbs, and the photothermal conversion layer converts the absorbed laser beam into heat so that the transfer layer corresponding to the area A to which the laser beam is irradiated is transferred to the substrate 510 on which the first electrode is formed. Transfer to form a transfer layer pattern. The donor substrate 520 may be pre-patterned with a region B to be irradiated with the laser beam, and the transfer layer may be an organic layer including one or a plurality of light emitting layers.

상기 도너 기판(520) 상에 조사되는 상기 레이저 빔은 도 1에 도시된 바와 같이, 레이저 소오스(110)로부터 발생된 레이저 빔L1이 역포화흡수체로 형성된 역포화흡수막을 포함하는 빔 균질기(130)을 통과한 후, 상기 도너 기판(520)에 조사되므로, 상기 역포화흡수막에 의해 균질하게 된 레이저 빔이므로, 상기 도너 기판(520)의 광열변환층에 흡수되는 에너지가 동일하게 되고, 이로 인하여 상기 도너 기판(520)의 전사층은 상기 기판(510) 상에 균일하게 전사된다.As shown in FIG. 1, the laser beam irradiated onto the donor substrate 520 may include a beam homogenizer 130 including a desaturated absorption film in which the laser beam L1 generated from the laser source 110 is formed of a desaturated absorber. After passing through), the donor substrate 520 is irradiated onto the donor substrate 520, so that the energy absorbed by the photothermal conversion layer of the donor substrate 520 becomes the same since the laser beam is homogeneous by the desaturated absorption film. As a result, the transfer layer of the donor substrate 520 is uniformly transferred onto the substrate 510.

다음으로, 상기 광학계(450)는 상기 광학계 가이드 바(400)를 따라 일측 방향(Y 방향)으로 일정 속도로 이동하게 하여 상기 피처리물(500)에 레이저 빔을 조사하고, 상기 피처리물(500)의 기판 상에는 상기 광학계(450)이 이동하는 방향으로 상기 전사층 패턴이 형성된다.Next, the optical system 450 is moved along the optical guide bar 400 in one direction (Y direction) at a constant speed to irradiate a laser beam to the object 500, and the object ( The transfer layer pattern is formed on the substrate of 500 in the direction in which the optical system 450 moves.

계속해서, 도 2c에 도시된 바와 같이, 상기 광학계(450)이 일측 방향(Y 방향)으로 레이저 빔 조사가 완료되면, 상기 피처리물(500)을 상기 일측 방향(Y 방향)에 수직인 방향(X 방향)으로 일정 거리만큼 이동시켜, 상기 광학계(450)에 의해 레이저 빔이 조사되지 않은 영역(B)이 상기 광학계(450) 하부에 위치하도록 한다. Subsequently, as shown in FIG. 2C, when the laser beam irradiation is completed in one direction (Y direction) of the optical system 450, the workpiece 500 is perpendicular to the one direction (Y direction). (B direction) by moving a predetermined distance so that the area B, which is not irradiated with the laser beam by the optical system 450, is positioned below the optical system 450.

이어서, 상기와 같이 상기 광학계(450)는 일측 방향(Y 방향)으로 이동하면 레이저 빔을 조사하고, 상기 광학계(450) 및 척(300)의 이동에 의해 상기 피처리물(500)의 기판(510) 상에 전사층 패턴을 모두 형성한다.Subsequently, as described above, when the optical system 450 moves in one direction (Y direction), the optical beam is irradiated with a laser beam, and the substrate of the object 500 is moved by the movement of the optical system 450 and the chuck 300. All of the transfer layer patterns are formed on the 510.

다음으로, 도시되지는 않았지만, 상기 기판(510)으로부터 상기 도너 기판(520)을 분리(delamination)하고, 상기 유기막층을 포함하는 기판(510) 상에 제 2 전극을 형성하여, 유기전계발광표시장치를 완성한다.Next, although not shown, the donor substrate 520 is separated from the substrate 510, and a second electrode is formed on the substrate 510 including the organic layer to display an organic light emitting display. Complete the device.

결과적으로, 본 발명의 실시 예에 따른 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법은 레이저 소오스로부터 발생된 레이저 빔을 역포화흡수체(RSA material)로 형성된 역포화흡수막을 포함하는 빔 균질기를 통해 균질하게 하여, 레이저 열 전사법에서 기판 상에 전사층이 균일하게 전사되도록 한다.As a result, the laser irradiation apparatus and the method of manufacturing the organic light emitting display device using the same according to an embodiment of the present invention is a homogeneous beam including a desaturated absorption film formed of a desaturated absorber (RSA material) of the laser beam generated from the laser source Homogeneous through the group allows the transfer layer to be uniformly transferred onto the substrate in the laser thermal transfer method.

따라서, 본 발명에 따른 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법은 레이저 소오스로부터 발생된 레이저 빔을 역포화흡수체(RSA material)로 형성된 역포화흡수막을 포함하는 빔 균질기를 통해 균질하게 하여, 레이저 열 전사법에서 기판 상에 전사층이 균일하게 전사되도록 함으로써, 전체적인 휘도가 불균일해지는 것을 방지한다.Therefore, the laser irradiation apparatus and the method of manufacturing the organic light emitting display device using the same according to the present invention homogeneize the laser beam generated from the laser source through a beam homogenizer including a desaturated absorption film formed of a desaturated absorber (RSA material). Thus, the transfer layer is uniformly transferred onto the substrate by the laser thermal transfer method, thereby preventing the overall luminance from becoming uneven.

Claims (14)

레이저 빔을 발생시키는 레이저 소오스; 및A laser source for generating a laser beam; And 상기 레이저 빔을 균질하게 하기 위한 역포화흡수막을 포함하는 빔 균질기를 포함하는 레이저 조사 장치.And a beam homogenizer including a desaturated absorption film for homogenizing the laser beam. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 역포화흡수막은 메탈 산화물, 포피린계 유기물 및 프탈로사이아닌계 유기물로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 다수 개로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.The reverse saturation absorption film is a laser irradiation apparatus, characterized in that formed of any one or a plurality selected from the group consisting of metal oxides, porphyrin-based organic material and phthalocyanine-based organic material. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 메탈 산화물은 TiO2, MnO2 또는 ZnO 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.The metal oxide is a laser irradiation apparatus, characterized in that any one of TiO 2 , MnO 2 or ZnO. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 역포화흡수막은 Si, GaAs, PbS, PbSe, CdS 또는 CdSe 중 어느 하나 또는 다수 개로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.The reverse saturation absorption film is a laser irradiation apparatus, characterized in that formed of any one or a plurality of Si, GaAs, PbS, PbSe, CdS or CdSe. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 레이저 소오스와 빔 균질기 사이에 위치하며, 상기 레이저 빔의 이미지를 라인 형태로 변형시키는 이미지 변형 장치를 더 포함하는 레이저 조사 장치.And an image transformation device, positioned between the laser source and the beam homogenizer, for transforming the image of the laser beam into a line shape. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 이미지 변형 장치는 상기 빔 균질기를 투과하는 레이저 빔의 세기를 제어하기 위한 광학 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.The image modifying apparatus further comprises an optical lens for controlling the intensity of the laser beam passing through the beam homogenizer. 제 1 전극이 형성된 기판을 제공하고,Providing a substrate on which a first electrode is formed, 상기 기판 상에 기재 기판, 광열변환층 및 유기막층인 전사층을 포함하는 도너 기판을 라미네이션하고,Laminating a donor substrate including a substrate substrate, a photothermal conversion layer, and a transfer layer, which is an organic layer, 레이저 조사 장치의 역포화흡수막을 이용하여 레이저 소오스로부터 발생된 레이저 빔을 균질하게 하고,Homogenizing the laser beam generated from the laser source using the reverse saturation absorption film of the laser irradiation device, 상기 도너 기판의 일부 영역에 상기 레이저 조사 장치에 의해 균질하게 된 상기 레이저빔을 조사하여 상기 기판에 유기막층 패턴을 형성하고,Irradiating the laser beam homogenized by the laser irradiation apparatus to a portion of the donor substrate to form an organic layer pattern on the substrate, 상기 기판으로부터 상기 도너 기판을 분리하고,Separating the donor substrate from the substrate, 상기 유기막층 패턴을 포함하는 기판 상에 제 2 전극을 형성하는 것을 포함하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.A method of manufacturing an organic light emitting display device comprising forming a second electrode on a substrate including the organic layer pattern. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 역포화흡수막은 메탈 산화물, 포피린계 유기물 및 프탈로사이아닌계 유기물로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시 장치의 제조 방법.The reverse saturation absorption film is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that any one selected from the group consisting of metal oxide, porphyrin-based organic material and phthalocyanine-based organic material. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 메탈 산화물은 TiO2, MnO2 또는 ZnO 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The metal oxide is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that any one of TiO 2 , MnO 2 or ZnO. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 역포화흡수막은 Si, GaAs, PbS, PbSe, CdS 또는 CdSe 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The reverse saturation absorption film is Si, GaAs, PbS, PbSe, CdS or CdSe manufacturing method of an organic light emitting display device, characterized in that any one. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 레이저 조사 장치는The laser irradiation device 레이저 빔을 발생하는 레이저 소오스;A laser source for generating a laser beam; 상기 레이저 빔을 균질하게 하기 위한 역포화흡수막을 포함하는 빔 균질기; 및A beam homogenizer including a desaturated absorption film for homogenizing the laser beam; And 상기 빔 균질기 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.And a projection lens positioned below the beam homogenizer. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 레이저 소오스와 빔 균질기 사이에 위치하며, 상기 레이저 빔의 이미지를 라인 형태로 변형시키는 이미지 변형 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.Located between the laser source and the beam homogenizer, the method of manufacturing an organic light emitting display device further comprises an image transformation device for transforming the image of the laser beam in the form of a line. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 이미지 변형 장치는 상기 빔 균질기를 투과하는 레이저 빔의 세기를 제어하기 위한 광학 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.And the image deforming device further comprises an optical lens for controlling the intensity of the laser beam passing through the beam homogenizer. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 유기막층은 하나 또는 다수 개의 발광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The organic layer is a manufacturing method of an organic light emitting display device comprising one or a plurality of light emitting layers.
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