KR100846444B1 - The tool for nail, toenail and hardened skins cleaning and it's manufacturing method - Google Patents

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Abstract

A cosmetic tool for cleaning nail, toenail, and horny substance and a manufacturing method for the same are provided to remove a need of separate micro-grinding through excellent cutting performance and to allow repeated using through its wash-ability. A cosmetic tool for cleaning nail, toenail, and horny substance comprises: a board shaped base plate; multiple indented groove parts(4) and flat surface parts(5) around the indented grooves established on the board shaped base plate, which have repeated uneven patterns alternating each other in longitudinal and lateral directions; cutting blades(6) formed on borders where the indented grooves and the flat surfaces meet each other.

Description

손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구 및 그 제조방법{The tool for nail, toenail and hardened skins cleaning and it's manufacturing method}Beauty tools for nails and keratin cleansing and the method of manufacturing thereof {The tool for nail, toenail and hardened skins cleaning and it's manufacturing method}

도 1은 종래 일반적인 막대형 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 사시도.1 is a perspective view of a beauty instrument for a conventional common nail and keratin cleansing.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 사시도.Figure 2 is a perspective view of a beauty appliance for nails and keratin cleansing according to the first embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 따른 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 요부 확대 평면도.Figure 3 is an enlarged plan view of the main portion of the beauty instrument for nails and keratin cleaning according to FIG.

도 4는 도 2에 따른 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 단면도.4 is a cross-sectional view of the beauty device for nails and keratin cleaning according to FIG.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 사용상태를 나타낸 도면. 5 is a view showing the state of use of the beauty device for nails and keratin cleansing according to the first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 사시도.Figure 6 is a perspective view of a beauty appliance for nails and keratin cleaning according to a second embodiment of the present invention.

도 7a, 7b는 도 6에 따른 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 단면도. Figures 7a, 7b is a cross-sectional view of the beauty device for nails and keratin cleaning according to Figure 6;

도 8은 본 발명인 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구 제작을 위한 일련의 제작공정을 나타낸 공정도.Figure 8 is a process chart showing a series of manufacturing process for the production of a cosmetic device for the present inventors nail and keratin cleansing.

<도면의 주요부위에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>

1...기판 4...요홈부1 ... substrate 4 ... recess

5...평면부 6...절삭날5 ... plane 6 ... cutting edge

7...천공부 10...피 가공물7.Perforation part 10 ... Workpiece

본 발명은 미용기구 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 손발톱 및 발뒤꿈치 등의 피부 각질 소제(掃除)를 위한 미용기구 및 그 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beauty instrument and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a beauty instrument for exfoliating skin, such as a nail and a heel, and a manufacturing method thereof.

주변에서 흔히 볼 수 있는 미용기구 중 네일 파일(nail file)이라 불리우는 손발톱 미용기구는 손발톱 표면이나 끝단을 연마하고 광택을 내는 데에 주로 이용되며, 형상이나 구조에 따라 크게 블록형과 막대형으로 구분될 수 있는데, 그 중 막대형이 일반적으로 많이 이용된다.Nail files, called nail files, are commonly used in the surroundings, and are mainly used to polish and polish nail surfaces or ends, and are largely divided into block and rod shapes according to shape or structure. Among them, rod type is generally used.

도 1에는 위와 같이 일반적으로 흔히 사용되는 상기 막대형 미용기구가 도시되어 있다.Figure 1 shows the rod-shaped beauty device commonly used as above.

도면에 도시된 바와 같이, 막대형 미용기구(1)는 기판(8)을 중심으로 일면과 이면에 스펀지와 같은 쿠션제가 접착되고, 상기 스펀지 외표면에 각기 다른 입도의 연마면(2)을 형성한 구조로 되어 있다. As shown in the figure, the bar-shaped cosmetic device 1 is a cushioning agent such as a sponge is adhered to one surface and the back surface around the substrate 8, and the polishing surface 2 of different particle sizes are formed on the outer surface of the sponge. It is a structure.

상기 미용기구(1)를 사용하여 손발톱 표면 및 손발톱 끝을 손질함에 있어서는 연마 입도가 큰 부분부터 시작해서 점점 입도가 낮은 부분으로 연마면(2)의 위치를 바꿔가면서 연마를 행한다.When the nail surface and the nail tip are trimmed using the beauty instrument 1, polishing is performed while changing the position of the polishing surface 2 to a portion having a lower particle size starting from a portion having a larger particle size.

그러나 상기 종래 손발톱 미용기구(1)의 경우 연마면은 단순히 오톨도톨 불규칙한 요철패턴을 갖는다. 때문에 그러한 연마면(2)을 통해 연마를 행할 경우에 가공 대상물 즉, 손발톱에 대한 연마상태가 고르지 못하며, 따라서 전문가가 아닌 이상 위와 같은 미용기구를 이용하여 손발톱을 미려하게 다듬는 것은 쉽지가 않다. However, in the case of the conventional nail cosmetics (1), the polishing surface simply has an irregular pattern of irregular tolitol. Therefore, when polishing through such a polishing surface (2) is not evenly polished to the object to be processed, that is, the nail, therefore, it is not easy to polish the nail by using the above beauty tools unless you are an expert.

더욱이, 종래에는 전술한 것처럼 연마면 표면이 오톨도톨 불규칙한 요철패턴을 갖기 때문에 작업후 재사용을 위해 세정을 하더라도 미세한 피 가공물 입자가 요철면 사이에 잔류하여 위생적이지 못하며, 스폰지 재질의 쿠션제 부분에 물이 스며들어 건조하는 데에도 시간이 많이 걸리는 문제점이 있다. 따라서 대부분의 미용실이나 네일아트 전문점에서는 플라스틱 또는 스펀지 형 그리고 금속재질로된 저가의 미용기구를 이용하고 있으며, 이와 같은 미용기구는 일회용으로 한번 쓰고 버려지는 것이 대부분이다. 따라서, 자원절약 측면에서 볼 때 상당히 비경제적인 문제가 있는 것이다. Furthermore, since the surface of the polished surface has an irregular pattern of irregular irregularities as described above, even after cleaning for re-use after work, fine workpiece particles remain between the irregularities and are not sanitary. There is a problem that takes a long time to soak in the drying. Therefore, most beauty salons and nail art specialty shops use low-cost beauty instruments made of plastic or sponge type and metal materials, and these beauty instruments are used and discarded once. Therefore, there is a considerably uneconomical problem in terms of resource conservation.

나아가, 종래 손발톱 미용기구를 이용하여 피 가공물 즉, 손발톱을 연마후 미세연마를 통해 광택의 효과를 기대하기 위해서는 입도가 다른 여러 종류의 손발톱 미용기구를 구비하여야 하고, 또한 네일버퍼라는 별도의 광택기구를 이용하여 다단계에 걸친 연마공정을 수행해야만 했다. 이에 따라, 작업이 매우 더디고 그에 따라 작업능률이 크게 떨어지는 단점이 있다.Furthermore, in order to expect a gloss effect through micropolishing after polishing a workpiece, ie, nails, using a conventional nail beauty device, various nail beauty devices having different particle sizes must be provided, and a separate polishing device called a nail buffer. It was necessary to carry out a multi-step polishing process using. Accordingly, there is a disadvantage that the work is very slow and accordingly the work efficiency is greatly reduced.

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 연마성능이 뛰어나 연마시 보다 고른 연마상태를 기대할 수 있고, 세척 및 소독이 용이하여 기존 손발톱 미용기구의 일회성을 보완할 수 있는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구 및 그 제조방법을 제공하는 데에 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, excellent polishing performance can be expected to a more even polishing state when polishing, easy to clean and disinfect nails and keratin cleaning agent that can complement the one-time use of existing nail cosmetics The purpose is to provide a beauty instrument and a method for manufacturing the same.

또한 본 발명은 절삭/연마성능이 우수하여 피 가공물인 손발톱 표면 연마 후 광택에 이르기까지 여러번의 연마과정이 필요없는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구 및 그 제조방법을 제공하는 데에 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a beauty device for nails and keratin cleaners and a method of manufacturing the same, which do not require many polishing processes from polishing the surface of the nail, which is a workpiece, to polishing. .

상기 목적을 달성하기 위한 일 양태로서 본 발명은, 금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판 표면에서 소정 문양의 연속된 패턴으로 오목하게 함몰된 요홈부와, 상기 요홈부의 함몰로 인한 요홈부 주변의 평면부를 포함하며, 상기 요홈부와 평면부는 기판상에서 기판의 길이 및 폭 방향으로 서로 교번되는 반복된 패턴을 가지면서 상기 요홈부와 평면부가 만나는 경계선이 절삭날인 것을 특징으로 하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구를 제공한다.As an aspect for achieving the above object, the present invention includes a recessed portion recessed in a continuous pattern of a predetermined pattern on the surface of the plate-shaped substrate of a metal or non-metal material, and a flat portion around the recessed portion due to depression of the recessed portion And, the groove portion and the flat portion having a repeated pattern alternated with each other in the length and width direction of the substrate on the substrate while the boundary line where the groove portion and the flat portion meet the cutting tool characterized in that the cutting edge to provide.

본 발명의 다른 양태에 따르면, 금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판 표면에서 소정 문양의 연속된 패턴으로 구멍을 뚫어 형성된 천공부와, 상기 천공부로 인한 천공부 주변의 평면부를 포함하며, 상기 천공부와 평면부는 기판상에서 기판 의 길이 및 폭 방향으로 서로 교번되는 반복된 패턴을 가지면서 상기 천공부와 평면부가 만나는 경계선이 절삭날인 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구를 제공한다. According to another aspect of the present invention, a perforated portion formed by drilling a continuous pattern of a predetermined pattern on the surface of the plate-shaped substrate of a metal or nonmetal material, and a flat portion around the perforated portion due to the perforated portion, The planar portion has a repeated pattern alternated with each other in the length and width direction of the substrate on the substrate while providing a beauty device for nails and keratin cleansing the cutting edge is the cutting edge meets the perforated portion and the flat portion.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 판상형 기판 표면에 크롬을 코팅하고, 크롬 코팅된 기판 표면에 감광성 피막을 입힌 뒤, 감광성 피막이 도포된 기판 표면에 소정 패턴의 문양을 갖는 필름 접착하고, 상기 필름이 부착된 기판에 빛을 조사하여 필요 부분을 감광시킴과 동시에 미감광 부분을 부식시켜 소정 문양의 요철 패턴을 형성하여 요홈부와 평면부가 만나는 경계선에 절삭날을 형성하며, 상기 가공된 요홈부 및 평면부를 미세 연마하고, 상기 연마과정을 거친 기판의 강도 및 경도 강화를 위해 화학 열처리한 뒤, 마지막으로 열처리된 기판을 소정의 형상으로 재단하여 연마기구를 완성하는 과정을 포함하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구의 제조방법을 제공한다.In addition, in order to achieve the above object, the present invention is coated with chromium on the surface of the plate-shaped substrate, a photosensitive film is coated on the surface of the chromium-coated substrate, and then a film having a pattern of a pattern on the surface of the photosensitive film is applied And irradiating the substrate to which the film is attached to light to expose a necessary portion, and at the same time, to corrode the unsensed portion to form a concave-convex pattern of a predetermined pattern to form a cutting edge at a boundary line where the concave portion and the flat portion meet. Nails including fine grinding the groove and the planar portion, and chemically heat treated to strengthen the strength and hardness of the substrate subjected to the polishing process, and finally cutting the heat treated substrate into a predetermined shape to complete the polishing mechanism; Provided is a method of manufacturing a beauty appliance for exfoliation.

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 실시예별로 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

실시예 1Example 1

먼저 첨부 도면을 간단히 설명하면, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 미용기구의 사시도이고, 도 3은 도 2에 따른 미용기구의 평면도이며, 도 4는 도 2에 따른 미용기구의 단면도이다. 그리고 도 5은 본 발명의 제1 실시예에 따른 미용기구의 사용상태를 나타낸 도면이다. 2 is a perspective view of a beauty instrument according to a first embodiment of the present invention, FIG. 3 is a plan view of the beauty instrument according to FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the beauty instrument according to FIG. 2. to be. 5 is a view showing a state of use of the beauty instrument according to the first embodiment of the present invention.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 미용기구는 기판상에 소정 문양의 연속된 패턴으로 요홈부(4)를 오목하게 함몰 형성하고, 따라서 상기 요홈부(4)와 그 주변의 비 함몰된 평면부(5)가 만나는 경계선을 절삭날(6)로 형성하여, 기판(1)상에 미세한 절삭날(6)이 연속된 패턴으로 반복 배열되도록 한 것을 구성의 요지로 한다. 이와 같은 본 발명의 구성을 좀 더 구체적으로 살펴보기로 한다.As shown in the figure, the beauty instrument according to the present invention recesses and forms the recesses 4 in a continuous pattern of a predetermined pattern on the substrate, and thus the recesses 4 and the surroundings of the recesses 4 are not recessed. The boundary line where the planar part 5 meets is formed with the cutting edge 6, and it makes it the summary of the structure that the fine cutting edge 6 is repeatedly arranged in a continuous pattern on the board | substrate 1. The configuration of the present invention as described above will be described in more detail.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 미용기구는 금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판(1)을 기반으로 기판(1) 표면에 소정 문양의 연속된 패턴으로 오목하게 함몰된 요홈부(4)와, 상기 요홈부(4)의 함몰로 인한 요홈부(4) 주변의 평면부(5)를 포함한다. 상기 요홈부(4)와 평면부(5)는 기판(1)상에서 기판의 길이 및 폭 방향으로 서로 교번되는 반복된 요철 패턴을 가지며, 상기 요홈부(4)와 평면부(5)에 의하여 절삭날(6)이 형성된다.2 to 4, the beauty instrument according to the present invention is a recess 4 recessed in a continuous pattern of a predetermined pattern on the surface of the substrate 1 based on the plate-shaped substrate 1 of metal or nonmetallic material. ), And the flat portion 5 around the recess 4 due to the depression of the recess 4. The groove portion 4 and the planar portion 5 have repeated concave-convex patterns alternated with each other in the length and width directions of the substrate on the substrate 1, and are cut by the groove portion 4 and the planar portion 5. The blade 6 is formed.

구체적으로, 상기 절삭날(6)은 상기 요홈부(4)와 평면부(5)가 만나는 경계선 즉, 요홈부(4)의 수직면(또는 경사면)과 평면부(5)의 수평면이 만나는 모서리에 형성된다. 이러한 절삭날(6)은 원형 또는 삼각 이상의 다각 형상의 홈 및 이로 인한 홈 주변의 돌기가 기판상에서 연속된 요철 패턴을 갖도록 기판 표면을 가공함에 의해 형성될 수 있다. 즉, 연속된 요철 패턴을 갖도록 기판(1) 표면을 가공하여 두 층의 높이를 서로 다르게 함으로써 형성될 수 있다. Specifically, the cutting edge 6 is a boundary line where the concave portion 4 and the flat portion 5 meet, that is, the corner where the vertical plane (or inclined surface) of the concave portion 4 and the horizontal surface of the flat portion 5 meet. Is formed. This cutting edge 6 may be formed by processing the surface of the substrate such that the grooves of a polygonal shape or more than a circular or triangular shape and the projections around the grooves have a continuous uneven pattern on the substrate. That is, it can be formed by processing the surface of the substrate 1 so as to have a continuous concave-convex pattern by varying the height of the two layers.

예컨대, 도 2 내지 도 4에서와 같은 사각형상의 연속된 요철 패턴의 절삭날의 경우, 기판(1)의 길이 및 폭 방향으로 상기 요홈부(4)와 평면부(5)가 서로 교번되는 반복된 요철 패턴을 가지도록 기판(1) 표면에 홈을 가공함으로써 요홈부(4)와 평면부(5)가 만나는 경계선에 절삭날(6)이 형성되도록 할 수 있다. For example, in the case of the cutting edge of the rectangular continuous concave-convex pattern as shown in Figs. 2 to 4, the groove portion 4 and the planar portion 5 are alternately repeated in the length and width direction of the substrate 1 By cutting the groove on the surface of the substrate 1 to have the uneven pattern, the cutting edge 6 may be formed at the boundary line where the uneven portion 4 and the flat portion 5 meet.

이처럼, 기판(1) 표면에 절삭날(6)이 연속된 패턴으로 반복 배열된 경우, 도 5에서와 같이 손톱 또는 발톱 표면에 불규칙한 평면 또는 돌기(100)에 본 발명에 따른 미용기구를 밀착시킨 상태에서 전,후,좌,우 어느 방향으로든 살짝 밀면 상기 절삭날(6)에 의해 상기 가공 대상면 즉, 손발톱 표면의 스크레치나 돌기(100)에 대한 절삭 및 연마가 행해질 수 있다.As such, when the cutting edges 6 are repeatedly arranged in a continuous pattern on the surface of the substrate 1, the beauty instruments according to the present invention are brought into close contact with the irregular flat surface or protrusion 100 on the nail or toenail surface as shown in FIG. 5. Slightly pushing in any direction before, after, left, or right may be cut and polished to the processing target surface, that is, the scratch or protrusion 100 on the surface of the nail, by the cutting edge 6.

이때, 절삭 및 연마되는 손발톱에 대한 절삭량은 연속된 요철 패턴을 형성하는 하나의 단위 요홈부(또는 평면부)의 간격(또는 폭) 및 깊이 그리고 절삭날(6)의 각도 등 여러 요건에 의해 정해질 수 있다. 물론, 단위 요홈부(또는 평면부)의 간격(또는 폭)과 깊이가 넓고 깊을수록 절삭량과 절삭면적이 커질 수 있으며, 단위 요홈부의 간격(또는 폭)과 깊이가 좁고 낮을수록 미세 가공에 유리하다. 그리고 절삭날의 형성 각도에 따라 다른 절삭의 결과를 얻을 수 있다.At this time, the cutting amount for the nail to be cut and polished is determined by various requirements such as the interval (or width) and depth of one unit groove (or flat portion) forming a continuous uneven pattern and the angle of the cutting edge (6). Can be done. Of course, the wider and deeper the interval (or width) and depth of the unit recess (or flat portion), the greater the cutting amount and cutting area, and the narrower and lower the interval (or width) and depth of the unit recess portion are advantageous for micromachining. . And different cutting results can be obtained according to the forming angle of the cutting edge.

본 실시예에서 손발톱의 소제 및 광택을 위해서는 상기 요홈부(4)의 폭(d1) 또는 요홈부와 이와 인접하는 다른 요홈부 간의 간격을 0.001mm ~ 1mm 이내로 한정하는 것이 바람직하다. 이는 요홈부(4)의 폭(d1) 또는 요홈부(4)와 이와 인접하는 다른 요홈부 간의 간격이 0.001mm 미만인 경우에는 기판(1)상에 절삭날(6)이 너무 미세한 간격으로 배열되어 절삭 또는 연마 자체가 행해질 수 없으며, 1mm를 초과하는 경우에는 곡면형상의 피 가공물에 대한 절삭량이 증대되어 손발톱 표면에 스크래치가 생기는 원인이 된다.In this embodiment, to clean and polish the nail, it is preferable to limit the width d1 of the groove 4 or the distance between the groove and the other groove adjacent thereto to within 0.001 mm to 1 mm. This is because when the width d1 of the groove portion 4 or the distance between the groove portion 4 and another groove portion adjacent thereto is less than 0.001 mm, the cutting edges 6 are arranged on the substrate 1 at too fine intervals. Cutting or polishing cannot be performed by itself, and when it exceeds 1 mm, the amount of cutting on the curved workpiece increases, which causes scratches on the nail surface.

또한, 피부 굳은살과 같은 각질 제거를 위해서는 상기 요홈부(4)의 폭(d1) 또는 요홈부와 이와 인접하는 다른 요홈부 간의 간격을 0.5mm ~ 4mm 이내로 한정하는 것이 바람직하다. 이는 요홈부(4)의 폭(d1) 또는 요홈부(4)와 이와 인접하는 다른 요홈부 간의 간격이 0.5mm 미만인 경우에는 기판(1)상에 절삭날(6)이 각질을 제거하기에는 미세한 간격으로 배열되어 절삭에 불리하며, 4mm 를 초과하는 경우에는 절삭 칼날의 기구를 다루는 과정에서 사용부주의로 인한 인체 찰과상과 같은 상해의 우려가 높아질 수 있기 때문이다. In addition, in order to remove keratin such as skin callus, it is preferable to limit the width d1 of the groove portion 4 or the distance between the groove portion and another groove portion adjacent thereto to be within 0.5 mm to 4 mm. This is because the cutting edge 6 on the substrate 1 has a fine spacing when the width d1 of the groove portion 4 or the distance between the groove portion 4 and another groove portion adjacent thereto is less than 0.5 mm. This is because it is arranged to be disadvantageous for cutting, and if it exceeds 4mm, there is a risk of injury such as abrasion of the human body due to carelessness in the process of handling the mechanism of the cutting blade.

그리고 상기 요홈부(4)의 함몰 깊이(h1)는 적어도 0.01mm 이상을 갖도록 한정함이 바람직하다. 상기 요홈부(4)의 함몰 깊이(h1)가 0.01mm 미만인 경우에는 피 가공물에 대한 절삭 또는 연마 가공 시 절삭효율이 떨어질 뿐 아니라 절삭과정에서 요홈부 내에 쌓인 파티클(particle)을 제거하기 위한 잦은 세정이 요구되기 때문이다.And the depth of depression (h1) of the groove portion 4 is preferably limited to have at least 0.01mm or more. When the recessed depth h1 of the recess 4 is less than 0.01 mm, the cutting efficiency decreases during cutting or polishing of the workpiece, and frequent cleaning to remove particles accumulated in the recess during the cutting process. Because this is required.

한편, 도면에는 미도시 되었으나 상기 기판에 형성되는 요홈부(또는 평면부)의 크기와 간격을 하나의 기판상에서 영역별로 달리 형성되도록 함이 바람직하다. 이 경우, 다양한 크기와 간격을 갖는 여러 종류의 절삭날이 하나의 기판상에 구현될 수 있다. 이처럼 여러 종류의 절삭날이 하나의 기판상에 구현된 경우에는 절삭에서부터 미세한 연마까지 하나의 연마기구를 통해 진행될 수 있다. 따라서 종래와 같이 손발톱의 미세 연마를 위해 입도 크기별로 여러 종류의 미용기구를 구비하지 않아도 된다. 결과적으로, 작업능률의 개선은 물론 다양한 입도의 연마기구 배재에 따른 자재비 절감을 기대할 수 있다.On the other hand, although not shown in the drawing, it is preferable that the size and spacing of the recesses (or flat portions) formed on the substrate are differently formed for each region on one substrate. In this case, various kinds of cutting edges having various sizes and spacings may be implemented on one substrate. When several types of cutting edges are implemented on one substrate as described above, the cutting to fine grinding may be performed through one polishing mechanism. Therefore, it is not necessary to provide various kinds of beauty instruments for each size of the particle size for fine polishing of nails. As a result, it is expected to improve the work efficiency as well as to reduce the material cost due to the exclusion of the grinding instruments of various sizes.

상기한 본 발명의 제1 실시예에 따르면, 금속 또는 비금속 재질의 기판 상에 요홈부(4)의 함몰 가공을 통해 미세한 절삭날(6)이 형성된다. 따라서 종래 미용기구와 비교하여 절삭성 및 내구성이 매우 뛰어나며, 세정액 예컨대, 물을 이용한 단순 세척만으로도 재사용이 가능하며, 자외선 및 알콜 그리고 열탕가열법 등의 방법으로 위생적인 소독처리가 가능하다. 즉, 지속적인 사용이 가능한 것이다. According to the first embodiment of the present invention described above, a fine cutting edge 6 is formed on the substrate of the metal or nonmetal material by recessing the groove 4. Therefore, the cutting and durability is very excellent compared to the conventional beauty instruments, and can be reused only by simple cleaning with a cleaning liquid, for example, water, and hygienic disinfection can be performed by UV, alcohol, and boiling water heating. That is, it can be used continuously.

더욱이, 금속을 소재로 할 경우, 피 가공물의 형상에 따라 기판을 적절히 절곡시켜 사용할 수 있어, 사용환경에 크게 구애 받지 않는 이점이 있다.Moreover, when metal is used as a material, the substrate can be bent and used appropriately according to the shape of the workpiece, and there is an advantage that it is not largely affected by the use environment.

실시예 2Example 2

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 연마기구의 사시도이고, 도 7a, 7b는 도 6에 따른 연마기구의 단면도이다. 6 is a perspective view of a polishing apparatus according to a second embodiment of the present invention, and FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views of the polishing apparatus according to FIG. 6.

도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 연마기구는 기판상에 소정 문양의 연속된 패턴으로 구멍을 뚫어 천공부(7)를 형성하고, 따라서 상기 천공부(7)와 그 주변의 비 함몰된 평면부(5)가 만나는 경계선이 절삭날(6)인 점을 제외하고는 전술한 제1 실시예와 동일한 구성 및 작용을 갖는다. 따라서, 이하에서는 전술한 일 실시예와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호 및 명칭을 사용하고 중복되는 구성에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다. As shown in the figure, the polishing apparatus according to the present embodiment forms perforations 7 by drilling holes in a continuous pattern of a predetermined pattern on a substrate, and thus the recesses of the perforations 7 and its surroundings are not recessed. Except for the fact that the boundary line between the flat portions 5 is the cutting edge 6, it has the same structure and operation as in the above-described first embodiment. Therefore, hereinafter, the same reference numerals and names are used for the same components as the above-described exemplary embodiments, and detailed descriptions of the overlapping components will be omitted.

도 6 내지 도 7을 참조하면, 본 실시예에 따른 연마기구는 금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판(1)을 기반으로 기판(1) 표면에 소정 문양의 연속된 패턴으로 구멍을 뚫어 형성한 천공부(7)와, 상기 천공부(7)의 천공으로 인한 천공부(7) 주변의 평면부(5)를 포함한다. 상기 천공부(7)와 평면부(5)는 기판(1)상에서 기판의 길 이 및 폭 방향으로 서로 교번되는 반복된 패턴을 가지며, 이때 상기 천공부(7)와 평면부(5)가 만나는 경계선 즉, 천공부(7) 내면 수직면(또는 경사면)과 평면부(5)의 수평면이 만나는 모서리가 절삭날(6)이 된다. 6 to 7, the polishing apparatus according to the present embodiment is formed by drilling holes formed in a continuous pattern of a predetermined pattern on the surface of the substrate 1 based on the plate-shaped substrate 1 of metal or nonmetallic material. (7) and the planar portion 5 around the perforations 7 due to the perforations of the perforations 7. The perforated portion 7 and the planar portion 5 have a repeated pattern that is alternated with each other in the length and width directions of the substrate on the substrate 1, wherein the perforated portion 7 and the planar portion 5 meet each other. The cutting edge 6 is the boundary line, that is, the edge where the vertical surface (or inclined surface) of the inner surface of the perforated portion 7 meets the horizontal surface of the flat portion 5.

상기 절삭날(6)은 원형 또는 타원, 삼각 이상의 다각 형상의 구멍 및 이로 인한 구멍 주변의 돌기가 기판상에서 연속된 패턴을 갖도록 기판을 천공함으로써 형성될 수 있다. 예컨대, 도 6에서와 같이, 기판의 길이 및 폭 방향으로 원형의 천공부(7)와 평면부(5)가 서로 교번되는 반복된 패턴을 가지도록 기판(1)에 구멍을 뚫어 천공부(7)와 평면부(5)가 만나는 경계선에 절삭날(6)이 형성되도록 할 수 있다. The cutting edge 6 may be formed by drilling the substrate such that a circular or ellipse, a triangular or more polygonal hole and the projections around the hole have a continuous pattern on the substrate. For example, as shown in FIG. 6, a hole is formed in the substrate 1 by drilling a circular pattern 7 and a planar portion 5 alternately with each other in the length and width directions of the substrate. ) And the cutting edge 6 may be formed at the boundary line where the planar portion 5 meets.

본 실시예에서의 상기 천공부(7)의 폭(d2) 또는 천공부(7)와 이와 인접하는 다른 천공부(7) 간의 간격은 전술한 제1 실시예의 요홈부(4)의 폭(d1) 또는 요홈부(4)와 이와 인접하는 다른 요홈부(4)의 간격과 동일하며, 그에 대한 수치 한정의 이유도 동일하다. 따라서 이에 대한 중복 설명은 생략한다. The width d2 of the perforations 7 in this embodiment or the interval between the perforations 7 and other perforations 7 adjacent thereto is equal to the width d1 of the recess 4 in the first embodiment described above. ) Is equal to the interval between the recess 4 and the other recess 4 adjacent thereto, and the reason for numerical limitation thereof is also the same. Therefore, duplicate description thereof will be omitted.

다만, 본 실시예에서는 전술한 제1 실시예와는 달리 천공부(7) 깊이 즉, 기판 두께를 0.1mm ~ 10mm 이내로 한정하는 것이 바람직하다. 이는 상기 천공부(7)의 깊이가 0.1mm 미만인 경우에는 기판(1)이 너무 얇아 충분한 강성을 확보하지 못하며, 10mm 초과시에는 기판(1) 두께가 지나치게 두꺼워져 천공부(7)에 대한 가공이 상당히 난해지기 때문이다.However, in the present embodiment, unlike the first embodiment described above, it is preferable to limit the depth of the perforated portion 7, that is, the substrate thickness within 0.1 mm to 10 mm. This means that when the depth of the perforated portion 7 is less than 0.1 mm, the substrate 1 is too thin to secure sufficient rigidity, and when the depth of the perforated portion 7 is greater than 10 mm, the thickness of the perforated portion 7 becomes excessively thick, so that the processing of the perforated portion 7 is difficult. It is quite difficult.

이와 같은 제2 실시예의 경우 역시 전술한 제1 실시예와 마찬가지로, 기판(1)에 형성되는 천공부(7)의 폭을 영역별로 달리하여 다양한 크기와 간격을 갖는 여러 종류의 절삭날이 하나의 기판상에 구현되도록 함이 바람직하며, 그 이유는 전술된 제1 실시예와 같다.In the case of the second embodiment, as in the first embodiment, the cutting edges having various sizes and intervals are formed by varying the width of the perforations 7 formed in the substrate 1 for each region. It is preferred to be implemented on a substrate, for the same reason as in the first embodiment described above.

이와 같은 본 발명의 제2 실시예에 따르면, 금속 또는 비금속 재질의 기판 상에 천공부(7)의 가공을 통해 미세한 절삭날(6)이 형성된다. 따라서 종래 미용기구와 비교하여 절삭성 및 내구성이 매우 뛰어남은 물론 세정액 예컨대, 물을 이용한 세척만으로도 재사용이 가능하다. 즉, 지속적인 사용이 가능하다. According to the second embodiment of the present invention, a fine cutting edge 6 is formed on the substrate of the metal or the non-metal material through the processing of the perforations 7. Therefore, compared with the conventional beauty instruments, the cutting property and durability are very excellent, and can be reused only by washing with a cleaning liquid such as water. That is, continuous use is possible.

더욱이, 본 실시예의 경우 하나의 천공부(7) 가공으로 기판(1) 양면에 서로 평행한 복수의 절삭날(6)이 형성된다. 즉, 전술한 제1 실시예에 비교하여 기판(1) 양면 모두를 연마도구로서 활용할 수 있는 이점이 있다. 물론, 제1 실시예의 경우에도 양면 사용이 가능하나, 이를 위해서는 기판 일면과 이면을 각기 가공해야만 하는 공정상의 번거로움이 수반될 수 있다. Furthermore, in the present embodiment, a plurality of cutting edges 6 parallel to each other are formed on both surfaces of the substrate 1 by processing one punched portion 7. That is, compared with the first embodiment described above, there is an advantage that both surfaces of the substrate 1 can be utilized as an abrasive tool. Of course, even in the case of the first embodiment can be used on both sides, for this may be accompanied by the process hassle that must process the one side and the back side respectively.

상기한 구성으로 이루어진 본 발명의 실시예에 따른 미용기구는 후술될 일련의 제조과정을 통해 제조될 수 있다. 첨부된 도면을 참조하여 그 제조방법에 대해 상세히 설명한다.Beauty appliance according to an embodiment of the present invention made of the above configuration can be manufactured through a series of manufacturing processes to be described later. With reference to the accompanying drawings will be described in detail the manufacturing method.

도 8은 본 발명인 연마기구 제작을 위한 일련의 제작 공정을 나타낸 공정도이다.8 is a process chart showing a series of manufacturing process for producing a polishing apparatus of the present invention.

도시된 도면에서와 같이, 본 실시예에 따른 연마기구는 감광에 의한 식각방식을 활용한 포토애칭(Photo-etching)기법을 통해 제작될 수 있다. 연마기구 제조를 위한 일련의 제조과정을 도 8을 참조하여 단계별로 살펴보기로 한다. As shown in the figure, the polishing apparatus according to the present embodiment may be manufactured through a photo-etching technique using an etching method by photosensitization. A series of manufacturing processes for manufacturing the polishing apparatus will be described step by step with reference to FIG. 8.

<S100 준비단계> 금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판 표면에 소정 패턴의 문양을 새겨넣기 위하여, 판상형 기판 표면에 크롬을 코팅시키 후 크롬 코팅된 기판 표면에 감광성 피막(UV 접착제)을 입히고, 다음으로 감광성 피막이 도포된 기판 표면에 소정 패턴의 문양을 갖는 필름 접착시킨다. <S100 Preparation Step> In order to engrave a pattern of a predetermined pattern on the surface of the plate-shaped substrate of metal or non-metallic material, the surface of the plate-shaped substrate is coated with chromium and then coated with a photosensitive film (UV adhesive) on the surface of the chromium-coated substrate, and then photosensitive. A film having a pattern of a predetermined pattern is adhered to the surface of the coated substrate.

<S200 가공단계> 상기 필름에 형성된 소정 패턴의 문양에 따라 기판 표면을 요철 형태로 식각하여 요홈부와 평면부가 만나는 경계선에 절삭날을 형성한다. 구체적으로, 상기 필름이 부착된 기판에 빛을 조사하여 필요 부분을 감광시키고, 미감광 부분을 부식시켜 소정 문양으로 요철 패턴을 형성한다. <S200 processing step> formed on the film According to the pattern of the predetermined pattern, the substrate surface is etched in the form of irregularities to form a cutting edge at the boundary line between the groove portion and the flat portion. Specifically, light is irradiated onto the substrate to which the film is attached to expose a required portion, and the unsensed portion is corroded to form an uneven pattern in a predetermined pattern.

<S300 연마단계> 상기 가공단계를 통해 형성된 요홈부 및 평면부를 미세 연마하여 절삭날을 다듬는다. 이 과정은 포토애칭을 통한 요홈부에 의해 절삭날이 형성되었을 경우 그 절삭날의 상태에 따라 생략될 수도 있다. <S300 polishing step> The cutting edge is polished by fine grinding the groove and the flat portion formed through the processing step. This process may be omitted depending on the state of the cutting edge when the cutting edge is formed by the groove portion through the photo etching.

<S400 열처리단계> 상기 연마과정을 거친 기판을 화학 열처리 하여 기판의 강도 및 경도를 강화시킨다. 이러한 강화과정을 거쳐야 하는 대표적인 비금속 소재로는 유리와 세라믹 등이 이에 포함되며, 금속 소재의 경우에는 그 두께가 5mm 이하로 충분한 강성을 확보하지 못하였거나 연성이 풍부하여 구부러짐의 정도가 심한 재질이 이에 해당될 수 있다. <S400 heat treatment step> The substrate subjected to the polishing process by chemical heat treatment to strengthen the strength and hardness of the substrate. Representative non-metallic materials that need to undergo this reinforcement process include glass and ceramics, and in the case of metal materials, their thickness is less than 5mm, or sufficient rigidity is due to ductility. This may be the case.

<S500 완성단계> 위와 같은 열처리를 통해 강도 및 경도가 강화된 기판을 사용처에 따라 소정의 형상으로 재단하여 본 발명에 따른 연마기구를 완성한다. <S500 Completion Step> The above-described heat treatment is completed by cutting the substrate having the strength and hardness strengthened to a predetermined shape according to the intended use to complete the polishing mechanism according to the present invention.

이상에서 본 발명은 특정 형태(판상형) 미용기구 및 그 제조방법과 관련하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예에 국한되지 않는 것은 물론이며, 연마 또는 연삭이 요구되는 산업 전분야에 걸쳐 다양하게 변형되어 응용될 수 있고, 이하의 특허청구의 범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될 수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알수 있음을 밝혀두고자 한다.Although the present invention has been shown and described in connection with a particular form (plate-shaped) beauty instruments and methods for manufacturing the same, the present invention is not limited to the above-described embodiments, as well as throughout the industry that requires grinding or grinding. It can be applied in various modifications, and the ordinary knowledge in the art that the present invention can be variously modified and changed without departing from the spirit or field of the present invention provided by the claims below. It is important to note that those who have it can easily know.

이상에서 살펴본 본 발명에 의하면, 금속 또는 비금속 재질의 기판 상에 요홈부의 함몰 가공을 통해 무수히 많은 미세한 절삭날이 형성된다. 따라서 종래 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구와 비교하여 연마성능이 뛰어나 연마시 보다 고른 연마상태를 기대할 수 있다. According to the present invention as described above, a myriad of fine cutting edges are formed on the metal or non-metal substrate through the recessed processing of the recess. Therefore, compared to the conventional cosmetic device for nails and keratin cleaning, excellent polishing performance can be expected even more polished state when polishing.

또한, 절삭날이 규칙적으로 배열되어 있기 때문에 종래 불규칙한 요철패턴의 미용기구와 비교했을 때 세척성 매우 용이하다. 즉, 단순 물(또는 알코올) 세척만으로도 즉시 재사용이 가능하므로, 종래 손발톱 미용기구의 일회성을 보완할 수 있으며, 이에 따라 비용절감 및 자원절약 측면에서 매우 유익한 이점이 있다.In addition, since the cutting edges are arranged regularly, the washability is very easy as compared with the conventional beauty device of irregular irregular pattern. That is, since it is possible to immediately reuse only by washing with water (or alcohol), it is possible to supplement the one-time use of the conventional nail cosmetic device, and thus there is a very beneficial advantage in terms of cost reduction and resource saving.

더욱이, 기판상에 연속된 패턴으로 절삭날이 배치됨에 따라 피 가공물의 표면을 다듬는 경우 절삭성능이 뛰어나며 연마후 가공면이 매우 매끄럽다. 따라서 별도의 미세연마 과정이 요구되지 않는다. 결과적으로, 종래 미용기구를 이용한 연마에 비해 작업공정이 현저히 줄어드는 이점이 있다.Moreover, when the cutting edges are arranged in a continuous pattern on the substrate, the cutting performance is excellent when the surface of the workpiece is trimmed, and the processing surface after polishing is very smooth. Therefore, no separate micropolishing process is required. As a result, there is an advantage that the work process is significantly reduced compared to the polishing using a conventional beauty instruments.

또, 피 가공물의 형상과 재질에 따라 제조 시 그 사용처에 맞게 적절히 재단 또는 성형하여 사용할 수 있고, 따라서 사용환경에 제약이 없다. 즉, 범용성이 매 우 우수한 장점을 가진다.In addition, depending on the shape and material of the workpiece, it can be appropriately cut or molded for use at the time of manufacture, and thus there is no restriction on the use environment. In other words, the versatility is very good.

Claims (8)

금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판 표면에서 일정 문양의 연속된 패턴으로 오목하게 함몰된 요홈부와, 상기 요홈부의 함몰로 인한 요홈부 주변의 평면부를 포함하며, 상기 요홈부와 평면부는 기판상에서 기판의 길이 및 폭 방향으로 서로 교번되는 반복된 요철 패턴을 가지면서 상기 요홈부와 평면부가 만나는 경계선이 절삭날인 것을 특징으로 하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구. A recessed portion recessed in a continuous pattern of a predetermined pattern on the surface of the plate-shaped substrate made of metal or non-metal material, and a flat portion around the recessed portion due to the recessed portion, wherein the recessed portion and the flat portion have a length of the substrate on the substrate. And a boundary line where the groove portion and the flat portion meet each other while having a repeated concave-convex pattern alternated with each other in the width direction. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 요홈부는 원형 또는 다각형의 형태로 기판 표면으로부터 함몰 형성된 것을 특징으로 하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구.The recess is formed in the form of a circular or polygonal depressions from the surface of the substrate, characterized in that the cosmetic device for nails and keratin cleaning. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 기판에 형성되는 요홈부의 크기와 간격을 영역별로 달리하여 다양한 크기와 간격을 갖는 절삭날이 하나의 기판상에 구현되도록 한 것을 특징으로 하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구.Beauty instruments for nails and keratin cleaning, characterized in that the cutting edge having a variety of sizes and spacing to be implemented on one substrate by varying the size and spacing of grooves formed in the substrate for each region. 금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판 표면에서 일정 문양의 연속된 패턴으로 구멍을 뚫어 형성된 천공부와, 상기 천공부로 인한 천공부 주변의 평면부를 포함하며, 상기 천공부와 평면부는 기판상에서 기판의 길이 및 폭 방향으로 서로 교번되는 반복된 패턴을 가지면서 상기 천공부와 평면부가 만나는 경계선이 절삭날인 것을 특징으로 하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구. A perforated portion formed by drilling a continuous pattern of a predetermined pattern on the surface of a plate-shaped substrate made of metal or nonmetallic material, and a planar portion around the perforated portion due to the perforated portion, wherein the perforated portion and the planar portion are formed on the substrate. Cosmetic device for nails and keratin cleansing, characterized in that the cutting edge is a cutting edge has a repeated pattern alternated with each other in the width direction. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 천공부는 원형, 타원형, 다각형 중 선택된 어느 한 형태로 기판 표면으로부터 천공된 것을 특징으로 하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구.The perforator is a cosmetic device for nails and keratin cleansing, characterized in that perforated from the surface of the substrate in any one form selected from a circle, oval, polygon. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, wherein 기판에 형성되는 천공부의 크기와 간격을 영역별로 달리하여 다양한 크기와 간격을 갖는 절삭날이 하나의 기판상에 구현되도록 한 것을 특징으로 하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구.Beauty instruments for nails and keratin cleaning, characterized in that the cutting edge having a variety of sizes and spacing to be implemented on one substrate by varying the size and spacing of the perforations formed on the substrate. 금속 또는 비금속 소재의 판상형 기판 표면에 일정 패턴의 문양을 새겨넣기 위한 준비단계;A preparation step for engraving a pattern of a predetermined pattern on the surface of the plate-shaped substrate of metal or nonmetal material; 상기 일정 패턴의 문양에 따라 기판 표면을 요철 형태로 가공하여 요홈부와 평면부가 만나는 경계선에 절삭날을 형성하는 가공단계;A processing step of forming a cutting edge at a boundary line between the groove portion and the flat portion by processing the substrate surface into an uneven shape according to the pattern of the predetermined pattern; 상기 가공된 요홈부 및 평면부를 미세 연마하는 연마단계;A polishing step of finely polishing the processed recessed portion and the flat portion; 상기 연마과정을 거친 기판의 강도 및 경도 강화를 위해 화학 열처리하는 단계; 및 Chemical heat treatment to reinforce the strength and hardness of the substrate subjected to the polishing process; And 열처리된 기판을 일정한 형상으로 재단하여 연마기구를 완성하는 단계;를 포함하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구 제조방법.And cutting the heat-treated substrate into a predetermined shape to complete the polishing apparatus. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 준비단계는, The preparation step, 판상형 기판 표면에 크롬을 코팅하는 공정;Coating chromium on the surface of the plate-like substrate; 크롬 코팅된 기판 표면에 감광성 피막을 입히는 공정; 및Coating a photosensitive film on the surface of the chromium coated substrate; And 감광성 피막이 도포된 기판 표면에 일정 패턴의 문양을 갖는 필름 접착하는 마스킹 공정;을 포함하며,And a masking process of adhering a film having a pattern of a predetermined pattern on the surface of the substrate to which the photosensitive film is applied. 상기 가공단계는,The processing step, 상기 필름이 부착된 기판에 빛을 조사하여 필요 부분을 감광시키는 공정; 및Irradiating light onto a substrate to which the film is attached to expose a required portion; And 미감광 부분을 부식시켜 상기 필름에 형성된 패턴에 대응하는 일정 문양의 요철 패턴을 형성하는 공정;을 포함하는 손발톱 및 각질 소제를 위한 미용기구 제조방법.Corroding the unsensitized portion to form a concave-convex pattern of a predetermined pattern corresponding to the pattern formed on the film; Cosmetic device manufacturing method for nails and keratin cleaning comprising a.
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