KR100838344B1 - 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법 - Google Patents

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신현권
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하정민
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Abstract

본 발명은 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판위에 증착된 나노입자 단일막 또는 다층막에 펄스 레이저를 조사시켜 입자를 기판으로부터 선택적으로 분리시킴으로서, 보다 단순하면서도 신속한 패터닝을 실현할 수 있고, 패턴의 형상과 주기 조절이 자유롭게 이루어질 수 있도록 한 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 단일막 또는 다층막의 나노입자 박막이 증착된 기판의 제공 단계와; 레이저 빔 조사수단에서 프리즘을 통하여 상기 나노입자 박막의 원하는 부위에 펄스 레이저를 조사시키는 단계와; 상기 펄스 레이저의 에너지 밀도가 임계값 이상이면, 나노입자의 열탄성 효과에 의한 힘이 나노입자와 기판의 결합력보다 크게 되어, 상기 나노입자 박막의 원하는 부위가 기판으로부터 분리되는 패터닝 단계; 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법을 제공한다.
나노입자, 펄스 레이저, 전극패턴, 패터닝, 기판

Description

펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법{Method for Patterning Nanoparticles by Pulsed Laser}
도 1a 및 1b는 본 발명에 따른 펄스 레이저 에너지 밀도의 공간분포 조절에 의한 나노입자 패터닝 과정을 보여주는 모식도,
도 2는 본 발명에 따른 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 의하여, 유리 기판위에 증착된 은(Ag) 나노입자 단일층(monolayer) 박막에 형성된 스트라이프 패턴(stripe pattern)의 주사전자현미경(SEM) 사진,
도 3은 또 다른 스트라이프 패턴(stripe pattern)의 고배율 SEM 사진이고,
도 4는 본 발명에 따른 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 의거하여, 세 빔 간섭에 의해 형성된 벌집 모양(honeycomb structure)의 2차원 패턴의 SEM 사진,
도 5는 본 발명에 따른 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 의거하여, 은 나노입자로 구성된 약 1㎛ 두께의 박막에 형성된 스프라이프 패턴(stripe pattern)의 SEM 사진,
도 6은 도 5와 주기는 같으나 폭이 더 좁은 스프라이프 패턴(stripe pattern)을 보여주는 SEM 사진.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 레이저 빔 조사수단
12 : 프리즘
14 : 나노입자 박막
16 : 기판
본 발명은 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판위에 증착된 나노입자 단일막 또는 다층막에 펄스 레이저를 조사시켜 입자를 기판으로부터 선택적으로 분리시킴으로서, 보다 단순하면서도 신속한 패터닝을 실현할 수 있고, 패턴의 형상과 주기 조절이 자유롭게 이루어질 수 있으며, 뿐만 아니라 금속 나노입자 박막을 이용한 전극패턴 형성에도 유용하게 적용될 수 있도록 한 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 관한 것이다.
주지된 바와 같이, 나노입자 패터닝이란 나노입자(nanoparticle)를 원하는 위치에 증착시키거나 나노입자로 구성된 조립체를 얻는 것으로서, 종래의 재료가 가졌던 거시적 물성과는 다른, 나노 사이즈 재료의 양자 효과, 높은 비표면적 등의 특이성을 이용하여 차세대 산업의 주력이 될 양자 소자(quantum device), 단전자 트랜지스터(single electron transistor), 테라레벨 저장 매체(tera-level memory device) 등에 적용할 수 있는 신기술이다.
이에, 패터닝된 나노입자(nanoparticle)는 나노 디바이스(nano device)의 기본적인 구성체(building block) 역할을 하는 바, 이의 실현을 위해서는 나노입자의 공간 분포를 조절하여 기판위에 나노입자의 주기적인 패턴을 보다 용이하게 형성하는 것이 매우 중요하게 여겨지고 있다.
현재까지 여러 가지의 나노입자 패터닝 방식이 제안되어 사용되었는데, 그 중 대표적인 것중 하나는 포토 또는 e-빔 리소그래피(photo or e-beam lithography)에 의해 기판상에 직접적으로 패터닝하는 방식이 있고, 그 밖에 미리 패턴이 형성된 기판(즉, 템플릿(template))위에 나노입자의 증착이나 흡착을 유도하는 방식, 마이크로접촉 프린팅(microcontact printing) 방식, 자기조립(self assembly) 방식 등이 사용되어 왔다.
실제 산업적으로 적용하기 위한 패터닝 공정은 패턴의 형상과 주기를 자유롭게 조절할 수 있어야 할 뿐 아니라, 공정 자체가 단순 및 신속하며 경제적이어야 하지만, 지금까지의 기존 패터닝 기술은 패턴의 형상과 주기 조절이 가능한 경우에는 복잡한 다단계 공정으로 인하여 많은 비용과 시간을 요구하고 있으며, 공정 자체가 비교적 단순한 자기조립 방식의 경우 패턴의 형상과 주기조절이 자유롭지 못하다는 문제점이 있다.
또한, 종래기술로서 대한민국 등록특허(등록번호: 10-687296(2007.2.20))에는 "나노입자 패터닝 방법" 이 개시되어 있고, 대한민국 등록특허(등록번호: 10-638091(2006.10.18))에는 "나노입자 패터닝 방법 및 이를 이용한 소결체의 제조 방 법"이 개시되어 있으며, 또한 대한민국 공개특허공보(공개번호: 10-2006-0108202(2006.10.17))에는 "나노입자 집속 증착 패터닝 방법"이 공개되어 있다.
그러나, 위의 등록 및 공개특허에 개시된 기술은 공통적으로 감광막 패턴이 형성된 기판(일종의 템플릿(template))에 전기장을 가하여 하전된 나노 입자를 선택적으로 흡착시키는 방식이므로, 별도의 리소그래피(lithography) 및 에칭(etching) 과정, 그리고 정전증착장치가 필요한 복잡한 공정을 요구하는 단점이 있다.
본 발명은 상기한 종래의 제반 문제점을 감안하여 연구된 결과물로서, 기판위에 증착된 나노입자 단일막 또는 다층막에 펄스 레이저를 조사시켜 원하는 부위의 나노입자를 기판으로부터 선택적으로 분리시키는 패터닝을 통하여, 펄스 에너지의 공간분포 조절에 의해서 나노입자의 공간 패턴을 원하는 형태로 자유롭게 제어할 수 있고, 기판에 미리 패턴을 형성하는 과정을 요구하지 않으므로 공정 자체가 매우 단순할 뿐 아니라, 단일 펄스에 의해 입자가 분리되므로 신속한 패터닝이 가능한 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
뿐만 아니라, 본 발명의 다른 목적은 금속 나노입자 박막을 이용한 전극패턴 형성에도 유용하게 적용될 수 있도록 한 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법을 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은: 단일막 또는 다층막의 나노입자 박막이 증착된 기판의 제공 단계와; 레이저 빔 조사수단에서 프리즘을 통하여 상기 나노입자 박막의 원하는 부위에 펄스 레이저를 조사시키는 단계와; 상기 펄스 레이저의 에너지 밀도가 임계값 이상이면, 나노입자의 열탄성 효과에 의한 힘이 나노입자와 기판의 결합력보다 크게 되어, 상기 나노입자 박막의 원하는 부위가 기판으로부터 분리되는 패터닝 단계; 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법을 제공한다.
바람직한 일 구현예로서, 상기 나노입자 박막에 대한 펄스 레이저의 에너지 밀도 공간분포를 다중의 레이저 빔 간섭에 의해 변조하는 것을 특징으로 한다.
바람직한 다른 구현예로서, 상기 나노입자 박막에 대한 펄스 레이저의 에너지 밀도 공간분포를 포토마스크를 사용하여 변조하는 것을 특징으로 한다.
바람직한 또 다른 구현예로서, 상기 나노입자 박막에 대하여 레이저 펄스 에너지를 가감시키는 제어를 실시하여, 패턴의 특정크기(feature size)를 조절할 수 있는 것을 특징으로 한다.
바람직한 또 다른 구현예로서, 다층으로 이루어진 상기 금속 나노입자 박막을 패터닝전에 어닐링한 다음, 어닐링된 다층의 금속 나노입자 박막으로부터 전극패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명을 첨부도면을 참조로 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명은 기판위에 증착된 나노입자 단일막 또는 다층막에 펄스 레이저를 조사시켜 나노입자를 기판으로부터 선택적으로 분리시키는 패터닝, 즉 레이저 펄스의 에너지 밀도가 임계값(threshold value) 이상일 경우 나노입자의 열탄성 효과(thermo-elastic effect)에 의한 힘이 나노입자와 기판의 결합력보다 크게 되어 나노입자가 기판으로부터 분리되도록 한 패터닝 공정을 제공하여, 펄스 에너지의 공간분포 조절에 의해서 나노입자의 공간 패턴을 원하는 형태로 자유롭게 제어할 수 있고, 또한 기판에 미리 패턴을 형성하는 과정을 요구하지 않으므로 공정 자체가 매우 단순할 뿐 아니라, 단일 펄스에 의해 나노입자가 분리되므로 신속한 패턴의 형성이 가능한 장점을 얻을 수 있도록 한 것이다.
이를 위한 본 발명의 일 실시예로서, 펄스 레이저의 간섭에 의해 투명 기판위에 증착된 단일층(monolayer) 나노입자 박막이 패터닝되는 과정을 첨부한 도 1을 참조로 설명하면 다음과 같다.
첨부한 도 1a 및 도 1b는 에너지밀도가 공간적으로 변화하는 레이저 펄스를 나노입자 막에 입사시킬 때 임계 에너지밀도(threshold energy density) 이상인 영역에서의 선택적 분리에 의한 나노입자 패터닝 과정을 보여주는 모식도이다.
도 1a 및 도 1b는 상기 펄스 레이저의 간섭에 의해 투명 기판위에 증착된 단일층 (monolayer)의 나노입자 박막이 패터닝되는 과정을 도식적으로 보여주는 모식도로서, 전면부의 단면이 이등변 삼각형 모양을 한 프리즘(12)의 후면으로 입사한 빔이 두 빔으로 나누어지고, 이러한 빔이 박막에서 중첩되어 간섭을 일으켜 1차원 스트라이프 패턴(stripe pattern)이 형성되는 바, 하지만 프리즘의 전면이 3개의 경사면을 가진 일종의 피라미드 형태를 띤다면 세 빔 간섭에 의한 2차원 패턴의 형성도 가능하다.
이때, 패턴의 주기는 간섭 빔 사이의 각도(즉, 프리즘의 형태 및 모양)를 변화시킴으로서 조절할 수 있으며, 특정 주기에서의 패턴의 특정 사이즈(feature size)는 입사하는 펄스의 에너지로 제어할 수 있다.
먼저, 프리즘(12)을 중심으로 일측에 레이저 빔 조사수단(10)이 배치되고, 프리즘(12)의 반대측에 나노입자 박막(14)이 증착된 투명기판(16)이 배치된다.
이러한 상태에서, 레이저 빔 조사수단(10)으로부터 레이저 빔이 프리즘(12)으로 조사되는 동시에 프리즘(12)을 투과한 레이저 빔이 기판(16)에 작용하게 되어, 기판(16)에 증착된 나노입자 박막(14)중 원하는 부위가 레이저 펄스의 에너지에 의하여 분리되며 패터닝된다.
도 1a 및 도 1b에는 2개의 레이저 빔 간섭에 의한 1차원 스트라이프 패턴(stripe pattern) 형성 과정이 도시되어 있으나, 3개의 레이저 빔 간섭에 의해서 2차원 패턴의 형성도 가능하다.
이때, 패턴의 주기는 레이저 빔 조사수단의 조사각도 또는 프리즘의 형태 등을 이용하여 간섭 빔 사이의 각도를 변화시켜 조절할 수 있으며, 특정 주기에서의 패턴의 특징적 크기(feature size)는 입사하는 펄스의 에너지로 제어할 수 있다.
상기와 같이, 기판에 증착되어 있는 나노입자에 펄스 레이저가 입사되면, 나노입자는 레이저 에너지 흡수로 인해 급격한 온도상승과 그로 인한 열팽창에 의해 열탄성력(thermo-elastic force)를 보유하게 되고, 이러한 열탄성력은 나노입자를 표면으로부터 떨어지게 하는 힘으로 작용하므로, 결국 열탄성력이 나노입자와 기판 표면사이의 부착력(adhesive force; 주로 van der Waals force에 기인한다)보다 크게 되면 나노입자가 기판 표면으로부터 분리되며, 이러한 현상을 레이저-유도 열적 이탈(laser-induced thermal desorption(LITD))이라 한다.
즉, 상기 열탄성력은 나노입자의 온도상승 속도에 비례하므로, 펄스폭(pulse width)이 고정된 레이저 조사 하에서 나노입자가 보유하는 열탄성력은 펄스 에너지 밀도(pulse energy density; J/㎠)에 비례하여 증가하고, 특정한 위치에서의 펄스 에너지 밀도가 임계 에너지 밀도(threshold energy density) 이상이 될 경우 그 부분의 나노입자는 기판 표면에서 떨어져 나오게 되며, 임계에너지 밀도에서의 열탄성력은 나노입자와 표면의 부착력과 동일하여, 결국 기판위에 균질하게 증착된 나노입자 박막에 펄스 레이저 빔의 에너지 밀도를 공간적으로 변조하여 입사시키면 이러한 변조 패턴에 따라 나노입자 패턴을 얻을 수 있게 되는 것이다.
한편, 기판상의 나노입자 박막은 고체 표면에 단층막 또는 다층막을 형성시키는데 주로 쓰이는 Langmuir-Blodgett(LB) 기술, 스핀-코팅(spin-coating), 드롭 캐스팅(drop-casting) 등 다양한 방법에 의해 증착할 수 있다.
특히, 박막에 입사되는 레이저 에너지 밀도의 변조는 포토마스크(photo-mask)와 같은 일종의 공간변조기(spatial light modulator)를 통한 패턴 전이(pattern projection)로 이루어질 수 있고, 좀 더 단순하게는 하나 이상의 다중 레이져 빔에 의한 간섭 현상을 이용하여 얻을 수 있으며, 이때의 간섭 패턴은 빔을 분리하여 재결합하는 방식으로 얻을 수 있지만, 프리즘을 이용하면 빔의 분리 및 재결합이 단일 광학요소에서 동시에 일어나므로 전체적인 광학계가 훨씬 단순해질 수 있다.
여기서, 본 발명의 실시예로서 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같고, 본 발명이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
첨부한 도 2는 유리 기판위에 증착된 은 나노입자(평균 크기 120 nm) 단일층 박막에 스트라이프 패턴이 형성된 SEM 사진이고, 도 3은 또 다른 스트라이프 패턴에 대한 고배율 SEM 사진이며, 또한 도 4는 3개의 레이저 빔 간섭에 의해 형성된 벌집 모양(honeycomb structure)의 2차원 패턴에 대한 SEM 사진을 나타내고 있다.
일실시예로서, 첨부한 도 2 내지 도 4에 나타낸 기판 상에 증착된 은 나노입자 박막은 상술한 Langmuir-Blodgett(LB) 기술을 이용하여 증착하였으며, 은 나노입자 박막에 대한 패터닝은 Nd:YAG 펄스 레이저를 사용하였으며, 이 펄스 레이저는 λ = 1064 nm, 펄스폭(pulse width) = 10 ns, 펄스 반복율(repetition rate) = 10 Hz 으로 적용하였으며, 패터닝 과정에서 은 나노입자 박막은 단일 펄스만 입사하도록 하기 위하여 0.1초간 레이저에 노출되도록 하였다.
이에, 첨부한 도 2 및 도 3의 사진에서 보는 바와 같이 은나노입자 박막은 스트라이프 패턴으로 용이하게 형성됨을 알 수 있었고, 3개의 레이저 빔 간섭을 이용한 경우에는 첨부한 도 4의 사진에서 보는 바와 같이 은나노입자 박막이 하니컴 모양의 패턴으로 형성됨을 알 수 있었다.
물론, 위의 일 실시예와 같은 펄스 레이저에 의한 나노입자 패터닝은 단일층 박막에만 한정되지 않으며, 다층의 두꺼운 박막의 경우에도 적용될 수 있다.
즉, 나노입자의 종류와 사용하는 레이저의 파장에 따라 다소간의 차이는 있으나, 도 1과 같은 방식으로 다층박막을 패터닝 할 경우 에너지 흡수의 상당 부분이 기판과 직접 접촉하고 있는 입자에서 일어나게 될 것이며, 이러한 직접 접촉 입자들을 기판에서 분리하는 열탄성력은 그 위에 존재하는 입자들을 밀어내려는 힘으로 작용할 것이기 때문에 다층막에서도 패터닝이 가능하다.
다른 실시예로서, 기판상에 증착된 은 나노입자 박막 즉, 은 나노입자로 구성된 약 1㎛ 두께의 박막에 대하여 레이저 펄스 에너지를 가감시키는 제어를 실시하였는 바, 이러한 레이저 펄스 에너지의 제어를 통하여 스트라이프 패턴간의 간격이 조절될 수 있음을 알 수 있었으며, 그 결과로서 첨부한 도 5에 도시된 바와 같이 은 나노입자로 구성된 약 1 ㎛ 두께의 박막에 스트라이프 패턴이 10㎛간격으로 형성됨을 알 수 있었고, 첨부한 도 6에 도시된 바와 같이 레이저 펄스 에너지의 주기는 같으나 스트라이프 패턴의 폭이 더 좁게 형성됨을 알 수 있었다.
결국, 동일한 주기의 패턴에서 특정 크기(feature size)는 펄스에너지를 제어함으로서 조절할 수 있음을 알 수 있었다.
또 다른 실시예로서, 본 발명의 방법이 금속 나노입자 박막을 이용한 전극패턴 형성에도 다음와 같이 유용하게 적용될 수 있다.
도 5와 도 6에 나타낸 박막은 시판되는 은 나노입자 콜로이드(평균 입자 크기 25nm)를 유리기판위에 드롭 캐스팅(drop-casting)하여 제조하였으며, 패터닝전에 박막을 450℃에서 약 30분간 어닐링(annealing)하였는 바, 상기 박막을 열처리 한 경우는 그렇지 않은 경우보다 더 균질한 패턴을 얻을 수 있을 뿐만 아니라 전기전도도가 비약적으로 증가함을 확인할 수 있었다.
또한, 상기 박막의 표면저항(surface resistivity)을 4탐침법(4-probe measurement)으로 측정한 결과, 열처리 하지 않은 샘플은 104~105 Ohm/square, 150℃에서 30분간 열처리 한 경우 약 2 Ohm/square, 450℃에서 30분간 열처리 한 경우는 5×10-2 Ohm/square의 표면저항을 나타냄을 알 수 있었다.
투명전극으로 널리 사용되는 ITO(indium tin oxide)의 표면저항이 10~50 Ohm/square 임을 감안하면, 150℃ 이상에서 열처리 한 은 나노입자 다층박막의 경우 전극으로 사용될 수 있을 만큼의 충분히 낮은 전기저항을 나타내었으며, 450℃에서 열처리 한 경우는 표면저항이 벌크 은의 표면저항(1.5×10-2 Ohm/square)에 근접함을 알 수 있었다.
한편, 본 발명에 따른 나노입자에 대한 패터닝 면적은 레이저의 최대 출력과 임계 에너지 밀도(threshold energy density)에 의존하고, 10 ns의 펄스폭을 갖는 Nd:YAG 레이저 펄스의 은 나노입자에 대한 임계 에너지 밀도는 0.25 ~ 0.35 J/㎠로 측정되었으며, 이는 현재 산업적으로 이용되고 있는 펄스 레이저의 출력이 수 킬로와트(kilowatts) 이상임을 감안한다면 수십 제곱센티미터 이상의 면적에 대해서 단일 펄스에 의한 순간적인 패터닝을 가능하게 한다.
이와 같이, 나노 디바이스의 실현을 위해서는 고체 기판위에 형성된 나노입자 박막을 원하는 형태로 패터닝하는 것이 필요한 바, 본 발명에 따른 나노입자 패 터닝을 펄스 레이저를 이용하여 보다 단순하면서도 용이하게 진행함으로써, PDP 등과 같은 평판 패널형 디스플레이(flat panel display)에서의 기존 전극패턴 공정을 보다 손쉽게 대체할 수 있고, 또한 금속 나노입자 박막을 이용한 전극패턴 형성에도 유용하게 적용될 수 있다.
이상에서 본 바와 같이, 본 발명에 따른 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법에 의하면, 기판위에 증착된 나노입자 단일막 또는 다층막에 펄스 레이저를 조사시켜 원하는 부위의 나노입자를 기판으로부터 선택적으로 분리시키는 패터닝을 통하여, 펄스 에너지의 공간분포 조절에 의해서 나노입자의 공간 패턴을 원하는 형태로 독립적이면서 자유롭게 제어할 수 있다.
또한, 기존의 복잡하고 비경제적인 포토-리소그래피 및 에칭 공정을 수반하지 않고, 기판에 미리 패턴을 형성하는 과정을 요구하지 않으므로, 공정 자체가 매우 단순할 뿐 아니라, 단일 펄스에 의해 입자가 분리되므로 신속한 패터닝이 가능한 장점이 있다.
즉, 기존의 나노입자 패터닝 공정은 기판에 미리 패턴을 형성한 템플릿(template)이 필요하지만, 본 발명의 방법에서는 펄스 레이저빔 강도의 공간분포에 의해 패턴의 형상과 주기가 결정되므로 템플릿이 필요 없어 패터닝 공정이 매우 신속하고 단순하게 이루어지는 장점이 있다.
결국, 디스플레이 디바이스(Display device)의 금속 전극 라인 형성시에 기 존의 복잡한 리소그래피(lithography) 공정을 대체할 수 있고, 금속 나노입자 박막을 이용한 전극패턴 형성에도 유용하게 적용될 수 있다.
또한, 대면적화가 가능한 병렬공정(parallel process)이며 단일층 박막 뿐만 아니라 다층 박막에도 적용가능하며, 더불어 금속 나노입자 다층박막을 이용한 새로운 전극패턴 형성 기술을 제공할 수 있다.

Claims (4)

  1. 단일막 또는 다층막의 나노입자 박막이 증착된 기판의 제공 단계와;
    레이저 빔 조사수단에서 프리즘을 통하여 상기 나노입자 박막의 원하는 부위에 펄스 레이저를 조사시키는 단계와;
    상기 나노입자 박막에 대한 펄스 레이저의 에너지 밀도 공간분포가 다중의 레이저 빔 간섭에 의해 변조하되, 상기 펄스 레이저의 에너지 밀도가 임계값 이상이면, 나노입자의 열탄성 효과에 의한 힘이 나노입자와 기판의 결합력보다 크게 되어, 상기 나노입자 박막의 원하는 부위가 기판으로부터 분리되는 패터닝 단계;
    로 이루어지는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 나노입자 박막에 대한 펄스 레이저의 에너지 밀도 공간분포를 포토마스크를 사용하여 변조하는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 나노입자 박막에 대하여 레이저 펄스 에너지를 가감시키는 제어를 실시하여, 패턴의 특정크기(feature size)를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 다층으로 이루어진 상기 금속 나노입자 박막을 패터닝전에 어닐링한 다음, 어닐링된 다층의 금속 나노입자 박막으로부터 전극패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 펄스 레이저를 이용한 나노입자 패터닝 방법.
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