KR100835576B1 - Controlling apparatus of head operation and controlling method thereof and stage apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 요각(yaw angle)에 의한 기울기가 생긴 경우에 복수의 헤드와 워크의 복수의 가공지점의 어긋남을 보정하는 것을 과제로 한다. An object of the present invention is to correct a deviation between a plurality of heads and a plurality of processing points of a work when a tilt due to a yaw angle occurs.

헤드작동 제어장치(31)는, 보정량 연산부(441∼445), 판정부(461∼465)를 가진다. 보정량 연산부(441)는, Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37)에 의해 계측된 거리(L1, L2)의 차(L1-L2)에 근거하여, 요각에 따른 보정량(ΔT)을 연산한다. 판정부(461∼465)에서는, 보정된 거리(L1±ΔT)의 값이 가공위치 데이터와 일치하는지 여부를 판정하고 있고, 일치한 경우에 헤드(301∼305)의 가공신호를 출력한다. Head operating control device 31, and has a correction amount calculation section (44 1 ~44 5), the determination (46 1 ~46 5). Correction amount calculation section (44 1), Y1, based on the Y2 laser interferometer (36, 37) the distance difference (L1-L2) of the (L1, L2) measured by, and calculates a correction amount (ΔT) according to the yaw angle. The signal processing of the determination section (46 1 ~46 5), the value of the corrected distance (L1 ± ΔT) and determines whether it matches the processing position data, a head (30 1 ~30 5) if a match Output

이로써, 헤드(301∼305)는, 요각(θ)에 따라서 가공 타이밍이 시간적으로 어긋나게 되어, 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트와 일치한 타이밍으로 가공을 행한다. As a result, the processing timings of the heads 30 1 to 30 5 are shifted in time according to the yaw angle θ, and the processing points on the substrate placed on the movable table 20 are separated from the heads 30 1 to 30 5 . The machining is performed at the timing coinciding with the machining point.

요각, 헤드, 스테이지장치, 간섭계, 가동테이블, 거리연산, 가공위치데이터 Relief, head, stage device, interferometer, movable table, distance calculation, machining position data

Description

헤드작동 제어장치 및 제어방법 및 스테이지장치 {Controlling apparatus of head operation and controlling method thereof and stage apparatus}Controlling apparatus of head operation and controlling method approximately and stage apparatus

도 1은, 본 발명이 되는 헤드작동 제어장치의 일실시예가 적용된 스테이지장치를 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view showing a stage apparatus to which an embodiment of a head operation control apparatus according to the present invention is applied.

도 2는, Y1, Y2 레이저 간섭계(36,37)를 이용한 계측방법을 설명하기 위한 평면도이다. 2 is a plan view for explaining a measurement method using the Y1 and Y2 laser interferometers 36 and 37.

도 3은, 실시예 1의 헤드작동 제어장치(31)에 의한 보정처리를 아날로그 제어로 설명하는 계통도이다. 3 is a system diagram for explaining correction processing by the head operation control device 31 according to the first embodiment by analog control.

도 4는, 실시예 1의 헤드작동 제어장치(31)의 보정처리를 디지털 제어로 처리하는 제어블럭의 개념도이다. 4 is a conceptual diagram of a control block for processing correction processing of the head operation control device 31 of the first embodiment by digital control.

도 5는, Y방향 이동위치와 요각(yaw angle)에 따른 보정량(ΔT)의 관계를 나타낸 도면이다. FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the Y-direction moving position and the correction amount [Delta] T according to the yaw angle.

도 6은, 실시예 2의 헤드작동 제어장치(31)에 의한 보정처리를 아날로그 제어로 설명하는 계통도이다. 6 is a system diagram for explaining correction processing by the head operation control device 31 according to the second embodiment by analog control.

도 7은, 실시예 2의 헤드작동 제어장치(31)의 보정처리를 디지털 제어로 처리하는 제어블럭의 개념도이다. 7 is a conceptual diagram of a control block for processing correction processing of the head operation control device 31 of the second embodiment by digital control.

도 8은, 실시예 3의 계측방법을 나타낸 평면도이다. 8 is a plan view showing a measurement method of Example 3. FIG.

도 9는, 실시예 3의 헤드작동 제어장치(31)에 의한 보정처리를 아날로그 제어로 설명하는 계통도이다. FIG. 9 is a system diagram for explaining correction processing by the head operation control device 31 according to the third embodiment by analog control.

도 10은, 실시예 3의 헤드작동 제어장치(31)의 보정처리를 디지털 제어로 처리하는 제어블럭의 개념도이다. 10 is a conceptual diagram of a control block for processing correction processing of the head operation control device 31 of the third embodiment by digital control.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10 : 스테이지장치 10: stage device

14 : Y방향 리니어모터 14: Y direction linear motor

16 : Y스테이지 16: Y stage

20 : 가동(可動)테이블 20: movable table

28 : 헤드 지지부재 28: head support member

30(301∼30n) : 헤드 30 (30 1 ~30 n): the head

31 : 헤드작동 제어장치 31: Head operation control device

36 : Y1 레이저 간섭계 36: Y1 laser interferometer

37 : Y2 레이저 간섭계 37: Y2 laser interferometer

44 : 보정량 연산부 44: correction amount calculation unit

441∼445 : 보정량 연산부 44 1 to 44 5 : Correction amount calculator

46 : 헤드 제어부 46: head control unit

461∼465 : 판정부 46 1 to 46 5 : Decision section

501∼505 : 레이저 간섭계 50 1 to 50 5 : laser interferometer

본 발명은 워크(work; 작업대상물)의 요각(yaw angle)(Z축 둘레의 요잉(yawing)방향 각도)에 따라 생기는 복수의 헤드의 작동 타이밍의 어긋남을 보정하도록 구성된 헤드작동 제어장치 및 제어방법 및 스테이지장치에 관한 것이다. The present invention relates to a head operating control device and a control method configured to correct misalignment of operating timings of a plurality of heads caused by a yaw angle (a yawing direction angle around a Z axis) of a workpiece. And a stage device.

예컨대, 레이저 헤드를 가지는 레이저 조사 시스템이나 잉크젯 헤드를 가지는 잉크젯 시스템 등에서는, 피가공물로서의 기판(워크)이 올려놓아진 테이블을 이동하여, 기판의 가공지점이 헤드의 레이저 조사 포인트에 대향하는 위치로 이동한 타이밍에서 기판표면에 대한 가공을 행하도록 헤드의 작동을 제어하고 있다. For example, in a laser irradiation system having a laser head, an inkjet system having an inkjet head, or the like, a table on which a substrate (work) as a workpiece is placed is moved to a position where the processing point of the substrate is opposed to the laser irradiation point of the head. The operation of the head is controlled so as to process the substrate surface at the moved timing.

이와 같은 제어 시스템에서는, 워크를 고(高)정밀도로 정속(定速)주행시키기 위하여 스테이지장치의 X, Y스테이지에 탑재된 가동(可動)테이블 상에 기판을 올려놓고, 가동테이블의 이동경로의 상측에 가로 걸쳐져 프레임(헤드 지지부재)에 헤드를 장착하여 기판 상의 가공지점에 대하여 소정의 가공(레이저 조사나 잉크의 도포 등)을 행하고 있다. In such a control system, the substrate is placed on the movable table mounted on the X and Y stages of the stage apparatus in order to run the workpiece at high speed with high accuracy. A head is attached to a frame (head support member) across the upper side, and predetermined processing (laser irradiation, ink application, etc.) is performed to the processing point on a board | substrate.

스테이지장치에서는, 가동테이블이 탑재된 Y스테이지의 양측에 구비된 Y슬라이더가 Y방향 리니어모터의 추력(推力)에 의해 Y방향으로 이동하는 구성이고, Y방향 리니어모터의 추력을 제어함으로써 Z축 둘레의 요각을 수정하도록 하고 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). In the stage device, the Y sliders provided on both sides of the Y stage on which the movable table is mounted move in the Y direction by the thrust force of the Y direction linear motor, and the Y axis linear motor is controlled to control the thrust force of the Y direction linear motor. The yaw angle is adjusted (see Patent Document 1, for example).

그리고, 스테이지장치에 있어서는, 가동테이블의 이동에 의해 기판의 가공지 점이 헤드에 대향하는 위치(레이저 조사 포인트)로 이동한 것을 X방향 레이저 간섭계와 Y방향 레이저 간섭계에 의해 계측하고 있고, X방향 레이저 간섭계 및 Y방향 레이저 간섭계에 의해 계측된 가공지점의 위치가 헤드에 대향하는 위치로 이동한 타이밍에서 헤드를 작동시켜서 소정의 가공을 행한다. In the stage apparatus, the X-direction laser interferometer and the Y-direction laser interferometer measure the movement of the processing point of the substrate to the position (laser irradiation point) facing the head due to the movement of the movable table. The head is operated at a timing at which the position of the machining point measured by the interferometer and the Y-direction laser interferometer is moved to a position opposite to the head, thereby performing a predetermined machining.

[특허문헌 1] 일본국 특허공개 평06-163359호 공보 [Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-163359

근년에, 기판의 대형화(대면적화)에 수반하여 프레임 상에 복수의 헤드를 일렬로 나란히 설치하고, 기판이 올려놓아진 가동테이블이 이동시키는 것에 연동하여, 기판표면의 복수의 가공지점에 대하여 복수의 헤드가 동시에 가공을 행함으로써, 가공효율을 향상시키는 것이 요구되고 있다. 그런데, X방향 레이저 간섭계 및 Y방향 레이저 간섭계에 의해 계측된 좌표위치 데이터로부터 복수의 헤드의 중앙에 위치하는 헤드와 가동테이블의 거리를 계측하는 방법에서는, 가동테이블이 요잉방향으로 기울어져 요각에 의한 오차가 생기면, 복수의 헤드의 위치에 의해 요각에 의한 어긋남 양(오차)이 다르므로 복수의 헤드에 대응하는 가공지점위치를 정확하게 검출할 수 없다. In recent years, a plurality of heads are arranged side by side on a frame in accordance with an increase in size (large area) of a substrate, and a plurality of processing points on the surface of the substrate are linked to move the movable table on which the substrate is placed. By simultaneously processing the head, it is required to improve the processing efficiency. By the way, in the method of measuring the distance between the head and the movable table which are located in the center of a plurality of heads from the coordinate position data measured by the X-direction laser interferometer and the Y-direction laser interferometer, the movable table is inclined in the yawing direction and is caused by the yaw angle. If an error occurs, the shift amount (error) due to the yaw angle varies depending on the positions of the plurality of heads, so that the machining point positions corresponding to the plurality of heads cannot be accurately detected.

예컨대, X방향 레이저 간섭계 및 Y방향 레이저 간섭계에 의해 계측되는 복수의 헤드의 중앙에 위치하는 헤드의 오차가 제로이더라도, 중앙의 헤드로부터 이격된 위치의 헤드일수록 θ방향(요잉방향)의 어긋남 양이 커진다. 한편, 가공 정밀도에 대한 요구는 보다 정밀도가 높은 것의 요구로 되고 있어, 기판의 가공지점과 헤드의 레이저 조사 포인트의 오차를 백만분의 1밀리 정도로 억제하는 것이 기대되고 있다. For example, even if the error of the head located at the center of the plurality of heads measured by the X-direction laser interferometer and the Y-direction laser interferometer is zero, the shift amount in the θ direction (yaw direction) is larger for the head at a position away from the center head. Grows On the other hand, the demand for processing accuracy is a request for higher precision, and it is expected to suppress the error between the processing point of the substrate and the laser irradiation point of the head to about one millionth of a millimeter.

따라서, 상기 특허문헌 1에 기재된 한 쌍의 리니어모터의 추력분배율을 보정하는 방식으로 가동테이블의 요각에 의한 오차가 생기지 않도록 제어하더라도, 리니어모터의 추력변동에 의해 미소한 요각에 의한 오차가 생겼을 경우에는, 복수의 헤드의 위치에 따라 θ방향의 오차량이 다르므로, 모든 헤드의 오차를 수 미크론으로 억제하는 것은 어렵다는 문제가 있다. Therefore, even if the error caused by the yaw angle of the movable table is controlled in such a manner as to correct the thrust distribution ratio of the pair of linear motors described in Patent Document 1, when the error due to the small yaw angle occurs due to the thrust fluctuation of the linear motor. Since the error amount in the θ direction varies depending on the positions of the plurality of heads, there is a problem that it is difficult to suppress the errors of all the heads to several microns.

따라서, 본 발명은 상기 과제를 해결한 헤드작동 제어장치 및 제어방법 및 스테이지장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a head operation control device, a control method and a stage device that solve the above problems.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 이하와 같은 수단을 가진다. In order to solve the said subject, this invention has the following means.

청구항 1에 기재된 발명은, 워크가 올려놓아지는 워크 지지부재와, 상기 워크 지지부재에 대향 배치된 복수의 헤드를 지지하는 헤드 지지부재 중 어느 하나를 이동시킴과 함께, 상기 양쪽 부재의 상대변위에 연동하여 상기 복수의 헤드의 작동을 제어하는 헤드 제어장치로서, 상기 워크 지지부재 또는 헤드 지지부재 중 이동측이 되는 부재의 요잉(yawing)방향의 기울기에 따라 상기 복수의 헤드에 대한 작동 타이밍을 보정하는 보정수단을 구비한 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 1 moves any one of a work support member on which a work is placed and a head support member for supporting a plurality of heads arranged opposite to the work support member, and at the relative displacement of the two members. A head control apparatus for controlling the operation of the plurality of heads in association with each other, wherein the operation timing of the plurality of heads is corrected according to the inclination of the yawing direction of the workpiece support member or the head support member. It characterized in that it comprises a correction means to.

청구항 2에 기재된 발명은, 상기 보정수단이, 상기 이동측이 되는 부재의 기울기를 검출하는 검출수단과, 상기 검출수단의 검출결과에 근거하여 상기 복수의 헤드 각각에 대한 보정량을 연산하는 보정량 연산수단과, 이 보정량 연산수단으로 부터의 상기 보정량에 의해 보정된 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 2, wherein the correction means detects the inclination of the member to be the moving side, and correction amount calculating means for calculating a correction amount for each of the plurality of heads based on the detection result of the detection means. And control means for individually operating the plurality of heads at a timing corrected by the correction amount from the correction amount calculating means.

청구항 3에 기재된 발명은, 상기 보정량 연산수단이, 상기 검출수단의 검출결과에 근거하여 상기 이동측이 되는 부재의 요잉방향의 기울기를 구하는 기울기연산수단을 가지고, 이 기울기연산수단에 의해 얻어진 연산 결과에 따라 상기 복수의 헤드 각각에 대한 보정량을 연산하는 것을 특징으로 한다.The invention as set forth in claim 3, wherein the correction amount calculating means has an inclination calculating means for obtaining an inclination in the yawing direction of the member to be the moving side based on the detection result of the detecting means, and the arithmetic result obtained by the inclination calculating means In accordance with the characterized in that for calculating the correction amount for each of the plurality of heads.

청구항 4에 기재된 발명은, 상기 검출수단이, 상기 이동측 부재의 요잉방향으로 배치된 한 쌍의 레이저 간섭계로 이루어지고, 상기 기울기연산수단이, 상기 한 쌍의 레이저 간섭계에 의해 측정된 거리의 차로부터 상기 이동측이 되는 부재의 기울기를 구하는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 4, wherein the detection means comprises a pair of laser interferometers arranged in the yawing direction of the movable side member, and the inclination calculation means is a difference in distance measured by the pair of laser interferometers. It is characterized by obtaining the inclination of the member to be the moving side from the above.

청구항 5에 기재된 발명은, 워크가 올려놓아진 워크 지지부재와, 상기 워크 지지부재에 대향 배치된 복수의 헤드를 지지하는 헤드 지지부재 중 어느 하나를 이동시킴과 함께, 상기 양쪽 부재의 상대변위에 연동하여 상기 복수의 헤드의 작동을 제어하는 헤드작동 제어장치의 제어방법으로서, 상기 이동측이 되는 부재의 기울기를 검출하는 제1 과정과, 이 제1 과정의 검출결과에 근거하여 상기 복수의 헤드 각각에 대한 보정량을 연산하는 제2 과정과, 이 제2 과정으로부터의 상기 보정량에 의해 보정된 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 제3 과정을 가지는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 5 moves any one of a work support member on which a work is placed and a head support member for supporting a plurality of heads arranged opposite to the work support member, and at the relative displacement of the two members. A control method of a head operation control apparatus for controlling the operation of the plurality of heads in association, comprising: a first process of detecting an inclination of a member to be the moving side and the plurality of heads based on a detection result of the first process And a third process of separately operating the plurality of heads at a timing corrected by the correction amount from the second process.

청구항 6에 기재된 발명은, 상기 제2 과정이, 상기 제1 과정의 검출결과에 근거하여 상기 이동측이 되는 부재의 기울기를 구하고, 상기 기울기에 따라 상기 복수의 헤드 각각에 대한 보정량을 연산하는 것을 특징으로 한다.According to the sixth aspect of the present invention, in the second step, the inclination of the member to be the moving side is calculated based on the detection result of the first step, and the correction amount for each of the plurality of heads is calculated according to the inclination. It features.

청구항 7에 기재된 발명은, 워크가 올려놓아지는 워크 지지부재와, 이 워크 지지부재 상에 가로 걸쳐진 헤드 지지부재와, 이 헤드 지지부재에 나란히 설치된 복수의 헤드와, 상기 워크 지지부재 또는 상기 헤드 지지부재 중 어느 하나를 이동시키는 이동수단과, 상기 워크 지지부재 또는 상기 헤드 지지부재 중 이동측 부재의 기울기를 검출하는 검출수단과, 상기 워크 지지부재 또는 상기 헤드 지지부재의 이동에 연동하여 상기 헤드의 작동을 제어하는 헤드작동 제어수단을 구비한 스테이지장치로서, 상기 헤드작동 제어수단은, 상기 검출수단의 검출결과에 근거하여 상기 복수의 헤드에 대한 보정량을 연산하고, 이 보정량으로 보정된 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 7 includes a work support member on which a work is placed, a head support member intersected on the work support member, a plurality of heads provided in parallel with the head support member, and the work support member or the head support. Moving means for moving any one of the members, detecting means for detecting an inclination of a moving side member of the work support member or the head support member, and movement of the head support member in conjunction with movement of the work support member or the head support member. A stage apparatus comprising head operation control means for controlling operation, wherein the head operation control means calculates correction amounts for the plurality of heads based on a detection result of the detection means, and at the timing corrected with the correction amounts, It is characterized by operating a plurality of heads individually.

청구항 8에 기재된 발명은, 상기 헤드작동 제어수단이, 상기 검출수단의 검출결과에 근거하여 상기 워크 지지부재의 기울기를 구하고, 이 기울기에 따라 상기 복수의 헤드에 대한 보정량을 연산하는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 8 is characterized in that the head operation control means calculates the inclination of the work support member based on the detection result of the detection means, and calculates correction amounts for the plurality of heads according to the inclination. .

청구항 9에 기재된 발명은, 워크가 올려놓아지는 가동(可動)테이블과, 이 가동테이블 상에 가로 걸쳐진 헤드 지지부재와, 이 헤드 지지부재에 나란히 설치된 복수의 헤드와, 상기 가동테이블을 이동시키는 이동수단과, 상기 가동테이블의 기울기를 검출하는 검출수단과, 상기 가동테이블을 시작점으로부터 종료점까지 이동시키면서 상기 검출수단에 의해 검출된 검출값의 변화에게 따른 보정량을 연산하는 보정량 연산수단과, 이 보정량 연산수단에 의해 연산된 상기 가동테이블을 시작점으로부터 종료점까지 이동시키는 과정에서 얻어진 각 이동위치의 보정량을 기억하 는 기억수단과, 상기 이동수단에 의한 상기 가동테이블의 이동위치에 대응하는 보정량을 상기 기억수단으로부터 읽어들여, 이 보정량에 따른 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 헤드작동 제어수단을 가지는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 9 includes a movable table on which a work is placed, a head support member intersected on the movable table, a plurality of heads provided in parallel with the head support member, and a movement for moving the movable table. Means, detecting means for detecting an inclination of the movable table, correction amount calculating means for calculating a correction amount in accordance with a change in the detection value detected by the detecting means while moving the movable table from a start point to an end point, and the correction amount calculation Storage means for storing a correction amount of each movement position obtained in the process of moving the movable table calculated by the means from a start point to an end point, and a correction amount corresponding to the movement position of the movable table by the movement means. Read from the plurality of heads individually at a timing in accordance with the correction amount It characterized in that it has a head operation control means for operating.

청구항 10에 기재된 발명은, 워크가 올려놓아지는 가동테이블과, 이 가동테이블 상에 가로 걸쳐진 헤드 지지부재와, 이 헤드 지지부재에 나란히 설치된 복수의 헤드와, 상기 가동테이블을 이동시키는 이동수단과, 상기 가동테이블과의 거리를 검출하는 복수의 검출수단과, 상기 복수의 검출수단에 의해 검출된 각 거리 데이터에 따른 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 헤드작동 제어수단을 가지는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 10 includes a movable table on which a work is placed, a head supporting member intersected on the movable table, a plurality of heads provided in parallel with the head supporting member, moving means for moving the movable table, And a plurality of detection means for detecting a distance to the movable table, and a head operation control means for individually operating the plurality of heads at a timing corresponding to each distance data detected by the plurality of detection means. .

<실시예><Example>

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에 대하여 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the best form for implementing this invention with reference to drawings is demonstrated.

<실시예 1><Example 1>

도 1은 본 발명이 되는 헤드작동 제어장치의 일실시예가 적용된 스테이지장치를 나타낸 사시도이다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 스테이지장치(10)는, Y방향으로 이동하는 한 쌍의 Y슬라이더(12)와, Y슬라이더(12)를 가이드하는 한 쌍의 가이드(14)와, Y슬라이더(12) 사이에 가로 걸쳐진 Y스테이지(16)와, Y스테이지(16) 위 를 X방향으로 이동하는 평판 형상의 가동테이블(워크 지지부재)(20)을 가진다. 1 is a perspective view showing a stage apparatus to which an embodiment of a head operation control apparatus according to the present invention is applied. As shown in FIG. 1, the stage apparatus 10 includes a pair of Y sliders 12 moving in the Y direction, a pair of guides 14 for guiding the Y sliders 12, and a Y slider 12. ), And a flat plate-shaped movable table (work support member) 20 moving in the X direction on the Y stage 16.

또한, 스테이지장치(10)는, 한 쌍의 가이드(14)를 지지하는 석정반(石定盤)(22)과, 석정반(22)을 지지하는 진동제거 마운트(24)와, 석정반(22) 상에 걸쳐 장착된 한 쌍의 갠트리 프레임(26)과, 갠트리 프레임(26) 사이에 가로 걸쳐진 헤드 지지부재(28)를 가진다. In addition, the stage apparatus 10 includes a stone slab 22 for supporting a pair of guides 14, a vibration removing mount 24 for supporting the stone slab 22, and a stone slab ( 22 has a pair of gantry frames 26 mounted over and a head support member 28 transversely between the gantry frames 26.

여기서, Y슬라이더(12)에는, 가동테이블(20)을 Y방향으로 구동하는 Y방향 리니어모터(미도시)가 구비되고, Y스테이지(16) 상에는, 가동테이블(20)을 X방향으로 구동하는 X방향 리니어모터(미도시)가 구비되어 있다. 또한, Y스테이지(16) 및 가동테이블(20)은, 복수의 정압(靜壓)패드(미도시)가 구비되어 있어, 가이드(14) 및 석정반(22) 상을 거의 마찰이 없는 상태로 이동할 수 있도록 장착되어 있다. Here, the Y slider 12 is provided with a Y-direction linear motor (not shown) for driving the movable table 20 in the Y direction, and the movable table 20 for driving the movable table 20 in the X direction on the Y stage 16. An X direction linear motor (not shown) is provided. In addition, the Y stage 16 and the movable table 20 are provided with a plurality of static pressure pads (not shown), and the guide 14 and the stone plate 22 are almost free from friction. It is equipped to move.

헤드 지지부재(28)는, 석정반(22)의 좌우 양측으로 걸쳐놓아진 한 쌍의 갠트리 프레임(26)의 거의 중간위치에 가로 걸쳐지도록 고정되어 있다. 이 헤드 지지부재(28)에는, 소정 간격마다 일렬로 나란히 설치된 복수의 헤드(30)(301∼30n)와, 복수의 헤드(30)를 작동시키는 헤드작동 제어장치(31)가 구비되어 있다. The head support member 28 is fixed so that it may cross over to the substantially intermediate position of the pair of gantry frames 26 extended to the left and right sides of the stone slab 22. The head support member 28 is provided with a plurality of heads 30 (30 1 to 30 n ) arranged side by side at predetermined intervals, and a head operation control device 31 for operating the plurality of heads 30. have.

가동테이블(20)은, 그 상면이 기판을 흡착하는 워크 흡착면이고, 둘레부에는 Y방향 미러(32)와, X방향 미러(34)가 장착되어 있다. 그리고, 석정반(22)의 Y방향 단부(端部)에는, Y방향 위치검출용 Y1, Y2 레이저 간섭계(검출수단)(36, 37)가 평행하게 배치되어 있고, 석정반(22)의 X방향 단부에는, X방향 위치검출용 X레이저 간섭계(38)가 배치되어 있다. The movable table 20 is a workpiece adsorption surface on which an upper surface thereof adsorbs a substrate, and a Y-direction mirror 32 and an X-direction mirror 34 are attached to the circumferential portion. Then, Y1 and Y2 laser interferometers (detecting means) 36 and 37 for Y-direction position detection are arranged in parallel in the Y-direction end portion of the stone plate 22, and the X of the stone plate 22 is arranged. An X laser interferometer 38 for X-direction position detection is disposed at the direction end portion.

여기서, Y1, Y2 레이저 간섭계(36,37)를 이용한 계측방법에 대하여 도 2를 참조하여 설명한다. 한편, 도 2에 있어서는, 5개의 헤드(301∼305)가 배치되어 있는 것으로 한다. Here, a measurement method using the Y1, Y2 laser interferometers 36, 37 will be described with reference to FIG. In FIG. 2, five heads 30 1 to 30 5 are arranged.

Y1 레이저 간섭계(36)는, 길이측정용 간섭계이며, 복수의 헤드(30) 중 중앙에 위치하는 헤드(303)와 교차하는 Y방향 축선상에 배치되어 있다. 또한, Y2 레이저 간섭계(37)는, 요각산출용 간섭계이며, Y1 레이저 간섭계(36)로부터 X방향으로 거리(D1) 어긋난 위치에 장착되어 있다.The Y1 laser interferometer 36 is a length measurement interferometer and is disposed on the Y-direction axis crossing the head 30 3 located at the center of the plurality of heads 30. The Y2 laser interferometer 37 is a yaw angle calculation interferometer, and is mounted at a position shifted from the Y1 laser interferometer 36 by the distance D1 in the X direction.

따라서, 가동테이블(20)의 Y방향 위치는, Y1 레이저 간섭계(36)에 의해 계측됨과 함께, 가동테이블(20)의 X방향 위치는, X레이저 간섭계(38)에 의해 계측된다. 또한, 가동테이블(20)의 Z축 둘레의 기울기(요각(θ))는, Y1 레이저 간섭계(36)에 의해 계측된 거리(L1)와 Y2 레이저 간섭계(37)에 의해 계측된 거리(L2)의 차(δ1)(=L1-L2)와 Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37) 사이의 간격(X방향 이격거리(D1))으로부터 구해진다.Therefore, the Y-direction position of the movable table 20 is measured by the Y1 laser interferometer 36, and the X-direction position of the movable table 20 is measured by the X laser interferometer 38. Incidentally, the inclination (the yaw angle θ) around the Z axis of the movable table 20 is the distance L1 measured by the Y1 laser interferometer 36 and the distance L2 measured by the Y2 laser interferometer 37. Is obtained from the interval (X-direction spacing D1) between the difference? 1 (= L1-L2) and the Y1, Y2 laser interferometers 36, 37.

또한, 복수의 헤드(30) 중 중앙에 위치하는 헤드(303)에 대응하는 가공지점의 위치(거리)가, Y1 레이저 간섭계(36)와 X레이저 간섭계(38)에 의해 계측된다. 그리고, 헤드(303)로부터 다른 헤드(301)까지의 거리를 D2, 요각(θ)에 의한 가공지점 오차를 δ2라 하면, 트리거 신호에 대한 보정량(ΔT)은, 다음의 수학식으로부터 구해진다. In addition, the position (distance) of the processing point corresponding to the head 30 3 located in the center among the plurality of heads 30 is measured by the Y1 laser interferometer 36 and the X laser interferometer 38. If the distance from the head 30 3 to the other head 30 1 is D2 and the machining point error due to the yaw angle θ is δ2, the correction amount ΔT for the trigger signal is obtained from the following equation. Become.

Figure 112006063424335-pat00001
Figure 112006063424335-pat00001

상기 수학식 1에 있어서, D1, D2는 기지(旣知)이므로, Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37)의 계측값의 차(δ1)와, Y1 레이저 간섭계(36)의 계측값(L1)을 대입함으로써 보정량(ΔT)을 얻을 수 있다. 여기서, 수학식 1에서는, 가동테이블(20)의 요각을 연산하지 않아도 보정량(ΔT)을 구할 수 있다. In the above Equation 1, since D1 and D2 are known, the difference δ1 between the measured values of the Y1 and Y2 laser interferometers 36 and 37 and the measured value L1 of the Y1 laser interferometer 36 are determined. By substituting for the correction amount ΔT can be obtained. In Equation 1, the correction amount ΔT can be obtained without calculating the yaw angle of the movable table 20.

또한, 상기 이외의 헤드 302, 304, 305의 보정량(ΔT)도 상기와 마찬가지로 수학식 1을 이용하여 연산할 수 있다. 그리고, 5개의 헤드(301∼305)의 작동위치를 보정량(T)으로 보정함으로써, 예컨대, 가동테이블(20)이 상측에서 보아 시계방향으로 각도(θ) 기울어진 상태로 Y방향으로 이동하는 경우, 헤드(301∼305)의 가공위치에 보정량(ΔT)을 가산 또는 감산하여 가공 타이밍을 어긋나게 하는 것이 된다.Further, the correction amount (ΔT) of the head other than the 30 2, 30 4, 30 5 also similar to the above can be calculated using the equation (1). Then, by correcting the operating positions of the five heads 30 1 to 30 5 with the correction amount T, for example, the movable table 20 is moved in the Y direction in the state in which the angle θ is inclined clockwise when viewed from above. In this case, the correction amount ΔT is added or subtracted to the machining positions of the heads 30 1 to 30 5 to shift the machining timing.

예컨대, 헤드(301)는, 기준이 되는 헤드(303)에 대하여 보정량(ΔT1)만큼 가공을 빨리 한다. 또한, 헤드(302)는, 기준이 되는 헤드(303)에 대하여 보정량(ΔT2)만큼 가공을 빨리 한다. 헤드(304)는, 기준이 되는 헤드(303)에 대하여 보정량(ΔT4)만큼 가공을 늦게 한다. 헤드(305)는, 기준이 되는 헤드(305)에 대하여 보정량(ΔT5)만큼 가공을 늦게 한다. 이로써, 헤드(301∼305)에 의한 가공 포인트(P1∼P5) 는, 도 2 중 파선으로 나타낸 원형(圓形)부분(단, 중앙의 헤드(303)는 보정 없음)이 되고, 요각(θ)에 의한 어긋남 양(δ)을 제로로 보정한 위치가 된다. For example, the head 30 1 accelerates processing by the correction amount ΔT 1 with respect to the head 30 3 as a reference. In addition, the head 30 2 advances processing by the correction amount ΔT 2 with respect to the head 30 3 as a reference. The head 30 4 delays processing by the correction amount ΔT 4 with respect to the head 30 3 serving as a reference. The head (30, 5), a processing by the correction amount (ΔT 5) against the head (30, 5) serving as a reference is late. As a result, the machining points P1 to P5 by the heads 30 1 to 30 5 become circular portions indicated by broken lines in FIG. 2 (however, the center head 30 3 has no correction), It becomes a position which correct | amended the deviation amount (delta) by the retardation angle (theta) to zero.

따라서, 헤드(301∼305)는, 가동테이블(20)의 요각(θ)에 따라 가공 타이밍이 시간적으로 어긋나게 되어, 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트와 일치한 타이밍으로 가공을 행할 수 있다. Therefore, the timings of the heads 30 1 to 30 5 are shifted in time according to the yaw angle θ of the movable table 20, so that the processing points on the substrate placed on the movable table 20 are placed on the head 30. The machining can be performed at a timing consistent with a machining point of 1 to 30 5 ).

여기서, 헤드작동 제어장치(31)에 의한 보정처리를 아날로그 제어로 나타내면 도 3에 나타낸 바와 같이 된다.Here, the correction processing by the head operation control device 31 is represented by analog control, as shown in FIG.

도 3에 있어서, 보정량 연산부(441)는, 상술한 수학식 1의 연산을 행하여 Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37)에 의해 계측된 거리(L1, L2)의 차(L1-L2)에 근거하여, 요각에 따른 보정량(ΔT)을 연산한다. 3, the correction amount calculation section (44 1) performs the operation of the above-described Equation 1, Y1, Y2 laser interferometer (36, 37) the distance difference (L1-L2) of the (L1, L2) measured by the Based on this, the correction amount ΔT corresponding to the yaw angle is calculated.

Y1 레이저 간섭계(36)에 의해 계측된 거리(L1)는, 보정량(ΔT)을 가산 또는 감산하여 보정된다. 판정부(461)에서는, 보정된 거리(L1±ΔT)의 값이 가공위치 데이터와 일치하는지 여부를 판정하고 있고, 일치한 경우에 헤드(301)의 신호를 출력한다. The distance L1 measured by the Y1 laser interferometer 36 is corrected by adding or subtracting the correction amount ΔT. The determination unit 46 1 determines whether or not the value of the corrected distance L1 ± ΔT coincides with the machining position data, and outputs the signal of the head 30 1 when it matches.

또한, 다른 헤드(302∼305)에 대하여도 보정량 연산부(442∼445) 및 판정부(462∼465)가 마찬가지의 보정처리를 행하여 신호를 출력한다. 이로써, 헤드(301∼305)는, 가동테이블(20)의 요각(θ)에 따라 가공 타이밍이 시간적으로 어긋나게 되어, 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트와 일치한 타이밍으로 가공을 행한다. In addition, it subjected to a correction amount computing unit (44 2-44 5) and a judging section (46 2-46 5), the correction process of the same with respect to the other heads (30, 2-30. 5) and outputs a signal. Thus, the head (30 1 ~30 5), the processing timing are temporally shifted in accordance with the yaw angle (θ) of the movable table 20, the machining point on the binary placing the substrate on a movable table (20) head (30 The machining is performed at a timing coinciding with the machining point of 1 to 30 5 ).

도 4는 실시예 1의 헤드작동 제어장치(31)의 보정처리를 디지털 제어로 처리하는 제어블럭의 개념도이다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 헤드작동 제어장치(31)는, 마이크로 컴퓨터로 이루어지고, Y1 레이저 간섭계(36)에 의해 계측된 신호로부터 가동테이블(20)까지의 거리(L1)를 연산하는 거리연산부(40)와, Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37)에 의해 계측된 거리(L1, L2)에 근거하여 헤드(301∼305)의 각각에 대한 보정량(ΔT)을 연산하는 보정량 연산부(44)와, 보정량 연산부(44)로부터의 보정량에 의해 규정되는 타이밍으로 헤드(301∼305)를 개별적으로 작동시키는 헤드 제어부(제어수단)(46)를 가진다.4 is a conceptual diagram of a control block for processing correction processing of the head operation control device 31 of the first embodiment by digital control. As shown in FIG. 4, the head operation control device 31 is made of a microcomputer and calculates a distance L1 from the signal measured by the Y1 laser interferometer 36 to the movable table 20. 40 and a correction amount calculating unit for calculating a correction amount ΔT for each of the heads 30 1 to 30 5 based on the distances L1 and L2 measured by the Y1 and Y2 laser interferometers 36 and 37 ( 44) and has a head control section (control means) 46 of the timing correction head (30 1 ~30 5) as defined by from the correction amount calculation section (44) separately operate.

헤드 제어부(46)는, 미리 가공위치 데이터가 입력되어 있고, 거리연산부(40)로부터의 거리(L1)를 보정량 연산부(44)로부터의 보정량(ΔT)에 의해 보정하고, 이 보정값(L1±ΔT)이 가공 데이터와 일치했을 때, 헤드(301∼305)의 가공신호를 출력한다. 이로써, 헤드(301∼305)는, 가동테이블(20)의 요각(θ)에 따라 레이저 가공 타이밍이 시간적으로 어긋나게 되어, 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트(P1∼P5)와 일치한 타이밍으로 가공을 행한다. The head control section 46 inputs the machining position data in advance, and corrects the distance L1 from the distance calculating section 40 by the correction amount ΔT from the correction amount calculating section 44, and this correction value (L1 ±). ΔT), and outputs the processed signal when the match processing data, a head (30 1 ~30 5). As a result, the heads 30 1 to 30 5 are shifted in time according to the yaw angle θ of the movable table 20, so that the processing points on the substrate placed on the movable table 20 are moved to the head ( The machining is performed at a timing coinciding with the machining points P1 to P5 of 30 1 to 30 5 .

<실시예 2><Example 2>

실시예 2의 헤드작동 제어장치(31)는, 우선, 가공공정에 들어가기 전에 가동테이블(20)을 Y방향으로 이동시켜서, Y방향 스트로크의 시작점으로부터 종료점에 이르는 동안의 요각 변화에 의해 각 이동위치에서의 보정량을 연산하여 데이터베이스(기억수단)에 미리 기억한다. 데이터베이스에 격납된 Y방향 이동위치에서의 요각에 따른 보정량(ΔT)은, 예컨대, 도 5에 모식적으로 나타낸 바와 같이 변천한다. 도 5에서는, 횡축이 Y방향 이동위치, 종축이 요각에 따른 보정량(ΔT)을 나타내고 있다. 따라서, Y방향 이동위치가 Y1 레이저 간섭계(36)에 의해 계측되면, 순시로 그 이동위치에 대응하는 보정량(ΔT)을 읽어낼 수 있다. The head operation control device 31 of the second embodiment first moves the movable table 20 in the Y direction before entering the machining step, and changes the respective moving positions by the change in the yaw angle during the start point to the end point of the Y direction stroke. The amount of correction is calculated and stored in advance in the database (memory means). The correction amount ΔT corresponding to the yaw angle at the Y-direction moving position stored in the database changes, for example, as schematically shown in FIG. 5. In FIG. 5, the horizontal axis shows the Y-direction moving position, and the vertical axis shows the correction amount (DELTA) T according to a yaw angle. Therefore, if the Y-direction moving position is measured by the Y1 laser interferometer 36, the correction amount [Delta] T corresponding to the moving position can be read out instantaneously.

그리고, 가동테이블(20)에 올려놓아진 기판을 가공할 때에는, 미리 데이터베이스에 기억된 각 이동위치마다의 보정량을 읽어들여 헤드(301∼305)의 가공 타이밍을 보정할 수 있으므로, 가동테이블(20)을 고속으로 이동시키는 경우에 보정처리를 이동속도에 맞춰 고속처리하는 것이 가능하게 된다. Then, the movable table when processing the binary release substrate up to 20, a movable table it is possible to compensate for the processing timing of reading the correction amount of each movement position previously stored in the database heads (30 1 ~30 5) In the case of moving 20 at high speed, the correction processing can be performed at high speed in accordance with the moving speed.

여기서, 헤드작동 제어장치(31)에 의한 보정처리를 아날로그 제어로 나타내면 도 6에 나타낸 바와 같이 된다.Here, the correction processing by the head operation control device 31 is represented by analog control, as shown in FIG.

도 6에 있어서, 보정량 연산부(441)는, Y1 레이저 간섭계(36)에 의해 계측된 신호로부터 가동테이블(20)까지의 거리(L1)에 대응하는 보정량(ΔT)을, 데이터베이스(도 6 참조)로부터 읽어들여, Y1 레이저 간섭계(36)에 의해 계측된 거리(L1)에, 보정량(ΔT)을 가산 또는 감산한다. 판정부(461)에서는, 보정된 거리(L1±ΔT)의 값 이 가공위치 데이터와 일치하는지 여부를 판정하고 있고, 일치한 경우에 헤드(301)의 가공신호를 출력한다. In FIG. 6, the correction amount calculator 44 1 checks the database (FIG. 6) for the correction amount ΔT corresponding to the distance L1 from the signal measured by the Y1 laser interferometer 36 to the movable table 20. ), The correction amount ΔT is added or subtracted from the distance L1 measured by the Y1 laser interferometer 36. The determination unit 46 1 judges whether or not the value of the corrected distance L1 ± ΔT coincides with the machining position data, and outputs the machining signal of the head 30 1 when it matches.

이 보정방법에서는, 실시예 1과 같이 Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37)에 의해 계측된 거리(L1, L2)에 근거하여 가동테이블(20)의 Z축 둘레의 요각(θ)을 구하는 요각연산처리가 불필요하게 되어, 그만큼 헤드(301)의 가공신호를 출력할 때까지의 시간이 단축되어, 가동테이블(20)의 고속이동에 대응하여 보정처리를 고속으로 행하는 것이 가능하게 된다.In this correction method, the yaw angle of obtaining the yaw angle θ around the Z axis of the movable table 20 based on the distances L1 and L2 measured by the Y1 and Y2 laser interferometers 36 and 37 as in the first embodiment. The arithmetic processing becomes unnecessary, and the time until outputting the machining signal of the head 30 1 is shortened so that the correction processing can be performed at high speed in response to the high-speed movement of the movable table 20.

또한, 다른 헤드(302∼305)에 대하여도 보정량 연산부(442∼445) 및 판정부(462∼465)가 마찬가지의 보정처리를 행하여 가공신호를 고속으로 출력하는 것이 가능하게 된다. 이로써, 헤드(301∼305)는, 가동테이블(20)의 요각(θ)의 변화에 따라서 가공 타이밍이 시간적으로 어긋나게 되어, 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트(P1∼P5)와 일치한 타이밍으로 가공을 행할 수 있다. Further, the correction processing is performed for the same making it possible to output the processed signal at a high speed the other head (30 2-30 5) correction amount calculating section (44 2-44 5) and a judging section (46 2-46 5) with respect to the do. As a result, the timings of the heads 30 1 to 30 5 are shifted in time according to the change in the yaw angle θ of the movable table 20, and the processing points on the substrate placed on the movable table 20 are headed. Machining can be performed at a timing consistent with the machining points P1 to P5 of (30 1 to 30 5 ).

이로써, 헤드(301∼305)에 의한 가공 포인트(P1∼P5)는, 도 2 중 파선으로 나타낸 원형부분(단, 중앙의 헤드(303)는 보정 없음)이 되고, 요각(θ)에 의한 어긋남 양(δ)을 제로로 보정한 정규(正規)의 위치가 된다. As a result, the machining points P1 to P5 by the heads 30 1 to 30 5 become circular portions indicated by broken lines in FIG. 2 (however, the head 30 3 in the center has no correction), and the yaw angle θ It becomes a normal position which correct | amended the deviation amount (delta) by zero.

도 7은 실시예 2의 헤드작동 제어장치(31)의 보정처리를 디지털 제어로 처리하는 제어블럭의 개념도이다. 7 is a conceptual diagram of a control block for processing correction processing of the head operation control device 31 of the second embodiment by digital control.

도 7에 나타낸 바와 같이, 헤드작동 제어장치(31)는, 마이크로 컴퓨터로 이루어지고, 상술한 거리연산부(40)와, 요각연산부(42)와, 보정량 연산부(44)와, 데이터베이스(48)와, 가동테이블(20)의 이동위치에 대응하는 헤드(301∼305)의 보정량을 데이터베이스(48)로부터 읽어들여, 이 보정량에 따른 타이밍으로 헤드(301∼305)를 개별적으로 작동시키는 헤드 제어부(제어수단)(46)를 가진다. 요각연산부(42)는, Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37)에 의해 계측된 거리(L1, L2)에 근거하여 가동테이블(20)의 Z축 둘레의 요각(θ)을 연산한다. 그리고, 보정량 연산부(44)는, 요각연산수단(42)에 의해 얻어진 요각(θ)에 따라 헤드(301∼305)의 각각에 대한 보정량(ΔT)을 연산한다. As shown in Fig. 7, the head operation control device 31 is made of a microcomputer and includes the above-described distance calculating section 40, yaw angle calculating section 42, correction amount calculating section 44, database 48 and The correction amount of the heads 30 1 to 30 5 corresponding to the movement position of the movable table 20 is read from the database 48, and the heads 30 1 to 30 5 are individually operated at a timing corresponding to the correction amount. It has a head control part (control means) 46. The yaw angle calculation section 42 calculates the yaw angle θ around the Z axis of the movable table 20 based on the distances L1 and L2 measured by the Y1 and Y2 laser interferometers 36 and 37. Then, the correction amount computing section 44, and calculates a correction amount (ΔT) for each of the heads (30 1 ~30 5) according to the yaw angle (θ) obtained by the yaw angle calculating means (42).

즉, 보정량 연산부(44)는, 가동테이블(20)을 Y방향 스트로크의 시작점으로부터 종료점까지 이동시키면서 Y1, Y2 레이저 간섭계(36, 37)에 의해 계측된 거리(L1, L2)의 차(δ2)의 변화에 따라 헤드(301∼305)의 각각에 대한 보정량(ΔT)을 연산한다. 데이터베이스(48)는, 보정량 연산부(44)에 의해 연산된 가동테이블(20)을 시작점으로부터 종료점까지 이동시키는 과정에서 얻어진 헤드(301∼305)의 각 이동위치의 보정량을 기억한다. That is, the correction amount calculation unit 44 moves the movable table 20 from the start point to the end point of the Y-direction stroke, and the difference δ2 of the distances L1 and L2 measured by the Y1 and Y2 laser interferometers 36 and 37. It calculates a correction amount (ΔT) for each of the heads (30 1 ~30 5) in accordance with the change. Database 48 stores a correction amount for each moving position of the correction amount computing section 44, the head (30 1 ~30 5) obtained by operation of the movable table 20 in the course of moving from the start point to the end point by.

헤드 제어부(46)는, 미리 가공위치 데이터가 입력되어 있고, 거리연산부(40)로부터의 거리(L1)를 헤드(301∼305)의 보정량(ΔT)을 데이터베이스(48)로부터 읽어들인 보정량(ΔT)에 의해 보정하고, 이 보정값(L1±ΔT)이 가공 데이터와 일치했을 때, 헤드(301∼305)의 가공신호를 출력한다. 이로써, 헤드(301∼305)는, 가동테이블(20)의 요각(θ)에 따라 가공 타이밍이 시간적으로 어긋나게 되어, 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트(P1∼P5)와 일치한 타이밍으로 가공을 행할 수 있다. The head control section 46 inputs the machining position data in advance, and reads the correction amount ΔT of the heads 30 1 to 30 5 from the distance L1 from the distance calculating section 40 from the database 48. When the correction value L1 ± ΔT coincides with the processing data, the processing signal of the heads 30 1 to 30 5 is outputted. Thus, the head (30 1 ~30 5), the processing timing are temporally shifted in accordance with the yaw angle (θ) of the movable table 20, the machining point on the binary placing the substrate on a movable table (20) head (30 Processing can be performed at timings consistent with the processing points P1 to P5 of 1 to 30 5 ).

<실시예 3><Example 3>

도 8은 실시예 3의 계측방법을 나타낸 평면도이다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 실시예 3에서는, 헤드(301∼305)가 대응하는 Y방향 위치에서 가동테이블(20)과의 거리를 계측하는 Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)가 구비되어 있다. 중앙에 배치된 Y3 레이저 간섭계(501)는, 길이측정용 간섭계이고, 다른 레이저 간섭계(501, 502, 504, 505)는, 보정수단으로서 기능하는 위치검출용 간섭계이다. 8 is a plan view showing a measuring method of Example 3. FIG. In 8, the third embodiment, a head (30 1 ~30 5) corresponds to Y Y1~Y5 laser interferometer for measuring the distance to the movable table 20 in the direction of a position (50 1 ~50 5) Is provided. The Y3 laser interferometer 50 1 disposed at the center is an interferometer for length measurement, and the other laser interferometers 50 1 , 50 2 , 50 4 , 50 5 are position detection interferometers functioning as correction means.

Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)는, 헤드(301∼305)와 교차하는 Y방향의 선 상에 배치되어 있고, 가동테이블(20)의 요잉방향의 기울기(요각(θ))에 따른 거리(L1∼L5)를 계측한다. 따라서, Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)는, 헤드(301∼305)가 대향하는 가공 포인트의 요각에 의한 어긋남 양(δ2)을 검출할 수 있다. Y1~Y5 laser interferometer (50 1 ~50 5), the head (30 1 ~30 5) and the slope (the yaw angle (θ) in the yaw direction of the movable table 20 is arranged on a line in the Y direction, which crosses Measure the distances L1 to L5. Therefore, the Y1 to Y5 laser interferometers 50 1 to 50 5 can detect the shift amount δ2 due to the yaw angle of the machining point that the heads 30 1 to 30 5 face .

헤드작동 제어장치(31)는, Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)에 의해 계측된 거리(L1∼L5)와 가공위치 데이터와 일치했을 때 헤드(301∼305)를 개별적으로 작동 시킨다. The head operation control device 31 individually adjusts the heads 30 1 to 30 5 when the distances L1 to L5 measured by the Y1 to Y5 laser interferometers 50 1 to 50 5 coincide with the machining position data. It works

이와 같이, 본 실시예에서는, 헤드(301∼305)와 Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)가 1 : 1로 구비되어 있으므로, Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)에 의해 계측된 거리(L1∼L5)가 가공위치 데이터와 일치한 타이밍으로 헤드(301∼305)를 작동시킴으로써, 가공 포인트(P1∼P5)가 가동테이블(20)의 요각(θ)에 의한 어긋남 양(δ2)을 제로로 보정한 정규(正規)의 위치로 수정된다. Thus, in the present embodiment, since the heads 30 1 to 30 5 and the Y1 to Y5 laser interferometers 50 1 to 50 5 are provided at 1: 1, the Y1 to Y5 laser interferometers 50 1 to 50 5 By operating the heads 30 1 to 30 5 at a timing at which the distances L1 to L5 measured by the coincidence with the machining position data, the machining points P1 to P5 are moved to the yaw angle θ of the movable table 20. The deviation amount δ2 caused by this is corrected to a normal position where zero is corrected.

여기서, 헤드작동 제어장치(31)에 의한 보정처리를 아날로그 제어로 나타내면 도 9에 나타낸 바와 같이 된다.Here, when the correction process by the head operation control device 31 is represented by analog control, it becomes as shown in FIG.

도 9에 있어서, 판정부(461)는, Y1 레이저 간섭계(501)에 의해 계측된 신호로부터 가동테이블(20)까지의 거리(L1)가 공급되면, 가공위치 데이터와 일치하는지 여부를 판정하고 있고, 일치한 경우에 헤드(301)의 가공신호를 출력한다. 9, when the judging section (46 1), the feed distance (L1) of the Y1 to the laser interferometer (50 1), the movable table 20 from the signal measured by, determining whether or not to match the processing position data If a match is found, the processing signal of the head 30 1 is output.

또한, 다른 헤드(302∼305)에 대하여도 판정부(462∼465)가 마찬가지의 보정처리를 행하여 가공신호를 출력한다. 따라서, 판정부(461∼465)는, 각각 Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)에 의해 계측된 각 가공지점의 거리 데이터(L1∼L5)를 병렬처리에 의해 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트(P1∼P5)와 일치한 타이밍으로 가공을 행한다. 따라서, 가동테이블(20)은 요각에 의한 기울기를 가지는 경우에는, 헤드(301∼305)의 가공 타이밍은, 가동 테이블(20)의 요각(θ)의 변화에 따라 시간적으로 어긋난다.In addition, the degree determining section (46 2-46 5) relative to the other heads (30, 2-30. 5) performs the correction processing of the same, and outputs the processed signal. Accordingly, the determination (46 1 ~46 5), each Y1~Y5 laser interferometer (50 1 ~50 5) to the movable table (20, the distance data (L1~L5) of each of the machining point by the measured by the parallel ) the processing point on the binary they rest on the substrate is carried out by processing a timing consistent with the machining point (P1~P5) of the head (30 1 ~30 5). Therefore, when the movable table 20 has an inclination due to the yaw angle, the processing timing of the heads 30 1 to 30 5 is shifted in time according to the change of the yaw angle θ of the movable table 20.

이로써, 헤드(301∼305)에 의한 가공 포인트(P1∼P5)는, 도 8 중 파선으로 나타낸 원형부분(단, 중앙의 헤드(303)는 보정 없음)이 되고, 요각(θ)에 의한 어긋남 양(δ2)을 제로로 보정한 정규(正規)의 위치가 된다. As a result, the machining points P1 to P5 by the heads 30 1 to 30 5 become circular portions indicated by broken lines in FIG. 8 (however, the head 30 3 in the center has no correction), and the yaw angle θ It becomes a normal position which correct | amended the shift amount (delta) 2 by zero.

도 10은 실시예 3의 헤드작동 제어장치(31)의 보정처리를 디지털 제어로 처리하는 제어블럭의 개념도이다. 도 7에 나타낸 바와 같이, 헤드작동 제어장치(31)는, 마이크로 컴퓨터로 이루어지고, 거리연산부(441∼445)와, 가동테이블(20)의 이동에 수반하여 변화되는 거리연산부(441∼445)에 의해 연산된 가동테이블(20)과의 거리 데이터에 따른 타이밍으로 헤드(301∼305)를 개별적으로 작동시키는 헤드 제어부(제어수단)(46)를 가진다. 10 is a conceptual diagram of a control block for processing correction processing of the head operation control device 31 of the third embodiment by digital control. As shown in FIG. 7, the head operation control device 31 is made of a microcomputer, and the distance calculation unit 44 1 which changes with the movement of the distance calculating units 44 1 to 44 5 and the movable table 20. ~44 5) has a movable table (head controller (control means) 46 of the timing to the head (30 1 ~30 5) according to the distance data of the 20) individually operated by the operation.

거리연산부(441∼445)는, Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)에 의해 계측된 거리(L1∼L5)를 헤드(301∼305)의 각각에 대한 보정량으로서 연산한다. Distance calculation unit (44 1 ~44 5), and calculates the distance (L1~L5) Y1~Y5 measured by the laser interferometer (50 1 ~50 5) as a correction amount for each of the heads (30 1 ~30 5) .

헤드 제어부(46)는, 헤드(301∼305)의 작동 타이밍을 병렬처리하고 있고, 미리 가공위치 데이터가 입력되어 있다. 그리고, 헤드 제어부(46)에서는, 거리연산부(441∼445)로부터의 거리 데이터(L1∼L5)가 헤드(301∼305)의 각각의 가공 데이터와 일치했을 때, 헤드(301∼305)의 가공신호를 출력한다. 이로써, 헤드(301∼305)는, 가동테이블(20)의 요각(θ)에 따라 가공 타이밍이 시간적으로 어긋나게 되어, 가동 테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼305)의 가공 포인트(P1∼P5)와 일치한 타이밍으로 가공을 행할 수 있다. The head control section 46 processes the operation timings of the heads 30 1 to 30 5 in parallel, and the machining position data is input in advance. Then, the head control unit (46), the distance calculation unit (44 1 ~44 5) when the distance data (L1~L5) from a match with each of the raw data of the heads (30 1 ~30 5), a head (30 1 Output the processing signal of ˜30 5 ). As a result, the timings of the heads 30 1 to 30 5 are shifted in time according to the yaw angle θ of the movable table 20, so that the processing points on the substrate placed on the movable table 20 are placed on the head 30. Processing can be performed at timings consistent with the processing points P1 to P5 of 1 to 30 5 ).

다만, 본 실시예에서는, 헤드(301∼305)와 Y1∼Y5 레이저 간섭계(501∼505)를 1 : 1로 배치한 구성을 일례로서 들었지만, 이에 한정되지 않고, 예컨대, 헤드수가 많아지는 경우에는, 헤드 2개에 대하여 레이저 간섭계를 1개 배치하도록 하여도 좋다. 이 경우, 레이저 간섭계의 Y방향 위치와 일치하는 헤드의 작동 타이밍은, 레이저 간섭계에 의해 계측된 거리 데이터에 의해 제어하고, 레이저 간섭계의 Y방향 위치와 일치하는 헤드의 작동 타이밍은, 상술한 실시예 1 또는 실시예 2의 방법으로 보정함으로써, 가동테이블(20) 상에 올려놓아진 기판 상의 가공지점이 헤드(301∼30n)의 가공 포인트(P1∼Pn)와 일치한 타이밍으로 가공을 행할 수 있다. In the present embodiment, however, the configuration in which the heads 30 1 to 30 5 and the Y1 to Y5 laser interferometers 50 1 to 50 5 are disposed at 1: 1 is given as an example, but the present invention is not limited thereto. When the number increases, one laser interferometer may be arranged for two heads. In this case, the operation timing of the head coinciding with the Y-direction position of the laser interferometer is controlled by the distance data measured by the laser interferometer, and the operation timing of the head coinciding with the Y-direction position of the laser interferometer is the embodiment described above. 1 or embodiment 2 by correcting the way of the movable table 20 to be processed by a timing consistent with the processing point (P1~Pn) of the head (30 1 ~30 n) processing point on the substrate, it rests on a binary phase Can be.

<산업상의 이용 가능성> <Industrial availability>

상기 실시예에서는, 스테이지장치에 의해 가동테이블(20)을 Y방향으로 이동시키는 구성에 대하여 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 워크가 올려놓아지는 테이블을 고정측으로 하고, 헤드(301∼305)를 지지하는 헤드 지지부재(28)를 리니어모터 등에 의해 Y방향으로 이동시키는 구성의 것에도 본 발명을 적용할 수 있는 것은, 물론이다. In the above embodiment has been described above in the configuration for moving the movable table 20 by a stage device in the Y direction, the present invention is not limited thereto, and a work table which is fixed by placing the side of the head (30 1 ~30 5) It goes without saying that the present invention can also be applied to a configuration in which the head support member 28 for supporting the movable member is moved in the Y direction by a linear motor or the like.

또한, 상기 실시예에서는, 헤드작동 제어장치(31)가 스테이지장치에 탑재된 헤드(301∼30n)의 작동 타이밍을 보정하는 경우를 예로 들어 설명했지만, 이에 한정 되지 않고, 가동테이블 또는 헤드 지지부재 중 어느 하나를 이동시키는 장치이면 스테이지장치 이외의 장치에도 본 발명을 적용할 수 있는 것은, 물론이다. In the above embodiment, the case where the head operation control device 31 corrects the operation timing of the heads 30 1 to 30 n mounted on the stage device has been described as an example. It goes without saying that the present invention can be applied to apparatuses other than the stage apparatus as long as the apparatus moves one of the supporting members.

또한, 상기 실시예의 헤드(301∼30n)로서, 워크의 가공지점에 레이저 광을 조사하는 레이저 가공 헤드나, 워크 표면에 잉크를 내뿜는 잉크젯용 헤드나, 가공된 워크의 표면을 검사하기 위한 검사용 헤드 등을 헤드 지지부재(28)에 장착시키는 구성에도 본 발명을 적용할 수 있다. Further, as the heads 30 1 to 30 n of the above embodiment, a laser processing head for irradiating a laser light to a processing point of a work, an inkjet head for ejecting ink onto the surface of the work, or a surface for processing the processed workpiece The present invention can also be applied to a configuration in which an inspection head or the like is mounted on the head support member 28.

본 발명에 의하면, 이동측이 되는 부재의 요잉(yawing)방향의 기울기에 따라서 복수의 헤드에 대한 작동 타이밍을 보정하므로, 이동측이 되는 부재의 기울기가 미소하더라도 기울기에 따라 작동 타이밍을 어긋나게 함으로써, 기울기를 제로로 한 위치에 대하여 헤드를 작동시킬 수 있어, 이동측의 요각(yaw angle)에 의한 오차의 영향을 받지 않고, 정밀도를 높이는 것이 가능하게 된다. According to the present invention, since the operation timing for the plurality of heads is corrected according to the inclination of the yawing direction of the member on the moving side, the operation timing is shifted according to the inclination even if the inclination of the member on the moving side is minute. The head can be operated with respect to the position at which the inclination is zero, so that the accuracy can be increased without being influenced by an error caused by the yaw angle of the moving side.

또한, 본 발명에 의하면, 보정량 연산수단에 의해 연산된 가동테이블을 시작점으로부터 종료점까지 이동시키는 과정에서 얻어진 각 이동위치의 보정량을 기억수단에 기억시키고, 이동수단에 의한 가동테이블의 이동위치에 대응하는 보정량을 기억수단으로부터 읽어들이고, 이 보정량에 따른 타이밍으로 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키므로, 가동테이블의 기울기가 미소하더라도 가동테이블의 기울기에 따라 작동 타이밍을 어긋나게 함으로써, 기울기를 제로로 한 위치에 대하여 헤드를 작동시킬 수 있어, 가동테이블의 요각에 의한 오차의 영향을 받지 않고, 정밀도를 높이는 것이 가능하게 된다. Further, according to the present invention, the correction amount of each movement position obtained in the process of moving the movable table calculated by the correction amount calculating means from the start point to the end point is stored in the storage means, and corresponds to the movement position of the movable table by the movement means. Since the correction amount is read from the storage means and the plurality of heads are individually operated at the timing corresponding to the correction amount, even if the tilt of the movable table is minute, the operation timing is shifted according to the tilt of the movable table, so that the position of the tilt is zero. The head can be operated, and the accuracy can be increased without being affected by the error caused by the yaw angle of the movable table.

또한, 본 발명에 의하면, 복수의 검출수단에 의해 검출된 복수의 헤드에 대향하는 가동테이블까지의 거리 데이터에 따른 타이밍으로 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키므로, 가동테이블의 기울기에 따른 위치에서 헤드를 작동시킬 수 있어, 가동테이블의 요각에 의한 오차의 영향을 받지 않고, 정밀도를 높이는 것이 가능하게 된다. Further, according to the present invention, since the plurality of heads are individually operated at a timing in accordance with the distance data to the movable table facing the plurality of heads detected by the plurality of detection means, the head is moved at a position according to the tilt of the movable table. It can operate, and it becomes possible to raise precision, without being influenced by the error by the yaw angle of a movable table.

Claims (10)

워크(work)가 올려놓아지는 워크 지지부재와, 상기 워크 지지부재에 대향 배치된 복수의 헤드를 지지하는 헤드 지지부재 중 어느 하나를 이동시킴과 함께, 상기 워크 지지부재와 헤드 지지부재의 상대변위에 연동하여 상기 복수의 헤드의 작동을 제어하는 헤드 제어장치로서, Relative displacement of the work support member and the head support member while moving any one of a work support member on which a work is placed and a head support member for supporting a plurality of heads arranged opposite to the work support member. A head control device for controlling the operation of the plurality of heads in conjunction with, 상기 워크 지지부재 또는 헤드 지지부재 중 이동측이 되는 부재의 요잉(yawing)방향의 기울기에 따라 상기 복수의 헤드에 대한 작동 타이밍을 보정하는 보정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 헤드작동 제어장치. And correcting means for correcting operating timings of the plurality of heads according to the inclination of the yawing direction of the workpiece supporting member or the head supporting member, which is a moving side. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 보정수단은, The correction means, 상기 이동측이 되는 부재의 기울기를 검출하는 검출수단과, Detecting means for detecting an inclination of the member to be the moving side; 상기 검출수단의 검출결과에 근거하여 상기 복수의 헤드 각각에 대한 보정량을 연산하는 보정량 연산수단과, Correction amount calculation means for calculating correction amounts for each of the plurality of heads based on the detection result of the detection means; 이 보정량 연산수단으로부터의 상기 보정량에 의해 보정된 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 헤드작동 제어장치. And control means for individually operating the plurality of heads at a timing corrected by the correction amount from the correction amount calculating means. 청구항 2에 있어서, The method according to claim 2, 상기 보정수단은, 상기 보정량을 기억하는 기억수단을 가지고, The correction means has a storage means for storing the correction amount; 상기 제어수단은 상기 기억수단에 기억된 상기 보정량에 근거하여 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 것을 특징으로 하는 헤드작동 제어장치. And the control means individually operates the plurality of heads based on the correction amount stored in the storage means. 청구항 2에 있어서, The method according to claim 2, 상기 검출수단은, 상기 이동측이 되는 부재의 요잉방향으로 배치된 한 쌍의 레이저 간섭계로 이루어지고, The detecting means comprises a pair of laser interferometers arranged in the yawing direction of the member to be the moving side, 상기 보정량 연산수단은, 상기 한 쌍의 레이저 간섭계에 의해 측정된 각 레이저 간섭계에서 이동측이 되는 부재까지의 거리의 차로부터 상기 보정량을 구하는 것을 특징으로 하는 헤드작동 제어장치.And said correction amount calculating means obtains said correction amount from the difference of the distance from each laser interferometer measured by said pair of laser interferometers to the member which becomes a moving side. 워크가 올려놓아진 워크 지지부재와, 상기 워크 지지부재에 대향 배치된 복수의 헤드를 지지하는 헤드 지지부재 중 어느 하나를 이동시킴과 함께, 상기 워크 지지부재와 헤드 지지부재의 상대변위에 연동하여 상기 복수의 헤드의 작동을 제어하는 헤드작동 제어장치의 제어방법으로서, The work support member on which the work is placed and the head support member for supporting the plurality of heads arranged opposite to the work support member are moved, and in conjunction with the relative displacement of the work support member and the head support member. As a control method of a head operation control device for controlling the operation of the plurality of heads, 상기 워크 지지부재 또는 헤드 지지부재 중 이동측이 되는 부재의 기울기를 검출하는 제1 과정과, A first process of detecting an inclination of a member to be a moving side of the work support member or the head support member; 이 제1 과정의 검출결과에 근거하여 상기 복수의 헤드 각각에 대한 보정량을 연산하는 제2 과정과, A second step of calculating a correction amount for each of the plurality of heads based on the detection result of the first step; 이 제2 과정으로부터의 상기 보정량에 의해 보정된 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 제3 과정을 가지는 것을 특징으로 하는 헤드작동 제어장치의 제어방법. And a third step of individually operating the plurality of heads at a timing corrected by the correction amount from the second step. 청구항 5에 있어서, The method according to claim 5, 상기 제2 과정과 상기 제3 과정 사이에, 상기 보정량을 기억수단에 기억시키는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 헤드작동 제어장치의 제어방법.And a step of storing the correction amount in a storage means between the second process and the third process. 워크가 올려놓아지는 워크 지지부재와, A workpiece support member on which the workpiece is placed, 이 워크 지지부재 상에 가로 걸쳐진 헤드 지지부재와, A head support member across the work support member, 이 헤드 지지부재에 나란히 설치된 복수의 헤드와, A plurality of heads installed side by side in the head support member; 상기 워크 지지부재 또는 상기 헤드 지지부재 중 어느 하나를 이동시키는 이동수단과, Moving means for moving any one of the work support member or the head support member; 상기 워크 지지부재 또는 상기 헤드 지지부재 중 이동측 부재의 기울기를 검출하는 검출수단과, Detecting means for detecting an inclination of a moving side member of the work support member or the head support member; 상기 워크 지지부재 또는 상기 헤드 지지부재의 이동에 연동하여 상기 헤드의 작동을 제어하는 헤드작동 제어수단을 구비한 스테이지장치로서, A stage apparatus having a head operation control means for controlling the operation of the head in conjunction with the movement of the work support member or the head support member, 상기 헤드작동 제어수단은, 상기 검출수단의 검출결과에 근거하여 상기 복수의 헤드에 대한 보정량을 연산하고, 이 보정량으로 보정된 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 것을 특징으로 하는 스테이지장치. And the head operation control means calculates a correction amount for the plurality of heads based on the detection result of the detection means, and individually operates the plurality of heads at a timing corrected by the correction amount. 청구항 7에 있어서, The method according to claim 7, 상기 헤드작동 제어수단은, 상기 검출수단의 검출결과에 근거하여 상기 워크 지지부재의 기울기를 구하고, 이 기울기에 따라 상기 복수의 헤드에 대한 보정량을 연산하는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.And the head operation control means obtains the inclination of the work support member based on the detection result of the detection means, and calculates a correction amount for the plurality of heads according to the inclination. 워크가 올려놓아지는 가동(可動)테이블과, Movable table on which work is placed, 이 가동테이블 상에 가로 걸쳐진 헤드 지지부재와, A head support member across the movable table, 이 헤드 지지부재에 나란히 설치된 복수의 헤드와, A plurality of heads installed side by side in the head support member; 상기 가동테이블을 이동시키는 이동수단과, Moving means for moving the movable table; 상기 가동테이블의 기울기를 검출하는 검출수단과, Detecting means for detecting an inclination of the movable table; 상기 가동테이블을 시작점으로부터 종료점까지 이동시키면서 상기 검출수단에 의해 검출된 검출값의 변화에게 따른 보정량을 연산하는 보정량 연산수단과, Correction amount calculation means for calculating a correction amount corresponding to a change in the detection value detected by the detection means while moving the movable table from a start point to an end point; 이 보정량 연산수단에 의해 연산된 상기 가동테이블을 시작점으로부터 종료점까지 이동시키는 과정에서 얻어진 각 이동위치의 보정량을 기억하는 기억수단과, Storage means for storing a correction amount of each moving position obtained in the process of moving the movable table calculated by the correction amount calculating means from a start point to an end point; 상기 이동수단에 의한 상기 가동테이블의 이동위치에 대응하는 보정량을 상기 기억수단으로부터 읽어들여, 이 보정량에 따른 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 헤드작동 제어수단을 가지는 것을 특징으로 하는 스테이지장치. And a stage operation control means for reading the correction amount corresponding to the movement position of the movable table by the moving means from the storage means and operating the plurality of heads individually at a timing corresponding to the correction amount. . 워크가 올려놓아지는 가동테이블과, The movable table on which the work is placed, 이 가동테이블 상에 가로 걸쳐진 헤드 지지부재와, A head support member across the movable table, 이 헤드 지지부재에 나란히 설치된 복수의 헤드와, A plurality of heads installed side by side in the head support member; 상기 가동테이블을 이동시키는 이동수단과, Moving means for moving the movable table; 상기 가동테이블과의 거리를 검출하는 복수의 검출수단과, A plurality of detection means for detecting a distance from the movable table; 상기 복수의 검출수단에 의해 검출된 각 거리 데이터에 따른 타이밍으로 상기 복수의 헤드를 개별적으로 작동시키는 헤드작동 제어수단을 가지는 것을 특징으로 하는 스테이지장치.And a head operation control means for individually operating the plurality of heads at a timing corresponding to each distance data detected by the plurality of detection means.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH06163359A (en) * 1992-11-19 1994-06-10 Canon Inc Precise positioning device
KR19990035783U (en) * 1998-02-09 1999-09-15 구본준 Step Position Corrector of Stepper
KR20020001450A (en) * 2000-06-28 2002-01-09 최관수 Position control apparatus of head for digital printing machine
KR20050075285A (en) * 2004-01-15 2005-07-20 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Method and apparatus for forming a pattern, device and electronic apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06163359A (en) * 1992-11-19 1994-06-10 Canon Inc Precise positioning device
KR19990035783U (en) * 1998-02-09 1999-09-15 구본준 Step Position Corrector of Stepper
KR20020001450A (en) * 2000-06-28 2002-01-09 최관수 Position control apparatus of head for digital printing machine
KR20050075285A (en) * 2004-01-15 2005-07-20 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Method and apparatus for forming a pattern, device and electronic apparatus

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