KR100811642B1 - BM-free reflection type liquid crystal display device and the method for fabricating thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 블랙 매트릭스를 제거하여 고개율을 구현함으로써, 휘도를 향상시키기 위한 반사형 액정 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a reflective liquid crystal display device for improving luminance by removing a black matrix to achieve high magnification.

투과형 액정 표시장치의 경우 백라이트광을 이용하므로 구동하지 않는 영역의 액정에 의한 콘트라스트비(contrast ratio) 감소와 전경(disclination)을 없애기 위하여 상부 기판에 블랙 매트릭스를 이용한다. 따라서 투과형 액정 표시장치의 경우는 블랙 매트릭스에 의한 개구율 감소가 불가피하다.In the case of the transmissive liquid crystal display, since the backlight uses light, a black matrix is used for the upper substrate to reduce contrast ratio and disintegration caused by the liquid crystal in the non-driving region. Therefore, in the case of a transmissive liquid crystal display, it is inevitable to reduce the aperture ratio by the black matrix.

반면, 반사형 액정 표시장치의 경우에는 외부 광원을 이용하므로 투과형 액정 표시장치에 비하여 휘도가 떨어지는 결점이 있다. 이로 인하여 반사형 액정 표시장치의 경우는 휘도 향상이 주과제가 된다.On the other hand, the reflective liquid crystal display device uses an external light source, and thus has a disadvantage in that luminance is lower than that of the transmissive liquid crystal display device. For this reason, in the case of a reflective liquid crystal display device, luminance improvement is a major problem.

본 발명에 따른 반사형 액정 표시장치에서는 휘도가 떨어지는 결점을 보완하기 위하여 유기 절연막을 이용한 고개구율 구조를 채택하고 있으며, 반사 전극의 경계가 데이터 라인에 있도록 패턴하지 않고 픽셀 내부에서 패턴 경계를 형성함으로써 블랙 매트릭스를 사용하지 않는 결과 고개구율을 구현하고 있다.
The reflective liquid crystal display according to the present invention adopts a high opening ratio structure using an organic insulating layer to compensate for the shortcomings in luminance. The result is that no black matrix is used, resulting in a high opening rate.

Description

블랙 매트릭스를 사용하지 않는 반사형 액정 표시장치 및 그의 제조 방법{BM-free reflection type liquid crystal display device and the method for fabricating thereof}BM-free reflection type liquid crystal display device and the method for fabricating according to the present invention.

도 1은 백라이트에서 나온 빛의 각 층별 투과도를 도식적으로 나타낸 도면. 1 is a diagram showing the transmittance of each layer of light emitted from the backlight.

도 2는 종래의 반사형 액정 표시장치의 한 화소에 해당하는 부분을 도시한 평면도.2 is a plan view showing a portion corresponding to one pixel of a conventional reflective liquid crystal display.

도 3은 종래의 반사형 액정 표시장치의 한 화소부에 해당하는 단면을 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view showing a cross section corresponding to one pixel portion of a conventional reflective liquid crystal display device;

도 4는 일반 투과형 액정 표시장치의 동작을 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view showing the operation of a general transmissive liquid crystal display.

도 5는 일반 반사형 액정 표시장치의 동작을 나타내는 단면도.5 is a cross-sectional view showing the operation of a general reflective liquid crystal display device;

도 6은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반사형 액정 표시장치의 어레이패널의 한 화소부에 해당하는 부분을 도시한 평면도.6 is a plan view showing a portion corresponding to one pixel portion of the array panel of the reflective liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention;

도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선에 따른 단면과 이에 대응하는 컬러필터기판을 같이 도시한 단면도FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a cross section taken along the line VII-VII of FIG. 6 and a color filter substrate corresponding thereto.

도 8은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반사형 액정 표시장치의 어레이패널의 평면도.8 is a plan view of an array panel of a reflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention;

도 9는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반사형 액정 표시장치에서 빛의 진행 경로를 도시한 단면도.9 is a cross-sectional view illustrating a path of light traveling in a reflective liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 10은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사형 액정 표시장치의 한 화소부에 해당하는 단면을 도시한 단면도.10 is a cross-sectional view showing a cross section corresponding to one pixel portion of a reflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention;

도 11은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사형 액정 표시장치에서 빛의 진행경로를 도시한 단면도.
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a path of light traveling in a reflective liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention. FIG.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>

101 : 기판 102: 게이트 배선 101: substrate 102: gate wiring

103: 게이트 전극 104: 게이트 절연막 103: gate electrode 104: gate insulating film

107: 소스 전극 108: 드레인 전극 107: source electrode 108: drain electrode

109: 데이터 배선 110: 보호층 109: data wiring 110: protective layer

111: 콘택홀 112: 반사전극 111: contact hole 112: reflective electrode

115: 공통 전극 230: 광 흡수층
115: common electrode 230: light absorbing layer

본 발명은 액정 표시장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 블랙매트릭스를 채택하지 않는 반사형 액정표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a reflective liquid crystal display device that does not employ a black matrix.

최근 정보화 사회로 시대가 급진전함에 따라, 대량의 정보를 처리하고 이를 표시하는 디스플레이(display)분야가 발전하고 있다.Recently, as the information society has progressed rapidly, a display field for processing and displaying a large amount of information has been developed.

근대까지 브라운관(cathode-ray tube ; CRT)이 표시장치의 주류를 이루고 발전을 거듭해 오고 있다. Until modern times, cathode ray tube (CRT) has become the mainstream of display devices and has been developing.

그러나, 최근 들어 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 시대상에 부응하기 위해 평판 표시장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었다. 이에 따라 색 재현성이 우수하고 박형인 박막 트랜지스터형 액정 표시소자(thin film transistor-liquid crystal display ; 이하 TFT-LCD라 한다)가 개발되었다.However, in recent years, the need for a flat panel display has emerged in order to meet the era of thinning, light weight, and low power consumption. Accordingly, a thin film transistor-liquid crystal display (hereinafter referred to as TFT-LCD) having excellent color reproducibility has been developed.

TFT-LCD의 동작을 살펴보면, 박막 트랜지스터에 의해 임의의 화소(pixel)가 스위칭(switching) 되면, 스위칭된 임의의 화소는 하부광원의 빛을 투과할 수 있게 한다. Referring to the operation of the TFT-LCD, when any pixel is switched by the thin film transistor, the switched arbitrary pixel can transmit the light of the lower light source.

상기 스위칭 소자는 반도체층을 비정질 실리콘으로 형성한, 비정질 실리콘 박막 트랜지스터(amorphous silicon thin film transistor ; a-Si:H TFT)가 주류를 이루고 있다. 이는 비정질 실리콘 박막이 저가의 유리기판과 같은 대형 절연기판 상에 저온에서 형성하는 것이 가능하기 때문이다.The switching element is mainly composed of an amorphous silicon thin film transistor (a-Si: H TFT) in which a semiconductor layer is formed of amorphous silicon. This is because the amorphous silicon thin film can be formed at a low temperature on a large insulating substrate such as a low-cost glass substrate.

일반적으로 사용되는 TFT-LCD는 패널(panel)의 하부에 위치한 백라이트(back light)라는 광원의 빛에 의해 영상을 표현하는 방식을 써왔다. TFT-LCDs, which are generally used, have been used to express an image by the light of a light source called a back light located at the bottom of a panel.

그러나, TFT-LCD는 백라이트에 의해 입사된 빛의 3∼8%만 투과하는 매우 비효율적인 광 변조기이다. However, TFT-LCDs are very inefficient light modulators that transmit only 3-8% of the light incident by the backlight.

두 장의 편광의 투과도는 45%, 하판과 상판의 유리 두 장의 투과도는 94%, TFT어레이(array) 및 화소의 투과도는 약 65%, 컬러필터(color filter)의 투과도는 27%라고 가정하면 TFT-LCD의 광 투과도는 약 7.4%이다. Assuming that the transmittance of the two polarized light is 45%, the transmittance of the two glass sheets of the lower plate and the upper plate is 94%, the TFT array and pixel transmittance is about 65%, and the color filter transmittance is 27%. The light transmittance of the LCD is about 7.4%.

도 1은 백라이트에서 나온 빛의 각 층별 투과도를 도식적으로 나타낸 도면이다. 1 is a diagram schematically illustrating transmittance of each layer of light emitted from a backlight.

상술한 바와 같이 실제로 TFT-LCD를 통해 가시되는 빛의 양은 백라이트에서 생성된 광의 약 7%정도이므로, 고 휘도의 TFT-LCD에서는 백라이트의 밝기가 밝아야 하기 때문에, 상기 백라이트에 의한 전력 소모가 크다. As described above, since the amount of light actually visible through the TFT-LCD is about 7% of the light generated by the backlight, the backlight of the high brightness TFT-LCD needs to be bright, so the power consumption of the backlight is large. .

따라서, 충분한 백라이트의 전원 공급을 위해서는 전원 공급 장치의 용량을 크게 하여, 무게가 많이 나가는 배터리(battery)를 사용해 왔다. 그러나 이 또한 장시간 사용할 수 없었다. Therefore, in order to supply sufficient backlight power, a battery having a large weight has been used by increasing the capacity of the power supply device. However, this too could not be used for a long time.

상술한 문제점을 해결하기 위해 최근에 백라이트광을 사용하지 않는 반사형(reflective type) TFT-LCD가 연구되었다. 이는 자연광을 이용하여 동작하므로, 백라이트가 소모하는 전력량을 절약할 수 있기 때문에 장시간 휴대상태에서 사용이 가능하고, 개구율 또한 기존의 백라이트형 TFT-LCD보다 우수하다.In order to solve the above-mentioned problem, a reflective type TFT-LCD that does not use backlight light has recently been studied. Since it operates using natural light, it can save the amount of power consumed by the backlight, so it can be used in a portable state for a long time, and the aperture ratio is also superior to that of the conventional backlight TFT-LCD.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 반사형 TFT-LCD에 관해 설명한다. Hereinafter, a reflective TFT-LCD will be described with reference to the accompanying drawings.

일반적인 TFT-LCD는 하부 기판이라 불리는 박막 트랜지스터 어레이 기판(TFT array substrate), 상부 기판이라 불리는 컬러필터 기판(color filter substrate)등으로 구성된다. 이하 설명될 내용은 하부 기판인 박막 트랜지스터 어레이 기판에 관한 것이다.A general TFT-LCD is composed of a thin film transistor array substrate called a lower substrate, a color filter substrate called an upper substrate, and the like. The following description relates to a thin film transistor array substrate which is a lower substrate.

먼저, 종래의 반사형 TFT-LCD의 한 픽셀(pixel)에 해당하는 평면도인 도 2를 참조하여 설명하면, 기판 상에 행으로 배열된 N 번째 게이트(gate) 배선(8)과 N-1 번째 게이트 배선(6)이 위치하고, 열로 배열된 N 번째 데이터(data) 배선(2)과 N+1 번째 데이터 배선(4)이 매트릭스(matrix)를 이루고 있다. First, referring to FIG. 2, which is a plan view corresponding to one pixel of a conventional reflective TFT-LCD, the N-th gate wiring line 8 and the N-th th array arranged in rows on a substrate are described. The gate wiring 6 is located, and the N-th data wiring 2 and the N + 1-th data wiring 4 arranged in a column form a matrix.

그리고, N 번째 게이트 배선(8)의 소정의 위치에 게이트 전극(18)이 위치하고, N 번째 데이터 배선(2)에서 연장된 소스 전극(12)이 상기 게이트 전극(18) 상에 소정의 길이로 오버랩(overlap)되게 형성되어 있다. In addition, the gate electrode 18 is positioned at a predetermined position of the N-th gate line 8, and the source electrode 12 extending from the N-th data line 2 has a predetermined length on the gate electrode 18. It is formed to overlap.

또한, 상기 소스 전극(12)과 대응되게 드레인 전극(14)이 형성되어 있고, 상기 드레인 전극(14) 상에 위치한 드레인 콘택홀(contact hole)(16)을 통해 반사 전극(10)이 상기 드레인 전극(14)과 전기적으로 접촉하고 있다. 일반적으로, 상기 반사전극(10)은 반사율이 우수한 금속이 쓰인다.In addition, a drain electrode 14 is formed to correspond to the source electrode 12, and the reflective electrode 10 is drained through the drain contact hole 16 located on the drain electrode 14. It is in electrical contact with the electrode 14. In general, the reflective electrode 10 is made of a metal having excellent reflectance.

도 3은 도 2의 절단선 Ⅲ-Ⅲ으로 자른 단면을 도시한 단면도로써, 상기 종래의 반사형 TFT-LCD의 단면 구조가 잘 나타나있다.FIG. 3 is a cross sectional view taken along the cut line III-III of FIG. 2, and the cross-sectional structure of the conventional reflective TFT-LCD is well shown.

상기 반사형 TFT-LCD의 단면 구조를 살펴보면, 기판(1)과 상기 기판(1) 상에 게이트 전극(18)이 형성되어 있다. 상기 게이트 전극(18) 상에는 게이트 절연막(20)이 형성되고, 상기 게이트 전극(18) 상부 상기 게이트 절연막(20) 상에는 반도체층(22)이 형성되며, 상기 반도체층(22)과 접촉하는 소스 및 드레인 전극(12, 14) 형성되어 있다. Looking at the cross-sectional structure of the reflective TFT-LCD, a gate electrode 18 is formed on the substrate 1 and the substrate 1. A gate insulating film 20 is formed on the gate electrode 18, a semiconductor layer 22 is formed on the gate insulating film 20 on the gate electrode 18, and a source in contact with the semiconductor layer 22; Drain electrodes 12 and 14 are formed.

그리고, 상기 소스 및 드레인 전극(12, 14)과 노출된 기판 전면에는 보호막(24)이 형성되어 있다. 상기 보호막(24)에는 상기 드레인 전극(14)의 일부가 노출되도록 형성된 드레인 콘택홀(16)이 형성되어 있으며, 상기 드레인 콘택홀(16)을 통해 상기 드레인 전극(14)과 접촉하는 반사전극(10)이 상기 보호막(24) 상에 형성되어 있다.In addition, a passivation layer 24 is formed on the entire surface of the substrate, where the source and drain electrodes 12 and 14 are exposed. A drain contact hole 16 is formed in the passivation layer 24 so that a portion of the drain electrode 14 is exposed, and a reflective electrode contacting the drain electrode 14 through the drain contact hole 16. 10) is formed on the protective film 24.

상술한 바와 같은 반사형 TFT-LCD는 백라이트와 같은 내부적 광원을 사용하지 않고, 자연의 빛 내지는 외부의 인조 광원을 사용하여 구동하기 때문에 장시간 사용이 가능하다. The reflective TFT-LCD as described above can be used for a long time because it is driven using natural light or an external artificial light source without using an internal light source such as a backlight.

즉, 반사형 TFT-LCD는 외부의 자연광을 상기 반사 전극(10)에 반사시켜, 반사된 빛을 이용하는 구조로 되어 있다. In other words, the reflective TFT-LCD reflects the external natural light to the reflective electrode 10 and uses the reflected light.

또한, 도 4는 일반 투과형 액정표시장치의 동작을 설명한 것이다.4 illustrates the operation of the general transmissive liquid crystal display.

광원은 하부 기판(25)의 하부에 위치한 백라이트(31)의 빛이 사용된다. 상기 백라이트(31)로부터 출사한 빛은 투명전극(32)을 통해 액정(33)에 입사하게 되며, 투명전극(32)과 공통전극(34)의 전계에 의해 배열된 액정(33)에 의해 상기 백라이트(31)로부터 입사한 빛의 양을 조절하여 이미지를 구현하게 된다.As the light source, light of the backlight 31 positioned under the lower substrate 25 is used. The light emitted from the backlight 31 enters the liquid crystal 33 through the transparent electrode 32, and is formed by the liquid crystal 33 arranged by the electric field of the transparent electrode 32 and the common electrode 34. The amount of light incident from the backlight 31 is adjusted to implement an image.

그러나, 어레이 기판(25)의 박막 트랜지스터(T)와 콘택홀(30)에 대응하는 위치에 박막 트랜지스터(T)의 채널(channel)로 빛이 입사되어 광전류가 발생하는 것을 방지하기 위해 어레이 기판(25) 상부에 일정간격으로 이격되고, 투명한 물질로 이루어진 상부 기판(26)의 하부에 블랙매트릭스(black matrix)(36)가 형성되어 있다. However, in order to prevent light from being incident to the channel of the thin film transistor T at a position corresponding to the thin film transistor T and the contact hole 30 of the array substrate 25, the array substrate ( 25, a black matrix 36 is formed on a lower portion of the upper substrate 26, which is spaced at a predetermined interval and formed of a transparent material.

동시에 투명전극이 형성되지 않은 영역,즉 액정이 구동하지 않는 영역에서의 빛샘에 의한 색상대비감소와 전경(disclination) 등의 결함을 없애기 위한 목적으로 상부기판의 하부에 위치한 컬러필터(37)영역에 블랙매트릭스(36)를 형성시킨다. 이로 인하여 개구율이 감소하게 된다.At the same time, in the area where the transparent electrode is not formed, that is, in the area where the liquid crystal does not drive, in the area of the color filter 37 located under the upper substrate for the purpose of eliminating defects such as color contrast and disclination due to light leakage. The black matrix 36 is formed. This causes the aperture ratio to decrease.

도 5는 일반 반사형 액정표시장치의 동작을 설명한 것이다.5 illustrates an operation of a general reflective liquid crystal display device.

광원은 외부의 자연광원 또는 인조광원이 사용되며 액정표시장치의 상부 기판(51)으로 입사된 빛은 반사전극(41)에 반사되어 반사전극(41)과 공통전극(42)의 전계에 의해 배열된 액정(43)을 통과하게 되고, 상기 액정(43)의 배열에 따라 액정(43)을 통과하는 빛의 양이 조절되어 이미지를 구현하게 된다.As the light source, an external natural light or artificial light source is used, and the light incident on the upper substrate 51 of the liquid crystal display is reflected by the reflecting electrode 41 and arranged by the electric field of the reflecting electrode 41 and the common electrode 42. After passing through the liquid crystal 43, the amount of light passing through the liquid crystal 43 is adjusted according to the arrangement of the liquid crystal 43 to realize an image.

반사형 액정표시장치의 경우 일반적으로 휘도 향상을 위하여 유기절연막(44)을 이용하여 고개구율 구조를 채택하고 있다. 유기절연막(44)을 사용하는 경우, 일반 투과형 액정표시장치에 비해 반사전극(41)을 데이터 배선(45) 위에 오버랩(overlap)시킬 수 있어 개구율을 향상시킬 수 있다.In the case of a reflective liquid crystal display device, a high opening ratio structure is generally adopted using the organic insulating layer 44 to improve luminance. When the organic insulating film 44 is used, the reflective electrode 41 can be overlapped on the data line 45 as compared with the general transmissive liquid crystal display device, thereby improving the aperture ratio.

그러나, 데이터 배선(45) 위에서 반사전극(41)이 패턴되어 떨어져 있는 부분에서는 소스 및 드레인 전극(60, 61) 등에 의해 반사되는 빛에 의한 영향을 없애기 위하여 여전히 상부 기판(51)에 블랙 매트릭스(48)를 형성시킨다. 이 블랙 매트릭스(48)는 콘트라스트비(contrast ratio)의 감소를 방지할 수 있는 효과를 가져오지만, 개구율의 저하와 이에 따른 휘도의 손실은 피할 수 없는 문제가 된다.However, in a portion where the reflective electrode 41 is patterned away from the data line 45, the black matrix (or black matrix) is still applied to the upper substrate 51 in order to eliminate the influence of light reflected by the source and drain electrodes 60 and 61. 48). The black matrix 48 has the effect of preventing the reduction of the contrast ratio, but the decrease of the aperture ratio and the loss of the luminance inevitably become a problem.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 휘도를 향상시킬 수 있는 반사형 액정표시장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention is to provide a reflective liquid crystal display device that can improve the brightness.

본 발명의 기타 다른 목적이나 효과는 이후 설명되는 본 발명에 따른 바람직한 실시예와 첨부한 도면을 통해 이해할 수 있을 것이다.
Other objects and effects of the present invention will be understood from the preferred embodiments and the accompanying drawings.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일측면에 따르면, 기판과, 상기 기판상에 제 1 방향으로 배열된 제 1, 2 데이터배선과, 상기 제 1, 2 데이터배선과 교차하는 제 2 방향으로 배열된 1, 2 게이트배선과, 상기 제 1 데이터 및 제 2 게이트배선과 연결된 제 1 스위칭소자와, 상기 제 2 데이터 및 제 2 게이트배선과 연결된 제 2 스위칭소자와, 상기 각 스위칭 소자를 덮는 절연층과, 상기 절연층 상부에 상기 각 스위칭소자와 연결되고 각 스위칭소자를 덮는 제 1, 2 반사전극을 포함하고 있으며, 상기 제 1, 2 반사전극의 경계는 상기 제 1, 2 데이터배선의 사이에 위치하고 있는 반사형 액정표시장치용 어레이패널을 제공한다.According to an aspect of the present invention to achieve the above object, a substrate, first and second data wires arranged in a first direction on the substrate, and a second direction intersecting the first and second data wires. Covering the first and second gate wiring lines, a first switching device connected to the first data and second gate wirings, a second switching device connected to the second data and second gate wirings, and covering the switching devices. An insulating layer and first and second reflective electrodes connected to the switching elements and covering each switching element, wherein the boundaries of the first and second reflective electrodes are formed on the first and second data lines. An array panel for a reflective liquid crystal display device is provided.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판과; 서로 교차하여 화소영역을 정의하는 다수의 데이터 및 게이트배선과; 상기 각 데이터 및 게이트배선과 연결된 다수의 스위칭소자와; 상기 다수의 스위칭소자와 상기 각 배선을 덮는 절연층과; 각각은 상기 각 스위칭소자와 연결되고 해당 스위칭 소자를 덮는 다수개의 반사전극을 포함하고 있으며, 상기 다수개의 반사전극의 경계는 화소영역내에 있는 반사형 액정표시장치용 어레이패널을 제공한다.According to another aspect of the invention, the substrate; A plurality of data and gate wirings crossing each other to define pixel regions; A plurality of switching elements connected to the data and gate wirings; An insulating layer covering the plurality of switching elements and the respective wirings; Each includes a plurality of reflective electrodes connected to the switching elements and covering the switching elements, and the boundary of the plurality of reflective electrodes provides an array panel for a reflective liquid crystal display device.

상기 반사전극의 경계 중 인접한 데이터배선과 가까운 가장자리 중 하나는 데이터배선을 덮고, 다른 하나는 데이터배선을 덮지 않는 것을 특징으로 하고 있다.One of the edges close to the adjacent data line of the boundary of the reflective electrode covers the data line, and the other does not cover the data line.

상기 기판과 게이트배선사이에는 적어도 상기 각 반사전극의 경계에 해당되는 위치에 광흡수층이 위치한 것도 본 발명의 특징이다. It is also a feature of the present invention that the light absorbing layer is positioned between the substrate and the gate wiring at least at a position corresponding to the boundary of each reflective electrode.                     

상기 각 스위칭 소자는 게이트전극, 소스전극 및 드레인전극, 액티브층으로 이루어진 박막트랜지스터인 것이 바람직하다. 이때 상기 각 반사전극은 상기 절연층에 형성된 콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 연결된다.Preferably, each switching element is a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode and a drain electrode, and an active layer. In this case, each of the reflective electrodes is connected to the drain electrode through a contact hole formed in the insulating layer.

상기 절연층은 유기절연층인 것이 바람직하고, 그 예로는 BCB 또는 아크릴이 있다. The insulating layer is preferably an organic insulating layer, for example BCB or acrylic.

상기 반사전극의 상면은 요철형상인 것이 반사효율을 위해 유리하다.It is advantageous for the reflection efficiency that the upper surface of the reflective electrode is uneven.

아울러, 상기 어레이패널과 합착되는 컬러필터기판에는 블랙매트릭스가 없는 것이 본 발명의 주요한 특징이다.
In addition, it is a main feature of the present invention that there is no black matrix in the color filter substrate bonded to the array panel.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예을 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention;

제 1실시예  First embodiment

도 6은 본 발명에 따른 반사형 액정 표시장치의 어레이 기판에 대한 평면도이고, 도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선을 따라 자른 단면과 이에 대응하는 컬러필터기판의 단면도이다.       FIG. 6 is a plan view of an array substrate of a reflective liquid crystal display according to the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 6 and a color filter substrate corresponding thereto.

본 발명에 따른 반사형 액정표시장치용 어레이패널은 통상의 어레이패널과 동일하게 기판과 각 신호배선, 각 신호배선과 연결된 스위칭소자 및 스위칭소자와 연결된 반사전극으로 이루어져 있다. 보통 스위칭 소자는 박막트랜지스터를 사용하고 있다.The array panel for a reflective liquid crystal display device according to the present invention is composed of a substrate, each signal line, a switching element connected to each signal line, and a reflective electrode connected to the switching element, as in a typical array panel. Usually, the switching element uses a thin film transistor.

보다 자세히 설명하면, 도 6 및 도 7에서 도시한 바와 같이, 유리와 같은 절연 기판(101) 위에 도전 물질로 이루어진 게이트배선(102)과 게이트전극(103)이 형성되어 있는데, 게이트배선(102)은 가로방향으로 연장되고, 통상 게이트전극(103)은 게이트배선(102)에서 연장된다. 또한 게이트배선(102)은 단일 금속층일 수도 있고, 이중금속층일 수도 있다. 6 and 7, a gate wiring 102 and a gate electrode 103 made of a conductive material are formed on an insulating substrate 101 such as glass, and the gate wiring 102 is formed. Extends in the horizontal direction, and the gate electrode 103 extends from the gate wiring 102. In addition, the gate wiring 102 may be a single metal layer or a double metal layer.

상기 게이트 배선(102) 상에는 실리콘 질화막(SiNx)이나 실리콘 산화막(SiO2)으로 이루어진 게이트절연막(104)이 덮고 있다.A gate insulating film 104 made of a silicon nitride film (SiNx) or a silicon oxide film (SiO 2 ) is covered on the gate wiring 102.

상기 게이트 전극(103) 상부의 게이트절연막(104)위에는 통상 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브(active)층(105)이 형성되어 있으며, 그 위에 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 오믹 콘택(ohmic contact)층(106)이 형성되어 있다.An active layer 105 made of amorphous silicon is generally formed on the gate insulating film 104 on the gate electrode 103, and an ohmic contact layer made of amorphous silicon doped with impurities thereon ( 106 is formed.

오믹 콘택층(106)상부에는 금속과 같은 도전 물질로 이루어지고 게이트 배선(102)과 직교하여 화소 영역을 정의하는 데이터 배선(109), 데이터 배선(109)에서 연장된 소스전극(107), 그리고 게이트전극(103)을 중심으로 소스 전극(107)과 마주 대하는 드레인전극(108)이 형성되어 있는데, 소스 및 드레인 전극(107, 108)은 게이트 전극(103)과 함께 박막 트랜지스터(T)를 이룬다.On the ohmic contact layer 106, a data line 109 made of a conductive material such as metal and defining a pixel area orthogonal to the gate line 102, a source electrode 107 extending from the data line 109, and A drain electrode 108 facing the source electrode 107 is formed around the gate electrode 103, and the source and drain electrodes 107 and 108 form a thin film transistor T together with the gate electrode 103. .

이어, 데이터 배선(109)과 소스 및 드레인 전극(107, 108) 위에는 실리콘 질화막이나 실리콘 산화막, 바람직하게는 벤조사이클로부텐(BCB)이나 감광성 아크릴(photo acryl)계열의 유기 절연막으로 이루어진 보호층(110)이 형성되어 있으며, 보호층(110)에는 드레인 전극(108)을 드러내는 콘택홀(111)이 형성되어 있다. 본 발명에서 바람직하게 보호층(110)으로 유기절연막을 이용하는 이유는 아래의 배선과 추후 형성될 반사전극(112) 사이에 발생할 수 있는 기생 캐패시턴스(parasitic capacitance)를 줄이기 위해 유전율이 작은 유기절연막을 채택한다. Subsequently, a passivation layer 110 made of a silicon nitride film or a silicon oxide film, preferably a benzocyclobutene (BCB) or a photo acryl series organic insulating layer, is formed on the data line 109 and the source and drain electrodes 107 and 108. ) Is formed, and a contact hole 111 exposing the drain electrode 108 is formed in the protective layer 110. The reason why the organic insulating film is preferably used as the protective layer 110 in the present invention is to adopt an organic insulating film having a low dielectric constant to reduce parasitic capacitance that may occur between the wiring below and the reflective electrode 112 to be formed later. do.

이때, 상기 보호층(110)을 패터닝(patterning)한 후, 상기 보호층(110)을 약 50초 정도의 짧은 시간동안 SF6+O2를 이용한 건식식각이나, 150초간 산소애싱(ashing)으로 매우 강하게 표면처리하여 상기 보호층(110)의 표면에 다수의 작은 요철과 같은 엠보싱(embossing)을 형성할 수도 있다. 보호층(110) 상면의 엠보싱처리의 효과는 추후 설명한다. In this case, after patterning the protective layer 110, the protective layer 110 by dry etching using SF 6 + O 2 for about 50 seconds or by oxygen ashing for 150 seconds. The surface may be treated very strongly to form embossing such as a plurality of small irregularities on the surface of the protective layer 110. The effect of the embossing treatment on the upper surface of the protective layer 110 will be described later.

다음으로, 표면에 요철이 형성된 보호층(110)의 상부에 반사특성이 뛰어난 불투명 도전성금속을 증착하게 되면, 상기 불투명 금속은 전술한 보호층(110)의 표면 형상대로 도포되므로 요철형상의 반사전극(112)을 형성할 수 있다. 바람직하게는 상기 반사전극(112)으로 알루미늄을 사용한다. 왜냐하면, 상기 알루미늄을 반사전극(112)으로 사용하면, 상기 보호층(110)과의 접촉성이 뛰어나기 때문에 들뜸이 없이 상기 굴곡진 보호층 상에 증착할 수 있다. 반사전극(112)의 표면을 엠보싱되도록 처리하는 이유는 반사효율을 높이기 위한 것이나 본 발명에서 필수적인 것은 아니다.Next, when an opaque conductive metal having excellent reflection characteristics is deposited on the surface of the protective layer 110 having irregularities formed on the surface, the opaque metal is applied in the shape of the surface of the protective layer 110 described above, so that the reflective electrode has an irregular shape. 112 can be formed. Preferably, aluminum is used as the reflective electrode 112. Because the aluminum is used as the reflective electrode 112, since the aluminum has excellent contact with the protective layer 110, the aluminum may be deposited on the curved protective layer without lifting. The reason for processing the surface of the reflective electrode 112 to be embossed is to increase the reflection efficiency but is not essential to the present invention.

다음, 어레이 기판 상부에는 일정 간격 이격되고 투명한 절연물질로 이루어진 상부 기판(116)이 배치되어 있으며 그 하부 전면에는 공통전극(115)이 형성되어 있다. 그리고 상기 상부 기판(116)과 상기 공통 전극(115)사이에는 컬러필터(120)가 형성되어 있고, 각 컬러필터(120) 사이에는 블랙매트릭스가 생략되어 있다.Next, an upper substrate 116 formed of a transparent insulating material spaced apart from each other by a predetermined interval is disposed on the array substrate, and a common electrode 115 is formed on a lower front surface thereof. A color filter 120 is formed between the upper substrate 116 and the common electrode 115, and a black matrix is omitted between each color filter 120.

한편, 반사전극(112)은 박막트랜지스터(T)를 덮고 있으며, 경계는 화소영역내에 위치하고 있다. 이는 다수개의 화소영역을 도시한 도 8에서 잘 알 수 있다. 이로 인하여, 도 9에 도시한 바와 같이, 반사전극(112)으로 입사된 빛(Ⅰ)은 반사되지만, 인접한 반사전극(112) 사이로 입사한 빛(Ⅱ)은 화소영역에서 흡수되어 재반사되지 않으므로, 어레이기판과 합착되는 컬러필터기판에는 블랙매트릭스를 생략할 수 있게된다.On the other hand, the reflective electrode 112 covers the thin film transistor T, and the boundary is located in the pixel area. This can be seen in FIG. 8, which shows a plurality of pixel regions. As a result, as shown in FIG. 9, the light I incident on the reflective electrode 112 is reflected, but the light II incident between the adjacent reflective electrodes 112 is absorbed in the pixel region and is not reflected again. In addition, the black matrix may be omitted in the color filter substrate bonded to the array substrate.

제 2 실시예Second embodiment

도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반사형 액정 표시 장치의 단면을 도시하였는 바, 본 발명의 제 2실시예는 하부기판을 제외하고 앞선 제 1실시예와 동일한 구조를 가지므로 동일한 부분에 대한 설명은 생략하기로 한다.10 is a cross-sectional view of a reflective liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention. The second embodiment of the present invention has the same structure as that of the first embodiment except for the lower substrate. Description of the description will be omitted.

상기 도 10에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제 2실시예에서는 상기 유리와 같은 투명 절연 기판(glass substrate)위에 광 흡수층(light absorbing body)(230)을 형성시킨다. As shown in FIG. 10, in the second embodiment of the present invention, a light absorbing body 230 is formed on a transparent glass substrate such as glass.

왜냐하면, 상기 실시예 1의 경우 반사전극(reflective electrode)패턴을 통과한 빛이 하부 기판에 도달하는 경우, 유기막으로 구성된 보호층(110) 등과 통상 유리인 하부 기판(101)의 굴절율 차이로 인하여 4 % 정도의 빛이 반사될 수 있기 때문이다.In the case of the first embodiment, when the light passing through the reflective electrode pattern reaches the lower substrate, due to the difference in refractive index between the protective layer 110 made of the organic layer and the lower substrate 101 which is usually glass. This is because 4% of light can be reflected.

도 11은 유리기판과 기타 물질의 굴절율 차이로 인한 반사광 차단을 위하여 광 흡수층(230)을 채택한 BM-Free반사형 액정 표시장치의 구조에서 빛의 진행 경로를 도시한 것인 바, 박막 트랜지스터(T)를 형성하기 전 하부기판(101) 위에 먼저 광 흡수층(230)을 형성시킴으로써 굴절율 차이로 인한 빛의 반사를 최소화할 수 있다.FIG. 11 illustrates a light propagation path in a structure of a BM-free reflective liquid crystal display employing a light absorbing layer 230 to block reflected light due to a difference in refractive index between a glass substrate and other materials. By forming the light absorbing layer 230 on the lower substrate 101 before forming the), it is possible to minimize the reflection of light due to the difference in refractive index.

따라서, 반사전극(reflective electrode)패턴간에 입사한 빛(Ⅲ)은 광흡수층(230)에 의해 흡수됨으로써, 상판쪽에 블랙매트릭스를 완전히 제거하여도 콘트라스트비의 저하나 빛샘현상을 걱정할 필요가 없게되는 것이다.Accordingly, the light (III) incident between the reflective electrode patterns is absorbed by the light absorbing layer 230, so that even if the black matrix is completely removed from the upper side, there is no need to worry about lowering the contrast ratio or light leakage. .

상술한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예들을 따라 반사형 액정 표시장치를 제작할 경우 다음과 같은 특징이 있다.As described above, when the reflective liquid crystal display device is manufactured according to the exemplary embodiments of the present invention, the following characteristics are present.

첫째, 반사형 액정 표시장치에 있어서 반사전극의 경계를 데이터 배선이나 게이트 배선 뿐만 아니라, 픽셀 내부에 형성시킴으로써 외부로부터 들어온 빛이 바로 하부층으로 흡수되어 재 반사되어 나가지 않게 함으로서 블랙 매트릭스를 사용하지 않는 반사형 액정 표시장치를 제조할 수 있다.First, in the reflection type liquid crystal display device, the boundary of the reflective electrode is formed inside the pixel as well as the data line or the gate line, so that light from the outside is not directly absorbed and re-reflected by the lower layer, thereby not using the black matrix. The liquid crystal display device can be manufactured.

둘째, 상기 효과에도 불구하고 반사판을 통과한 빛이 하부글라스에 도달하는 경우, 유기막등과 글래스(glass)의 굴절율 차이로 인하여 4 % 정도의 빛이 반사될 수도 있는 바, 박막 트랜지스터 형성 전에 하부 글래스 위에 먼저 광 흡수층을 형성시킴으로써 반사를 최소화할 수 있다.Second, in spite of the above effect, when the light passing through the reflecting plate reaches the lower glass, 4% of the light may be reflected due to the difference in refractive index between the organic film and the glass. Reflection may be minimized by first forming a light absorbing layer on the glass.

Claims (11)

기판;Board; 상기 기판상에 제 1 방향으로 배열된 제 1, 2 데이터배선;First and second data lines arranged in a first direction on the substrate; 상기 제 1, 2 데이터배선과 교차하는 제 2 방향으로 배열된 1, 2 게이트배선;1 and 2 gate lines arranged in a second direction crossing the first and second data lines; 상기 제 1 데이터 및 제 2 게이트배선과 연결된 제 1 스위칭소자;A first switching device connected to the first data and the second gate wiring; 상기 제 2 데이터 및 제 2 게이트배선과 연결된 제 2 스위칭소자;A second switching element connected to the second data and the second gate wiring; 상기 각 스위칭 소자를 덮는 절연층;An insulating layer covering each switching element; 상기 절연층 상부에 상기 각 스위칭소자와 연결되고 각 스위칭소자를 덮는 제 1, 2 반사전극을 포함하고 있으며 상기 제 1, 2 반사전극의 경계는 상기 제 1, 2 데이터배선의 사이에 위치하고 있는 반사형 액정표시장치용 어레이패널A first and second reflective electrodes connected to the switching elements and covering the switching elements, wherein the boundary of the first and second reflective electrodes is positioned between the first and second data wires; Panel for LCD Liquid Crystal Display 2 기판과;2 substrates; 서로 교차하여 화소영역을 정의하는 다수의 데이터 및 게이트배선과;       A plurality of data and gate wirings crossing each other to define pixel regions; 상기 각 데이터 및 게이트배선과 연결된 다수의 스위칭소자와; A plurality of switching elements connected to the data and gate wirings; 상기 다수의 스위칭소자와 상기 각 배선을 덮는 절연층과;       An insulating layer covering the plurality of switching elements and the respective wirings; 상기 다수의 스위칭소자와 각각 연결되고 상기 다수의 스위칭 소자를 각각 덮는 다수개의 반사전극을 포함하고 있으며, 상기 다수개의 반사전극의 경계는 화소영역내에 있으며, 상기 반사전극의 일측은 이에 인접한 데이터배선을 덮고, 상기 반사전극의 일측과 마주대하는 상기 반사전극의 타측은 이에 인접한 데이터배선을 덮지 않는 반사형 액정표시장치용 어레이패널       And a plurality of reflecting electrodes connected to the plurality of switching elements and covering the plurality of switching elements, respectively, wherein a boundary of the plurality of reflecting electrodes is in a pixel region, and one side of the reflecting electrode has a data line adjacent thereto. An array panel for covering the liquid crystal display device, wherein the other side of the reflective electrode facing one side of the reflective electrode does not cover the data line adjacent thereto; 제 1 항과 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서        The method according to any one of claims 1 and 2 상기 기판과 게이트배선사이에는 적어도 상기 각 반사전극의 경계에 해당되는 위치에 광흡수층을 포함하는 반사형 액정표시장치용 어레이패널An array panel for a reflective liquid crystal display device including a light absorption layer at a position corresponding to a boundary of each of the reflective electrodes between the substrate and the gate wiring. 제 1 항과 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,        The method according to any one of claims 1 and 2, 상기 각 스위칭 소자는 게이트전극, 소스전극 및 드레인전극, 액티브층으로 이루어진 박막트랜지스터로 되어 있는 반사형 액정표시장치용 어레이패널Each switching element includes a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode and a drain electrode, and an active layer. 제 1 항과 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,         The method according to any one of claims 1 and 2, 상기 각 반사전극은 상기 절연층에 형성된 콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 연결되어 있는 반사형 액정표시장치용 어레이패널       Each reflective electrode is connected to the drain electrode through a contact hole formed in the insulating layer. 제 1 항과 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,       The method according to any one of claims 1 and 2, 상기 절연층은 벤조사이클로부텐(BCB) 또는 아크릴(acryl)계 수지(resin)과 같은 유기절연층으로 되어 있는 반사형 액정표시장치용 어레이패널 The insulating layer is an array panel for a reflective liquid crystal display device, which is an organic insulating layer such as benzocyclobutene (BCB) or an acrylic resin (resin). 제 1 항과 제 2 항 중 어느 하나의 항에 있어서,        The method according to any one of claims 1 and 2, 상기 반사전극의 상면은 요철형상인 것을 특징으로 하는 반사형 액정표시장치용 어레이패널 An upper surface of the reflective electrode is a concave-convex shape array panel for reflective liquid crystal display device 제 1 기판과, 상기 제 1기판상에 제 1 방향으로 배열된 제 1, 2 데이터배선과, 상기 제 1, 2 데이터배선과 교차하는 제 2 방향으로 배열된 제 1, 2 게이트배선과, 상기 제 1 데이터 및 제 1 게이트배선과 연결된 제 1 스위칭소자와, 상기 제 2 데이터 및 제 1 게이트배선과 연결된 제 2 스위칭소자와, 상기 각 스위칭 소자를 덮는 절연층과, 상기 절연층 상부에 상기 각 스위칭소자와 연결되고 각 스위칭소자를 덮는 제 1, 2 반사전극을 포함하고 있으며 상기 제 1,2 반사전극의 경계는 상기 제 1,2 데이터배선의 사이에 위치하는 액정표시장치용 어레이패널과; 상기 어레이패널과 합착되며 제 2 기판과, 상기 제 2 기판상에 형성된 다수의 컬러필터와, 상기 컬러필터상에 상기 반사전극과 대향하는 공통전극을 가진 컬러필터기판을 포함하는 반사형 액정표시장치      A first substrate, first and second data wirings arranged in a first direction on the first substrate, first and second gate wirings arranged in a second direction crossing the first and second data wirings, and A first switching device connected to first data and first gate wirings, a second switching device connected to the second data and first gate wirings, an insulating layer covering each of the switching devices, and an upper portion of the insulating layer An array panel for a liquid crystal display device connected to the switching elements and covering the switching elements, the first and second reflecting electrodes having a boundary between the first and second reflecting electrodes; A reflective liquid crystal display device including a color filter substrate bonded to the array panel and having a second substrate, a plurality of color filters formed on the second substrate, and a common electrode on the color filter, the common electrode facing the reflective electrode. 제 8 항에 있어서,     The method of claim 8, 상기 컬러필터기판에는 블랙매트릭스가 없는 반사형 액정표시장치     The color filter substrate is a reflection type liquid crystal display device without a black matrix 제 8 항에 있어서,     The method of claim 8, 상기 제 1 반사전극의 일측은 상기 제 1 데이터 배선과 중첩하며, 상기 제 1 반사전극의 일측과 마주대하는 상기 제 1 반사전극의 타측은 상기 제 2 데이터 배선과 이격되어 있는 반사형 액정표시장치.     One side of the first reflective electrode overlaps the first data line, and the other side of the first reflective electrode facing one side of the first reflective electrode is spaced apart from the second data line. 제 1 항에 있어서,     The method of claim 1, 상기 제 1 반사전극의 일측은 상기 제 1 데이터 배선과 중첩하며, 상기 제 1 반사전극의 일측과 마주대하는 상기 제 1 반사전극의 타측은 상기 제 2 데이터 배선과 이격되어 있는 반사형 액정표시장치용 어레이패널.     One side of the first reflective electrode overlaps the first data line, and the other side of the first reflective electrode facing one side of the first reflective electrode is spaced apart from the second data line. Array panel.
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