KR100802815B1 - Method for fabricating optical fiber preform with low OH concentration using MCVD process - Google Patents

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Abstract

본 발명은 MCVD 공정을 이용한 저 수산기 농도를 갖는 광섬유 모재의 제조방법 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 수정화학기상증착공정을 이용하여 석영 튜브의 내벽에 상대적으로 굴절률이 낮은 클래드층을 레이어 단위로 반복적으로 형성하는 공정과, 상기 클래드층 위에 상대적으로 굴절률이 높은 코어층을 레이어 단위로 반복적으로 형성하는 공정을 포함하는 광섬유 모재 제조방법에 있어서, 상기 코어층을 형성하는 공정은, (a) 상기 석영튜브를 회전시키면서 그 내부로 수트 형성가스와 탈수가스를 주입하는 한편, 수트의 생성 및 소결을 유발하는 제1 온도 분포 영역과 상기 제1 온도 분포 영역의 전방에서 퇴적된 수트층의 탈수반응을 유발하는 제2 온도 분포 영역을 연속적으로 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 상기 제1 온도 분포 영역에서 열산화 반응으로 생성된 수트가 열원의 전방에 수트층으로 퇴적됨과 동시에 제2 온도 분포 영역에서 탈수가스에 의해 탈수되고 열원의 이동에 따라 제1 온도 분포 영역의 통과에 의해 소결되도록 하는 단계;를 1회 또는 그 이상을 반복 수행하여 일부 코어층을 형성하는 제1 공정; 및 (b) 상기 석영튜브를 회전시키면서 그 내부로 수트 형성가스와 탈수가스를 주입하는 한편, 수트의 생성을 유발하는 제1 온도 분포 영역, 상기 제1 온도 분포 영역의 전방에 위치하고 퇴적된 수트층의 탈수반응을 1차 유발하는 제2 온도 분포 영역, 및 제2 온도 분포 영역에서 탈수된 수트층의 탈수반응을 2차 유발하는 제3 온도 분포 영역을 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 상기 제1 온도 분포 영역에서 열산화 반응 으로 생성된 수트가 열원의 전방에 수트층으로 퇴적됨과 동시에 열원 전방에 형성된 제2 온도 분포 영역에서 탈수가스에 의해 1차 탈수되고 제2 온도 분포 영역의 후방에 위치한 제3 온도 분포 영역의 통과에 의해 2차 탈수되도록 하는 단계; 및 2차 탈수된 수트층의 소결을 유발하는 온도 범위를 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 퇴적된 수트층을 소결하는 단계;를 1회 또는 그 이상을 반복 수행하여 나머지 코어층을 형성하는 제2 공정;을 포함하는 광섬유 모재의 제조방법이 개시된다. 이로써 1340nm 내지 1460nm 파장대의 손실이 광전송 시스템에서 사용되는 1385nm 파장대 광손실이 1310nm 파장대 보다 낮은 0.33dB/Km 이하의 광손실을 갖는 광섬유 모재를 제조할 수 있다.The present invention relates to a method for producing an optical fiber base material having a low hydroxyl concentration using an MCVD process. According to the present invention, a step of repeatedly forming a cladding layer having a relatively low refractive index on a inner wall of a quartz tube using a crystal chemical vapor deposition process, and a core layer having a relatively high refractive index on the clad layer, layer by layer In the optical fiber base material manufacturing method comprising the step of forming a repetitively, the step of forming the core layer, (a) while rotating the quartz tube injecting soot forming gas and dehydration gas therein, while A heat source continuously providing a first temperature distribution region causing generation and sintering and a second temperature distribution region causing dehydration reaction of the soot layer deposited in front of the first temperature distribution region in the process progress direction to The soot produced by the thermal oxidation reaction in the first temperature distribution region is deposited in the soot layer in front of the heat source and at the same time in the second temperature. Dewatering by dehydration gas in the distribution region and sintering by passage of the first temperature distribution region in accordance with movement of the heat source; repeating one or more times to form some core layers; And (b) injecting a soot forming gas and a dehydrating gas into the inside of the quartz tube while rotating the quartz tube, while the soot layer is located in front of the first temperature distribution region and is deposited therein. Transferring a heat source in a process progress direction to provide a second temperature distribution region for causing the dehydration reaction of the first and a third temperature distribution region for causing the dehydration reaction of the dehydrated soot layer in the second temperature distribution region; The soot produced by the thermal oxidation reaction in the first temperature distribution region is deposited as a soot layer in front of the heat source and is first dehydrated by dehydration gas in the second temperature distribution region formed in front of the heat source and is located behind the second temperature distribution region. Allowing secondary dehydration by passing through a located third temperature distribution zone; And sintering the deposited soot layer by transferring a heat source that provides a temperature range that induces sintering of the secondary dehydrated soot layer in the process progress direction to repeat the one or more times to form the remaining core layer. Disclosed is a method of manufacturing an optical fiber base material comprising a second step. As a result, an optical fiber base material having an optical loss of 0.33 dB / Km or less in which the loss in the wavelength band of 1340 nm to 1460 nm is used in the optical transmission system is lower than that in the 1310 nm wavelength band.

광섬유, 클래드, 코어, 수산기(OH) Fiber Optics, Clads, Cores, Hydroxyl (OH)

Description

ＭＣＶＤ 공정을 이용한 저 수산기 농도를 갖는 광섬유 모재의 제조방법{Method for fabricating optical fiber preform with low OH concentration using MCVD process}Method for fabricating optical fiber preform with low OH concentration using MCVD process

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.The following drawings attached to this specification are illustrative of preferred embodiments of the present invention, and together with the detailed description of the invention to serve to further understand the technical spirit of the present invention, the present invention is a matter described in such drawings It should not be construed as limited to

도 1은 종래 기술에 따른 수정화학기상증착공정(MCVD)으로 광섬유 모재를 제조하는 과정을 도시하는 도면.1 is a view showing a process of manufacturing an optical fiber base material by a crystal chemical vapor deposition process (MCVD) according to the prior art.

도 2는 도 1의 공정에 의해 제조된 광섬유 모재를 도시하는 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view showing an optical fiber base material manufactured by the process of FIG. 1. FIG.

도 3은 도 1의 공정에 의해 증착된 수트에 수산기(OH)가 흡착된 상태를 확대하여 도시하는 도면.3 is an enlarged view showing a state in which hydroxyl group (OH) is adsorbed on a soot deposited by the process of FIG. 1.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클래드층 형성 공정을 도시하는 도면.4 illustrates a cladding layer forming process according to a preferred embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광파워비가 낮은 코어층을 형성하는 공정을 도시하는 도면.5 is a view showing a process of forming a core layer having a low optical power ratio according to a preferred embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 열원이 제공하는 온도 분포 프로 파일의 일 예를 도시하는 도면.6 is a diagram showing an example of a temperature distribution profile provided by a heat source according to a preferred embodiment of the present invention.

도 7 및 도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광파워비가 높은 코어층의 형성 공정을 도시하는 도면.7 and 8 illustrate a process for forming a core layer having a high optical power ratio according to a preferred embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 석영 튜브 내벽에 클래드층과 코어층이 증착되어 있는 중공의 모재를 도시하는 도면.9 is a view showing a hollow base material on which a cladding layer and a core layer are deposited on an inner wall of a quartz tube according to a preferred embodiment of the present invention;

도 10은 광섬유 코어층의 파장에 따른 흡수 손실을 종래의 방법과 본 발명의 방법에 의해 각각 제조된 광섬유를 서로 비교하여 도시한 그래프.10 is a graph showing the absorption loss according to the wavelength of the optical fiber core layer in comparison with each other of optical fibers produced by the conventional method and the method of the present invention.

<도면 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10 : 석영 튜브 20 : 열원10: quartz tube 20: heat source

30 : 클래드층 40 : 광파워비가 낮은 코어층30: cladding layer 40: core layer with low optical power ratio

50 : 광파워비가 높은 코어층 60 : 제1 분포 영역50: core layer with high optical power ratio 60: first distribution region

70,70' : 제2 분포 영역70,70 ': second distribution area

본 발명은 광섬유 모재의 제조 방법에 대한 것으로서, 보다 상세하게는MCVD(Modified Chemical Vapor Deposition : MCVD) 공정을 이용하여 저 수산기 농도를 갖는 광섬유 모재를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing an optical fiber base material, and more particularly, to a method for manufacturing an optical fiber base material having a low hydroxyl concentration using an MCVD (Modified Chemical Vapor Deposition) process.

종래의 기상 증착 방식으로 광섬유 모재를 제조하는 대표적인 공정기술로는 수정화학기상증착(MCVD), 기상축증착(Vapor-phase Axial Deposition : VAD), 외부 기상증착(Qutside Vapor Deposition : OVD) 공법 등을 들 수 있다.Representative process technologies for manufacturing optical fiber base materials by conventional vapor deposition methods include crystal chemical vapor deposition (MCVD), vapor-phase Axial Deposition (VAD), and external vapor deposition (OVD). Can be mentioned.

그 중 MCVD 공법은 내부증착방식으로 실리카 튜브 내면에 클래드층을 형성한 후 그 내부에 코어층을 순차적으로 형성하여 광섬유 모재를 제조하는 방법이다.Among them, the MCVD method is a method of manufacturing an optical fiber base material by forming a cladding layer on an inner surface of a silica tube by internal deposition and then sequentially forming a core layer therein.

보다 구체적으로, 도 1을 참조하면, 종래 기술에 따른 MCVD 공정은 석영 튜브(1)를 선반의 주축대(미도시)에 거치시킨 후 일정한 속도로 회전시킨다. 그리고, 회전하는 석영 튜브(1) 내부에 SiCl4, GeCl4 등 할라이드(halide)계열의 수트 형성가스를 산소가스와 함께 유입시킨다. 동시에 산소/수소 토치(2) 등을 이용하여 석영 튜브(1)를 1600도 이상의 온도로 가열하면서 석영 튜브(1)의 축 방향을 따라 왕복 운동시켜준다. 그러면 토치(2)가 한번 왕복할 때마다 반응온도에 도달한 튜브(1)내 영역에서는 하기 반응식과 같은 열산화반응이 유발되어 유리미분체(3a)(fine glass particle, 이하 수트(soot)라고 한다)가 생성된다.More specifically, referring to FIG. 1, in the MCVD process according to the related art, the quartz tube 1 is mounted on a headstock (not shown) of a shelf and then rotated at a constant speed. Then, a halide-based soot forming gas such as SiCl 4 or GeCl 4 is introduced into the rotating quartz tube 1 together with oxygen gas. At the same time, the quartz tube 1 is heated to a temperature of 1600 degrees or more using an oxygen / hydrogen torch 2 or the like and reciprocated along the axial direction of the quartz tube 1. Then, each time the torch 2 reciprocates once, the area inside the tube 1 that reaches the reaction temperature causes a thermal oxidation reaction as shown in the following reaction formula and is referred to as fine glass particles (soot). Is generated).

SiCl4(g) + O2(g) → SiO2(s) + 2Cl2(g)SiCl 4 (g) + O 2 (g) → SiO 2 (s) + 2Cl 2 (g)

GeCl4(g) + O2(g) → GeO2(s) + 2Cl2(g)GeCl 4 (g) + O 2 (g) → GeO 2 (s) + 2Cl 2 (g)

상기 반응식 1에 따라서 생성된 수트입자(3a)들은 열영동 현상(thermophoresis)에 의해 상대적으로 온도가 낮은 석영 튜브(1) 내벽에 증착된다. 그리고 증착된 수트(3b)는 바로 이어서 접근하는 토치(2)의 화염에 의해 유리화 및 소결(sintering)되어 투명한 유리층(4)이 된다. 상기와 같은 과정이 계속적으로 반복되면 석영 튜브(1) 내벽 표면에는 복수의 클래드층과 그 위에 복수의 코 어층이 증착된다. 도 2는 상기와 같이 제조된 광섬유 모재의 단면을 도시한다. 도 2에서, 도면부호 5는 코어, 6은 클래드, 7은 튜브를 나타내고, 8은 코어의 직경을, 그리고 9는 클래드의 직경을 나타낸다.The soot particles 3a produced according to Scheme 1 are deposited on the inner wall of the quartz tube 1 having a relatively low temperature by thermophoresis. The deposited soot 3b is then vitrified and sintered by the flame of the torch 2 approaching immediately to become a transparent glass layer 4. When the above process is continuously repeated, a plurality of clad layers and a plurality of core layers are deposited on the inner surface of the quartz tube 1. Figure 2 shows a cross section of the optical fiber base material produced as above. In Fig. 2, reference numeral 5 denotes a core, 6 denotes a clad, 7 denotes a tube, 8 denotes a diameter of the core, and 9 denotes a diameter of the clad.

그런데 종래의 MCVD 공정에서는 복수의 클래드층과 코어층이 형성되는 과정에서 그 내부에 수산기(OH)가 불순물로 포함되는 문제가 발생한다. 왜냐하면 석영 튜브(1)로 유입되는 수트 형성가스에 미량의 수분이 불순물로 포함되어 수분이 석영 튜브(1) 증착층 표면에 흡착된 후 고온에서 증착층 내부로 확산되어 Si와 수산기(OH)의 결합이 생기기 때문이다.However, in the conventional MCVD process, a problem occurs in that hydroxyl (OH) is included as an impurity in the process of forming a plurality of clad layers and a core layer. Because a small amount of moisture is included as impurities in the soot forming gas flowing into the quartz tube 1, the moisture is adsorbed on the surface of the quartz tube 1 deposition layer, and then diffuses into the deposition layer at a high temperature so that the Si and hydroxyl groups (OH) This is because bonding occurs.

도 3은 종래의 MCVD 공정을 이용한 광섬유 모재 제조시 수트 증착층이 소결된 이후의 원자간 결합구조를 보여준다. 도 3을 참조하면 다량의 수산기(OH)가 Si와 결합되어 있는 것을 확인할 수 있다.FIG. 3 shows the interatomic bonding structure after the soot deposition layer is sintered when fabricating an optical fiber base material using a conventional MCVD process. Referring to Figure 3 it can be seen that a large amount of hydroxyl group (OH) is combined with Si.

상기한 바와 같이 종래 기술에 따른 MCVD 공정에서는 토치(2)에 의해 수트층(3b)의 증착과 소결이 일련의 과정으로 이루어지기 때문에 별도의 탈수공정을 진행하지 않는 이상 클래드층 또는 코어층에 불순물로 포함되는 수산기(OH)의 제거가 거의 불가능하다. 왜냐하면, MCVD 공정이 고온에서 진행된다고 하여도 수트층(3b)에 화학반응을 통하여 불순물로 포함된 수산기(OH)는 Si와 안정적으로 결합 되어 그대로 잔존하기 때문이다.As described above, in the MCVD process according to the prior art, since the deposition and sintering of the soot layer 3b are performed in a series of processes by the torch 2, impurities in the clad layer or the core layer are performed unless a separate dehydration process is performed. It is almost impossible to remove the hydroxyl group (OH) included. This is because even though the MCVD process proceeds at a high temperature, the hydroxyl group OH contained as impurities through the chemical reaction in the soot layer 3b remains as it is stably combined with Si.

한편, 광섬유의 가장 중요한 특성인 광손실은 광섬유 모재의 밀도차 및 조성차에 기인한 레일라이(Rayleigh) 산란 손실, 원자내 전자전이 에너지 흡수에 따른 자외선 흡수 손실, 격자 진동시 에너지 흡수에 따른 적외선 흡수 손실, 수산기(OH) 의 진동에 따른 수산기 흡수 손실 또는 거시적 구부러짐 손실로 구성된다.On the other hand, optical loss, the most important characteristic of optical fiber, is Rayleigh scattering loss due to density difference and composition difference of fiber base material, ultraviolet absorption loss due to absorption of electron transfer energy in atoms, infrared absorption due to energy absorption during lattice vibration Loss, hydroxyl absorption loss due to vibration of hydroxyl group (OH), or macroscopic bending loss.

광섬유를 통하여 신뢰성 있는 신호 전송을 보장하기 위해서는 광손실이 적어야 한다. 광섬유는 1280nm 이상 1620nm 이하 파장 대역에서 일정 수준 이하의 광손실을 가지므로, 현재 1310nm 및 1550nm의 두 파장대가 광통신 중심 파장대역으로 사용되고 있다. 그리고, 1385nm 파장대에서는 수산기(OH) 흡수에 의한 광손실이 다른 파장대에서보다 손실의 중요한 요인으로 여겨지고 있다.In order to guarantee reliable signal transmission through the optical fiber, the optical loss should be low. Since optical fibers have optical losses of a certain level in the wavelength band of 1280 nm or more and 1620 nm or less, two wavelength bands of 1310 nm and 1550 nm are currently used as the optical communication center wavelength band. In the 1385 nm wavelength band, optical loss due to hydroxyl (OH) absorption is considered to be an important factor of the loss than in other wavelength bands.

따라서, 1310nm 에서 1550nm 까지의 모든 파장 대역을 사용하기 위해서는, 광섬유 내의 수산기(OH)에 의한 1385nm 파장대의 평균적 광손실 값이 1310nm에서의 광손실 값(평균0.34.dB/Km) 보다 작은 값을 가져야만 한다. 게르마늄 산화물과 실리콘 산화물로 구성된 코어는 재료 자체의 밀도차와 조성차에 기인한 레일라이 산란 손실값이 약 0.28dB/Km 정도이므로, 수산기(OH)에 의해 야기되는 광손실이 적어도 0.06dB/Km 이하로 제어되어야 1310nm 내지 1550nm 파장대에서 광섬유를 사용할 수 있다. 이를 위해서는, 광섬유 내의 수산기(OH)의 농도가 1ppb 이하가 되도록 광섬유 모재의 제조공정이 제어되어야 한다. 하지만, 1㎛의 직경을 가진 입자 표면에 2개의 수산기(OH)만 존재하여도 수산기의 농도는 30ppm 정도에 이르고 이를 광손실로 환산하면 0.75dB/Km 나 된다. 이러한 사실은 종래기술에 따른 MCVD 공정에서는 광섬유 모재에 불순물로 함유되는 수산기(OH) 농도를 1ppb 이하로 제어하는 것이 매우 어렵다는 것을 시사한다.Therefore, in order to use all wavelength bands from 1310nm to 1550nm, the average optical loss value of 1385nm wavelength band by hydroxyl (OH) in the optical fiber should be smaller than the optical loss value (average 0.34.dB / Km) at 1310nm. Should be. The core composed of germanium oxide and silicon oxide has a Rayleigh scattering loss value of about 0.28 dB / Km due to the density difference and the composition difference of the material itself, so that the light loss caused by hydroxyl (OH) is at least 0.06 dB / Km or less. The optical fiber can be used in the wavelength range of 1310nm to 1550nm. For this purpose, the manufacturing process of the optical fiber base material should be controlled so that the concentration of hydroxyl (OH) in the optical fiber is 1 ppb or less. However, even if only two hydroxyl groups (OH) are present on the surface of the particle having a diameter of 1㎛, the concentration of the hydroxyl group is about 30ppm, which is 0.75dB / Km when converted into light loss. This suggests that in the MCVD process according to the prior art, it is very difficult to control the hydroxyl (OH) concentration contained as impurities in the optical fiber base material to 1 ppb or less.

수산기(OH)가 없는 (OH-free) 단일모드 광섬유는, 미국특허 US3,737,292, US3,823,995, US3,884,550 등에 게시된 외부기상증착공정(OVD)과 미국특허 US4,737,179, US6,131,415 등에 게시된 기상축증착공정(VAD)에 의해 제조가 가능하다고 알려져 있다.The OH-free (OH-free) single mode optical fiber is an external vapor deposition process (OVD) published in US Pat. Nos. 3,737,292, US 3,823,995, US 3,884,550, and US Pat. It is known that it can be manufactured by the published vapor deposition process (VAD).

하지만, 종래의 MCVD 공정은 OVD 공정이나 VAD 공정과는 달리 증착과 소결 과정이 동시에 진행되어, 수트가 형성됨과 동시에 수트들이 용융되면서 치밀화된다. 따라서 기존의 MCVD 공정으로 제조한 광섬유에서는 소결로 인해 치밀화된 유리층 내부의 Si-OH가 1385nm 대역에서 임계적인 수산기(OH) 흡수 손실을 야기한다. 이에 따라, MCVD 공정에 의해 제조된 광섬유 모재로부터 인선되는 광섬유는 사용할 수 있는 광통신 파장대역에 제한이 따르게 되는 것이다.However, in the conventional MCVD process, unlike the OVD process or the VAD process, the deposition and sintering processes are performed at the same time, so that the soot is formed and the soot is melted and densified. Therefore, in the optical fiber manufactured by the conventional MCVD process, the Si-OH inside the densified glass layer due to sintering causes critical hydroxyl (OH) absorption loss in the 1385 nm band. Accordingly, the optical fiber drawn from the optical fiber base material manufactured by the MCVD process is subject to restrictions on the optical communication wavelength band that can be used.

한편, 대한민국 특허등록 제2004-0002720호(이하, 720'호 특허로 약칭한다)는 MCVD 공정을 이용하여 코어층 내의 수산기(OH)가 제거된 광섬유 모재를 제조하는 방법을 개시한다. 이 방법은 크게 클래드층 형성단계와 코어층 형성단계를 포함한다.Meanwhile, Korean Patent Registration No. 2004-0002720 (hereinafter abbreviated as 720 ′ Patent) discloses a method of manufacturing an optical fiber base material from which hydroxyl group (OH) is removed from a core layer by using an MCVD process. This method largely includes a cladding layer forming step and a core layer forming step.

상기 클래드층 형성단계는 다시 클래드층의 증착단계 및 클래드층 소결단계로 이루어지고, 상기 코어층 형성단계는 베이스 코어층 퇴적단계, 베이스 코어층 탈수단계, 베이스 코어층 소결단계 및 상기 베이스 코어층 위에 적어도 하나 이상의 코어층을 추가적으로 형성하는 단계로 이루어진다. 그런데, 베이스 코어층 형성시 수트 입자형성 및 퇴적, 탈수, 및 소결 과정이 서로 다른 온도조건을 필요로 하므로, 상기와 같이 코어층을 형성하면 여러 번의 열원 이송이 필요하며, 그 결과 생산성이 기존에 비해 감소하게 된다.The cladding layer forming step is made of the cladding layer deposition step and the cladding layer sintering step, and the core layer forming step is the base core layer deposition step, the base core layer dehydration step, the base core layer sintering step and the base core layer Additionally forming at least one core layer. However, since the soot particle formation, deposition, dehydration, and sintering process require different temperature conditions when forming the base core layer, the formation of the core layer as described above requires several heat source transfers, resulting in productivity. Will be reduced.

따라서, 상기 720'호 특허와 같은 방법으로 광섬유 모재를 제조하면, 모재 크기의 대형화 및 생산성 향상이 절실히 요구되는 현 시점에서 제조 효율과 생산성을 현저히 떨어뜨리는 문제가 있다.Therefore, when the optical fiber base material is manufactured by the same method as the 720 'patent, there is a problem that the production efficiency and productivity are significantly reduced at the present time when the size of the base material and the productivity improvement are urgently required.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 높은 생산성을 유지하면서 코어층 내부에 잔존하는 수산기를 효과적으로 제거할 수 있는 광섬유 모재의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical fiber base material that can effectively remove the hydroxyl groups remaining in the core layer while maintaining high productivity.

본 발명의 다른 목적은 수산기(OH)가 제거된 광섬유 모재를 이용하여 1385nm의 흡수 손실이 충분히 낮아 1100nm 내지 1700nm 파장 대역 모두에서 광통신을 수행할 수 있는 광섬유의 제조 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide an optical fiber manufacturing method capable of performing optical communication in all wavelength bands of 1100 nm to 1700 nm with a low absorption loss of 1385 nm using an optical fiber base material from which hydroxyl group (OH) is removed.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 MCVD 공정을 이용한 저 수산기 농도를 갖는 광섬유 모재의 제조방법은, 수정화학기상증착공정을 이용하여 석영 튜브의 내벽에 상대적으로 굴절률이 낮은 클래드층을 레이어 단위로 반복적으로 형성하는 공정과, 상기 클래드층 위에 상대적으로 굴절률이 높은 코어층을 레이어 단위로 반복적으로 형성하는 공정을 포함하는 광섬유 모재 제조방법에 있어서, 상기 코어층을 형성하는 공정은, (a) 상기 석영튜브를 회전시키면서 그 내부로 수트 형성가스와 탈수가스를 주입하는 한편, 수트의 생성 및 소결을 유발하는 제1 온도 분포 영역과 상기 제1 온도 분포 영역의 전방에서 퇴적된 수트층의 탈수반응을 유발하는 제2 온도 분포 영역을 연속적으로 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 상기 제1 온도 분포 영역에서 열산화 반응으로 생성된 수트가 열원의 전방 에서 수트층으로 퇴적됨과 동시에 제2 온도 분포 영역에서 탈수가스에 의해 탈수되고 열원의 이동에 따라 제1 온도 분포 영역의 통과에 의해 소결되도록 하는 단계;를 1회 또는 그 이상을 반복 수행하여 일부 코어층을 형성하는 제1 공정; 및 (b) 상기 석영튜브를 회전시키면서 그 내부로 수트 형성가스와 탈수가스를 주입하는 한편, 수트의 생성을 유발하는 제1 온도 분포 영역, 상기 제1 온도 분포 영역의 전방에 위치하고 퇴적된 수트층의 탈수반응을 1차 유발하는 제2 온도 분포 영역, 및 제2 온도 분포 영역에서 탈수된 수트층의 탈수반응을 2차 유발하는 제3 온도 분포 영역을 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 상기 제1 온도 분포 영역에서 열산화 반응으로 생성된 수트가 열원의 전방에서 수트층으로 퇴적됨과 동시에 열원 전방에 형성된 제2 온도 분포 영역에서 탈수가스에 의해 1차 탈수되고 제2 온도 분포 영역의 후방에 위치한 제3 온도 분포 영역의 통과에 의해 2차 탈수되도록 하는 단계; 및 2차 탈수된 수트층의 소결을 유발하는 온도 범위를 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 퇴적된 수트층을 소결하는 단계;를 1회 또는 그 이상을 반복 수행하여 나머지 코어층을 형성하는 제2 공정;을 포함한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing an optical fiber base material having a low hydroxyl concentration using an MCVD process according to the present invention includes a layer of a cladding layer having a relatively low refractive index on an inner wall of a quartz tube using a crystal chemical vapor deposition process. In the optical fiber base material manufacturing method comprising the step of repeatedly forming in units, and the step of repeatedly forming a core layer having a relatively high refractive index on the clad layer in units of layers, the step of forming the core layer, (a Injecting soot forming gas and dehydration gas into the quartz tube while rotating the quartz tube, while dewatering the first temperature distribution region and the soot layer deposited in front of the first temperature distribution region causing generation and sintering of the soot. The first source by transferring a heat source continuously providing a second temperature distribution region for causing a reaction in the process progress direction The soot produced by the thermal oxidation reaction in the degree distribution region is deposited into the soot layer in front of the heat source and simultaneously dehydrated by dehydration gas in the second temperature distribution region and sintered by passage of the first temperature distribution region as the heat source moves. Repeating one or more times to form some core layers; And (b) injecting a soot forming gas and a dehydrating gas into the inside of the quartz tube while rotating the quartz tube, while the soot layer is located in front of the first temperature distribution region and is deposited therein. Transferring a heat source in a process progress direction to provide a second temperature distribution region for causing the dehydration reaction of the first and a third temperature distribution region for causing the dehydration reaction of the dehydrated soot layer in the second temperature distribution region; The soot produced by the thermal oxidation reaction in the first temperature distribution region is first deposited in the second temperature distribution region formed in front of the heat source and dehydrated by dehydration gas at the same time as the soot layer is deposited in front of the heat source. Allowing secondary dehydration by passing through a located third temperature distribution zone; And sintering the deposited soot layer by transferring a heat source that provides a temperature range that induces sintering of the secondary dehydrated soot layer in the process progress direction to repeat the one or more times to form the remaining core layer. And a second step.

바람직하게, 상기 제1 공정은, 광섬유 코어 중심의 최대 광파워 대비 광파워 비율이 90％ 미만인 영역에 대해서 실행한다.Preferably, the first step is performed in a region where the optical power ratio to the maximum optical power at the center of the optical fiber core is less than 90%.

바람직하게, 상기 제2 공정은, 광섬유 코어 중심의 최대 광파워 대비 광파워 비율이 30％ 이상인 영역에 대해서 실행한다.Preferably, the second step is performed in a region where the optical power ratio to the maximum optical power at the center of the optical fiber core is 30% or more.

바람직하게, 상기 제1 공정에서, 제1 온도 분포 영역은 1700도 이상이고, 제2 온도 분포 영역은 700도 내지 1200도이다.Preferably, in the first process, the first temperature distribution region is 1700 degrees or more, and the second temperature distribution region is 700 degrees to 1200 degrees.

바람직하게, 상기 제2 공정의 퇴적/탈수공정에서, 제1 온도 분포 영역은 1200도 내지 1500도이고, 제2 및 제3 온도 분포 영역은 700도 내지 1200도이다.Preferably, in the deposition / dehydration process of the second process, the first temperature distribution region is 1200 degrees to 1500 degrees, and the second and third temperature distribution regions are 700 degrees to 1200 degrees.

바람직하게, 상기 제2 공정의 소결공정에서, 상기 석영 튜브 내의 온도는 1700도 이상이다.Preferably, in the sintering process of the second process, the temperature in the quartz tube is 1700 degrees or more.

한편, 상기 탈수가스는 염소(Cl2) 또는 불소(F2) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함한다.On the other hand, the dehydration comprises at least one of chlorine (Cl 2 ) or fluorine (F 2 ).

또한, 상기 열원의 이동속도는 500mm/min 이하이다.In addition, the moving speed of the heat source is 500 mm / min or less.

그리고, 상기 석영 튜브의 회전속도는 20rpm 내지 100rpm이다.In addition, the rotation speed of the quartz tube is 20rpm to 100rpm.

본 발명에 따르면, 상기 광섬유 모재를 응축하여 모재봉을 형성하는 단계; 및 상기 모재봉으로부터 광섬유를 인선하는 단계;를 더 진행할 수 있다.According to the present invention, condensing the optical fiber base material to form a base rod; And pulling the optical fiber from the base rod.

이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms or words used in the specification and claims should not be construed as having a conventional or dictionary meaning, and the inventors should properly explain the concept of terms in order to best explain their own invention. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention. Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.

본 발명에 따른 광섬유 모재의 제조방법은 크게 클래드층 형성단계와 코어층 형성단계로 이루어진다.The manufacturing method of the optical fiber base material according to the present invention comprises a cladding layer forming step and a core layer forming step.

상기 클래드층 형성단계는 클래드층의 증착 및 소결이 동시에 일어나는 공정으로 이루어지고, 상기 코어층 형성단계는 광파워비에 따라서 광파워비가 낮은 코어층을 형성하는 공정과 광파워비가 높은 코어층을 형성하는 공정으로 이루어진다.The cladding layer forming step includes a process in which the cladding layer is deposited and sintered simultaneously, and the core layer forming step includes forming a core layer having a low optical power ratio and a core layer having a high optical power ratio according to the optical power ratio. It is made by the process.

광파워비가 낮은 코어층을 형성하는 공정은 수트층의 증착/부분탈수/소결의 과정이 한 번의 열원 이송에 의해 이루어지고, 광파워비가 높은 코어층을 형성하는 공정은 수트증착 및 탈수가 동시에 일어나는 수트퇴적/탈수 공정과 코어층의 소결 공정을 상호 분리하여 2번의 열원 이송에 의해 이루어진다.The process of forming the core layer with low optical power ratio is performed by one heat source transfer of the deposition / partial dehydration / sintering of the soot layer, and the process of forming the core layer with high optical power ratio is performed by soot deposition and dehydration at the same time. The soot deposition / dewatering process and the core layer sintering process are separated by two heat source transfers.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 클래드층 형성 공정을 도시하는 도면이다.4 is a diagram illustrating a cladding layer forming process according to a preferred embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 수산기(OH)의 농도가 0.5ppm 미만의 석영 튜브(10)를 회전시키면서 튜브(10) 내부로 수트 형성가스(SiCl4, GeCl4)와 산소가스의 혼합가스를 불어 넣으면서 열원(20)을 이용하여 석영 튜브(10) 내의 온도를 1600도 이상으로 가열한다.Referring to the drawing, while rotating the quartz tube 10 having a concentration of hydroxyl (OH) of less than 0.5 ppm, the heat source is blown into the tube 10 by blowing a mixed gas of soot forming gas (SiCl 4 , GeCl 4 ) and oxygen gas. The temperature in the quartz tube 10 is heated to 1600 degrees or more using (20).

도 4의 화살표 방향으로 유입된 수트 형성가스는 석영 튜브(10)의 표면으로부터 전도된 열에 의해 산화 반응하여 수트(30a)를 생성하고, 이 수트(30a)는 튜브 내에서 상대적으로 저온 영역인 열원(20)의 전방으로 이동하여 열영동 현상에 의해 튜브(10)의 내벽에 퇴적되어 퇴적층(30b)을 형성한다.The soot forming gas introduced in the direction of the arrow in FIG. 4 is oxidized by heat conducted from the surface of the quartz tube 10 to generate a soot 30a, which is a heat source that is a relatively low temperature region in the tube. It moves to the front of 20 and is deposited on the inner wall of the tube 10 by the thermophoretic phenomenon to form the deposition layer 30b.

상기 석영 튜브(10)의 내벽에 적어도 한 층 이상 퇴적된 클래드 수트 입자(30a)는 도면에 도시된 바와 같이, 곧이어 접근하는 열원(20)에 의해 소결 및 유리화되어 소결층(30c)이 된다.As shown in the drawing, the clad soot particles 30a deposited on at least one layer on the inner wall of the quartz tube 10 are sintered and vitrified by a heat source 20 which is immediately approached to form a sintered layer 30c.

이와 같은 수트퇴적/소결 공정을 수행하면 한 층의 클래드층(30)이 형성된다. 이러한, 상기 수트퇴적 및 소결 공정은 클래드층(30)이 원하는 두께가 될 때까지 지속적으로 반복한다.When the soot deposition / sintering process is performed, a clad layer 30 of one layer is formed. This soot deposition and sintering process is repeated continuously until the cladding layer 30 has a desired thickness.

이때, 상기 석영 튜브(10)의 회전속도는 20rpm 내지 100rpm인 것이 바람직하다. 만약, 상기 석영 튜브(10)의 회전속도가 20rpm 이하이면 수트가 균일한 두께로 퇴적되지 않고, 100rpm 이상이면 수트의 퇴적이 저하되는 현상이 발생한다.At this time, the rotation speed of the quartz tube 10 is preferably 20rpm to 100rpm. If the quartz tube 10 has a rotation speed of 20 rpm or less, the soot is not deposited with a uniform thickness, and if it is 100 rpm or more, the soot deposition may occur.

또한, 상기 열원(20)은 500mm/min 이하의 이송속도로 석영 튜브(10)의 길이방향을 따라 움직이는 것이 바람직하다. 이는 열원(20)의 이송속도가 500mm/min 이상이 되면, 튜브 내벽에 증착되어 있는 입자들의 유리화가 불규칙하게 진행되어 증착된 면에 왜곡이 발생한다. In addition, the heat source 20 is preferably moved along the longitudinal direction of the quartz tube 10 at a feed rate of 500mm / min or less. This is when the feed rate of the heat source 20 is 500mm / min or more, the vitrification of the particles deposited on the inner wall of the tube irregularly proceeds and distortion occurs on the deposited surface.

도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광파워비가 낮은 코어층을 형성하는 공정을 도시하는 도면이다.5 is a view showing a process of forming a core layer having a low optical power ratio according to a preferred embodiment of the present invention.

도면을 참조하면, 클래드층(30)이 소정의 두께로 형성되어 있는 석영 튜브(10)의 내부에 수트 형성가스와 염소 등의 탈수 반응가스를 함께 불어 넣으면서 화살표 방향으로 이송되는 열원(20)을 이용하여 석영 튜브(10)를 가열한다.Referring to the drawings, the heat source 20 is transferred in the direction of the arrow while blowing the soot forming gas and the dehydration reaction gas such as chlorine into the inside of the quartz tube 10 having the cladding layer 30 having a predetermined thickness. To heat the quartz tube 10.

상기 열원(20)은 500㎜/min 이하의 이송속도로 석영 튜브(10)의 길이방향을 따라 움직이는 것이 바람직하다. 만약, 열원(20)의 이송속도가 500㎜/min 이상이 되면, 튜브(10) 내부로 주입된 산소가스와 수트 형성가스가 충분하게 반응을 하지 못하므로 수트 입자가 충분하게 생성되지 않는다.The heat source 20 is preferably moved along the longitudinal direction of the quartz tube 10 at a feed rate of 500mm / min or less. If the feed rate of the heat source 20 is 500 mm / min or more, the oxygen gas and the soot forming gas injected into the tube 10 do not react sufficiently, so that the soot particles are not sufficiently produced.

상기 석영 튜브(10)의 회전속도는 20rpm 내지 100rpm인 것이 바람직하다. 만약, 석영 튜브(10)의 회전속도가 20rpm 이하이면 균일한 두께로 수트 입자(40a)의 퇴적이 이루어지지 않고, 100rpm 이상이면 수트 입자(40a)의 퇴적이 저하되는 현상이 발생한다.The rotational speed of the quartz tube 10 is preferably 20rpm to 100rpm. If the rotational speed of the quartz tube 10 is 20 rpm or less, the soot particles 40a are not deposited with a uniform thickness. If the quartz tube 10 is 100 rpm or more, deposition of the soot particles 40a may occur.

상기 수트 형성가스는 SiCl4(g) 및 GeCl4(g)를 포함하며, 코어층의 광파워비에 따른 굴절율을 감안하여 각 반응가스의 분압비는 적절하게 조절된다. 상기 탈수 반응가스는 염소(Cl2) 또는 불소(F2) 중 어느 하나를 포함한다.The soot forming gas includes SiCl 4 (g) and GeCl 4 (g), and the partial pressure ratio of each reaction gas is appropriately adjusted in consideration of the refractive index according to the optical power ratio of the core layer. The dehydration reaction gas contains any one of chlorine (Cl 2 ) or fluorine (F 2 ).

상기 열원(20)은 석영 튜브(10) 내에 수트의 생성 및 소결을 유발하는 제1 온도 분포 영역(60)과, 열원(20)의 직 전방에 퇴적된 수트 내의 수산기(OH) 제거를 위한 탈수 반응을 유발하는 제2 온도 분포 영역(70)을 제공한다. 상기 제1 온도 분포 영역(60)은 수트의 생성 및 소결 조건을 제공하여야 한다는 점을 감안하여 전체적으로 1700도 이상인 온도 분포 영역을 가진다. 그리고, 상기 제2 온도 분포 영역(70)은 퇴적된 수트층의 탈수반응이 활발하게 이루어지는 온도 구간인 700도 내지 1200도인 것이 바람직하다.The heat source 20 is a first temperature distribution region 60 which causes the generation and sintering of the soot in the quartz tube 10 and dehydration for removal of hydroxyl groups (OH) in the soot deposited directly in front of the heat source 20. A second temperature distribution zone 70 is provided which causes a reaction. The first temperature distribution region 60 has a temperature distribution region of 1700 degrees or more in view of the fact that the conditions for generating and sintering the soot should be provided. In addition, the second temperature distribution region 70 is preferably 700 to 1200 degrees, which is a temperature section in which the dehydration reaction of the deposited soot layer is actively performed.

도 6은 열원(20)이 제공하는 온도 분포 프로파일의 일 예를 도시하고 있다. 도면을 참조하면, 열원(20)의 좌측 단부를 기준으로 우측과 좌측에 각각 수트의 생성 및 소결을 유발하는 제1 온도 분포 영역(60)과 퇴적된 수트의 탈수반응을 유발 하는 제2 온도 분포 영역(70)이 실질적으로 연속적으로 존재한다. 그리고, 제1 온도 분포 영역(60)은 1200도 이상이되, 소정 구간에서 1700도 이상인 온도 분포를 가진다.6 shows an example of a temperature distribution profile provided by the heat source 20. Referring to the drawings, the first temperature distribution region 60 causing the generation and sintering of the soot and the second temperature distribution causing the dehydration reaction of the deposited soot, respectively, on the right and left sides based on the left end of the heat source 20. Region 70 is substantially continuous. In addition, the first temperature distribution region 60 has a temperature distribution of 1,200 degrees or more, at least 1,200 degrees in a predetermined section.

상기 열원은 산소/수소 버너, 플라즈마 토치 또는 전기 가열로 중 어느 하나로 구성할 수 있다. 그리고, 제1 및 제2 온도 분포영역(60 및 70)을 제공하기 위해 산소/수소 버너와 플라즈마 토치의 경우 버너와 토치를 다중으로 배치할 수 있고, 전기 가열로의 경우 핫존을 제공하는 저항체를 가열로의 하우징에 복수개 배치할 수 있다.The heat source may be configured by any one of an oxygen / hydrogen burner, a plasma torch or an electric heating furnace. In addition, in order to provide the first and second temperature distribution regions 60 and 70, the burner and the torch may be disposed in the case of an oxygen / hydrogen burner and a plasma torch, and in the case of an electric furnace, a resistor that provides a hot zone may be provided. It can arrange | position a plurality in the housing of a heating furnace.

그러면, 상술한 구성에 의해 광파워비가 낮은 코어층(40)을 형성하는 과정을 상세하게 설명한다.Next, the process of forming the core layer 40 having a low optical power ratio by the above-described configuration will be described in detail.

도 5의 화살표 방향으로 수트 형성가스가 유입되면, 열원(20)이 제공하는 제1 온도 분포 영역(60)에서 수트 형성가스의 열산화 반응에 의해 미분상의 수트(40a)가 생성된다. 이렇게 생성된 수트(40a)는 열영동 현상에 의해 상대적으로 저온 영역인 열원(20)의 전방으로 이동하여 클래드층(30)에 퇴적되어 수트 퇴적층(40b)을 형성한다.When the soot forming gas flows in the direction of the arrow of FIG. 5, the finely divided soot 40a is generated by the thermal oxidation reaction of the soot forming gas in the first temperature distribution region 60 provided by the heat source 20. The soot 40a generated in this way is moved to the front of the heat source 20, which is a relatively low temperature region by thermophoresis, and is deposited on the clad layer 30 to form the soot deposition layer 40b.

한편, 영원(20) 전방의 제2 온도 분포 영역(60)에 퇴적된 수트 퇴적층(40b)에 서는 수트 형성가스와 함께 투입된 탈수가스에 의해 탈수반응이 유발되어 수트 퇴적층(40b)으로부터 수산기(OH)가 제거된다. 그런데, 열원(20)이 좌측으로 이송되고 있으므로, 탈수반응이 유발되는 시간이 짧다. 따라서, 제2 온도 분포 영역(60)에서 이루어지는 수트 퇴적층(40b)의 탈수는 부분적으로 이루어진다. 탈수가스로 Cl₂가 사용된 경우, 상기 탈수 반응은 다음 반응식 2와 같다.On the other hand, in the soot sedimentation layer 40b deposited in the second temperature distribution region 60 in front of the eternity 20, dehydration reaction is caused by the dehydration gas introduced together with the soot forming gas, and the hydroxyl group (OH) from the soot sedimentation layer 40b. ) Is removed. By the way, since the heat source 20 is transferred to the left side, the time for dehydration reaction is shortened. Therefore, the dehydration of the soot deposition layer 40b in the second temperature distribution region 60 takes place partially. When Cl2 is used as the dehydration gas, the dehydration reaction is shown in Scheme 2 below.

4Si-OH + 2Cl2 ↔ 2Si-O-Si + 4HCl + O2 4Si-OH + 2Cl 2 ↔ 2Si-O-Si + 4HCl + O 2

2H2O + 2Cl2 ↔ 4HCl + O2 2H 2 O + 2Cl 2 ↔ 4HCl + O 2

탈수반응에 의해 부분 탈수된 수트 퇴적층(40b)은 열원(20)의 이동에 따라 제1 온도 분포 영역으로 진입한다. 제1 온도 분포 영역은 1200도 이상이되, 수트 퇴적층(40b)의 소결 및 유리화를 유발하는 온도 구간(도 6 참조)을 포함하고 있다. 따라서, 제1 온도 분포 영역(60)에 진입된 수트 퇴적층(40b)의 상부에서는 수트 생성 반응이 유발됨과 동시에, 수트 퇴적층(40b) 자체에 대해서는 소결 및 유리화가 이루어지게 된다.The soot deposition layer 40b partially dehydrated by the dehydration reaction enters the first temperature distribution region as the heat source 20 moves. The first temperature distribution region is 1200 degrees or more, and includes a temperature section (see FIG. 6) that causes sintering and vitrification of the soot deposition layer 40b. Accordingly, a soot generation reaction is induced at the top of the soot deposition layer 40b entering the first temperature distribution region 60, and at the same time, sintering and vitrification are performed on the soot deposition layer 40b itself.

위와 같이 열원(20)이 우측에서 좌측으로 이송됨에 따라 수트의 생성 및 퇴적, 퇴적된 수트층의 부분 탈수 및 수트층의 소결에 의한 유리화가 연속적으로 이루어지면 석영 튜브(10) 내벽에 광파워비가 낮은 소정 두께의 코어층(40)이 형성된다. 이러한 코어층의 형성과정은 광파워비가 낮은 코어층(40)의 두께가 소망하는 두께가 될 때까지 반복적으로 이루어진다. 바람직하게, 낮은 광파워비의 코어층(40)을 형성하는 공정은 광섬유 코어 중심의 최대 광파워 대비 광파워 비율이 90％ 미만인 영역에 대해, 보다 바람직하게 70％ 미만인 영역에 대해 실행한다.As the heat source 20 is transferred from the right side to the left side as described above, when the generation and deposition of soot, partial dehydration of the deposited soot layer, and vitrification by sintering of the soot layer are continuously performed, an optical power ratio is formed on the inner wall of the quartz tube 10. A low predetermined thickness core layer 40 is formed. The formation of such a core layer is repeated until the thickness of the core layer 40 having a low optical power ratio becomes a desired thickness. Preferably, the process of forming the low optical power core layer 40 is performed for a region where the optical power ratio to the maximum optical power at the center of the optical fiber core is less than 90%, more preferably for the region less than 70%.

도 7 및 도 8은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광파워비가 높은 코어층의 형성 공정을 도시하는 도면이다.7 and 8 illustrate a process of forming a core layer having a high optical power ratio according to a preferred embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 석영 튜브(10)의 내벽에 광파워비가 낮은 코어층(40)이 형성된 상태에서 일정한 속도로 회전하는 석영 튜브(10)의 내부로 수트 형성가스와 염소 등의 탈수 반응가스를 함께 불어 넣으면서 화살표 방향으로 이송되는 열원(20)을 이용하여 석영 튜브(10)를 가열한다.Referring to FIG. 7, a soot forming gas and a dehydration reaction gas such as chlorine are introduced into the quartz tube 10 rotating at a constant speed in a state in which a core layer 40 having a low optical power ratio is formed on an inner wall of the quartz tube 10. Blowing together to heat the quartz tube 10 using the heat source 20 is transferred in the direction of the arrow.

상기 수트 형성가스와 탈수 반응가스의 종류는 광파워비가 낮은 코어층(도 5의 40 참조)을 형성할 때와 실질적으로 동일하다. 다만, 수트 형성가스인 SiCl4(g)와 GeCl4(g)의 분압비는 형성하고자 하는 코어층의 광파워비에 상응하는 굴절율에 따라 적절하게 조절된다.The types of the soot forming gas and the dehydration reaction gas are substantially the same as when forming the core layer (see 40 of FIG. 5) having a low optical power ratio. However, the partial pressure ratio of SiCl 4 (g) and GeCl 4 (g), the soot forming gas, is appropriately adjusted according to the refractive index corresponding to the optical power ratio of the core layer to be formed.

아울러, 상기 석영 튜브(10)의 회전속도와 열원(20)의 이송속도는 광파워비가 낮은 코어층(도 5의 40 참조)을 형성할 때와 실질적으로 동일하다.In addition, the rotational speed of the quartz tube 10 and the transfer speed of the heat source 20 are substantially the same as when forming a core layer (see 40 of FIG. 5) having a low optical power ratio.

상기 열원(20)은 수트 형성가스의 열산화 반응에 의해 수트 생성을 유발하는 제1 온도 분포 영역(60), 열원(20)의 직 전방에서 퇴적된 수트층의 탈수반응을 유발하는 제2 온도 분포 영역(70) 및 제1 온도 분포 영역(60)의 후방에 위치하여 퇴적된 수트층의 탈수반응을 다시 한번 유발하는 제3 온도 분포 영역(70')을 제공한다.The heat source 20 is a first temperature distribution region 60 that causes soot formation by thermal oxidation of the soot forming gas, and a second temperature that causes dehydration of the soot layer deposited directly in front of the heat source 20. Located behind the distribution area 70 and the first temperature distribution area 60, a third temperature distribution area 70 'is provided which once again induces a dehydration reaction of the deposited soot layer.

바람직하게, 상기 제1 온도 분포 영역(60)은 수트 생성을 위한 열산화 반응이 활발하게 이루어지는 온도 구간인 1200도 내지 1500도이고, 제2 및 제3 온도 분포 영역(70, 70')은 퇴적된 수트층의 탈수반응이 활발하게 이루어지는 온도 구간인 700도 내지 1200도이다.Preferably, the first temperature distribution region 60 is 1200 to 1500 degrees, which is a temperature section in which a thermal oxidation reaction for generating soot is actively performed, and the second and third temperature distribution regions 70 and 70 'are deposited. 700 to 1200 degrees, which is a temperature range in which the dehydration reaction of the soot layer is actively performed.

상기 열원은 산소/수소 버너, 플라즈마 토치 또는 전기 가열로 중 어느 하나로 구성할 수 있다. 그리고, 제1 온도 분포영역(60)과 제2 및 제3 온도 분포영역(70 및 70')을 제공하기 위해 산소/수소 버너와 플라즈마 토치의 경우 버너와 토치를 다중으로 배치할 수 있고, 전기 가열로의 경우 핫존을 제공하는 저항체를 가열로의 하우징에 복수개 배치할 수 있다.The heat source may be configured by any one of an oxygen / hydrogen burner, a plasma torch or an electric heating furnace. In addition, in order to provide the first temperature distribution region 60 and the second and third temperature distribution regions 70 and 70 ', the burners and the torch may be disposed in multiple cases in the case of the oxygen / hydrogen burner and the plasma torch. In the case of a furnace, a plurality of resistors providing a hot zone may be arranged in a housing of the furnace.

그러면, 상술한 바를 기초로 하여 광파워비가 높은 코어층(50)의 형성을 위한 공정을 구체적으로 설명하기로 한다.Next, a process for forming the core layer 50 having a high optical power ratio will be described in detail based on the above description.

석영 튜브(10) 내부로 수트 형성가스와 탈수가스를 함께 투입하면, 열원(20)이 제공하는 제1 온도 분포 영역(60)에서 수트 형성가스의 열산화 반응이 유발되어 수트(50a)가 생성된다. 이렇게 생성된 수트(50a)는 열영동 현상에 의해 상대적으로 저온 영역인 열원(20)의 전방으로 이동하여 광파워비가 낮은 코어층(40) 위에 퇴적되어 수트 퇴적층(50b)을 형성한다.When the soot forming gas and the dehydrating gas are introduced together into the quartz tube 10, a thermal oxidation reaction of the soot forming gas is induced in the first temperature distribution region 60 provided by the heat source 20 to generate the soot 50a. do. The soot 50a generated in this way is moved to the front of the heat source 20 which is a relatively low temperature region by the thermophoretic phenomenon and is deposited on the core layer 40 having a low optical power ratio to form the soot deposition layer 50b.

한편, 열영동 현상에 의해 퇴적된 수트층(50b) 중 제2 온도 분포 영역(70)에 위치하는 수트층에서는 수트 형성가스와 함께 투입된 탈수가스에 의해 탈수반응이 유발된다. 따라서, 수트층으로부터 수분과 수산기(OH)가 1차로 제거된다.On the other hand, in the soot layer located in the second temperature distribution region 70 of the soot layer 50b deposited by the thermophoretic phenomenon, the dehydration reaction is caused by the dehydration gas introduced together with the soot forming gas. Thus, water and hydroxyl groups (OH) are primarily removed from the soot layer.

나아가, 열원(20)이 우측에서 좌측으로 이송됨에 따라 제2 온도 분포 영역(70)에서 수분과 수산기(OH)가 1차 제거된 수트층은 제1 온도 분포 영역(60)을 통과하여 제3 온도 분포 영역(70')으로 진입한다.Furthermore, as the heat source 20 is transferred from the right side to the left side, the soot layer in which the moisture and the hydroxyl group (OH) are first removed from the second temperature distribution region 70 passes through the first temperature distribution region 60 to form a third layer. Enter temperature distribution region 70 '.

상기 제3 온도 분포 영역(70')은 탈수가스에 의한 탈수반응이 활발하게 유발될 수 있는 온도 범위를 가지고 있으므로, 제3 온도 분포 영역(70')에 진입한 수트 층에서는 탈수반응이 다시 유발되어 수트층으로부터 수분과 수산기(OH)가 2차로 제거된다.Since the third temperature distribution region 70 'has a temperature range in which dehydration reaction by dehydration gas can be actively induced, the dehydration reaction is caused again in the soot layer entering the third temperature distribution region 70'. Thus, water and hydroxyl groups (OH) are secondarily removed from the soot layer.

위와 같이, 열영동 현상에 의해 열원(20)의 전방에 퇴적된 수트층은 열원(20)의 이송에 따라 제2 온도 분포 영역(70)과 제3 온도 분포 영역(70')을 통과하면서 2번에 걸쳐 탈수가 이루어진다. 따라서, 광섬유에 있어 광도파가 주로 이루어지는 광파워비가 높은 코어층에 수산기의 농도를 현저히 저감시킴으로써 수산기에 의해 야기되는 종래의 흡수손실 문제를 해결할 수 있게 되는 것이다.As described above, the soot layer deposited in front of the heat source 20 by the thermophoretic phenomenon passes through the second temperature distribution region 70 and the third temperature distribution region 70 'according to the transfer of the heat source 20. Dehydration takes place several times. Therefore, by reducing the concentration of hydroxyl groups in the core layer having a high optical power ratio mainly composed of optical waveguides in the optical fiber, it is possible to solve the conventional absorption loss problem caused by the hydroxyl groups.

상기한 바에 따라 수트층의 증착 및 탈수가 진행되고 나면, 열원(20)의 위치를 복귀시킨 후 수트층의 소결에 의한 유리화 과정을 진행한다.After the deposition and dehydration of the soot layer proceeds as described above, the position of the heat source 20 is returned and the vitrification process by sintering the soot layer is performed.

도 8을 참조하면, 열원(20)을 공정 시작 지점으로 복귀시킨 후, 열원(20)으로 석영 튜브(10)를 가열하여 그 내부의 온도가 1600도, 보다 바람직하게는 1700도 이상이 되도록 하면서 일정한 속도로 좌측으로 이송시킨다.Referring to FIG. 8, after returning the heat source 20 to the starting point of the process, the quartz tube 10 is heated with the heat source 20 such that the temperature therein becomes 1600 degrees, more preferably 1700 degrees or more. Feed to the left at a constant speed.

이때, 석영 튜브(10) 내부를 산화 분위기로 만들어 주기 위해, 산소가스를 캐리어 가스와 함께 불어넣는다. 아울러, 수트층(50b)에 잔존하는 수분과 수산기(OH)를 완전히 제거하기 위해 탈수가스를 더 불어넣는다.At this time, in order to make the inside of the quartz tube 10 into an oxidizing atmosphere, oxygen gas is blown together with the carrier gas. In addition, the dehydration gas is further blown in order to completely remove the moisture and hydroxyl groups (OH) remaining in the soot layer 50b.

수트층(50b)의 소결 및 유리화 공정의 진행시 열원(20)의 이송속도는 500㎜/min 이하로 하는 것이 바람직하다. 만약, 열원(20)의 이송속도가 500㎜/min을 초과하면, 수트층의 소결 및 유리화가 균일하게 이루어지지 않아 코어층의 표면이 왜곡되는 문제가 발생한다.It is preferable that the feed rate of the heat source 20 during the sintering and vitrification of the soot layer 50b be 500 mm / min or less. If the feed rate of the heat source 20 exceeds 500 mm / min, the sintering and vitrification of the soot layer may not be uniform and the surface of the core layer may be distorted.

상기한 조건에 의해 공정을 진행하면, 열원(20)이 이송됨에 따라 열원(20)이 통과하는 영역의 수트층(50b)은 소결이 되어 유리화되며, 동시에 수트층에 잔존하는 극미량의 수분과 수산기(OH)도 함께 제거된다.As the process proceeds under the above conditions, as the heat source 20 is transferred, the soot layer 50b in the region through which the heat source 20 passes is sintered and vitrified, and at the same time, a very small amount of water and hydroxyl groups remaining in the soot layer. (OH) is also removed.

위와 같은 수트층의 소결 및 유리화 공정이 완료되면, 광파워비가 높은 코어층이 소정 두께로 형성된다. 그리고, 도 7 및 도 8을 참조하여 설명한 공정은 광파워비가 높은 코어층의 두께가 원하는 두께가 될 때까지 반복적으로 진행한다. 여기서, 광파워비가 높은 코어층을 형성하는 공정은 광섬유 코어 중심의 최대 광파워 대비 광파워 비율이 바람직하게는 30％ 이상인 영역에 대해 실행한다.When the above sintering and vitrification process of the soot layer is completed, a core layer having a high optical power ratio is formed to a predetermined thickness. The process described with reference to FIGS. 7 and 8 is repeatedly performed until the thickness of the core layer having a high optical power ratio reaches a desired thickness. Here, the step of forming a core layer having a high optical power ratio is performed in a region where the optical power ratio to the maximum optical power at the center of the optical fiber core is preferably 30% or more.

그러면, 도 9에 도시된 바와 같이, 석영 튜브(10) 내에 클래드층(30), 광파워비가 낮은 코어층(40) 및 광파워비가 높은 코어층(50)이 순차적으로 적층되고 내부에 중공이 있는 1차 광섬유 모재의 제조가 완료된다. 이어서, 공지된 응축(collapsing) 공정에 의해 붕괴시키면 내부의 중공이 매립됨으로써 광섬유의 인선을 위한 모재봉의 제조가 완료된다.Then, as shown in FIG. 9, the cladding layer 30, the core layer 40 having a low optical power ratio, and the core layer 50 having a high optical power ratio are sequentially stacked in the quartz tube 10, and hollows are formed therein. The manufacture of the primary optical fiber base material is completed. Subsequently, when collapsed by a known collapsing process, the hollow inside is filled, thereby completing the production of the base rod for cutting edges of the optical fiber.

본 발명에 있어서, 열원(20)은 산소/수소 버너, 플라즈마 토치, 가열로, 전기저항로 등의 다양한 가열 수단이 채용될 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In the present invention, the heat source 20 may be various heating means such as an oxygen / hydrogen burner, a plasma torch, a heating furnace, an electric resistance furnace, but the present invention is not limited thereto.

한편, 광섬유 모재의 제조 과정에서 석영 튜브(10) 내부에 포함된 수산기(OH)가 열확산에 의해 코어층까지 침투할 수 있으므로, 이를 방지하기 위해 클래드층 및 코어층 증착시 클래드층을 두껍게 증착한다. 바람직하게, 응축 공정 후 클래드층 대 코어층의 외경비가 1.5 이상이 되도록 한다. 예를 들어, 코어층의 두께가 6.0mm이면, 클래드층의 두께는 9.0mm 이상으로 한다.On the other hand, since the hydroxyl group (OH) contained in the quartz tube 10 in the manufacturing process of the optical fiber base material can penetrate to the core layer by thermal diffusion, in order to prevent this, the clad layer is deposited thickly during deposition of the clad layer and the core layer. . Preferably, the outer diameter ratio of the clad layer to the core layer after the condensation process is such that it is at least 1.5. For example, when the thickness of the core layer is 6.0 mm, the thickness of the clad layer is 9.0 mm or more.

도 10은 광섬유 코어에서 발생하는 1100nm 에서 1700nm 영역의 광손실을 나타낸 것으로서, 점선은 수산기(OH)의 제거를 위한 공정이 추가되지 않은 종래의 방법으로 제조한 광섬유 모재로부터 인선한 광섬유의 흡수 손실을 나타낸 것이고, 실선은 본 발명에 따른 방법으로 제조한 광섬유 모재로부터 인선한 광섬유의 흡수 손실을 나타낸다.Figure 10 shows the optical loss in the 1100nm to 1700nm region occurring in the optical fiber core, the dotted line shows the absorption loss of the optical fiber drawn from the optical fiber base material prepared by the conventional method without the addition of a process for the removal of hydroxyl (OH). The solid line shows the absorption loss of the optical fiber drawn from the optical fiber base material produced by the method according to the present invention.

도 10을 참조하면, 본 발명의 방법에 의해 제조된 광섬유 모재로부터 인선된 광섬유의 경우, 1385nm 파장대에서 수산기(OH)에 의한 흡수 손실이 0.33dB/Km 이하로 현저하게 감소되었고, 1310nm와 1500nm 대역의 산란에 의한 손실도 각각 0.34dB/Km, 0.20dB/Km이하로 낮아 기존의 단일모드 광섬유와 대비하여 흡수 손실 특성이 향상되었음을 알 수 있다. 이러한 실험 결과는, MCVD 공정을 적용하여 광섬유 모재를 제조할 때 본 발명을 적용하게 되면 수산기의 농도를 효과적으로 제어할 수 있다는 것을 뒷받침해 준다.Referring to FIG. 10, in the case of an optical fiber drawn from an optical fiber base material manufactured by the method of the present invention, absorption loss due to hydroxyl (OH) in the 1385 nm wavelength band is significantly reduced to 0.33 dB / Km or less, and the 1310 nm and 1500 nm bands. The loss due to the scattering is also less than 0.34dB / Km and 0.20dB / Km, respectively, and it can be seen that the absorption loss characteristics are improved compared to the conventional single mode optical fiber. These experimental results support the effective control of the concentration of the hydroxyl group when the present invention is applied when manufacturing the optical fiber base material by applying the MCVD process.

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.As described above, although the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, the present invention is not limited thereto and is intended by those skilled in the art to which the present invention pertains. Of course, various modifications and variations are possible within the scope of equivalents of the claims to be described.

본 발명에 따르면, MCVD 공정을 이용하여 광섬유 모재의 코어층을 형성할 때 광파워비의 크기에 따라 공정을 분리하되, 수산기(OH)에 의한 흡수 손실 문제가 작은 코어층은 수트층의 증착, 탈수 및 소결을 동시에 진행하여 탈수공정의 삽입에 따른 생산성 저하를 방지하고, 수산기(OH)에 의한 흡수 손실 문제가 큰 코어층은 수트층의 증착 및 탈수와 수트층의 소결을 분리하여 수산기(OH)의 농도를 1ppb 이하까지 제어하면서도 수트층의 증착과 탈수를 한 공정으로 진행함으로써 탈수공정의 삽입에 따른 생산성 저하를 완화시킬 수 있다.According to the present invention, when the core layer of the optical fiber base material is formed using the MCVD process, the process is separated according to the size of the optical power ratio, but the core layer having a small absorption loss problem by the hydroxyl group (OH) is deposited, Dehydration and sintering are performed simultaneously to prevent productivity loss due to insertion of the dehydration process, and the core layer having a large absorption loss problem due to hydroxyl group (OH) is separated from the deposition and dehydration of the soot layer and the sintering of the soot layer. By controlling the concentration of c) to 1 ppb or less, the deposition and dehydration of the soot layer may be performed in one process, thereby reducing productivity decrease due to the insertion of the dehydration process.

본 발명에 따른 광섬유 모재로부터 제조된 광섬유는 수산기(OH) 흡수 손실이 문제되는 1340nm 내지 1460nm 파장대의 손실이 광전송 시스템에서 일반적으로 사용하는 1310nm 파장대보다 낮은 0.33dB/Km 이하의 광손실을 가지며, 따라서 1100nm 내지 1700nm 파장 대역 모두에서 광통신을 수행할 수 있다.The optical fiber manufactured from the optical fiber base material according to the present invention has an optical loss of 0.33 dB / Km or less, in which the loss of 1340 nm to 1460 nm wavelength band where hydroxyl (OH) absorption loss is a problem is lower than that of the 1310 nm wavelength band generally used in optical transmission systems. Optical communication can be performed in both 1100 nm to 1700 nm wavelength bands.

Claims (11)

수정화학기상증착공정을 이용하여 석영 튜브의 내벽에 상대적으로 굴절률이 낮은 클래드층을 레이어 단위로 반복적으로 형성하는 공정과, 상기 클래드층 위에 상대적으로 굴절률이 높은 코어층을 레이어 단위로 반복적으로 형성하는 공정을 포함하는 광섬유 모재 제조방법에 있어서,Forming a cladding layer having a relatively low refractive index on the inner wall of the quartz tube by layer using a crystal chemical vapor deposition process, and repeatedly forming a core layer having a relatively high refractive index on the clad layer in units of layers In the optical fiber base material manufacturing method comprising the step, 상기 코어층을 형성하는 공정은,The step of forming the core layer, (a) 상기 석영튜브를 회전시키면서 그 내부로 수트 형성가스와 탈수가스를 주입하는 한편, 수트의 생성 및 소결을 유발하는 제1 온도 분포 영역과 상기 제1 온도 분포 영역의 전방에서 퇴적된 수트층의 탈수반응을 유발하는 제2 온도 분포 영역을 연속적으로 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 상기 제1 온도 분포 영역에서 열산화 반응으로 생성된 수트가 열원의 전방에서 수트층으로 퇴적됨과 동시에 제2 온도 분포 영역에서 탈수가스에 의해 탈수되고 열원의 이동에 따라 제1 온도 분포 영역의 통과에 의해 소결되도록 하는 단계;를 1회 또는 그 이상을 반복 수행하여 일부 코어층을 형성하는 제1 공정; 및(a) a soot layer deposited in front of the first temperature distribution region and the first temperature distribution region causing the soot formation and sintering while injecting soot forming gas and dehydration gas into the quartz tube while rotating the quartz tube; The heat source continuously providing the second temperature distribution region causing the dehydration reaction of the catalyst was transferred in the process progress direction so that the soot generated by the thermal oxidation reaction in the first temperature distribution region was deposited in the soot layer in front of the heat source. Dehydrating by dehydration gas in the two temperature distribution region and sintering by passage of the first temperature distribution region in accordance with the movement of the heat source; repeating one or more times to form some core layers; And (b) 상기 석영튜브를 회전시키면서 그 내부로 수트 형성가스와 탈수가스를 주입하는 한편, 수트의 생성을 유발하는 제1 온도 분포 영역, 상기 제1 온도 분포 영역의 전방에 위치하고 퇴적된 수트층의 탈수반응을 1차 유발하는 제2 온도 분포 영역, 및 제2 온도 분포 영역에서 탈수된 수트층의 탈수반응을 2차 유발하는 제3 온도 분포 영역을 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 상기 제1 온도 분 포 영역에서 열산화 반응으로 생성된 수트가 열원의 전방에서 수트층으로 퇴적됨과 동시에 열원 전방에 형성된 제2 온도 분포 영역에서 탈수가스에 의해 1차 탈수되고 제2 온도 분포 영역의 후방에 위치한 제3 온도 분포 영역의 통과에 의해 2차 탈수되도록 하는 단계; 및(b) while injecting soot forming gas and dehydrating gas into the quartz tube while rotating the quartz tube, the first temperature distribution region causing the generation of soot and the soot layer deposited in front of the first temperature distribution region; The heat source is provided in the process progress direction to provide a second temperature distribution region causing the dehydration reaction first and a third temperature distribution region causing the dehydration reaction of the dehydrated soot layer in the second temperature distribution region. The soot produced by the thermal oxidation reaction in the first temperature distribution region is deposited in the soot layer in front of the heat source and is first dehydrated by dehydration gas in the second temperature distribution region formed in front of the heat source and is located behind the second temperature distribution region. Allowing secondary dehydration by passing through a located third temperature distribution zone; And 2차 탈수된 수트층의 소결을 유발하는 온도 범위를 제공하는 열원을 공정진행 방향으로 이송시켜 퇴적된 수트층을 소결하는 단계;를 1회 또는 그 이상을 반복 수행하여 나머지 코어층을 형성하는 제2 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.Sintering the deposited soot layer by transferring a heat source that provides a temperature range that induces sintering of the secondary dehydrated soot layer in the process progress direction; and performing one or more times to form the remaining core layer. Method of producing an optical fiber base material comprising a; 2 step. 제 1항에 있어서, 상기 제1 공정은,The method of claim 1, wherein the first step, 광섬유 코어 중심의 최대 광파워 대비 광파워 비율이 90％ 미만인 영역에 대해서 실행하는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.A method of manufacturing an optical fiber base material, characterized in that the optical power is performed in an area of less than 90% of the maximum optical power at the center of the optical fiber core. 제 2항에 있어서, 상기 제2 공정은,The method of claim 2, wherein the second step, 광섬유 코어 중심의 최대 광파워 대비 광파워 비율이 30％ 이상인 영역에 대해서 실행하는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.A method of manufacturing an optical fiber base material, characterized in that the optical power is performed in a region having an optical power ratio of 30% or more to the maximum optical power at the center of the optical fiber core. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열원은 산소/수소 버너, 플라즈마 토치 또는 전기 가열로 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.The heat source is a method for producing an optical fiber base material, characterized in that any one of an oxygen / hydrogen burner, a plasma torch or an electric heating furnace. 제 1항에 있어서, 상기 제1 공정에서,The method of claim 1, wherein in the first step, 제1 온도 분포 영역은 1700도 이상이고,The first temperature distribution region is at least 1700 degrees, 제2 온도 분포 영역은 700도 내지 1200도인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.The second temperature distribution range is 700 to 1200 degrees manufacturing method of the optical fiber base material. 제 5항에 있어서, 상기 제2 공정의 퇴적/탈수공정에서,The method according to claim 5, wherein in the deposition / dehydration step of the second step, 제1 온도 분포 영역은 1200도 내지 1500도이고,The first temperature distribution region is 1200 degrees to 1500 degrees, 제2 및 제3 온도 분포 영역은 700도 내지 1200도인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.The second and third temperature distribution region is a manufacturing method of the optical fiber base material, characterized in that 700 to 1200 degrees. 제 6항에 있어서, 상기 제2 공정의 소결공정에서,The method of claim 6, wherein in the sintering step of the second step, 상기 석영 튜브 내의 온도는 1700도 이상인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.And the temperature in the quartz tube is 1700 degrees or more. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탈수가스는 염소(Cl2) 또는 불소(F2) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.The dehydration method of manufacturing an optical fiber base material characterized in that it comprises at least one or more of chlorine (Cl 2 ) or fluorine (F 2 ). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 열원의 이동속도는 500mm/min 이하인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.The moving speed of the heat source is a manufacturing method of the optical fiber base material, characterized in that less than 500mm / min. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 석영 튜브의 회전속도는 20rpm 내지 100rpm인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.The rotation speed of the quartz tube is a manufacturing method of the optical fiber base material, characterized in that 20rpm to 100rpm. 제 1항에 의해 제조된 광섬유 모재를 응축하여 모재봉을 형성하는 단계;Condensing the optical fiber base material prepared by claim 1 to form a base rod; 및 상기 모재봉으로부터 광섬유를 인선하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광섬유 제조방법.And cutting the optical fiber from the base rod.
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