KR100783471B1 - Silicone-based adhesive composition, method for surface treatment of substrate and method for forming fine patterns using the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 표면처리를 하지 않은 경우(a)와 본 발명의 실시예 1에서 제조한 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 표면처리한 경우(b)에 형성된 배선 사진이고,1 is a wiring photograph formed in the case where the surface treatment is not performed (a) and the surface treatment using the silicone pressure-sensitive adhesive composition prepared in Example 1 of the present invention (b),
도 2는 표면처리를 하지 않은 경우(a)와 플루오로알킬화합물로 표면처리한 경우(b)와 본 발명의 실시예 1에서 제조한 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 표면처리한 경우(c)에 각 기판에서의 잉크 액적의 접촉각 사진이다. FIG. 2 shows a case where surface treatment is performed using the silicone pressure-sensitive adhesive composition prepared in Example 1 of the present invention (a) and the surface treatment with a fluoroalkyl compound (b) and the surface treatment with the fluoroalkyl compound (c). It is a photograph of the contact angle of the ink droplets on the substrate.
본 발명은 실리콘계 점착제 조성물, 이를 이용한 기판의 표면처리방법 및 미세 패턴의 형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 잉크젯 방식에 의한 패턴 형성시 기판과의 접착력을 향상시키고 기판에서의 잉크의 퍼짐성을 억제시킬 수 있는 표면처리용 실리콘계 점착제 조성물, 및 이를 이용한 기판의 표면처리방법과 미세 패턴의 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a silicone pressure-sensitive adhesive composition, a surface treatment method of the substrate and a method of forming a fine pattern using the same, and more particularly, to improve adhesion to the substrate and suppress the spreading of the ink on the substrate when forming the pattern by the inkjet method It relates to a silicone pressure-sensitive adhesive composition for the surface treatment, and a surface treatment method and a method of forming a fine pattern using the same.
종래에 기판에 배선을 형성하기 위한 방법으로 부식 레지스트법이 있었으나, 이 방법으로는 미세 배선을 형성시키기 어렵고, 또 레지스트를 제거하여야 하는 공정상의 번거로움이 있었다. 미세 배선을 형성하기 위한 다른 방법으로는 레이저법이 있다. 레이저법은 기판 전체에 발수성 가공막을 형성한 후, 레이저 광으로 발수성 가공막의 일부를 제거하고, 이 가공막이 제거된 영역에 도전성 잉크를 분사하여 도전성 배선을 형성하는 방법이다. 이 방법에 의하면 레이저 광 발생장치의 구비가 별도로 요구되어 제조단가가 상승되고, 배선을 직접적으로 구성하지 않는 발수성 가공막의 도입과 제거라는 단계를 거쳐야 하므로 번거롭고 비효율적인 문제점이 있다. Conventionally, the corrosion resist method has been used as a method for forming wirings on a substrate, but it is difficult to form fine wirings in this method, and there is a process inconvenience in that the resist must be removed. Another method for forming fine wirings is a laser method. The laser method is a method of forming a conductive wiring by forming a water-repellent processed film on the entire substrate, then removing a part of the water-repellent processed film by laser light, and spraying conductive ink on a region where the processed film is removed. According to this method, since the provision of the laser light generating device is required separately, the manufacturing cost is increased, and the process of introducing and removing the water-repellent processed film which does not directly constitute the wiring has to go through, which is cumbersome and inefficient.
최근에는 공정의 간편성과 저비용, 대량 생산의 가능성, 환경 친화적이라는 장점 때문에 전자부품의 회로 형성에 비접촉 방식으로 임의의 패턴을 쉽게 인쇄할 수 있는 잉크젯 방식을 적용하기 위해 많은 연구가 진행되고 있다. 이러한 잉크젯 방식에 있어서 미세 패턴 구현을 위하여 토출 잉크의 액적 사이즈 조절과 기판에서의 잉크 퍼짐성이 중요한 인자로 작용하게 된다. 여기서 잉크 액적을 줄이는 것은 매우 어렵기 때문에 액적의 퍼짐성을 조절하는 것이 중요하다. Recently, due to the advantages of simplicity, low cost, possibility of mass production, and environmental friendliness, many studies have been conducted to apply an inkjet method that can easily print an arbitrary pattern in a non-contact manner to form a circuit of an electronic component. In such an inkjet method, the droplet size control of the ejected ink and the ink spreadability on the substrate serve as important factors for implementing a fine pattern. Since it is very difficult to reduce ink droplets here, it is important to control the spreadability of the droplets.
일반적으로 표면처리는 표면의 화학적, 물리적 성질을 개질하여 토출된 액적의 퍼짐성과 젖음성을 조절하는 방법으로 이루어진다. 국내공개특허 제2004-88507호는 코로나 방전에 의해 생성되는 플라즈마를 포함하는 여기종류를 생성시켜 표면처리하는 방법을 개시하고 있다. 이는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, PTFE 등의 수지 에 대하여 도료를 도포하거나 인쇄를 실시하여 표면의 친수성을 높임으로써 접착력을 향상시키고 있다. 그러나, 표면을 친수성으로 개질할 경우 기판과의 퍼짐성이 좋아지므로 액적의 일정 접촉각을 유지해야 하는 잉크젯용 표면처리 용도로는 적합하지 않다는 문제점이 있다. In general, the surface treatment is a method of modifying the chemical and physical properties of the surface to control the spreading and wettability of the discharged droplets. Korean Laid-Open Patent Publication No. 2004-88507 discloses a method for surface treatment by generating an excitation type including plasma generated by corona discharge. This improves the adhesive force by applying a coating or printing to resins such as polyethylene, polypropylene, PTFE and the like to increase the hydrophilicity of the surface. However, when the surface is modified to be hydrophilic, there is a problem in that it is not suitable for the surface treatment application for ink jet, which has to maintain a constant contact angle of the droplets since the spreadability with the substrate is improved.
또한, 국내공개특허 제1997-12021호는 레지스트패턴의 표면부에 난용화층을 형성되지 않도록 하는 패턴형성방법 및 표면처리제를 개시하고 있다. 여기에서 사용되는 표면처리방법은 실리콘으로 이루어지는 반도체 기판의 표면에 표면철제로서의 이소프로페녹시 트리메틸실란을 공급하여 반도체 기판의 표면을 소수성으로 바꾸는 것이다. 그러나, 이와 같은 방법은 반도체 기판의 밀착성을 향상시키는 장점이 있으나, 폴리이미드 등과 같은 고분자 기판과의 계면접착력을 확보할 수 없다는 문제점이 있어 잉크젯용 표면처리 용도로는 사용할 수 없다. In addition, Korean Patent Laid-Open Publication No. 1997-12021 discloses a pattern forming method and a surface treatment agent to prevent a poorly soluble layer from being formed on the surface portion of a resist pattern. The surface treatment method used here is to supply isopropenoxy trimethylsilane as surface iron to the surface of a semiconductor substrate made of silicon to change the surface of the semiconductor substrate to hydrophobicity. However, this method has the advantage of improving the adhesion of the semiconductor substrate, but there is a problem that can not secure the interfacial adhesion with a polymer substrate such as polyimide and can not be used for surface treatment for inkjet.
한편, 잉크젯 방식에서 배선 폭을 줄이기 위하여 플루오로알킬화합물 등의 계면활성제를 이용하여 표면처리함으로써 잉크의 퍼짐성을 억제하는 방법이 있다. 그러나, 이와 같은 방법은 잉크의 퍼짐성을 어느 정도 억제하는데 유용하지만, 잉크의 기판에 대한 접착력이 좋지 않아 미세 패턴을 위한 선폭 형성에 적용하기 어렵다는 문제점이 있다.On the other hand, in the inkjet method, there is a method of suppressing the spreadability of ink by surface treatment using a surfactant such as a fluoroalkyl compound in order to reduce the wiring width. However, such a method is useful for suppressing the spreadability of the ink to some extent, but there is a problem in that the adhesion of the ink to the substrate is poor, making it difficult to apply to forming the line width for the fine pattern.
본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 잉크젯용 인쇄 배선 형성시 기판과의 접착력을 향상시키고 잉크의 퍼짐성을 억제할 수 있는 표면처리용 실리콘계 점착제 조성물을 제공하는 것이다. The present invention is to solve the above-described problems of the prior art, one object of the present invention is to improve the adhesion to the substrate when forming the ink-jet printed wiring and to improve the adhesiveness for surface treatment silicone-based pressure-sensitive adhesive composition To provide.
본 발명의 다른 목적은 상기 실리콘계 점착제 조성물을 이용한 기판의 표면처리방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention to provide a surface treatment method of the substrate using the silicone pressure-sensitive adhesive composition.
본 발명의 또 다른 목적은 이를 이용한 미세 패턴의 형성방법을 제공하는 것이다. Still another object of the present invention is to provide a method of forming a fine pattern using the same.
본 발명의 일 측면에서는, In one aspect of the invention,
비닐폴리실록산계 실리콘 폴리머 55 내지 65 중량부;55 to 65 parts by weight of a vinyl polysiloxane-based silicone polymer;
폴리디메틸실록산(PDMS, polydimethylsiloxane)계 실리콘 접착제 30 내지 45 중량부;30 to 45 parts by weight of a polydimethylsiloxane (PDMS) -based silicone adhesive;
하이드로전 폴리실록산계 레진 4 내지 8 중량부; 및4 to 8 parts by weight of hydropolysiloxane-based resin; And
백금촉매 0.1 내지 2 중량부;0.1 to 2 parts by weight of a platinum catalyst;
를 포함하는, 인쇄 배선 형성을 위한 표면처리용 실리콘계 점착제 조성물을 제공한다. It provides a silicon-based pressure-sensitive adhesive composition for surface treatment for forming a printed wiring.
상기 비닐폴리실록산계 실리콘 폴리머는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다.The vinyl polysiloxane-based silicone polymer may be represented by the following Chemical Formula 1.
[화학식 1][Formula 1]
상기 식중, n은 100 내지 1000 의 정수이다. In said formula, n is an integer of 100-1000.
상기 PDMS계 실리콘 접착제는 하기 화학식 2로 표시될 수 있다. The PDMS-based silicone adhesive may be represented by the following formula (2).
[화학식 2][Formula 2]
상기 식중, R은 메틸기 또는 에틸기이고, n은 5000 내지 140000 의 정수이다.In said formula, R is a methyl group or an ethyl group, n is an integer of 5000-140000.
또한, 상기 하이드로전 폴리실록산계 레진은 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다. In addition, the hydropolysiloxane-based resin may be represented by the following formula (3).
[화학식 3][Formula 3]
상기 식중, n은 300 내지 1600의 정수이다. In said formula, n is an integer of 300-1600.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조성물은 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 이와 같은 계면활성제는 알킬벤젠술폰산염, 아민할로겐화물, 제사암모늄염, 알킬피리디늄염 및 아미노산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상이며, 상기 계면활성제의 함량은 0 내지 5 중량부인 것이 바람직하다. According to one embodiment of the invention, the composition may further comprise a surfactant. Such a surfactant is at least one selected from the group consisting of alkylbenzene sulfonates, amine halides, quaternary ammonium salts, alkylpyridinium salts and amino acids, and the content of the surfactant is preferably 0 to 5 parts by weight.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조성물은 실록산 올리고머를 더 포함할 수 있다. 상기 실록산 올리고머의 함량은 0 내지 5 중량부인 것이 바람직하다. According to one embodiment of the invention, the composition may further comprise a siloxane oligomer. The content of the siloxane oligomer is preferably 0 to 5 parts by weight.
본 발명의 다른 측면에서는,In another aspect of the invention,
고분자 기판을 준비하는 단계;Preparing a polymer substrate;
상기 고분자 기판의 적어도 일면을 상기 실리콘계 점착제 조성물을 포함하는 코팅용액으로 코팅하는 단계; 및Coating at least one surface of the polymer substrate with a coating solution containing the silicone pressure sensitive adhesive composition; And
상기 기판을 열처리하는 단계;Heat treating the substrate;
를 포함하는, 인쇄 배선 형성을 위한 기판의 표면처리방법을 제공한다. It provides a surface treatment method of a substrate for forming a printed wiring comprising a.
상기 고분자 기판은 폴리이미드 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트의 고분자 물질로 이루어질 수 있다.The polymer substrate may be made of a polymer material of polyimide or polyethylene terephthalate.
상기 코팅막 형성시 상기 실리콘계 점착제 조성물에 자일렌, 톨루엔, 피리딘, 퀴놀린, 아니솔, 메시틸렌 등의 방향족계 탄화수소 용매, 또는 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매를 혼합하여 점도를 낮춘 코팅용액을 이용하여 코팅막을 형성하는 것이 보다 바람직하다.When the coating film is formed, an aromatic hydrocarbon solvent such as xylene, toluene, pyridine, quinoline, anisole, and mesitylene, or an aliphatic hydrocarbon solvent such as hexane and heptane is mixed with the silicone pressure sensitive adhesive composition to reduce the viscosity. It is more preferable to form a coating film.
상기 코팅 방법은 스핀 코팅, 나이프 코팅, 그라비아 롤 코팅 및 캐스팅으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나의 방법으로 수행될 수 있다. The coating method may be performed by one method selected from the group consisting of spin coating, knife coating, gravure roll coating and casting.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 실리콘계 점착제 조성물은 기판 상에 0.1 내지 50㎛의 두께로 코팅되는 것이 바람직하다. According to one embodiment of the invention, the silicone pressure-sensitive adhesive composition is preferably coated on a substrate with a thickness of 0.1 to 50㎛.
또한, 상기 열처리 단계는 100 내지 150℃에서 1 내지 5분 동안 수행되는 것이 바람직하다.In addition, the heat treatment step is preferably performed for 1 to 5 minutes at 100 to 150 ℃.
본 발명의 또 다른 측면에서는, 상술한 방법에 의하여 표면처리된 기판 상에 전도성 입자를 포함하는 금속 잉크를 사용하여 배선을 형성하는 단계; 및 상기 기판을 열처리하는 단계;를 포함하는 미세 패턴의 형성방법을 제공한다.In another aspect of the present invention, forming a wiring using a metal ink containing conductive particles on the surface treated by the above method; And heat treating the substrate.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 전도성 입자는 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 철(Fe) 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 나노입자로 구성된다. According to one embodiment of the invention, the conductive particles are silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), palladium (Pd), iron (Fe) and their At least one metal nanoparticle selected from the group consisting of alloys.
또한, 상기 배선 형성은 잉크젯 방식에 의하여 상기 금속 잉크를 토출함으로써 이루어지며, 배선 형성시 기판에 열을 인가하여 온도를 높여주는 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 방법으로 형성될 수 있는 배선의 배선폭은 10 내지 80 ㎛이다. In addition, the wiring is formed by discharging the metal ink by an inkjet method, and it is more preferable to increase the temperature by applying heat to the substrate when forming the wiring. The wiring width of the wiring that can be formed in this manner is 10 to 80 µm.
상기 열처리는 200 내지 300℃의 온도에서 20 내지 120분간 수행되는 것이 바람직하다. The heat treatment is preferably performed for 20 to 120 minutes at a temperature of 200 to 300 ℃.
이와 같은 방법에 의하여 회로기판 상에 미세 패턴을 형성할 수 있다. In this way, a fine pattern can be formed on the circuit board.
이하, 본 발명에 따른 실리콘계 점착제 조성물, 이를 이용한 기판의 표면처리방법 및 미세 패턴의 형성방법에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. Hereinafter, the silicone pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention, the surface treatment method of the substrate and the method of forming a fine pattern using the same will be described in more detail.
잉크젯 방식을 이용한 패턴형성 과정에서 잉크의 퍼짐성에 영향을 미치는 요소로는 잉크의 성질, 잉크에 포함되는 금속입자의 크기 및 농도, 노즐의 크기, 토출되는 액적의 크기 또는 표면장력, 기판의 표면에너지 또는 표면처리상태 등을 들 수 있다. 이때 토출되는 액적의 크기가 일정하다고 가정하면, 잉크의 퍼짐성은 잉크의 표면장력과 기재의 표면에너지의 역학적 관계에 의하여 결정된다. 예를 들어 잉크의 표면장력이 기판의 표면에너지보다 크다면 잉크의 퍼짐성은 작을 것이고, 반대로 잉크의 표면장력이 기판의 표면에너지보다 작다면 잉크의 퍼짐성은 클 것이 다. 따라서, 잉크 액적의 크기 및 표면장력이 동일한 잉크라고 가정하면, 기판의 표면에너지를 낮추어 잉크의 퍼짐성을 개선시킬 수 있다. 이와 같은 잉크의 퍼짐성은 기판 표면에 토출된 액적의 접촉각 및 인쇄된 배선의 배선폭을 측정함으로써 평가가능하다. Factors affecting the spreadability of the ink in the pattern formation process using the inkjet method include the properties of the ink, the size and concentration of the metal particles contained in the ink, the size of the nozzle, the size or surface tension of the ejected droplets, and the surface energy of the substrate. Or a surface treatment state. At this time, assuming that the size of the ejected droplets is constant, the spreadability of the ink is determined by the mechanical relationship between the surface tension of the ink and the surface energy of the substrate. For example, if the surface tension of the ink is greater than the surface energy of the substrate, the spreadability of the ink will be small. On the contrary, if the surface tension of the ink is less than the surface energy of the substrate, the spreadability of the ink will be large. Therefore, assuming that the ink droplets have the same size and surface tension as the ink, the surface energy of the substrate can be lowered to improve the spreadability of the ink. Such spreadability of the ink can be evaluated by measuring the contact angle of the droplets ejected onto the substrate surface and the wiring width of the printed wiring.
이에 본 발명에서는 기판과 실록산 결합을 형성할 수 있는 실리콘 성분을 기초로 하여 끈적끈적한 성질을 지닐 수 있도록 그 조성을 최적화시켜 기판에서의 액적의 퍼짐성을 억제하고 기판과의 접착력을 향상시키고자 한 것이다. Accordingly, the present invention is to improve the adhesion of the droplets to the substrate by optimizing its composition to have a sticky property based on the silicon component that can form a siloxane bond with the substrate and adhesion to the substrate.
본 발명에 따른 실리콘계 점착제 조성물은 비닐폴리실록산계 실리콘 폴리머 55 내지 65 중량부; 폴리디메틸실록산(PDMS, polydimethylsiloxane)계 실리콘 접착제 30 내지 45 중량부; 하이드로전 폴리실록산계 레진 4 내지 8 중량부; 및 백금촉매 0.1 내지 2 중량부;를 포함한다.Silicone pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is 55 to 65 parts by weight of vinyl polysiloxane-based silicone polymer; 30 to 45 parts by weight of a polydimethylsiloxane (PDMS) -based silicone adhesive; 4 to 8 parts by weight of hydropolysiloxane-based resin; And 0.1 to 2 parts by weight of a platinum catalyst.
여기서, 상기 비닐폴리실록산계 실리콘 폴리머는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다.Here, the vinyl polysiloxane-based silicone polymer may be represented by the following formula (1).
[화학식 1][Formula 1]
상기 식중, n은 100 내지 1000 의 정수이다.In said formula, n is an integer of 100-1000.
상기 비닐폴리실록산계 실리콘 폴리머는 기판의 표면처리시 열처리과정을 통하여 가교반응이 일어날 때 주사슬 역할을 한다. 상기 비닐폴리실록산계 실리콘 폴리머의 함량은 55 내지 65 중량부가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 58 내지 62 중량부이다. 함량이 55 중량부 미만이면 가교결합 네트워크 형성이 느슨하여 배선 형성시 액적의 퍼짐성이 크므로 바람직하지 못하고, 함량이 65 중량부를 초과하면 기판과의 접착력이 떨어져서 바람직하지 못하다. The vinyl polysiloxane-based silicone polymer acts as a main chain when a crosslinking reaction occurs through a heat treatment process during surface treatment of a substrate. The content of the vinyl polysiloxane-based silicone polymer is preferably 55 to 65 parts by weight, more preferably 58 to 62 parts by weight. If the content is less than 55 parts by weight, cross-linking network formation is loose and the spreadability of the droplets is large during wiring formation, and it is not preferable. If the content is more than 65 parts by weight, the adhesion to the substrate is not preferable.
또한, 상기 폴리디메틸실록산(PDMS, polydimethylsiloxane)계 실리콘 접착제는 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.In addition, the polydimethylsiloxane (PDMS, polydimethylsiloxane) -based silicone adhesive may be represented by the following formula (2).
[화학식 2][Formula 2]
상기 식중, R은 메틸기 또는 에틸기이고, n은 5000 내지 140000 의 정수이다. In said formula, R is a methyl group or an ethyl group, n is an integer of 5000-140000.
상기 실리콘계 겔상 화합물의 구체적인 예로는 폴리디메틸실록산(PDMS, polydimethylsiloxane), 폴리디메틸디페닐실록산 등을 들 수 있다. 상기 폴리디메틸실록산(PDMS, polydimethylsiloxane)계 실리콘 접착제는 표면장력이 20~23mN/m 정도로 저분자량일수록 표면장력이 떨어지지만, 단독 사용할 경우 내화학성이 약한 단점이 있다. 표면장력이 낮으면 잉크 배선과의 접촉각이 높아져 퍼짐성을 제어할 수 있고 동량의 잉크를 토출 하였을 때 보다 높은 두께를 가지므로 전자제품의 소형화에 따른 미세배선 형성에 유리하다. 또한, 접착제이므로 택(tack)을 가지고 있으므로 이를 통한 배선과의 접착력 및 기판과의 접착력을 향상시킬 수 있다. 상기 PDMS계 실리콘 접착제의 함량은 30 내지 45 중량부가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 38 내지 42 중량부가 좋다. 만약 함량이 30 중량부 미만이면 잉크 배선과의 접촉각이 낮아져 퍼짐성이 커지므로 미세배선을 형성하기 어려우므로 바람직하지 못하고, 함량이 45 중량부를 초과하면 배선 형성 시 표면처리 부분이 약해지는 스웰링(swelling)현상 및 배선이 끊어지는 현상이 초래되어 바람직하지 못하다. Specific examples of the silicone gel compound include polydimethylsiloxane (PDMS, polydimethylsiloxane), polydimethyldiphenylsiloxane and the like. The polydimethylsiloxane (PDMS, polydimethylsiloxane) -based silicone adhesive has a lower surface tension as the surface tension is 20 ~ 23mN / m, but when used alone has a disadvantage of weak chemical resistance. When the surface tension is low, the contact angle with the ink wiring is increased to control the spreadability, and it has a higher thickness when discharging the same amount of ink, which is advantageous for forming micro wirings according to the miniaturization of electronic products. In addition, since the adhesive has a tack, the adhesive force to the wiring and the adhesive force to the substrate can be improved. The content of the PDMS-based silicone adhesive is preferably 30 to 45 parts by weight, more preferably 38 to 42 parts by weight. If the content is less than 30 parts by weight, the contact angle with the ink wiring is lowered to increase the spreadability, which is not preferable because it is difficult to form fine wiring. If the content is more than 45 parts by weight, the swelling becomes weak when the surface treatment part is formed. This is undesirable because of the phenomenon and the disconnection of wiring.
한편, 상기 하이드로전 폴리실록산계 레진은 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다. On the other hand, the hydropolysiloxane-based resin may be represented by the following formula (3).
[화학식 3][Formula 3]
상기 식중, n은 300 내지 1600의 정수이다. In said formula, n is an integer of 300-1600.
상기 하이드로전 폴리실록산계 레진은 실리콘 폴리머의 길이가 짧고 실리카가 과량 포함된 레진으로, 이는 상기 비닐폴리실록산계 실리콘 폴리머 사이를 가교시켜 주어 표면경도를 높여주는 작용을 한다. 상기 하이드로전 폴리실록산계 레진의 함량은 4 내지 8 중량부가 바람직하며, 보다 바람직하게는 5 내지 7 중량부가 좋다. 만약 함량이 4 중량부 미만이면 가교량이 적어 표면처리 후 코팅막의 고분자 사이사이에 잉크가 침투할 수 있어 잉크이 퍼짐성이 커지므로 바람직하지 못하고, 함량이 8 중량부를 초과하면 가교량이 많아져 딱딱해지고, 모듈러스가 증가하며 끈적거림이 작아지고 선형성에 문제가 생기므로 바람직하지 못하다. The hydropolysiloxane-based resin is a resin having a short silicone polymer and containing excessive silica, thereby crosslinking the vinylpolysiloxane-based silicone polymer to increase surface hardness. The hydropolysiloxane-based resin is preferably 4 to 8 parts by weight, more preferably 5 to 7 parts by weight. If the content is less than 4 parts by weight, the amount of crosslinking is small and ink may penetrate between the polymers of the coating film after the surface treatment, thereby increasing the ink spreadability, which is not preferable. Is not preferable because of the increase in stickiness and the decrease in stickiness and problems in linearity.
본 발명의 실리콘계 점착제 조성물에서 백금촉매는 가교 밀도를 조절하는 역 할을 하는 것으로, 0.1 내지 2 중량부 범위로 포함되는 것이 바람직하다. 함량이 0.1 미만이면 가교반응이 원활하게 진행되지 않을 수 있고, 함량이 2 중량부를 초과하면 가교반응 속도가 지나치게 빨라져 가교 밀도를 조절하기 힘들기 때문에 바람직하지 못하다. In the silicone pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, the platinum catalyst plays a role of controlling the crosslinking density and is preferably included in the range of 0.1 to 2 parts by weight. If the content is less than 0.1, the crosslinking reaction may not proceed smoothly. If the content is more than 2 parts by weight, the crosslinking reaction rate is too fast, which is not preferable because it is difficult to control the crosslinking density.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조성물은 표면장력을 낮추기 위하여 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 사용가능한 계면활성제로는 알킬벤젠술폰산염, 아민할로겐화물, 제사암모늄염, 알킬피리디늄염 및 아미노산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상이며, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 계면활성제의 함량은 0 내지 5 중량부인 것이 바람직하다. 계면활성제의 함량이 5 중량부를 초과하면 점착제의 배선과의 접착력을 떨어뜨려 바람직하지 못하다. According to one embodiment of the invention, the composition may further comprise a surfactant to lower the surface tension. Surfactants that can be used include one or more selected from the group consisting of alkylbenzene sulfonates, amine halides, quaternary ammonium salts, alkylpyridinium salts and amino acids, but are not limited thereto. The amount of the surfactant is preferably 0 to 5 parts by weight. When the content of the surfactant exceeds 5 parts by weight, the adhesive strength with the wiring of the pressure-sensitive adhesive is lowered, which is not preferable.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조성물은 표면처리시 코팅막의 끈적거림을 조절하여 접착력을 조절하기 위하여 실록산 올리고머를 더 포함할 수 있다. 상기 실록산 올리고머의 함량은 0 내지 5 중량부인 것이 바람직하다. 실록산 올리고머의 함량이 5 중량부를 초과하면 기판과의 접착력에 저하되어 바람직하지 못하다. According to one embodiment of the invention, the composition may further comprise a siloxane oligomer to control the adhesion by controlling the sticking of the coating film during the surface treatment. The content of the siloxane oligomer is preferably 0 to 5 parts by weight. If the content of the siloxane oligomer exceeds 5 parts by weight, the adhesion to the substrate is lowered, which is undesirable.
이와 같이 구성되는 본 발명에 따른 실리콘계 점착제 조성물은 실리콘 성분으로 인해 소수성 표면을 가지면서 내열성이 강한 장점이 있고, 끈적거리는 물성을 이용하여 배선과 기판 사이에 균일한 접착력을 확보할 수 있다. 본 발명의 따른 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 기판을 표면처리하는 경우 잉크젯 기법을 이용한 배선 형성시 10 내지 80㎛의 배선폭을 형성할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 서는 약 40㎛ 정도의 미세 배선을 형성한 것을 확인할 수 있다. The silicone pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention configured as described above has an advantage of having a hydrophobic surface and strong heat resistance due to the silicone component, and can secure a uniform adhesive force between the wiring and the substrate by using sticky physical properties. When surface-treating the substrate using the silicone pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, a wiring width of 10 to 80 μm may be formed when wiring is formed using an inkjet technique. In one embodiment of the present invention it can be confirmed that the fine wiring of about 40㎛ is formed.
다음으로, 본 발명의 다른 측면은 인쇄 배선 형성을 위한 기판의 표면처리방법에 관계한다. Next, another aspect of the present invention relates to a method for treating a surface of a substrate for forming printed wiring.
본 발명에 따른 기판의 표면처리방법은, 고분자 기판을 준비하는 단계; 상기 고분자 기판의 적어도 일면을 상기 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 코팅막을 형성하는 단계; 및 상기 기판을 열처리하는 단계;를 포함한다. Surface treatment method of a substrate according to the invention, preparing a polymer substrate; Forming a coating film on at least one surface of the polymer substrate using the silicone pressure sensitive adhesive composition; And heat treating the substrate.
여기서 사용되는 고분자 기판으로는 상기 실리콘계 점착제 조성물과 실록산 결합을 형성하여 안정적으로 표면처리막을 형성할 수 있는 것이라면 제한 없이 사용될 수 있다. 구체적으로는, 플라스틱 기판 가운데 폴리이미드 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트의 고분자 물질로 이루어진 기판을 사용하는 것이 바람직하다. The polymer substrate used herein may be used without limitation as long as it can form a surface treatment film stably by forming a siloxane bond with the silicone pressure-sensitive adhesive composition. Specifically, it is preferable to use a substrate made of a polymer material of polyimide or polyethylene terephthalate among plastic substrates.
고분자 기판이 준비되면, 상기 고분자 기판의 적어도 일면을 상기 실리콘계 점착제 조성물을 포함하는 코팅용액을 이용하여 코팅막을 형성시킨다. When the polymer substrate is prepared, a coating film is formed on at least one surface of the polymer substrate by using a coating solution containing the silicone pressure-sensitive adhesive composition.
상기 코팅막 형성시 상기 실리콘계 점착제 조성물 자체를 코팅용액으로 하여 코팅막을 형성할 수도 있지만, 상기 실리콘계 점착제 조성물에 자일렌, 톨루엔, 피리딘, 퀴놀린, 아니솔, 메시틸렌 등의 방향족계 탄화수소 용매, 또는 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매를 혼합하여 점도를 낮춘 코팅 용액을 준비하고 이를 이용하여 코팅막을 형성하는 것이 보다 바람직하다. 코팅 용액을 준비할 경우, 상기 실리콘계 점착제 조성물은 전체 코팅 용액 중 70 내지 99.9 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 90 내지 99.9 중량%이다. 함량이 70 중량% 미만이면 액적의 퍼짐성이 좋지 않고, 함량이 99.9 중량%를 초과하면 액적의 편 차(tolerance)가 좋지 않을 수 있다. Although the coating film may be formed by using the silicone pressure sensitive adhesive composition itself as a coating solution when forming the coating film, aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, toluene, pyridine, quinoline, anisole, mesitylene, or hexane, in the silicone pressure sensitive adhesive composition It is more preferable to prepare a coating solution having a lower viscosity by mixing an aliphatic hydrocarbon solvent such as heptane and to form a coating film using the same. When preparing a coating solution, the silicone pressure-sensitive adhesive composition is preferably included in 70 to 99.9% by weight of the total coating solution, more preferably 90 to 99.9% by weight. If the content is less than 70% by weight of the droplet is not good spreadability, if the content is more than 99.9% by weight of the droplet (tolerance) may not be good.
코팅 방법은 스핀 코팅, 나이프 코팅, 그라비아 롤 코팅 및 캐스팅으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나의 방법으로 수행될 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 편의성 측면에서 바람직한 코팅 방법은 그라비아 롤 코팅이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 그라비아 롤 코팅의 경우 롤러의 회전속도는 1 내지 10mm/s인 것이 바람직하고, 기판이 코팅용액 내에서 10초 내지 1분 정도 함침되는 것이 바람직하다.The coating method may be performed by one method selected from the group consisting of spin coating, knife coating, gravure roll coating, and casting, but is not limited thereto. In terms of convenience, a preferred coating method is gravure roll coating. According to one embodiment of the present invention, in the case of gravure roll coating, the rotation speed of the roller is preferably 1 to 10 mm / s, and the substrate is preferably impregnated for 10 seconds to 1 minute in the coating solution.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 실리콘계 점착제 조성물은 기판 상에 0.1 내지 50㎛의 두께로 코팅되는 것이 바람직하다. 0.1㎛ 미만이면 택(tack)값의 저하로 기판 및 배선과의 접착력이 저하되어 바람직하지 못하고, 50㎛를 초과하면 배선형성에는 문제가 없으나 기판의 소형화에 역행하며 공업적 견지에서 비경제적이므로 바람직하지 못하다. According to one embodiment of the invention, the silicone pressure-sensitive adhesive composition is preferably coated on a substrate with a thickness of 0.1 to 50㎛. If the thickness is less than 0.1 µm, the adhesive force between the substrate and the wiring decreases due to a decrease in the tack value. If the thickness exceeds 50 µm, there is no problem in the formation of the wiring. I can't.
상기 고분자 기판을 코팅용액으로 코팅하고 나면, 이어서 코팅된 기판을 열처리한다. After the polymer substrate is coated with a coating solution, the coated substrate is subsequently heat treated.
상기 열처리 단계를 통하여 코팅용액 내의 실리콘 성분들 사이에 가교반응이일어나고, 또한 기판의 반응기와 결합이 형성되면서 안정적인 표면처리막을 형성하게 된다. 상기 열처리 단계는 100 내지 150℃에서 1 내지 5분 동안 수행되는 것이 바람직하다. 열처리 온도가 100℃ 미만이면 가교반응이 일어나지 않으며, 150℃를 초과하면 표면상태의 변성을 초래할 수 있다. 열처리 시간은 열처리 온도에 따라 정해지는데, 높은 온도에서는 반응시간이 짧고, 낮은 온도에서는 보다 긴 반응시간 이 요구된다. 이와 같은 열처리는 표면의 택(tack)이 일정 상태를 유지하게 때 열처리과정을 종료시킨다. Through the heat treatment step, a crosslinking reaction occurs between the silicon components in the coating solution, and also forms a bond with the reactor of the substrate to form a stable surface treatment film. The heat treatment step is preferably performed for 1 to 5 minutes at 100 to 150 ℃. If the heat treatment temperature is less than 100 ℃ cross-linking reaction does not occur, if it exceeds 150 ℃ may cause surface state modification. The heat treatment time is determined by the heat treatment temperature. At high temperatures, the reaction time is short, and at low temperatures, a longer reaction time is required. This heat treatment terminates the heat treatment process when the tack of the surface is kept constant.
본 발명의 또 다른 측면은, 상술한 기판의 표면처리방법을 이용한 미세 패턴의 형성방법에 관계한다. Another aspect of the present invention relates to a method of forming a fine pattern using the surface treatment method of the substrate described above.
본 발명에 따른 미세 패턴의 형성방법은 상술한 방법에 의하여 표면처리된 기판 상에 전도성 입자를 포함하는 금속 잉크를 사용하여 배선을 형성하는 단계; 및 상기 기판을 열처리하는 단계;를 포함하는 미세 패턴의 형성방법을 제공한다.Method for forming a fine pattern according to the present invention comprises the steps of forming a wiring using a metal ink containing conductive particles on the surface treated by the above-described method; And heat treating the substrate.
여기서, 상기 전도성 입자로는 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 철(Fe) 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 나노입자로 구성될 수 있으며, 이러한 금속 나노입자의 크기는 미세배선을 형성하기 위하여 점점 작아지는 추세에 있다. 본 발명에서는 금속 나노입자의 크기가 바람직하게는 5 내지 50nm, 더욱 바람직하게는 15 내지 30 nm인 것을 사용하는 것이 좋다. The conductive particles may be selected from the group consisting of silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), palladium (Pd), iron (Fe), and alloys thereof. It may be composed of one or more metal nanoparticles, the size of these metal nanoparticles is in the tendency to become smaller to form a microwire. In the present invention, the metal nanoparticles preferably have a size of 5 to 50 nm, more preferably 15 to 30 nm.
상기 전도성 입자를 포함하는 금속 잉크는 당해 기술분야에서 통상의 방법에 의하여 제조될 수 있다. 금속 잉크는 이를 이루는 용매의 성질에 따라 수계 또는 비수계로 나뉜다. 수계 잉크의 용매로는 이에 한정되는 것은 아니나, 예를 들면 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르 아세테이트와 에탄올 수용액, 에틸렌 글리콜 등을 사용할 수 있다. 비수계 잉크의 용매로는 이에 한정되는 것은 아니나, 구체적으로 예를 들면 헥산, 옥탄, 테트라데칸, 헥사데칸, 1-헥사데신, 1-옥타데신, 톨루엔, 크실렌 및 클로로벤조산으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택할 수 있 다. Metal inks including the conductive particles may be prepared by conventional methods in the art. Metal inks are divided into aqueous or non-aqueous, depending on the nature of the solvent to form them. The solvent of the aqueous ink is not limited thereto, and for example, diethylene glycol butyl ether acetate, an ethanol aqueous solution, ethylene glycol, and the like can be used. The solvent of the non-aqueous ink is not limited thereto, but specifically, for example, at least one selected from the group consisting of hexane, octane, tetradecane, hexadecane, 1-hexadecine, 1-octadecine, toluene, xylene, and chlorobenzoic acid. More choices are possible.
이러한 금속 잉크로 배선을 형성하는 방법은 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 잉크젯 인쇄 등의 방식이 있으며, 이중 미세배선을 형성하기 위하여 잉크젯 인쇄 방식이 바람직하다. 잉크젯 방식에 의하여 상기 금속 잉크를 토출하여 배선을 형성할 경우, 10 내지 80 ㎛ 범위로 배선폭을 갖는 미세 배선을 형성할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 40㎛의 배선폭을 구현한 것을 확인할 수 있다. The method of forming the wiring using the metal ink includes screen printing, gravure printing, inkjet printing, and the like, and an inkjet printing method is preferable in order to form a double fine wiring. When the wiring is formed by discharging the metal ink by an inkjet method, fine wiring having a wiring width in a range of 10 to 80 μm may be formed. In one embodiment of the present invention it can be seen that the wire width of 40㎛ implemented.
배선이 형성된 기판은 금속 입자간에 결합을 형성하기 위하여 다시 열처리 단계를 거친다. 잉크젯 방식으로 배선을 형성하는 경우 통상적으로 수행되는 열처리 공정에 의하여 수행될 수 있다. 예를 들면 200 내지 300℃의 온도에서 20 내지 120분간 열처리할 수 있다. 이와 같은 열처리는 배선에 우수한 전기 전도도를 부여할 수 있는 조건으로 수행되는 것이 바람직하다.The substrate on which the wiring is formed is subjected to a heat treatment step again to form a bond between the metal particles. When the wiring is formed by the inkjet method, the wiring may be performed by a heat treatment process that is usually performed. For example, the heat treatment may be performed at a temperature of 200 to 300 ° C. for 20 to 120 minutes. Such heat treatment is preferably performed under conditions that can impart excellent electrical conductivity to the wiring.
본 발명에 의하면, 종래의 표면처리방법에 의할 때보다 기판에서의 잉크의 퍼짐성을 감소시키고, 끊어짐과 벌지(bulge)가 없는 미세 선폭을 형성할 수 있다. According to the present invention, it is possible to reduce the spreadability of the ink on the substrate and to form a fine line width without breakage and bulge, as compared with the conventional surface treatment method.
이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 하나, 하기의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the following Examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the present invention.
<실시예 1-2><Example 1-2>
각 구성성분을 하기 표 1의 함량에 따라 혼합하여 실리콘계 점착제 조성물을 제조하였다. 두께 51㎛인 폴리이미드 기판을 상기 코팅용액이 담긴 처리조에 3mm/s 의 속도로 롤러방식으로 이동시켜 코팅하였다. 이때 기판은 코팅용액에 15초 내외로 함침되어 이동되도록 하였다. 코팅된 기판은 100 ℃에서 2 ~ 5 분간 건조하여 경화시켰다. 이와 같이 표면처리된 기판 상에 20nm 내외의 은 나노입자를 포함하는 테트라데칸 용매의 비수계 잉크를 35㎛ 직경을 가지는 노즐을 이용하여 토출하여 배선을 형성하였다. 이때 비수계 잉크의 표면장력은 28.8dyne/cm였다. 형성된 배선은 200~300 ℃에서 30~60 분 동안 열처리하여 배선 패턴을 형성하였다. Each component was mixed according to the content of Table 1 below to prepare a silicone-based pressure-sensitive adhesive composition. The polyimide substrate having a thickness of 51 μm was coated by moving in a roller method at a rate of 3 mm / s to a treatment tank containing the coating solution. At this time, the substrate was impregnated in the coating solution within 15 seconds to move. The coated substrate was cured by drying at 100 ° C. for 2 to 5 minutes. A non-aqueous ink of tetradecane solvent containing about 20 nm of silver nanoparticles was discharged on the surface-treated substrate by using a nozzle having a diameter of 35 μm to form wiring. At this time, the surface tension of the non-aqueous ink was 28.8 dyne / cm. The formed wiring was heat-treated at 200 to 300 ° C. for 30 to 60 minutes to form a wiring pattern.
형성된 배선의 끊어짐, 벌지(bulge) 여부 및 배선폭을 측정하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 기재하였다. The breakage of the formed wiring, the bulge (bulge) and the wiring width were measured and the results are shown in Table 1 together.
<비교예 1-3><Comparative Example 1-3>
각 구성성분을 하기 표 1의 함량에 따라 혼합한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 과정을 수행하여 배선 패턴을 형성하였다. 형성된 배선의 끊어짐, 벌지(bulge) 여부 및 배선폭을 측정하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 기재하였다.A wiring pattern was formed by performing the same process as in Example 1 except that each component was mixed according to the content of Table 1 below. The breakage of the formed wiring, the bulge (bulge) and the wiring width were measured and the results are shown in Table 1 together.
[표 1]TABLE 1
*물성평가방법* Property evaluation method
○: 라인의 끊어짐과 벌지(bulge)가 없고, 배선폭이 약 40㎛로 형성됨.(Circle): There is no line break and a bulge, and wiring width is formed in about 40 micrometers.
△: 라인의 끊어짐과 벌지(bulge)가 있고, 배선폭이 약 40㎛로 형성됨.(Triangle | delta): There exists a line break and a bulge, and wiring width is formed in about 40 micrometers.
×: 라인의 끊어짐과 벌지(bulge)가 있고 팽창현상(swelling)이 있음.X: There is a break and bulge of the line, and there is swelling.
상기 표 1에서 보는 바와 같이 본 발명에 따른 실리콘계 점착제 조성물을 가지고 표면처리를 한 경우 라인의 끊어짐과 벌지가 없이 미세선폭 형성에 유리함을 알 수 있다. As shown in Table 1, when the surface treatment with the silicone pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention can be seen that it is advantageous to form a fine line width without breaking and bulging of the line.
또한, 표면처리를 하지 않은 경우(a)와 상기 실시예 1에서 제조한 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 표면처리한 경우(b)에 형성된 배선 사진을 도 1에 나타내었다. (a)사진에서 어둡게 나타난 부분이 기판이고 밝게 나타난 부분이 배선이다. (b)사진에서 가장자리가 어둡고 얇은 선폭을 갖는 부분이 배선이다. 표면처리하지 않은 경우(a) 잉크의 퍼짐으로 라인이 잘 형성되지 않았으며 약 100~200㎛의 배선폭을 나타낸 반면, 상기 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 표면처리한 경우(b) 깨끗하고 해상도가 높은 라인이 형성되었고 35~60㎛의 배선폭을 나타내었다. Moreover, the wiring photograph formed in the case where surface treatment was not carried out (a) and the surface treatment using the silicone adhesive composition prepared in Example 1 (b) is shown in FIG. (a) The dark part in the picture is the board and the bright part is the wiring. (b) In the picture, the part with dark line and dark edge is wiring. When the surface treatment was not performed (a) the lines were not well formed due to the spreading of the ink and the wiring width was about 100 to 200 μm, whereas when the surface treatment was performed using the silicone pressure-sensitive adhesive composition (b) clean and high resolution A line was formed and showed a wiring width of 35 to 60 mu m.
한편, 표면처리에 따른 접촉각 결과를 알아보기 위하여, 표면처리를 하지 않은 기판(a)과 플루오로알킬화합물(3M-novec)을 포함하는 코팅용액으로 표면처리한 기판(b)과 상기 실시예 1에서 제조한 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 표면처리한 기판(c) 각각에 20nm 내외의 은 나노 입자를 포함하는 테트라데칸 용매의 비수계 잉크를 35㎛ 직경을 가지는 노즐을 이용하여 토출하였다. 잉크 액적의 접촉각을 dataphysics TBU 90B 측정장비를 이용하여 ATSM D 724-99(토출후 경과시간: 5초)에 의거하여 측정하였다. 각각의 기판((a)~(c))에서의 잉크 액적의 접촉각 사진을 도 2에 나타내었다. 각각의 접촉각은 표면처리를 하지 않은 경우(a)가 1.1도, 플루오로알킬화합물로 표면처리한 경우(b)가 20.2도, 본 발명의 실리콘계 점착제 조성물로 표면처리한 경우(c)가 57.9도로 나타났다. On the other hand, in order to determine the contact angle results according to the surface treatment, the substrate (b) and the surface treated with a coating solution containing a substrate (a) and a fluoroalkyl compound (3M-novec) and not the surface treatment and Example 1 A non-aqueous ink of tetradecane solvent containing silver nanoparticles of about 20 nm was discharged onto each of the substrates (c) surface-treated using the silicone pressure-sensitive adhesive composition prepared by using a nozzle having a diameter of 35 μm. The contact angle of the ink droplets was measured according to ATSM D 724-99 (time elapsed after discharging: 5 seconds) using a dataphysics TBU 90B measuring device. The contact angle photograph of the ink droplet in each board | substrate (a)-(c) is shown in FIG. Each contact angle was 1.1 degrees when the surface treatment was not performed (a), 20.2 degrees when the surface treatment was performed with a fluoroalkyl compound (2) degrees, and 57.9 degrees when the surface treatment was performed with the silicone pressure-sensitive adhesive composition of the present invention (c). appear.
이와 같이, 본 발명에 따른 실리콘계 점착제 조성물을 이용하여 기판을 표면처리하는 경우 접착력이 좋을 뿐만 아니라 잉크의 퍼짐성이 억제되어 해상도가 높은 미세 배선을 형성할 수 있음을 알 수 있다. As described above, it can be seen that when the substrate is treated using the silicone pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention, not only the adhesive force is good but also the spreadability of the ink is suppressed to form a fine wiring having high resolution.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 물론이다.The present invention is not limited to the above embodiments, and many variations are possible by those skilled in the art within the spirit of the present invention.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 실리콘계 점착제 조성물, 이를 이용한 기판의 표면처리방법 및 미세 패턴의 형성방법에 의하면 배선의 접착력을 향상시킬 뿐만 아니라 기판의 표면에너지를 낮추어 잉크의 퍼짐성을 개선시켜 고품질의 미세 패턴을 형성할 수 있다.As described above, the silicone pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention, the surface treatment method of the substrate and the method of forming the fine pattern using the same, not only improve the adhesion of the wiring, but also lower the surface energy of the substrate to improve the spreadability of the ink, thereby improving the quality of the fine particles. Patterns can be formed.
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