KR100773720B1 - Vacuum processing system and method for opening and closing the same - Google Patents

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박용준
조생현
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Abstract

A vacuum processing system and a method for opening and closing the same are provided to rotate an upper cover by a rotating device having small output by changing the center of gravity of the upper cover, and rotate the upper cover stably regardless of eccentricity of the upper cover and the change of the center of gravity when the center of rotation of the upper cover and the center of gravity do not coincide with each other. A chamber main body(120) has an open upper side. An upper cover(110) is detachably combined with the upper side of the chamber main body. A detaching device separates the upper cover from the chamber main body, and moves the upper cover to rotate the upper cover. A center of gravity moving unit(300) is combined with the upper cover for moving the center of gravity of the upper cover to the center of rotation of the upper cover.

Description

진공처리장치 및 진공처리장치의 개폐방법 {Vacuum Processing System and Method for Opening and Closing the Same}Vacuum Processing System and Method for Opening and Closing the Same}

도 1은 본 발명에 따른 진공처리장치를 보여주는 사시도이다.1 is a perspective view showing a vacuum processing apparatus according to the present invention.

도 2는 도 1의 진공처리장치의 측면도이다.2 is a side view of the vacuum processing apparatus of FIG. 1.

도 3 내지 도 5는 변형된 무게중심이동부를 가지는 도 1의 진공처리장치의 변형례들을 보여주는 측면도들이다.3 to 5 are side views illustrating modified examples of the vacuum processing apparatus of FIG. 1 having a modified center of gravity moving unit.

도 6a 내지도 도 6d는 도 1의 진공처리장치의 작동과정을 보여주는 측면도들이다.6A to 6D are side views illustrating an operation process of the vacuum processing apparatus of FIG. 1.

***** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ********** Explanation of symbols for main parts of drawing *****

110 : 상부덮개 120 : 챔버본체110: upper cover 120: chamber body

300 : 무게중심이동부 310 : 무게추지지부300: center of gravity moving portion 310: weight support portion

320 : 무게추320: weight

본 발명은 진공처리시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LCD 패널용 유리기판 또는 웨이퍼 등의 기판을 식각 또는 증착하기 위한 복수개의 진공처리챔버 들을 포함하는 진공처리시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a vacuum processing system, and more particularly, to a vacuum processing system including a plurality of vacuum processing chambers for etching or depositing a substrate such as a glass substrate or a wafer for an LCD panel.

진공처리시스템은 처리공간이 내부에 형성된 챔버본체 내에 전극을 설치하고, 진공상태에서 전극에 전원을 인가하여 플라즈마를 형성하여 전극 위에 안착된 기판의 표면을 증착, 식각하는 등 처리공정을 수행하는 장치이다.The vacuum processing system is a device that installs an electrode in a chamber body in which a processing space is formed, and applies a power to the electrode in a vacuum state to form a plasma to deposit and etch a surface of a substrate seated on the electrode. to be.

종래의 진공처리장치는 상측이 개방된 챔버본체와 챔버본체의 상측에 탈착가능하게 결합되는 상부덮개로 구성된다. 그리고 상부덮개는 진공처리챔버의 유지 및 보수를 위하여 챔버본체와 분리된 후에 일측으로 이동 및 회전되도록 구성된다. Conventional vacuum processing apparatus is composed of an upper cover which is detachably coupled to the upper side of the chamber body and the upper side of the chamber body is open. And the upper cover is configured to move and rotate to one side after being separated from the chamber body for maintenance and repair of the vacuum processing chamber.

한편 LCD 패널용 유리기판은 LCD의 대형화 추세에 맞춰 그 크기가 증대되고 있는데 이에 따라서 상기와 같은 LCD 패널용 유리기판을 처리하기 위한 진공처리장치 또한 대형화되고 있다.On the other hand, the size of the glass panel for LCD panel is increasing in accordance with the trend of increasing the size of the LCD, accordingly, the vacuum processing apparatus for processing the glass substrate for the LCD panel as described above is also enlarged.

그런데 상기와 같은 종래의 진공처리장치는 대형화되면서 내부에 가해지는 진공압 또한 크게 증가하여, 증가된 진공압을 견디도록 그 두께 또한 증대되어 전체적으로 하중이 크게 증가하고 있으며, 상부덮개 또한 그 두께 및 하중이 크게 증대되고 있다.However, the conventional vacuum processing apparatus as described above has a large increase in the vacuum pressure applied to the inside, the thickness is also increased to withstand the increased vacuum pressure, the overall load is greatly increased, the top cover also the thickness and load This is greatly increased.

진공처리장치를 구성하는 상부덮개의 하중 또한 증대되어, 상부덮개를 분리하여 회전시키고자 하는 경우, 상부덮개의 하중에 대응되어 상부덮개의 하중을 견딜 수 있는 출력을 가지는 회전장치(회전모터, 감속기 등)가 필요하다.The load of the upper cover constituting the vacuum processing apparatus is also increased, and when the upper cover is to be rotated separately, the rotating device having the output that can withstand the load of the upper cover in response to the load of the upper cover (rotary motor, reducer) Etc.) is required.

특히 상부덮개의 무게중심이 회전중심으로부터 편심되거나 상부덮개의 무게중심이 변하게 되는 경우 무게중심의 변화에 따라서 보다 큰 출력을 가지는 회전장치가 필요하게 된다.In particular, when the center of gravity of the upper cover is eccentric from the center of rotation or the center of gravity of the upper cover is changed according to the change in the center of gravity it is necessary to have a rotary device having a larger output.

또한 상부덮개의 회전중심이 무게중심과 일치하지 않는 경우 회전장치에 많은 부하가 가해지게 되어 장비의 수명이 감소될 수 있는 문제가 있다.In addition, if the center of rotation of the upper cover does not match the center of gravity has a problem that the load of the rotary device is applied a lot can reduce the life of the equipment.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점 및 필요성을 인식하여, 작은 출력을 가지는 회전장치에 의하여 상부덮개를 회전시킬 수 있는 진공처리장치를 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to recognize the above problems and needs, to provide a vacuum processing apparatus capable of rotating the upper cover by a rotary device having a small output.

본 발명의 다른 목적은 상부덮개의 무게중심의 변화를 변화시켜 작은 출력을 가지는 회전장치에 의하여 상부덮개를 회전시킬 수 있는 진공처리장치를 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a vacuum processing apparatus capable of rotating a top cover by a rotating device having a small output by changing a change in the center of gravity of the top cover.

본 발명의 또 다른 목적은 상부덮개의 무게중심이 편심되거나 변화에 관계없이 안정적으로 상부덮개를 회전시킬 수 있는 진공처리장치의 개폐방법을 제공하는 데 있다.Still another object of the present invention is to provide a method of opening and closing a vacuum processing apparatus capable of stably rotating the top cover regardless of the center of gravity of the top cover or eccentricity.

본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 상측이 개방된 챔버본체와; 상기 챔버본체의 상측에 탈착가능하게 결합되는 상부덮개와; 상기 상부덮개를 상기 챔버본체로부터 분리하여 이동시킨 후에 회전시키는 탈착장치와; 상기 상부덮개와 결합되어 상기 상부덮개의 무게중심을 상기 상부덮개의 회전중심으로 이동시키기 위한 무게중심이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치를 개시한다.The present invention has been created to achieve the object of the present invention as described above, the present invention is the chamber body is open on the upper side; An upper cover detachably coupled to an upper side of the chamber body; A detachment device for rotating the upper cover after separating and moving from the chamber body; It is coupled to the upper cover discloses a vacuum processing apparatus comprising a weight center moving unit for moving the center of gravity of the upper cover to the rotation center of the upper cover.

상기 상부덮개의 외측에는 구조를 보강하기 위한 구조보강부가 추가로 설치 될 수 있으며, 상기 상부덮개의 상면에 결합되는 격자형 구조를 이루도록 구성될 수 있다. 이때 상기 무게중심이동부는 상기 무게중심이동부는 상기 구조보강부에 설치될 수 있다.Structural reinforcement for reinforcing the structure may be additionally installed on the outside of the upper cover, it may be configured to form a grid-like structure coupled to the upper surface of the upper cover. In this case, the weight center moving part may be installed in the structural reinforcing part.

상기 착탈장치는 상기 상부덮개를 상기 챔버본체로부터 승강시키는 승강장치와, 상기 상부덮개를 수평 이동시키는 이동장치와; 상기 상부덮개를 회전시키는 회전장치를 포함하여 구성될 수 있다.The detachable device includes an elevating device for elevating the upper cover from the chamber body, and a moving device for horizontally moving the upper cover; It may be configured to include a rotating device for rotating the upper cover.

상기 무게중심이동부는 상기 무게중심을 상기 회전중심과 일치시키거나 더 높게 위치될 수 있다.The center of gravity moving unit may be positioned higher than or equal to the center of rotation.

상기 무게중심이동부는 상기 상부덮개의 상면에 결합되는 무게추지지부와; 상기 무게추지지부를 따라서 이동하여 결합된 상부덮개의 무게중심을 이동시키는 무게추를 포함하여 구성될 수 있다.The weight center moving unit and the weight support portion coupled to the upper surface of the upper cover; It may be configured to include a weight to move the center of gravity of the upper cover coupled to move along the weight support.

상기 무게추는 사용자의 조작에 의하여 이동 가능하게 설치될 수 있다. 그리고 상기 무게중심이동부는 상기 무게추가 상기 무게추지지부를 따라서 이동시키는 무게추이동장치를 포함하여 구성될 수 있다.The weight may be installed to be movable by the user's operation. The weight center moving unit may include a weight moving device for moving the weight along the weight supporting unit.

상기 무게추는 상기 무게추지지부에 탈착가능하게 결합되는 복수개의 추들로 구성될 수 있다.The weight may be composed of a plurality of weights detachably coupled to the weight support portion.

또한 상기 무게중심이동부는 상기 상부덮개의 상측에 회전가능하게 설치되는 하나 이상의 무게추와, 상기 무게추를 회전시키기 위한 회전장치를 포함하여 구성될 수 있다.In addition, the center of gravity moving unit may be configured to include at least one weight rotatably installed on the upper side of the upper cover, and a rotating device for rotating the weight.

또한 본 발명은 상측이 개방된 챔버본체와, 상기 챔버본체의 상측에 탈착가 능하게 결합되는 상부덮개를 포함하는 진공처리장치를 개폐하기 위한 진공처리장치의 개폐방법으로서, 상기 상부덮개를 상기 챔버본체로부터 분리하여 이동시키는 분리단계와; 이동된 상기 상부덮개의 무게중심을 상기 상부덮개의 회전중심으로 이동시키는 무게중심이동단계와; 상기 상부덮개를 회전시키는 회전단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 개폐방법을 개시한다.In another aspect, the present invention provides a method of opening and closing a vacuum processing apparatus for opening and closing a vacuum processing apparatus including a chamber body having an upper side and an upper cover detachably coupled to an upper side of the chamber body, wherein the upper cover is removed from the chamber body. A separation step of separating and moving; A center of gravity movement step of moving the center of gravity of the moved upper cover to the center of rotation of the upper cover; Disclosed is a method for opening and closing a vacuum processing apparatus comprising a rotating step of rotating the upper cover.

상기 무게중심이동단계에서는 상기 상부챔버 내에 설치된 모듈들의 하중에 따라서 상기 상부챔버의 무게중심을 계산하고, 상기 계산된 무게중심을 상기 상부덮개의 회전축으로 이동시킬 수 있다.In the center of gravity movement step, the center of gravity of the upper chamber may be calculated according to the load of the modules installed in the upper chamber, and the calculated center of gravity may be moved to the rotation axis of the upper cover.

상기 무게중심이동단계에서는 상기 상부챔버의 무게중심을 측정하고, 상기 측정된 무게중심을 상기 상부덮개의 회전중심으로 이동시킬 수 있다.In the center of gravity movement step, the center of gravity of the upper chamber may be measured and the measured center of gravity may be moved to the center of rotation of the upper cover.

상기 회전단계에서는 상기 상부챔버의 무게중심으로 상기 상부챔버의 회전중심으로부터 편심시켜 회전시킬 수 있다.In the rotating step, the center of gravity of the upper chamber can be rotated by eccentric from the center of rotation of the upper chamber.

이하 본 발명에 따른 진공처리장치 및 그 개폐방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a vacuum processing apparatus and a method of opening and closing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 진공처리장치를 보여주는 사시도이고, 도 2는 도 1의 진공처리장치의 측면도이고, 도 3 내지 도 5는 변형된 무게중심이동부를 가지는 도 1의 진공처리장치의 변형례들을 보여주는 측면도들이다.1 is a perspective view showing a vacuum processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a side view of the vacuum processing apparatus of FIG. 1, and FIGS. 3 to 5 are variations of the vacuum processing apparatus of FIG. 1 having a modified center of gravity moving unit. Side views showing examples.

본 발명에 따른 진공처리장치는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상측이 개방된 챔버본체(120)와, 챔버본체(120)의 상측에 탈착가능하게 결합되는 상부덮개(110)를 포함하여 구성된다.1 and 2, the vacuum processing apparatus according to the present invention includes a chamber body 120, the upper side of which is open, and an upper cover 110 detachably coupled to the upper side of the chamber body 120. It is configured by.

상기 챔버본체(120) 및 상부덮개(110)는 서로 결합되어 진공처리를 위한 처리공간을 형성하며, 상부덮개(110)는 플레이트를 이루거나, 그릇 구조 등 다양한 형상을 가지도록 제작될 수 있다. 그리고 상기 챔버본체(120)는 지지프레임 (130)에 의하여 지지되어 설치될 수 있다.The chamber body 120 and the upper cover 110 are coupled to each other to form a processing space for vacuum treatment, the upper cover 110 may be manufactured to have a variety of shapes, such as forming a plate, a bowl structure. The chamber body 120 may be supported and installed by the support frame 130.

상기 상부덮개(110)는 챔버의 내부에 설치된 장치들의 수리 또는 교체 등의 유지보수를 위하여 챔버본체(120)와 탈착가능하게 결합되며, 챔버본체(120)로부터 상부덮개(110)를 탈착하기 위하여 탈착장치가 결합되거나 그 주변에 설치된다.The upper cover 110 is detachably coupled with the chamber body 120 for maintenance, such as repair or replacement of the devices installed in the chamber, to remove the upper cover 110 from the chamber body 120 Desorption devices are combined or installed around them.

상기 상부덮개(110)에는 처리공간 내로 가스를 공급하기 위한 가스공급시스템(미도시), 처리공간 내에 플라즈마를 형성하도록 전원을 인가하는 전극(미도시) 등 다양한 모듈 및 장치들이 설치될 수 있다.The upper cover 110 may be provided with various modules and devices, such as a gas supply system (not shown) for supplying gas into the processing space, an electrode (not shown) for applying power to form a plasma in the processing space.

한편 상기 상부덮개(110)는 처리공간 내에 형성되는 진공압을 견딜 수 있을 정도의 두께로 제작된다. 그리고 진공압으로 인하여 챔버의 내벽이 변형되는 것을 방지할 수 있도록 그 외측에는 구조를 보강하기 위한 구조보강부(150)가 추가로 설치될 수 있다.On the other hand, the upper cover 110 is manufactured to a thickness enough to withstand the vacuum pressure formed in the processing space. And the structural reinforcement unit 150 for reinforcing the structure may be additionally installed on the outside of the chamber so as to prevent the inner wall of the chamber from being deformed due to the vacuum pressure.

상기 구조보강부(150)는 상부덮개(110)의 상면에 결합되는 격자형 구조를 이루도록 구성될 수 있으며, H 빔 등이 나사결합 또는 용접에 의하여 상부덮개(110)의 상면에 결합된다.The structural reinforcing part 150 may be configured to form a lattice structure coupled to the upper surface of the upper cover 110, the H beam is coupled to the upper surface of the upper cover 110 by screwing or welding.

상기 탈착장치는 상부덮개(110)를 챔버본체(120)로부터 분리하여 이동시킨 후에 회전시키는 장치로서, 다양한 구성이 가능하며, 상부덮개(110)를 승강이동, 수평이동 및 회전이동시키도록 구성된다. 여기서 승강이동 및 수평이동은 동시에 구현될 수도 있다.The detachable device is a device that rotates after the upper cover 110 is separated from the chamber body 120 and moved, and various configurations are possible, and the upper cover 110 is configured to move up and down, horizontally and rotately. . In this case, the lifting movement and the horizontal movement may be implemented at the same time.

상기 탈착장치는 일예로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 챔버본체(120)의 양측에 설치되어 상부덮개(110)의 이동을 가이드하는 한 쌍의 가이드부재(210)와, 상부덮개(110)를 승강시키는 승강장치(240)와, 상부덮개(110)를 수평 이동시키는 이동장치(220)및 상부덮개(110)를 회전시키는 회전장치(230)를 포함하여 구성될 수 있다. 여기서 상기 승강장치(240), 이동장치(220) 및 회전장치(230)는 설계에 따라서 서로 분리되어 설치되거나, 하나의 조립체로도 구성이 가능하다.As an example, as shown in FIG. 1, the detachable device is provided on both sides of the chamber body 120 to provide a pair of guide members 210 to guide the movement of the upper cover 110 and the upper cover 110. It may be configured to include a lifting device 240 for elevating, a moving device 220 for moving the upper cover 110 horizontally and a rotating device 230 for rotating the upper cover 110. Here, the lifting device 240, the moving device 220 and the rotating device 230 may be separated from each other according to the design, or may be configured as a single assembly.

상기 가이드부재(210)는 상부덮개(110)의 이동을 가이드하도록 구성되는 바, 챔버본체(120)의 측면에 위치된 제1가이드부재(211)와, 챔버본체(120)로부터 돌출되어 설치되는 제2가이드부재(212)를 포함하여 구성될 수 있다.The guide member 210 is configured to guide the movement of the upper cover 110, the first guide member 211 is located on the side of the chamber body 120 and protruding from the chamber body 120 is installed It may be configured to include a second guide member (212).

상기 제1가이드부재(211) 및 제2가이드부재(412)는 일체로 구성되거나, 서로 분리가능하게 구성될 수 있으며, 제2가이드부재(212)가 이동가능하게 설치될 수 있다.The first guide member 211 and the second guide member 412 may be integrally formed or separated from each other, and the second guide member 212 may be installed to be movable.

상기 제1가이드부재(211)는 챔버본체(120)의 측면에 결합되거나 분리되어 설치될 수 있으며, 승강장치(240)에 의하여 승강가능하게 설치될 수 있다. 이때 상기 승강장치(240)는 제1가이드부재(211)를 승강 가능하도록 구성하였으나 이 이외에도 다양한 구성이 가능하다.The first guide member 211 may be coupled to or separated from the side of the chamber body 120, and may be installed to be elevated by the lifting device 240. In this case, the elevating device 240 is configured to elevate the first guide member 211, but various other configurations are possible.

그리고 상기 제2가이드부재(212)는 상부덮개(110)가 미리 설정된 위치로 이동될 수 있게 가이드하도록 구성되며, 지지프레임(140)에 지지되어 설치될 수 있다. 이때 상기 제2가이드부재(212)는 상부덮개(110)를 분리시키기 위하여 제1가이 드부재(211)가 승강될 때 제1가이드부재(211)의 높이와 같은 높이를 가지도록 설치된다.The second guide member 212 may be configured to guide the upper cover 110 to be moved to a predetermined position, and may be supported and installed on the support frame 140. In this case, the second guide member 212 is installed to have the same height as that of the first guide member 211 when the first guide member 211 is lifted to separate the upper cover 110.

상기 이동장치(220)는 가이드부재(210)를 따라서 상부덮개(110)를 이동시키도록 구성되며, 스크류 방식, 랙과 피니언 결합 등 선형이동장치로 구성된다.The moving device 220 is configured to move the upper cover 110 along the guide member 210, and is composed of a linear moving device such as screw type, rack and pinion coupling.

상기 회전장치(230)는 회전축(231)이 상부덮개(110)와 결합되는 회전모터로 구성되며, 상기 회전축(231)은 상부덮개(110)에 직접 결합되거나, 도시된 바와 같이, 상부덮개(110)에 브라켓(111)이 설치되고, 상기 회전축(231)은 브라켓(111)에 결합된다.The rotating device 230 is composed of a rotating motor in which the rotating shaft 231 is coupled to the upper cover 110, the rotating shaft 231 is directly coupled to the upper cover 110, or as shown, the upper cover ( The bracket 111 is installed on the 110, and the rotation shaft 231 is coupled to the bracket 111.

한편 상기 회전장치(230)의 회전축(231)은 상부덮개(110)의 회전중심(R)을 이루게 되며, 그 회전중심(R)은 상부덮개(110)의 무게중심과(C) 일치하는 것이 바람직하다.Meanwhile, the rotating shaft 231 of the rotating device 230 forms the center of rotation R of the upper cover 110, and the center of rotation R coincides with the center of gravity of the upper cover 110. desirable.

그런데 상기 회전축(231)이 상부덮개(110)에 직접 결합되는 경우 상부덮개(110)에는 결합부분이 구조적으로 취약해짐에 따라서 그 만큼 두께를 증대시킬 필요가 있으므로 상부덮개(110)에 브라켓(111)을 설치하여 회전축(231)과 결합되는 것이 바람직하다.By the way, when the rotating shaft 231 is directly coupled to the upper cover 110, the upper cover 110, as the coupling portion becomes structurally weak, so it is necessary to increase the thickness by the bracket 111 on the upper cover 110 It is preferable to be coupled to the rotating shaft 231 by installing).

그러나 상기와 같이 브라켓(111)에 의하여 상부덮개(110)와 회전축(231)이 결합된 경우 그 만큼 무게중심(C)이 회전중심(R)보다 아래쪽에 위치되게 된다.However, when the upper cover 110 and the rotation shaft 231 are coupled by the bracket 111 as described above, the center of gravity C is located below the rotation center R by that much.

또한 상부덮개(110)에 설치된 가스공급시스템, 전극 등이 제거되거나, 교체되는 등 무게에 변화가 발생하는 경우 무게중심(C)이 회전중심(R)과 일치하지 않게 된다.In addition, if a change in weight occurs, such as a gas supply system, an electrode, or the like installed on the upper cover 110, the center of gravity C will not coincide with the center of rotation R.

따라서 무게중심(C) 및 회전중심(R)이 일치하지 않는 경우 상부덮개(110)를 회전시키는 데 보다 큰 출력을 가지는 회전모터를 사용하여야 된다는 점들을 고려하여, 본 발명에 따른 진공처리장치는 상부덮개(110)와 결합되어 상부덮개(110)의 무게중심(C)을 상부덮개(110)의 회전중심(R)으로 이동시키기 위한 무게중심이동부(300)를 추가로 포함한다.Therefore, in consideration of the fact that the center of gravity (C) and the rotation center (R) does not match, the rotary motor having a larger output to rotate the upper cover 110, in accordance with the present invention, Combined with the top cover 110 further includes a center of gravity moving unit 300 for moving the center of gravity (C) of the top cover 110 to the center of rotation (R) of the top cover (110).

상기 무게중심이동부(300)는 상부덮개(110)의 무게중심(C)을 이동시키도록 구성되며, 설계 및 디자인에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 도 1과 도 2에 도시된 바와 같이, 상부덮개(110)의 상면에 결합되는 무게추지지부(310)와, 무게추지지부(310)를 따라서 이동하여 상부덮개(110)의 무게중심(C)을 이동시키는 무게추(320)를 포함하여 구성될 수 있다.The center of gravity moving unit 300 is configured to move the center of gravity (C) of the upper cover 110, various configurations are possible according to the design and design, as shown in Figures 1 and 2, the upper It comprises a weight support portion 310 coupled to the upper surface of the cover 110, and the weight 320 to move along the weight support portion 310 to move the center of gravity (C) of the upper cover 110 Can be.

상기 무게추지지부(310)는 상부덮개(110)의 상면에 설치된 하나 이상의 부재들로 구성될 수 있으며, 바람직하게는 무게중심(C)이 회전중심(R)을 축선으로 하여 상하로만 이동될 수 있도록 회전축(231)이 결합된 부분에 서로 마주보며 쌍으로 설치될 수 있다. 그리고 상기 무게추지지부(310)는 구조보강부(150)가 설치된 경우 구조보강부(150) 상에 설치될 수 있다.The weight support portion 310 may be composed of one or more members installed on the upper surface of the upper cover 110, preferably the center of gravity (C) can be moved only up and down with the rotation center (R) as an axis The rotating shaft 231 may be installed in pairs facing each other on the combined portion. The weight support part 310 may be installed on the structural reinforcement part 150 when the structural reinforcement part 150 is installed.

한편 상기 무게중심이동부(300)는 다양한 구성 및 방식이 가능한 바, 도 2에 도시된 바와 같이, 무게추지지부(310)에 결합되는 무게추(320)가 하나 이상으로 구성되어 사용자의 수작업 등의 조작에 의하여 무게추지지부(310)를 따라서 상하로 이동시키도록 구성될 수 있다.On the other hand, the center of gravity moving unit 300 is possible in a variety of configurations and methods, as shown in Figure 2, the weight weight 320 is coupled to the weight support portion 310 is composed of one or more of the user's manual, etc. It can be configured to move up and down along the weight support portion 310 by the operation of.

또한 상기 무게중심이동부(300)는 도 3에 도시된 바와 같이, 제어부(미도시) 의 제어에 의하여 무게추(320)를 무게추지지부(310)를 따라서 상하로 이동시키는 무게추이동장치(330)가 추가로 설치될 수 있다. 이때 무게추이동장치(330)는 무게추지지부(310)로 대체될 수 있다.In addition, as shown in Figure 3, the center of gravity moving unit 300, the weight moving device for moving the weight 320 up and down along the weight support unit 310 by the control of the controller (not shown) ( 330 may be additionally installed. At this time, the weight movement device 330 may be replaced by the weight support portion (310).

또한 상기 무게중심이동부(300)는 도 4에 도시된 바와 같이, 상부덮개(110)의 상측에 회전가능하게 설치되는 하나 이상의 무게추(320)와, 상기 무게추(320)를 회전시키기 위한 회전장치(340)로 구성될 수 있다.In addition, the center of gravity moving unit 300, as shown in Figure 4, at least one weight (320) rotatably installed on the upper side of the upper cover 110, and for rotating the weight (320) It may be composed of a rotating device (340).

한편 상기 무게추(320)는 도 5에 도시된 바와 같이, 사용자의 조작의 편의, 상부덮개(110)의 하중변화를 고려하여, 무게추지지부(310)에 탈착가능하게 결합되는 복수개의 추(321)들을 포함하여 구성될 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 5, the weight 320 has a plurality of weights detachably coupled to the weight support part 310 in consideration of the user's convenience and the load change of the upper cover 110. And 321.

상기와 같은 구성을 가지는 진공처리장치의 개폐방법에 관하여 도 6a 내지 도 6d를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.The opening and closing method of the vacuum processing apparatus having the above configuration will be described in detail with reference to FIGS. 6A to 6D.

먼저 도 6a에 도시된 바와 같이, 착탈장치는 챔버본체(120)으로부터 상부덮개(110)를 분리시킨다. 이때 상부덮개(110)는 승강장치(240)의 구동에 의해 제1가이드부재(211)가 제2가이드부재(212)의 높이까지 상승됨으로써 챔버본체(120)로부터 이격되어 분리될 수 있다.First, as shown in Figure 6a, the detachable device separates the upper cover 110 from the chamber body 120. In this case, the upper cover 110 may be separated from the chamber body 120 by being driven up and down by the first guide member 211 to the height of the second guide member 212.

상기 상부덮개(110)가 챔버본체(120)로부터 분리된 후에는, 도 6b에 도시된 바와 같이, 상부덮개(110)는 이동장치(220)의 구동에 의하여 가이드부재(210)를 따라서 미리 설정된 위치로 이동된다. 즉, 상기 상부덮개(110)는 제1가이드부재(211)로부터 제2가이드부재(212)로 이동된다.After the upper cover 110 is separated from the chamber body 120, as shown in Figure 6b, the upper cover 110 is preset along the guide member 210 by the drive of the moving device 220 Is moved to the location. That is, the upper cover 110 is moved from the first guide member 211 to the second guide member 212.

한편 상기 제2가이드부재(212)로 이동된 후, 상부덮개(110)는 회전장치(230) 에 의하여 회전되는데 이때 상부덮개(110)의 무게중심(C)이 회전중심(R)과 일치하지 않은 경우 도 6c에 도시된 바와 같이, 무게중심이동부(300)에 의하여 무게추(320)를 이송시킴으로써 무게중심(C)이 회전중심(C)과 일치시킨다. 이때 상기 무게중심(C)이 회전중심(C)보다 더 높게 위치되어도 무방하다.On the other hand, after being moved to the second guide member 212, the upper cover 110 is rotated by the rotary device 230, where the center of gravity (C) of the upper cover 110 does not match the rotation center (R) If not, as shown in Figure 6c, by transferring the weight 320 by the center of gravity moving unit 300 to match the center of gravity (C) and the center of rotation (C). At this time, the center of gravity (C) may be located higher than the rotation center (C).

그리고 상기 상부덮개(110)의 무게중심(C)이 회전중심(C)과 일치되거나 상측으로 이동된 후에는 도 6d에 도시된 바와 같이, 회전장치(231)에 의하여 회전된다.And after the center of gravity (C) of the upper cover 110 coincides with the rotation center (C) or moved upward, as shown in Figure 6d, it is rotated by the rotating device 231.

한편 상기 상부덮개(110)가 챔버본체(120)로 결합시키는 과정은 도 6d에서 역으로 수행된다. 이때 상부덮개(110)를 회전시키기 전에 무게중심이동부(300)에 미리 상부덮개(110)의 무게중심(C)을 회전중심(C)과 일치시키거나 상측으로 이동시킨다.On the other hand, the process of coupling the upper cover 110 to the chamber body 120 is performed in reverse in Figure 6d. At this time, before the upper cover 110 is rotated, the center of gravity C of the upper cover 110 is previously matched with the rotation center C or moved upward in the center of gravity moving part 300.

한편 상기와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 진공처리장치의 개폐방법은 상부덮개(110)를 챔버본체(120)로부터 분리하여 이동시키는 분리단계(S10)와; 이동된 상부덮개(110)의 무게중심(C)을 상부덮개(110)의 회전중심(R)으로 이동시키는 무게중심이동단계(S20)와; 상부덮개(110)를 회전시키는 회전단계(S30)를 포함하여 구성될 수 있다.On the other hand, the opening and closing method of the vacuum processing apparatus according to the present invention having the configuration as described above is separated step (S10) for separating and moving the upper cover 110 from the chamber body 120; A center of gravity movement step (S20) of moving the center of gravity (C) of the moved top cover (110) to the center of rotation (R) of the top cover (110); It may be configured to include a rotating step (S30) for rotating the upper cover (110).

상기 무게중심이동단계(S20)에서는 상부챔버(110) 내에 설치된 모듈들의 하중에 따라서 상부챔버(110)의 무게중심(C)을 계산하고, 계산된 무게중심(C)을 상부덮개(110)의 회전중심(R)으로 이동시킬 수 있다.In the center of gravity movement step S20, the center of gravity C of the upper chamber 110 is calculated according to the loads of the modules installed in the upper chamber 110, and the calculated center of gravity C of the upper cover 110 is calculated. Can be moved to the center of rotation (R).

또한 상기 무게중심이동단계(S20)에서는 상부챔버(110)의 무게중심(C)을 측정하고, 측정된 무게중심(C)을 상부덮개(110)의 회전중심(R)으로 이동시킬 수 있 다.In addition, the center of gravity movement step (S20) may measure the center of gravity (C) of the upper chamber 110, and move the measured center of gravity (C) to the center of rotation (R) of the upper cover (110). .

또한 상기 회전단계(S30)에서는 상부챔버(110)의 무게중심(C)으로 상부챔버(110)의 회전중심(R)으로부터 편심시켜 회전시킬 수 있다.In addition, in the rotating step (S30) it can be rotated by eccentric from the rotation center (R) of the upper chamber 110 to the center of gravity (C) of the upper chamber (110).

본 발명에 따른 진공처리장치는 상부덮개의 회전중심과 무게중심을 일치시키도록 하여 작은 출력을 가지는 회전장치에 의하여 상부덮개를 회전시킬 수 있는 이점 있다.The vacuum processing apparatus according to the present invention has the advantage that the upper cover can be rotated by a rotating device having a small output by matching the center of rotation and the center of gravity of the upper cover.

또한 본 발명에 따른 진공처리장치는 상부덮개의 무게중심의 변화를 변화시켜 작은 출력을 가지는 회전장치에 의하여 상부덮개를 회전시킬 수 있는 이점이 있다.In addition, the vacuum processing apparatus according to the present invention has the advantage that the upper cover can be rotated by a rotating device having a small output by changing the change in the center of gravity of the upper cover.

또한 본 발명에 따른 진공처리장치의 개폐방법은 상부덮개의 회전중심과 무게중심이 불일치하는 경우 회전중심과 무게중심을 일치시켜 상부덮개의 무게중심이 편심되거나 변화에 관계없이 안정적으로 상부덮개를 회전시킬 수 있는 이점이 있다.In addition, the opening and closing method of the vacuum processing apparatus according to the present invention, if the center of rotation and the center of gravity of the upper cover is inconsistent, the center of gravity and the center of gravity of the upper cover to rotate the upper cover stably regardless of the eccentricity or change There is an advantage to this.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above by way of example, the scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.

Claims (15)

상측이 개방된 챔버본체와;A chamber body having an upper side open; 상기 챔버본체의 상측에 탈착가능하게 결합되는 상부덮개와;An upper cover detachably coupled to an upper side of the chamber body; 상기 상부덮개를 상기 챔버본체로부터 분리하여 이동시킨 후에 회전시키는 탈착장치와;A detachment device for rotating the upper cover after separating and moving from the chamber body; 상기 상부덮개와 결합되어 상기 상부덮개의 무게중심을 상기 상부덮개의 회전중심으로 이동시키기 위한 무게중심이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a center of gravity moving unit coupled to the upper cover to move the center of gravity of the upper cover to the center of rotation of the upper cover. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 무게중심이동부는 상기 무게중심을 상기 회전중심과 일치시키거나 더 높게 위치시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And the center of gravity moving unit aligns the center of gravity with or higher than the center of rotation. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부덮개의 외측에는 구조를 보강하기 위한 구조보강부가 추가로 설치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.The outer side of the upper cover is a vacuum processing apparatus, characterized in that the structural reinforcing portion is further installed to reinforce the structure. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 구조보강부는 상기 상부덮개의 상면에 결합되는 격자형 구조를 이루는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.The structural reinforcing unit is a vacuum processing apparatus, characterized in that to form a grid-like structure coupled to the upper surface of the upper cover. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 무게중심이동부는 상기 구조보강부에 설치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And the center of gravity moving part is installed in the structural reinforcing part. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 착탈장치는 상기 상부덮개를 상기 챔버본체로부터 승강시키는 승강장치와, The detachable device includes an elevating device for elevating the upper cover from the chamber body; 상기 상부덮개를 수평 이동시키는 이동장치와;A moving device for horizontally moving the upper cover; 상기 상부덮개를 회전시키는 회전장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a rotary device for rotating the upper cover. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 무게중심이동부는The center of gravity moving unit 상기 상부덮개의 상면에 결합되는 무게추지지부와;A weight support part coupled to an upper surface of the upper cover; 상기 무게추지지부를 따라서 이동하여 결합된 상부덮개의 무게중심을 이동시키는 무게추를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a weight for moving the center of gravity of the combined upper cover by moving along the weight supporting portion. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 무게추는 사용자의 조작에 의하여 이동 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And the weight is installed to be movable by a user's operation. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 무게중심이동부는 상기 무게추가 상기 무게추지지부를 따라서 이동시키는 무게추이동장치를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.The weight center moving unit further comprises a weight shifting device for moving the weight along the weight support unit. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 무게추는Said weight 상기 무게추지지부에 탈착가능하게 결합되는 복수개의 추들로 구성된 것을 특징으로 하는 진공처리장치.Vacuum processing apparatus, characterized in that consisting of a plurality of weights detachably coupled to the weight support portion. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 무게중심이동부는The center of gravity moving unit 상기 상부덮개의 상측에 회전가능하게 설치되는 하나 이상의 무게추와,One or more weights rotatably installed on an upper side of the upper cover; 상기 무게추를 회전시키기 위한 회전장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.And a rotating device for rotating the weight. 상측이 개방된 챔버본체와, 상기 챔버본체의 상측에 탈착가능하게 결합되는 상부덮개를 포함하는 진공처리장치를 개폐하기 위한 진공처리장치의 개폐방법으로 서, As a method of opening and closing a vacuum processing apparatus for opening and closing a vacuum processing apparatus including a chamber body having an upper side and an upper cover detachably coupled to an upper side of the chamber body, 상기 상부덮개를 상기 챔버본체로부터 분리하여 이동시키는 분리단계와;A separation step of separating and moving the upper cover from the chamber body; 이동된 상기 상부덮개의 무게중심을 상기 상부덮개의 회전중심으로 이동시키는 무게중심이동단계와;A center of gravity movement step of moving the center of gravity of the moved upper cover to the center of rotation of the upper cover; 상기 상부덮개를 회전시키는 회전단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 개폐방법.Opening and closing method of the vacuum processing apparatus comprising a rotating step of rotating the upper cover. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 무게중심이동단계에서는 상기 상부챔버 내에 설치된 모듈들의 하중에 따라서 상기 상부챔버의 무게중심을 계산하고, 상기 계산된 무게중심을 상기 상부덮개의 회전축으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 개폐방법.In the center of gravity movement step, the opening and closing method of the vacuum processing apparatus, characterized in that to calculate the center of gravity of the upper chamber in accordance with the load of the modules installed in the upper chamber, and to move the calculated center of gravity to the axis of rotation of the upper cover . 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 무게중심이동단계에서는 상기 상부챔버의 무게중심을 측정하고, 상기 측정된 무게중심을 상기 상부덮개의 회전중심으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 개폐방법.In the center of gravity movement step, the center of gravity of the upper chamber is measured, and the opening and closing method of the vacuum processing apparatus, characterized in that for moving the measured center of gravity to the center of rotation of the upper cover. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 회전단계에서는In the rotating step 상기 상부챔버의 무게중심으로 상기 상부챔버의 회전중심으로부터 편심시켜 회전시키는 것을 특징으로 하는 진공처리장치의 개폐방법.Opening and closing method of the vacuum processing apparatus, characterized in that the center of gravity of the upper chamber to rotate from the center of rotation of the upper chamber.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101045971B1 (en) 2008-12-29 2011-07-04 주식회사 포스코 Cast steel processing device
CN102290326A (en) * 2010-05-31 2011-12-21 东京毅力科创株式会社 Jig for retaining lid

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060094746A (en) * 2005-02-25 2006-08-30 주식회사 아이피에스 Apparatus for semiconductor process

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060094746A (en) * 2005-02-25 2006-08-30 주식회사 아이피에스 Apparatus for semiconductor process

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101045971B1 (en) 2008-12-29 2011-07-04 주식회사 포스코 Cast steel processing device
CN102290326A (en) * 2010-05-31 2011-12-21 东京毅力科创株式会社 Jig for retaining lid
KR20120106684A (en) * 2010-05-31 2012-09-26 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Jig for retaining lid
KR101234456B1 (en) * 2010-05-31 2013-02-18 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Jig for retaining lid
KR101581993B1 (en) * 2010-05-31 2015-12-31 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Jig for retaining lid

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