KR100759985B1 - Sand filering apparatus and cleaning method for the same - Google Patents

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강광남
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Abstract

A sand filtering apparatus which can remove contaminants existing between filter media of the filter medium layer as well as highly viscous contaminants formed on an upper surface of a filter medium layer of the sand filtering apparatus, and a cleaning method of the sand filtering apparatus are provided. A sand filtering apparatus(1) comprises: a sand filtering tank(10) including a filter medium layer for filtering influent, the filter medium layer being divided into a plurality of filter medium chambers; a treated water channel(20) which is installed at one side of the sand filtering tank, and through which treated water filtered in the sand filtering tank flows; a moving bridge(30) installed at an upper side of the sand filtering tank and moved along the sand filtering tank; a cleaning unit(40) which is installed at a lower side of the moving bridge, and removes contaminants accumulated on the filter medium layer by ejecting air onto the filter medium layer; and a control panel(60) controlling the moving bridge and the cleaning unit to clean the filter medium layer comprised of the plurality of filter medium chambers.

Description

사여과장치 및 그 세정방법{Sand filering apparatus and cleaning method for the same}Sand filtering device and cleaning method for it {Sand filering apparatus and cleaning method for the same}

도 1은 본 발명에 의한 사여과장치의 일 실시예를 나타낸 사시도,1 is a perspective view showing an embodiment of a filtration device according to the present invention;

도 2는 도 1의 사여과장치를 Ⅱ-Ⅱ선에서 절단하여 나타낸 단면도;FIG. 2 is a cross-sectional view of the filter device of FIG. 1 taken along line II-II; FIG.

도 3은 도 1의 사여과장치의 세정유닛의 공기노즐을 나타낸 부분 단면도,3 is a partial cross-sectional view showing an air nozzle of the cleaning unit of the filtration device of FIG.

도 4는 도 1의 사여과장치의 세정유닛이 여재칸의 여재층을 세정하는 상태를 나타낸 모식도,Figure 4 is a schematic diagram showing a state in which the cleaning unit of the filter unit of Figure 1 to clean the filter media layer of the filter compartment;

도 5는 본 발명에 의한 사여과장치의 세정방법의 일 실시예를 나타낸 순서도이다.5 is a flowchart showing an embodiment of a cleaning method of a filtration device according to the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1; 사여과장치 2; 유입수One; Filtration device 2; Influent

4; 처리수 6; 세정공간4; Treated water 6; Cleaning space

9; 오염물질 10; 사여과조9; Pollutant 10; Filtration tank

13; 유입수로 20; 처리수로13; Influent 20; With treated water

21; 처리수모관 23; 배출관21; Treated capillary 23; discharge pipe

30; 이동 브리지 40; 세정유닛30; Mobile bridge 40; Cleaning unit

41; 세정후드 42; 배출펌프41; Washing hood 42; Discharge pump

43; 오물배출로 45; 공기노즐43; 45 for waste discharge; Air nozzle

48; 공기발생기 50; 역세수단48; Air generator 50; Backwash

51; 역세펌프 53; 밀착판51; Backwash pump 53; Contact plate

55; 역세 파이프 60; 제어반55; Backwash pipe 60; panel

61; 수위센서 70; 오물수로61; Water level sensor 70; Filthy waterway

71; 오물 파이프71; Filth pipe

본 발명은 오염된 물을 여과처리하는 사여과장치에 관한 겻으로서, 더욱 상세하게는 여과시에 여재층에 쌓이는 오염물질을 세정할 수 있는 사여과장치 및 사여과장치의 세정방법에 관한 것이다.The present invention relates to a filtration device for filtering contaminated water, and more particularly, to a filtration device and a method for cleaning a filtration device capable of cleaning contaminants accumulated in the filter media layer during filtration.

일반적으로, 사여과장치는 정수처리장과 하수처리장의 최종 처리수에 포함된 현탁입자 및 부유물질을 여과처리하기 위해 사용된다. In general, the filtering device is used to filter suspended particles and suspended solids contained in the final treated water of the water treatment plant and sewage treatment plant.

이러한 사여과장치는 과립형 여재(濾材)를 사용하는 중력식 여과시설로, 운전이 쉽고 유지관리가 매우 간편하며, 운전비용과 동력을 절약할 수 있기 때문에 종래의 여과시설을 대체하여 널리 사용되고 있다.Such a filtration device is a gravity filtration facility using a granular filter medium, and is widely used in place of a conventional filtration facility because it is easy to operate, very easy to maintain, and can save operating cost and power.

그러나, 이러한 사여과장치는 고탁도의 유입수, 즉 최종 침전지 등에서 미처리된 부유입자 및 미생물 사체를 포함하는 유입수를 여과하는 경우에는 사여과장치의 여재층 상면에 부유입자 및 미생물 사체가 쌓여 점성이 높은 오염물질층이 형성 될 수 있다. 이와 같이 사여과장치의 여재층 상면에 점성이 높은 오염물질층이 형성되면 유입수의 효과적인 처리가 곤란하게 된다. 따라서, 사여과장치가 유입수를 원할하게 처리하기 위해서는 여재층 상면에 형성된 점성이 높은 오염물질 내지 오염물질층을 제거할 필요가 있다.However, such a filtration device has a high viscosity due to the accumulation of suspended particles and microorganisms on the upper surface of the filter layer of the filtration device when filtering inflow water containing untreated suspended particles and microorganisms in the final sedimentation basin. Contaminant layers may be formed. As such, when a highly viscous pollutant layer is formed on the upper surface of the filter layer of the filtration device, it is difficult to effectively treat the influent. Therefore, in order for the filtration device to process the influent smoothly, it is necessary to remove the highly viscous or contaminant layer formed on the upper surface of the filter layer.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 창안된 것으로서, 사여과장치의 여재층 상면에 형성된 점성이 높은 오염물질을 제거할 수 있는 사여과장치 및 그 세정방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention was made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a filtration apparatus and a cleaning method thereof capable of removing highly viscous contaminants formed on the upper surface of the filtration layer of the filtration apparatus.

또한, 본 발명의 다른 목적은 사여과장치의 여재층 상면의 점성이 높은 오염물질뿐만 아니라 여재층의 여재 사이에 존재하는 오염물질도 제거할 수 있는 사여과장치 및 그 세정방법을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a filtration device and a cleaning method capable of removing not only highly viscous contaminants on the upper surface of the filter layer of the filter device, but also contaminants present between the filter medium of the filter layer.

상기와 같은 본 발명의 목적은, 유입수를 여과하는 여재층을 포함하며, 상기 여재층이 복수 개의 여재칸으로 구획된 사여과조; 상기 사여과조의 일측에 설치되며, 상기 사여과조에서 여과된 처리수가 흐르는 처리수로; 상기 사여과조의 상측에 설치되며, 상기 사여과조를 따라 이동하는 이동 브리지; 상기 이동 브리지의 하측에 설치되며, 공기를 분사하여 상기 여재층에 쌓인 오염물질을 제거하는 세정유닛; 및 상기 이동 브리지 및 세정유닛을 제어하여 상기 복수 개의 여재칸을 이루는 여재층을 세정하는 제어반;를 포함하는 사여과장치를 제공함으로써 달성된다.An object of the present invention as described above, the filter medium comprising a filter medium for filtering the influent, the filter layer is divided into a plurality of filter medium; A treatment water installed at one side of the filtration tank and flowing the treated water filtered by the filtration tank; A moving bridge installed above the filtration tank and moving along the filtration tank; A washing unit installed under the moving bridge and spraying air to remove contaminants accumulated in the media layer; And a control panel for controlling the moving bridge and the cleaning unit to clean the filter layers forming the plurality of filter cells.

여기서, 상기 세정유닛은, 상기 복수 개의 여재칸 중의 하나를 덮어 세정공 간을 형성하는 세정후드; 상기 세정후드의 내측에 상기 여재칸을 향해 공기를 분사할 수 있도록 설치된 복수 개의 공기노즐; 및 상기 세정공간의 물을 외부로 배출하는 배출펌프;를 포함하는 것이 바람직하다.The cleaning unit may include: a cleaning hood covering one of the plurality of media cells to form a cleaning space; A plurality of air nozzles installed in the cleaning hood to inject air toward the filter compartment; And a discharge pump for discharging water in the cleaning space to the outside.

또한, 상기 사여과장치는 상기 처리수로와 접하는 상기 사여과조의 측벽에 상기 복수 개의 여재칸에 대응되도록 형성되며, 상기 복수 개의 여재칸에서 여과된 처리수를 상기 처리수로로 배출하는 복수 개의 배출구; 및 상기 이동 브리지의 하측에 설치되며, 상기 세정유닛에 의해 세정되는 여재칸을 역세하도록 세정되는 여재칸에 대응되는 배출구를 통해 상기 처리수로의 처리수를 역류시키는 역세수단;을 포함한다.In addition, the filtration device is formed on the side wall of the filtration tank in contact with the treatment channel, a plurality of outlets for discharging the treated water filtered in the plurality of filter cells to the treated water; And backwashing means installed at a lower side of the moving bridge, and backflowing the treated water to the treated water through an outlet corresponding to the scrubber that is cleaned so as to backwash the scrubber that is cleaned by the washing unit.

이때, 상기 세정유닛은 상기 복수 개의 공기노즐을 상하로 승강시키는 이동수단을 더 포함하는 것이 바람직하다.At this time, the cleaning unit preferably further comprises a moving means for elevating the plurality of air nozzles up and down.

또한, 상기 제어반은 상기 복수 개의 공기노즐로 공기를 분사한 후, 상기 배출펌프를 동작시킨다. In addition, the control panel injects air to the plurality of air nozzles, and then operates the discharge pump.

또한, 상기 제어반은 상기 복수 개의 공기노즐과 상기 역세수단을 동시에 동작시킬 수 있다.The control panel may simultaneously operate the plurality of air nozzles and the backwashing means.

본 발명의 다른 측면에 있어서, 상기와 같은 본 발명의 목적은, 복수 개의 여재칸을 포함하는 사여과장치에서 상기 복수 개의 여재칸에 쌓인 오염물질을 제거하는 사여과장치의 세정방법에 있어서, 1) 세정후드를 상기 복수 개의 여재칸 중 세정할 여재칸의 상측에 정지시키는 단계; 2) 복수 개의 공기노즐로 공기를 분사하여 상기 여재칸의 여재층 상면에 쌓인 오염물질을 분리시키는 단계; 및 3) 상기 복 수 개의 공기노즐의 공기분사를 중단하고, 배출펌프를 동작시켜 여재층에서 분리된 오염물질을 외부로 배출하는 단계;를 포함하는 사여과장치의 세정방법을 제공함으로써 달성된다.In another aspect of the present invention, an object of the present invention as described above, in the cleaning method of the filter device for removing contaminants accumulated in the plurality of filter cells in the filter device comprising a plurality of filter cells, 1 Stopping the cleaning hood above the media to be cleaned of the plurality of media; 2) separating the contaminants accumulated on the upper surface of the filter media layer of the filter media by injecting air with a plurality of air nozzles; And 3) stopping the air spraying of the plurality of air nozzles, and operating a discharge pump to discharge the pollutants separated from the filter media to the outside.

이때, 상기 2)단계에서, 복수 개의 공기노즐로 공기를 분사함과 동시에, 역세수단을 동작시켜 상기 여재칸의 여재층을 역세할 수 있다.At this time, in the step 2), while spraying the air with a plurality of air nozzles, it is possible to backwash the filter media layer of the filter medium by operating the backwashing means.

또는, 상기 2)단계 전에 상기 복수 개의 공기노즐을 하강시켜 상기 여재칸의 여재층 속으로 삽입하는 단계;를 더 포함할 수 있다.Alternatively, the step of lowering the plurality of air nozzles before the step 2) may be inserted into the media layer of the media box.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 사여과장치의 실시예에 대하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the filter device according to the present invention.

다만, 이하에서 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성요소에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명 및 구체적인 도시를 생략한다.However, in the following description of the present invention, if it is determined that the detailed description of the related known functions or components may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description and the detailed illustration will be omitted.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 사여과장치(1)는 사여과조(10), 처리수로(20), 이동 브리지(30), 세정유닛(40), 및 제어반(60)을 포함한다.1 and 2, the filtration device 1 according to an embodiment of the present invention is the filtration tank 10, the treatment channel 20, the moving bridge 30, the cleaning unit 40, and And a control panel 60.

사여과조(10)는 대략 직사각형의 구조물로 형성되며, 바닥에는 여재층(16)이 형성된다. 여재층(16)은 여재층 분리판(19)에 의해 복수 개의 여재칸(15)으로 구획되어 있다. 여재칸(15)은 사용되는 여재의 종류에 따라 통상 20~30mm의 폭으로 형성된다. 복수 개의 여재칸(15)은 다층 구조로 형성된다. 즉, 최상층에는 여재층(16)이 있고, 여재층(16)의 아래에는 여재층(16)을 지지하기 위한 다공판(17)이 설치되며, 다공판(17)의 아래에는 여재층(16)과 다공판(17)을 통과한 처리수(4)를 모아 처리수로(20)로 흘려보내는 처리수모관(21)이 마련된다. 처리수모관(21)의 일측은 처리수로(20)와 접하는 사여과조(10)의 측벽(11)에 설치된 배출구(23)와 연통되어 있다. 따라서, 복수 개의 여재칸(15)에서 여과된 처리수(4)는 복수 개의 배출구(23)를 통해 처리수로(20)로 배출된다. 여재층(16)은 유입수(2)를 여과할 수 있는 과립형 여재(濾材)로 이루어진다. 과립형 여재로는 모래, 무연탄, 활성탄 등이 사용된다. 다공판(17)은 여재는 통과시키지 않고, 물은 통과시킬 수 있다. 사여과조(10)의 일측에는 유입수로(13)가 형성된다. 유입수로(13)와 접하는 사여과조(10)의 측벽(12)에는 유입수(2)가 사여과조(10)로 유입되는 복수 개의 유입구(14)가 마련된다. 복수 개의 유입구(14)로는 사여과조(10)가 항상 일정 수위를 유지할 수 있도록 유입수(2)가 유입된다.Filtration tank 10 is formed of a substantially rectangular structure, the filter layer 16 is formed on the bottom. The filter medium layer 16 is partitioned into the plurality of filter cells 15 by the filter layer separating plate 19. The media box 15 is usually formed in a width of 20 to 30 mm depending on the type of media used. The plurality of filter cells 15 is formed in a multilayer structure. That is, the uppermost layer has a filter layer 16, a porous plate 17 for supporting the filter layer 16 is provided below the filter layer 16, and the filter layer 16 is disposed below the porous plate 17. ) And a treated water cap 21 for collecting the treated water 4 passing through the porous plate 17 and flowing it to the treated water channel 20. One side of the treated water cap 21 is in communication with an outlet 23 provided on the side wall 11 of the filtration tank 10 in contact with the treated water channel 20. Therefore, the treated water 4 filtered from the plurality of filter cells 15 is discharged into the treated water passage 20 through the plurality of discharge ports 23. The filter medium layer 16 consists of granular filter media which can filter the inflow water 2. Sand, anthracite, activated charcoal, etc. are used as granular media. The porous plate 17 can pass water without passing the media. One side of the filtration tank 10 is formed with an inflow channel 13. The side wall 12 of the filtration tank 10 in contact with the inflow passage 13 is provided with a plurality of inlets 14 through which the inflow water 2 flows into the filtration tank 10. Inlet water (2) is introduced into the plurality of inlets 14 so that the filtration tank 10 can maintain a constant level at all times.

처리수로(20)는 유입수로(13)의 반대편으로 사여과조(10)의 일측에 설치되며, 사여과조(10)의 복수 개의 여재칸(15)에서 여과된 처리수(4)를 모아 외부로 방류한다.The treatment channel 20 is installed at one side of the filtration tank 10 on the opposite side of the inflow channel 13 and collects the treated water 4 filtered from the plurality of filter cells 15 of the filtration tank 10. To discharge.

이동 브리지(30)는 사여과조(10)의 상측에서 사여과조(10)의 양 측벽(11,12)을 따라 직선 이동할 수 있도록 설치되는 브리지(31)와, 사여과조(10)의 양 측벽(11,12)의 상단에 설치되며 브리지(31)의 직선 이동을 안내하는 한 쌍의 레일(32)을 포함한다. 브리지(31)의 상측에는 제어반(60)과 공기발생기(48)가 설치된다. 또한, 브리지(31)의 아래에는 사여과조(10)에 담긴 유입수(2)의 높이를 측정할 수 있는 수위센서(61)가 설치된다.The moving bridge 30 may include a bridge 31 installed to move linearly along both sidewalls 11 and 12 of the filtration tank 10 at an upper side of the filtration tank 10, and both sidewalls of the filtration tank 10 ( It is installed on the top of 11, 12 and includes a pair of rails (32) for guiding the linear movement of the bridge (31). The control panel 60 and the air generator 48 are provided above the bridge 31. In addition, a water level sensor 61 is installed below the bridge 31 to measure the height of the inflow water 2 contained in the filtration tank 10.

세정유닛(40)은 이동 브리지(30)의 하측에 설치되며, 복수 개의 여재칸(15)의 상부에 쌓인 오염물질(9, 도 9 참조)을 공기로 불어내어 여재층(16)으로부터 분리하여 외부로 배출하는 것으로서, 세정후드(41), 복수 개의 공기노즐(45), 및 배출펌프(42)를 포함한다. The cleaning unit 40 is installed below the moving bridge 30, blows contaminants 9 (see FIG. 9) accumulated in the upper portion of the plurality of filter cells 15 with air to separate the filter layer 16 from the filter layer 16. As discharged to the outside, the cleaning hood 41, a plurality of air nozzles 45, and a discharge pump 42 are included.

세정후드(41)는 한 개의 여재칸(15)의 길이와 폭에 대응되는 크기를 갖는 갓 형상으로 성형되며, 복수 개의 여재칸(15) 중의 하나를 덮어 세정공간(6)을 형성한다. 즉, 세정후드(41)는 도 4에 도시된 바와 같이 사여과조(10)에 담긴 유입수(2)에 잠겨있는 상태로 세정할 여재칸(15')의 상측을 완전히 덮어 세정후드(41)와 세정할 여재칸(15')의 상측 사이에 공간(6)(이하, 이를 세정공간이라 한다)을 형성하여 이 세정공간(6) 내에 있는 유입수가 다른 여재칸(15)의 상측의 유입수들과 분리되도록 한다. 따라서, 세정후드(41) 내측의 여재칸(15') 상면에 형성된 오염물질층을 공기로 분산시켜도 세정후드(41) 외부의 유입수(2)에는 영향을 미치지 않는다. 세정후드(41)의 내부 상측에는 세정공간(6) 내의 오염물질을 포함하는 물을 외부로 배출하기 위한 오물배출로(43)가 형성된다. The cleaning hood 41 is shaped into a lampshade having a size corresponding to the length and width of one medial box 15 and covers one of the plurality of medians 15 to form a cleaning space 6. That is, the cleaning hood 41 completely covers the upper side of the filter compartment 15 ′ to be cleaned while being immersed in the inflow water 2 contained in the filtration tank 10, as shown in FIG. 4. A space 6 (hereinafter referred to as a cleaning space) is formed between the upper side of the medial chamber 15 'to be cleaned, so that the inflow water in the cleaning chamber 6 and the inflows of the upper side of the other medial chamber 15 are different. To be separated. Therefore, even if the pollutant layer formed on the upper surface of the filter compartment 15 ′ inside the cleaning hood 41 is dispersed with air, the influent 2 outside the cleaning hood 41 is not affected. A dirt discharge passage 43 is formed above the cleaning hood 41 to discharge water containing contaminants in the cleaning space 6 to the outside.

복수 개의 공기노즐(45)은 세정후드(41)의 내측에 여재층(16) 상면의 오염물질층(9)을 향해 공기를 분사할 수 있도록 설치된다. 복수 개의 공기노즐(45)은 공기 파이프(44)를 통해 연통되어 있으며, 공기 파이프(44)는 공기호스(47)를 통해 브리지(31)에 설치된 공기발생기(48)에 연결되어 있다. 또한, 공기발생기(48)와 복수 개의 공기노즐(45) 사이에는 복수 개의 공기노즐(45)을 온(on)/오프(off) 시키는 노즐 스위치(미도시)가 마련된다. 노즐 스위치를 온 시키면, 공기발생기(48)의 공기가 공기호스(47), 공기 파이프(44)를 지나 복수 개의 공기노즐(45)을 통해 분사된다. 복수 개의 공기노즐(45)을 통해 공기가 분사되면, 여재층(16) 상측의 오염물질층(9)이 분사되는 공기의 압력에 의해 분리 및 분산되어 세정공간(6)의 물에 혼합되게 된다. 이때, 여재층(16) 상측에 위치한 여재의 일부도 유동하므로 오염물질(9)이 효과적으로 여재층(16)으로부터 분리된다.The plurality of air nozzles 45 are installed inside the cleaning hood 41 to inject air toward the pollutant layer 9 on the upper surface of the filter medium layer 16. The plurality of air nozzles 45 are communicated through the air pipe 44, the air pipe 44 is connected to the air generator 48 installed in the bridge 31 through the air hose 47. In addition, a nozzle switch (not shown) is provided between the air generator 48 and the plurality of air nozzles 45 to turn on / off the plurality of air nozzles 45. When the nozzle switch is turned on, the air of the air generator 48 is injected through the air hose 47 and the air pipe 44 through the plurality of air nozzles 45. When air is injected through the plurality of air nozzles 45, the contaminant layer 9 on the upper side of the filter medium layer 16 is separated and dispersed by the pressure of the injected air and mixed in the water of the washing space 6. . At this time, since a part of the media located above the media layer 16 also flows, the pollutant 9 is effectively separated from the media layer 16.

또한, 공기 파이프(44)는 이동수단(46)에 의해 상하로 승강할 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 이때, 공기 파이프(44)는 상승 시에는 복수 개의 공기노즐(45)의 선단이 여재층(16)의 상면에 닿지 않고, 하강 시에는 공기노즐(45)의 선단이 여재층(16) 속으로 일정 깊이 삽입되도록 정하는 것이 바람직하다. 공기노즐(45)을 여재층(16) 속에 삽입한 후 고압의 공기를 분사하면 오염물질(9) 아래의 여재층(16)이 아래로부터 상측으로 분산되어 유동하므로 오염물질(9)을 효과적으로 분리 및 분산시킬 수 있다. 이동수단(46)으로는, 모터의 동력을 직선운동으로 변환하는 장치, 또는 공압 실린더와 같은 일반적인 직선이동장치를 사용할 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다.In addition, it is preferable that the air pipe 44 can be moved up and down by the moving means 46. At this time, when the air pipe 44 is raised, the tip of the plurality of air nozzles 45 does not touch the upper surface of the filter layer 16, and when the air pipe 44 is lowered, the tip of the air nozzle 45 is turned into the filter layer 16. It is desirable to define a certain depth of insertion. When the air nozzle 45 is inserted into the filter medium layer 16 and the high pressure air is injected, the filter material layer 16 under the pollutant 9 is dispersed from the bottom and flows upward, thereby effectively separating the pollutant 9. And disperse. As the moving means 46, since a device for converting the power of the motor into linear motion or a general linear moving device such as a pneumatic cylinder can be used, detailed description thereof will be omitted.

배출펌프(42)는 세정공간(6)의 물, 즉 분산된 오염물질을 포함하는 유입수를 외부로 배출하는 것으로서, 세정후드(41)의 상측에 설치된다. 배출펌프(42)의 흡입단(42a)은 세정후드(41)의 내측의 오물배출로(43)와 연통되어 있으며, 배출펌프(42)의 배출단은 오물 파이프(71)과 연결되어 있다. 따라서, 배출펌프(42)가 작동하면 세정후드(41) 내측의 세정공간(6)에 있는 물이 흡입되어 오물 파이프(71)를 통해 배츨된다. 오물 파이프(71)는 이동 브리지(30)에 고정되어 있으며, 오물 파이 프(71)의 일단은 사여과조(10)에 설치된 오물수로(70)를 통해 외부로 배출되어 별도로 수거된다.The discharge pump 42 discharges water in the cleaning space 6, that is, inflow water containing dispersed pollutants to the outside, and is installed above the cleaning hood 41. The suction end 42a of the discharge pump 42 communicates with the waste discharge path 43 inside the cleaning hood 41, and the discharge end of the discharge pump 42 is connected with the waste pipe 71. Therefore, when the discharge pump 42 is operated, water in the cleaning space 6 inside the cleaning hood 41 is sucked and discharged through the waste pipe 71. The waste pipe 71 is fixed to the moving bridge 30, one end of the waste pipe 71 is discharged to the outside through the waste water channel 70 installed in the filtration tank 10 is collected separately.

상기와 같은 세정유닛(40)은 오염물질층(9)을 제거하는 효율을 높이고, 여재칸(15)의 여재층(16)을 이루는 여재들 사이에 끼인 오염물질을 제거하여 여재를 세정할 수 있도록 역세수단(50)을 더 포함하는 것이 바람직하다.The cleaning unit 40 as described above can increase the efficiency of removing the contaminant layer 9 and clean the media by removing contaminants caught between the media forming the media layer 16 of the media compartment 15. It is preferable to further include a backwashing means (50).

역세수단(50)은 이동 브리지(30)의 하측에 설치되며, 처리수로(20)로 흐르는 처리수(4)의 일부를 복수 개의 여재칸(15) 중의 어느 하나의 여재칸(15)으로 역류시켜 여재층(16)을 세정하는 것으로서, 역세펌프(51)와, 역세 파이프(55)와, 밀착판(53)을 포함한다. 역세펌프(51)는 처리수로(20)에 잠기도록 설치되며 처리수(4)를 흡입하여 일정한 압력으로 분출한다. 밀착판(53)은 판 형상으로 형성되며, 밀착판(53)의 중앙에는 사여과조(10)의 측벽(11)에 마련된 복수 개의 배출구(23)와 선택적으로 연통되는 역류공(53a)이 형성되어 있다. 역류공(53a)은 배출구(23)의 지름에 대응되는 장공으로 형성된다. 밀착판(53)은 이동 브리지(30)에 연결되어 이동 브리지(30)가 이동하면 사여과조(10)의 측벽(11)을 따라 이동한다. 따라서, 이동 브리지(30)가 세정할 여재칸(15', 도 4 참조)에 정지하면, 밀착판(53)은 세정할 여재칸(15')의 배출관(23')과 연통된다. 역세 파이프(55)는 역세펌프(51)와 밀착판(53)의 역류공(53a)을 연결하는 것으로서 역세펌프(51)에 의해 흡입된 처리수(4)가 밀착판(53)으로 흐르도록 한다. 따라서, 역세펌프(51)가 작동하면, 처리수로(20)에 있는 처리수(4)가 흡입되어 역세 파이프(55)를 통해 밀착판(53)의 역류공(53a)으로 분출된다. 역류공(5a)으로 분출된 처리수(4)는 배출관(23)과 처리수모 관(21)을 통해 다공판(17)으로 분출된다. 다공판(17)으로 분출되는 처리수(4)의 압력에 의해 다공판(17)의 상측의 여재층(16)이 팽창하게 된다. 통상 역세펌프(51)가 처리수(4)를 611~815 lpm/㎡ 의 압력으로 분출하면, 여재칸(15)을 형성하는 여재층(16)이 약 10~20% 정도 팽창한다. 이와 같이 여재층(16)이 팽창하면, 여재층(16)을 구성하는 여재들이 유동하므로 여재층(16) 상측에 있던 오염물질층(9)도 분산되고, 여재 사이에 끼어 있던 오염물질이 분리되어 부유하여 여재층(16)의 상측으로 이동하게 된다. 이와 같이 처리수(4)를 역류시켜 여재층(16)을 세정하는 것을 역세라 한다.The backwashing means 50 is installed below the moving bridge 30, and a part of the treated water 4 flowing into the treated water channel 20 is transferred to any one of the plurality of filter cells 15. A backwash pump 51, a backwash pipe 55, and an adhesion plate 53 are included to wash the filter medium layer 16 by backflowing. The backwash pump 51 is installed to be immersed in the treated water channel 20 and sucks the treated water 4 and ejects it at a constant pressure. The contact plate 53 is formed in a plate shape, and the center of the contact plate 53 is formed with a back flow hole 53a selectively communicating with a plurality of outlets 23 provided in the side wall 11 of the filtration tank 10. It is. The backflow hole 53a is formed as a long hole corresponding to the diameter of the outlet 23. The contact plate 53 is connected to the moving bridge 30 and moves along the side wall 11 of the filtration tank 10 when the moving bridge 30 moves. Therefore, when the moving bridge 30 stops at the medial chamber 15 '(refer to FIG. 4) to be cleaned, the contact plate 53 is in communication with the discharge pipe 23' of the medial chamber 15 'to be cleaned. The backwash pipe 55 connects the backwash pump 51 and the backflow hole 53a of the contact plate 53 so that the treated water 4 sucked by the backwash pump 51 flows into the contact plate 53. do. Therefore, when the backwash pump 51 is operated, the treated water 4 in the treated water channel 20 is sucked and ejected into the backflow hole 53a of the contact plate 53 through the backwash pipe 55. The treated water 4 ejected into the backflow hole 5a is ejected into the porous plate 17 through the discharge pipe 23 and the treated capillary tube 21. By the pressure of the treated water 4 jetted into the porous plate 17, the media layer 16 on the upper side of the porous plate 17 expands. Normally, when the backwash pump 51 ejects the treated water 4 at a pressure of 611 to 815 lpm / m 2, the filter medium layer 16 forming the filter compartment 15 expands by about 10 to 20%. As the filter layer 16 expands as described above, the filter media constituting the filter layer 16 flows, so that the pollutant layer 9 located above the filter layer 16 is also dispersed, and the pollutants sandwiched between the filter media are separated. It floats and moves to the upper side of the media layer 16. As described above, backwashing the treated water 4 to wash the filter medium layer 16 is referred to as reverse washing.

제어반(60)은 이동 브리지(30)가 사여과조(10)를 따라 직선이동을 하도록 하며, 여재층(16)의 오염물질(9)을 제거하기 위해 노즐 스위치를 온/오프하여 복수 개의 공기노즐(45)로부터 고압의 공기가 분사되도록 제어하고, 배출펌프(42)를 제어하여 오염물질을 포함하는 세정공간(6)의 물을 외부로 배출한다. 또한, 제어반(60)은 역세수단(50)의 역세펌프(51)를 제어하여 처리수(4)를 역류시켜 여재층(16)을 역세한다. 제어반(60)은 작업자의 조작에 의해 세정유닛(40)을 제어하여 여재층(16)에 형성된 오염물질을 제거하는 세정작업을 할 수 있다. 또는, 사여과조(10)에 설치된 수위센서(61)로 감지한 사여과조(10)의 수위가 설정치 이상 되면 자동으로 세정작업을 시작하거나, 일정 시간 간격으로 세정작업을 하도록 세정유닛(40)을 제어할 수 있다. 세정작업을 할 때, 제어반(60)은 이동 브리지(30)를 이동시키면서, 복수 개의 여재칸(15)을 순차적으로 세정한다.The control panel 60 allows the moving bridge 30 to move linearly along the filtration tank 10 and turns the nozzle switch on and off to remove the contaminants 9 of the media layer 16. The high pressure air is injected from the 45, and the discharge pump 42 is controlled to discharge the water in the cleaning space 6 including the pollutants to the outside. In addition, the control panel 60 controls the backwash pump 51 of the backwashing means 50 to backflow the treated water 4 to backwash the filter layer 16. The control panel 60 may perform a cleaning operation of controlling the cleaning unit 40 by an operator to remove contaminants formed in the media layer 16. Alternatively, when the water level of the filtration tank 10 detected by the water level sensor 61 installed in the filtration tank 10 is more than the set value, the cleaning operation is automatically started or the cleaning unit 40 is cleaned at a predetermined time interval. Can be controlled. When the cleaning operation is performed, the control panel 60 sequentially cleans the plurality of media compartments 15 while moving the movable bridge 30.

이하, 상기와 같은 본 발명에 의한 사여과장치(1)의 작용에 대해 첨부된 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the filtration device 1 according to the present invention as described above will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

유입수로(13)를 통해 유입되는 유입수(2)는 복수 개의 유입구(14)를 통해 사여과조(10)를 일정 수위로 채우게 된다. 사여과조(10)를 채운 유입수(4)는 중력에 의해 복수 개의 여재칸(15)으로 구획된 여재층(16)에 의해 여과되어 다공판(17)을 통해 처리수모관(21)으로 흐른다. 이때, 여재층(16)과 다공판(17)을 차례로 통과하여 처리수모관(21)으로 배출되는 유입수(2)는 처리수(4)가 된다. 처리수모관(21)으로 배출된 처리수(4)는 배출관(23)을 통해 처리수로(20)로 배출된다. 복수 개의 배출관(23)으로부터 처리수로(20)로 배출된 처리수(4)는 처리수로(20)를 따라 방류된다. 이와 같이 사여과장치(10)는 유입수(2)를 계속 여과하여 처리수(4)를 만들어 방류하게 된다. The inflow water 2 introduced through the inflow channel 13 fills the filtration tank 10 with a predetermined level through the plurality of inlets 14. The influent 4 filled with the filtration tank 10 is filtered by the filtration layer 16 partitioned into a plurality of filtration cells 15 by gravity and flows through the porous plate 17 to the treatment capillary tube 21. At this time, the inflow water 2 which passes through the filter medium layer 16 and the porous plate 17 in sequence and is discharged to the treated water capillary tube 21 becomes the treated water 4. The treated water 4 discharged to the treated water cap 21 is discharged to the treated water channel 20 through the discharge pipe 23. The treated water 4 discharged from the plurality of discharge pipes 23 into the treated water channel 20 is discharged along the treated water channel 20. In this way, the filtration device 10 continues to filter the influent (2) to make the treated water (4) to be discharged.

그런데, 유입수(2)의 탁도가 높거나 부유물질이 많은 경우, 또는 뻘과 같은 고점성의 미립자가 함유된 경우, 여재층(16)의 상면에 이와 같은 오염물질이 쌓여 층을 형성하게 된다. 그러면, 여재층(16)에 의한 유입수(2)의 여과 효율이 떨어져 사여과조(10)의 수위가 올라가게 된다. 수위가 일정 이상 되면, 제어반(60)이 수위센서(61)를 통해 이를 감지하여 세정작업을 개시한다.However, when the turbidity of the inflow water 2 is high, or when there are many suspended substances, or when high viscosity fine particles such as water droplets are contained, such contaminants accumulate on the upper surface of the filter layer 16 to form a layer. Then, the filtration efficiency of the inflow water 2 by the filter medium layer 16 falls, and the level of the filtration tank 10 rises. When the water level is above a certain level, the control panel 60 detects this through the water level sensor 61 and starts the cleaning operation.

먼저, 이동 브리지(30)가 이동하여 복수 개의 여재칸(15) 중 세정할 하나의 여재칸(15', 도 4 참조) 위에 정지한다. 그러면, 제어반(60)은 노즐 스위치를 온 하여 복수 개의 공기노즐(45)로 고압의 공기를 분사한다. 공기가 분사되면, 공기의 압력에 의해 여재층(16) 상측에 쌓인 오염물질(9)이 분산되어 세정공간(6) 내의 물과 혼합되게 된다. 제어반(60)은 일정 시간 동안 공기를 분사한 후, 노즐 스위치를 오프하여 복수 개의 공기노즐(45)을 차단하고, 배출펌프(42)를 온 시킨다. 그러면, 세정후드(41) 내측의 세정공간(6)에 있는 물이 오물배출로(43)와 오물 파이프(71)를 통해 오물수로(70)로 배출된다. 이때, 세정되는 여재칸(15') 상측의 세정공간(6)은 옆의 여재칸(15)의 상측의 유입수(2)와 세정후드(41)에 의해 분리되어 있으므로, 하나의 여재칸(15')이 세정되는 동안에 다른 여재칸(15)에서는 정상적인 유입수(2)의 여과처리가 진행된다. 일정 시간 후에 제어반(60)은 배출펌프(42)를 오프하여 세정작업을 완료한다. 그 후, 이동 브리지(30)를 이동하여 옆의 여재칸(15)의 여재층(16)을 상기와 동일한 방법으로 세정한다. First, the movable bridge 30 moves and stops on one of the plurality of medias 15 to be cleaned 15 '(see FIG. 4). Then, the control panel 60 injects a high pressure air to the plurality of air nozzles 45 by turning on the nozzle switch. When the air is injected, the pollutants 9 accumulated above the filter medium layer 16 are dispersed by the air pressure and mixed with water in the cleaning space 6. The control panel 60 injects air for a predetermined time, turns off the nozzle switch, blocks the plurality of air nozzles 45, and turns on the discharge pump 42. Then, water in the cleaning space 6 inside the cleaning hood 41 is discharged to the waste water channel 70 through the waste discharge passage 43 and the waste pipe 71. At this time, since the washing space 6 above the scrubbing compartment 15 'is separated by the inflow water 2 and the scrubbing hood 41 above the scrubber compartment 15, one scrubber 15 While the ') is washed, the other inlet 15 undergoes normal filtration of the influent 2. After a certain time, the control panel 60 turns off the discharge pump 42 to complete the cleaning operation. Thereafter, the moving bridge 30 is moved to clean the media layer 16 of the media box 15 next to the above method.

여재층(16)의 오염물질(9)을 제거하는 다른 방법은, 도 4에 도시된 바와 같이, 제어반(60)이 이동수단(46)을 제어하여 복수 개의 공기노즐(45)을 여재층(16) 속으로 일정 깊이 삽입한 상태로 고압의 공기를 분사하는 것이다. 이 경우에는 고압의 공기가 여재층(16) 속에서 분사되므로 여재층(16)을 이루는 여재가 더 많은 유동을 하므로 여재가 효율적으로 교반되는 효과가 있다. 이때, 공기를 분사하는 시간과 복수 개의 공기노즐(45)을 하강하는 타이밍은 세정 효율을 높일 수 있도록 실험에 의해 결정할 수 있다. 즉, 세정조건에 따라 공기를 분사하며 공기노즐(45)을 하강할 수도 있고, 공기노즐(45)이 완전히 여재층(16)에 삽입된 후 공기를 분사하도록 제어할 수도 있다.Another method of removing the contaminant 9 of the filter medium layer 16 is, as shown in FIG. 4, the control panel 60 controls the moving means 46 to control the plurality of air nozzles 45. 16) It is spraying high pressure air with a certain depth inserted into it. In this case, since the high pressure air is injected into the filter medium layer 16, the filter medium constituting the filter layer 16 performs more flow, so that the filter medium is efficiently stirred. At this time, the time for injecting air and the timing for descending the plurality of air nozzles 45 may be determined by experiment to increase the cleaning efficiency. That is, the air nozzle 45 may be lowered by spraying air according to the cleaning condition, or the air nozzle 45 may be controlled to eject air after being completely inserted into the media layer 16.

여재층(16) 상측의 오염물질(9)의 제거효율도 높이고, 여재층(16)을 형성하는 여재 사이에 낀 오염물질을 제거하고자 하는 경우에는 복수 개의 공기노즐(45)에 의한 세정과 함께 역세수단(50)에 의해 처리수(4)를 역류시켜 역세를 동시에 수 행하는 것이 바람직하다. 역세를 하는 경우에는 복수 개의 공기노즐(45)을 여재층(16)에 삽입한 상태로 하는 것이 좋다. 공기분사와 역세에 의해 여재층(16)을 세정하는 동작을 설명하면 다음과 같다.In order to increase the removal efficiency of the contaminant 9 on the upper side of the filter medium layer 16 and to remove the contaminants caught between the filter medium forming the filter medium layer 16, the plurality of air nozzles 45 are cleaned together. It is preferable to backwash the treated water 4 by the backwashing means 50 to perform backwashing simultaneously. In the case of backwashing, it is preferable that the plurality of air nozzles 45 are inserted into the filter medium layer 16. The operation of cleaning the filter medium layer 16 by air spraying and backwashing is as follows.

먼저, 세정후드(41)를 세정할 여재칸(16)의 상측에 정지시킨다. 그 후, 제어반(60)은 이동수단(46)을 제어하여 복수 개의 공기노즐(45)을 여재층(16) 속으로 일정 깊이 삽입한 후, 노즐 스위치를 온하여 복수 개의 공기노즐(45)을 통해 고압의 공기를 분사한다. First, the washing hood 41 is stopped above the filter compartment 16 to be cleaned. Thereafter, the control panel 60 controls the moving means 46 to insert the plurality of air nozzles 45 into the filter medium layer 16 to a predetermined depth, and then turns on the nozzle switch to open the plurality of air nozzles 45. Through the high pressure air.

이와 동시에 제어반(60)은 역세펌프(51)를 동작시킨다. 역세펌프(51)가 동작하면, 처리수로(20)의 처리수(4)는 역세 파이프(55)와 밀착판(53)의 역류공(53a)을 통해 처리수모관(21)으로 분출된다. 처리수모관(21)으로 분출된 처리수(4)는 다공판(17)을 통해 여재층(16)으로 분출된다. 처리수(4)가 여재층(16)으로 분출되면 여재층(16)이 팽창하여 여재들이 유동하며 교반되게 된다. 이때, 여재층(16)의 상부에서는 복수 개의 공기노즐(45)로부터 고압의 공기가 분사되고 있으므로 여재층(16)의 상층의 오염물질(9)이 분산되고, 여재층(16)의 교반이 더욱 활발하게 이루어진다. 그러면, 분산된 상측의 오염물질과 여재들 사이에 끼여있던 오염물질이 여재로부터 분리되어 부유하여 세정공간(6)으로 이동한다. At the same time, the control panel 60 operates the backwash pump 51. When the backwash pump 51 operates, the treated water 4 of the treated water channel 20 is ejected to the treated water capillary 21 through the backflow hole 53a of the backwashed pipe 55 and the contact plate 53. . The treated water 4 ejected into the treated water cap 21 is ejected into the filter medium layer 16 through the porous plate 17. When the treated water 4 is ejected into the filter medium layer 16, the filter medium layer 16 expands and the filter media flows and is stirred. At this time, since the high pressure air is injected from the plurality of air nozzles 45 at the upper portion of the filter layer 16, the contaminants 9 of the upper layer of the filter layer 16 are dispersed, and stirring of the filter layer 16 is performed. More active. Then, the contaminants trapped between the dispersed upper contaminants and the media are separated from the media and floated to move to the cleaning space 6.

일정 시간이 경과하면, 제어반(60)은 노즐 스위치와 역세펌프(51)를 오프시키고, 배출펌프(42)를 온시킨다. 그러면, 세정공간(6)에 있던 오염물질을 포함하는 물이 배출펌프(42)에 의해 오물배출로(43)와 오물 파이프(71)를 통해 오물수로(70)로 배출된다.When a predetermined time elapses, the control panel 60 turns off the nozzle switch and the backwash pump 51 and turns on the discharge pump 42. Then, the water containing contaminants in the cleaning space 6 is discharged to the waste water channel 70 through the waste discharge path 43 and the waste pipe 71 by the discharge pump 42.

이와 같이 상측에서 복수 개의 공기노즐(45)로 고압의 공기를 분사하면서 여재층(16)의 하측에서는 처리수(4)를 역류시키면, 여재층(16)의 상면에 쌓인 고점성의 오염물질(9)이나, 여재들 사이에 낀 오염물질을 동시에 효과적으로 제거할 수 있다.In this way, when the high-pressure air is injected into the plurality of air nozzles 45 from the upper side and the treated water 4 is flowed back from the lower side of the medial layer 16, the highly viscous contaminants 9 accumulated on the upper surface of the medial layer 16 ), Or contaminants between media can be effectively removed at the same time.

본 발명의 다른 측면에서, 사여과장치의 세정방법의 일 실시예에 대해 도 1 및 도 5를 참조하여 설명한다.In another aspect of the present invention, an embodiment of a cleaning method of a filtration device will be described with reference to FIGS. 1 and 5.

복수 개의 여재칸(15)으로 이루어지는 사여과조(10)를 갖는 사여과장치(1)에서 복수 개의 여재칸(15)을 세정할 경우, 먼저 이동 브리지(30)를 이동하여 세정후드(41)가 세정할 여재칸(15)의 상측에 정지하도록 한다(S10). When cleaning the plurality of filter cells 15 in the filtering device 1 having the filter tank 10 composed of the plurality of filter cells 15, first, the moving bridge 30 is moved so that the cleaning hood 41 is moved. It is made to stop on the upper side of the filter compartment 15 to be cleaned (S10).

그 후, 이동수단(46)을 제어하여 복수 개의 공기노즐(45)을 하강시킨다(S20). 복수 개의 공기노즐(45)이 하강하면, 공기노즐(45)의 선단이 여재층(16) 속에 삽입된 상태가 된다. Thereafter, the moving means 46 is controlled to lower the plurality of air nozzles 45 (S20). When the plurality of air nozzles 45 descend, the tip of the air nozzle 45 is inserted into the filter medium layer 16.

이 상태에서 노즐 스위치를 온 시켜 복수 개의 공기노즐(45)로 고압의 공기를 분사한다(S30). 그러면, 복수 개의 공기노즐(45)에서 분사되는 고압의 공기에 의해 여재층(16)이 팽창하여 여재들이 유동하므로, 여재층(16) 상측의 오염물질층(9)이 분산되고 여재층(16)의 상측에 위치하는 여재들 사이에 끼인 오염물질도 여재들과 분리되어 부유하게 된다. In this state, the nozzle switch is turned on to inject high pressure air into the plurality of air nozzles 45 (S30). Then, since the filter medium layer 16 is expanded by the high pressure air injected from the plurality of air nozzles 45 and the filter media flows, the pollutant layer 9 on the filter medium layer 16 is dispersed and the filter layer 16 Pollutants trapped between media located above) also become suspended from media.

만일, 여재층(16)의 상측에서 공기를 분사하여 여재층(16) 상면의 오염물질(9)을 제거하고자 할 경우에는 복수 개의 공기노즐(45)을 하강하는 단계는 생략하고 바로 공기를 분사할 수 있다.If air is to be sprayed from the upper side of the media layer 16 to remove the contaminants 9 on the upper surface of the media layer 16, the step of lowering the plurality of air nozzles 45 is omitted and the air is directly injected. can do.

이어서, 역세수단(50), 즉 역세펌프(51)를 동작시킨다(S40). 그러면, 처리수로(20)의 처리수(4)가 역세 파이프(55)를 통해 역류하여 다공판(17)으로부터 여재층(16)으로 분출된다. 그러면, 여재층(16)이 팽창하여 여재층(16)을 이루는 여재들이 유동하게 된다. 이와 같이 여재층(16)의 상측에서 복수 개의 공기노즐(45)이 고압의 공기를 분사하고, 여재층(16)의 아래에서는 처리수(4)가 역류하여 여재층(16)을 팽창시키므로 여재층(16)의 상면에 형성된 오염물질층(9) 및 여재층(16) 내측에 존재하는 오염물질도 효과적으로 여재로부터 분리되어 세정공간(6)으로 부유하게 된다. Subsequently, the backwashing means 50, that is, the backwash pump 51 is operated (S40). Then, the treated water 4 of the treated water channel 20 flows back through the backwash pipe 55 and is ejected from the porous plate 17 to the filter medium layer 16. Then, the media layer 16 is expanded to flow the media that make up the media layer 16. As described above, the plurality of air nozzles 45 inject high pressure air from the upper side of the medial layer 16, and the treated water 4 flows backward under the medial layer 16 to expand the medial layer 16. The contaminant layer 9 formed on the upper surface of the layer 16 and the contaminants present inside the media layer 16 are also effectively separated from the media and floated in the cleaning space 6.

일정 시간이 경과하면, 복수 개의 공기노즐(45)과 역세펌프(51)를 정지시키고(S50), 배출펌프(42)를 동작시킨다(S60). 그러면, 세정공간(6) 내의 오염물질을 포함하는 물이 오물 파이프(71)를 통해 오물수로(70)로 배출된다.When a predetermined time elapses, the plurality of air nozzles 45 and the backwash pump 51 are stopped (S50), and the discharge pump 42 is operated (S60). Then, the water containing contaminants in the cleaning space 6 is discharged to the waste water channel 70 through the waste pipe 71.

일정 시간이 경과하면, 배출펌프(42)를 정지시키고(S70), 이동 브리지(30)를 이동시켜 세정후드(41)를 다음 여재칸(15)으로 이동시킨다(S80). 그 후, 상기와 같은 동작을 반복하여 복수 개의 여재칸(15)에 쌓인 오염물질을 하나 씩 연속적으로 세정할 수 있다.After a certain time has elapsed, the discharge pump 42 is stopped (S70), and the moving bridge 30 is moved to move the washing hood 41 to the next filter compartment 15 (S80). Thereafter, the above operation may be repeated to continuously clean the contaminants accumulated in the plurality of filter cells 15 one by one.

상기에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의한 사여과장치 및 그 세정방법에 의하면, 복수 개의 공기노즐에서 분사된 공기가 직접 여재층에 쌓인 오염물질을 분산시키므로 쉽게 점성이 높은 오염물질층을 제거할 수 있다. As described above, according to the filtration device and the cleaning method thereof according to the present invention, since the air injected from the plurality of air nozzles directly disperses the pollutants accumulated in the filter layer, it is possible to easily remove the highly viscous pollutant layer. .

또한, 본 발명에 의한 사여과장치 및 그 세정방법에 의하면, 복수 개의 공기 노즐에서 분사된 고압의 공기가 여재층의 상측에서 여재층 및 오염물질을 분산시키고, 역세수단에 의해 여재층의 하측에서 여재층을 팽창시키므로 오염물질의 제거가 효율적으로 이루어 진다.Further, according to the filtration device and the cleaning method thereof according to the present invention, the high pressure air injected from the plurality of air nozzles disperses the filter layer and the contaminants on the upper side of the filter layer, and the back of the filter layer by the backwashing means. As the media layer expands, contaminants are removed efficiently.

본 발명은 상술한 특정의 실시예들에 한정되지 아니하며, 후술하는 청구범위에 기재된 본 발명의 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 행할 수 있는 단순한 구성요소의 치환, 부가, 삭제, 변경은 본 발명의 청구범위 기재 범위 내에 속하게 된다.The present invention is not limited to the above-described specific embodiments, and simple components that can be carried out by those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention described in the claims below. Substitutions, additions, deletions, and alterations of are within the scope of the claims.

Claims (9)

유입수를 여과하는 여재층을 포함하며, 상기 여재층이 복수 개의 여재칸으로 구획된 사여과조;A filtration tank including a filtration layer for filtering influent, wherein the filtration layer is divided into a plurality of filtration cells; 상기 사여과조의 일측에 설치되며, 상기 사여과조에서 여과된 처리수가 흐르는 처리수로;A treatment water installed at one side of the filtration tank and flowing the treated water filtered by the filtration tank; 상기 사여과조의 상측에 설치되며, 상기 사여과조를 따라 이동하는 이동 브리지; A moving bridge installed above the filtration tank and moving along the filtration tank; 상기 이동 브리지의 하측에 설치되며, 공기를 분사하여 상기 여재층에 쌓인 오염물질을 제거하는 세정유닛; 및A washing unit installed under the moving bridge and spraying air to remove contaminants accumulated in the media layer; And 상기 이동 브리지 및 세정유닛을 제어하여 상기 복수 개의 여재칸을 이루는 여재층을 세정하는 제어반;를 포함하는 것을 특징으로 하는 사여과장치.And a control panel for controlling the moving bridge and the cleaning unit to clean the media layers forming the plurality of media compartments. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세정유닛은, The cleaning unit, 상기 복수 개의 여재칸 중의 하나를 덮어 세정공간을 형성하는 세정후드;A cleaning hood covering one of the plurality of media cells to form a cleaning space; 상기 세정후드의 내측에 상기 여재칸을 향해 공기를 분사할 수 있도록 설치된 복수 개의 공기노즐; 및A plurality of air nozzles installed in the cleaning hood to inject air toward the filter compartment; And 상기 세정공간의 물을 외부로 배출하는 배출펌프;를 포함하는 것을 특징으로 하는 사여과장치. And a discharge pump for discharging the water in the cleaning space to the outside. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 처리수로와 접하는 상기 사여과조의 측벽에 상기 복수 개의 여재칸에 대응되도록 형성되며, 상기 복수 개의 여재칸에서 여과된 처리수를 상기 처리수로로 배출하는 복수 개의 배출구; 및A plurality of outlets formed on the sidewalls of the filtration tank in contact with the treated water channel and discharging the treated water filtered by the plurality of filtered cells into the treated water channel; And 상기 이동 브리지의 하측에 설치되며, 상기 세정유닛에 의해 세정되는 여재칸을 역세하도록 세정되는 여재칸에 대응되는 배출구를 통해 상기 처리수로의 처리수를 역류시키는 역세수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 사여과장치.A backwashing means installed at a lower side of the movable bridge and for backflowing the treated water to the treated water through an outlet corresponding to the scrubber that is cleaned so as to backwash the scrubber that is cleaned by the cleaning unit; Filtration device. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, The method of claim 2 or 3, 상기 세정유닛은 상기 복수 개의 공기노즐을 상하로 승강시키는 이동수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사여과장치.And the cleaning unit further comprises a moving means for elevating the plurality of air nozzles up and down. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 제어반은 상기 복수 개의 공기노즐로 공기를 분사한 후, 상기 배출펌프를 동작시키는 것을 특징으로 하는 사여과장치.And the control panel injects air into the plurality of air nozzles, and then operates the discharge pump. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 제어반은 상기 복수 개의 공기노즐과 상기 역세수단을 동시에 동작시키는 것을 특징으로 하는 사여과장치.And said control panel operates said plurality of air nozzles and said backwashing means simultaneously. 복수 개의 여재칸을 포함하는 사여과장치에서 상기 복수 개의 여재칸에 쌓인 오염물질을 제거하는 사여과장치의 세정방법에 있어서,In the filtration method of the filtration device for removing contaminants accumulated in the plural filter cells in the filtration device comprising a plurality of filter cells, 1) 세정후드를 상기 복수 개의 여재칸 중 세정할 여재칸의 상측에 정지시키는 단계;1) stopping the cleaning hood above the media to be cleaned of the plurality of media; 2) 복수 개의 공기노즐로 공기를 분사하여 상기 여재칸의 여재층 상면에 쌓인 오염물질을 분리시키는 단계; 및2) separating the contaminants accumulated on the upper surface of the filter media layer of the filter media by injecting air with a plurality of air nozzles; And 3) 상기 복수 개의 공기노즐의 공기분사를 중단하고, 배출펌프를 동작시켜 여재층에서 분리된 오염물질을 외부로 배출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 사여과장치의 세정방법.3) stopping the air spraying of the plurality of air nozzles, and operating a discharge pump to discharge the pollutants separated from the filter media layer to the outside. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 2)단계에서, 복수 개의 공기노즐로 공기를 분사함과 동시에, 역세수단을 동작시켜 상기 여재칸의 여재층을 역세하는 것을 특징으로 하는 사여과장치의 세정방법.In step 2), at the same time injecting air to a plurality of air nozzles, at the same time by operating the backwashing means backwashing the filter layer of the filter cell, characterized in that the cleaning method of the filtration device. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,The method according to claim 7 or 8, 상기 2)단계 전에 상기 복수 개의 공기노즐을 하강시켜 상기 여재칸의 여재층 속으로 삽입하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사여과장치의 세정방법.And lowering the plurality of air nozzles and inserting the plurality of air nozzles into the media layer of the media compartment before the step 2).
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