KR101994188B1 - Apparatus for purifying polluted water using filter media - Google Patents

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KR101994188B1
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안영찬
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주식회사 에코빅
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Abstract

Disclosed is a contaminated water purification apparatus using a filter medium. The contaminated water purification apparatus using a filter medium comprises: a first chamber for storing contaminated water; a second chamber having a filtration device for filtering the contaminated water introduced from the first chamber; a third chamber in which the treated water passing through the second chamber is stored; a pressing member capable of pressing a filter medium filled in the filtration device by adjusting the volume of an inner space of the filtration device; an air injection member for injecting compressed air into the filtration device; a filter medium washing member allowing the filter medium to collide to separate contaminants attached to the filter medium; and a treated water supply member supplying the treated water stored in the third chamber to the filtration device. According to the present invention, filtration performance of the filter medium can be maintained for a long time.

Description

여재를 이용한 오염수 정화장치{APPARATUS FOR PURIFYING POLLUTED WATER USING FILTER MEDIA}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a pollutant-

본 개시는 여재를 이용한 오염수 정화장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a polluted water purification apparatus using a filter medium.

일반적으로, 수질오염원은 점오염원과 비점오염원으로 구분되며, 점오염원은 오염배출원이 하나의 점으로 지정될 수 있는 오염원을 의미한다. 점오염원은 오염물질의 이동경로 파악이 용이하여 처리가 손쉽게 이루어진다. Generally, water pollution sources are classified into point pollution sources and non-point pollution sources, and point pollution sources are pollution sources in which the pollutant emission sources can be designated as one point. Point pollution sources are easy to handle because it is easy to understand the movement path of pollutants.

비점오염원은 지표면의 오염물질들이 빗물과 섞여 배출되는 오염원을 의미하며, 비점오염원은 점오염원과는 달리, 일정한 이동경로를 나타내지 않기 때문에 경로 파악과 오염원 처리가 어려운 문제가 있다. 이와 관련하여, 대한민국 등록특허공보 제10-1453203호에는 초기우수 비점오염 정화 장치에 대한 기술이 제시된 바 있다.Nonpoint pollution sources are pollution sources of surface pollutants mixed with rainwater. Unlike point pollution sources, nonpoint pollution sources do not show a constant movement path, so it is difficult to grasp routes and to treat pollutants. In this connection, Korean Patent Registration No. 10-1453203 discloses a technique for an initial excellent non-point pollution cleaning device.

그런데, 종래에 사용되던 오염수 정화장치에는 오염수의 여과를 위한 여과재(또는 필터)가 설치되어 있었으나, 오염수를 여과시키는 과정 중 오염물질들이 여과재의 표면에 달라붙으면서 여과재의 여과 성능이 시간이 지날수록 저하되는 문제가 있었다. 따라서, 여과재를 주기적으로 교체하거나 세척하여 오염수 정화장치의 여과 성능을 유지해야 하나, 여과재의 교체 또는 세척에 상당한 비용과 시간이 소요되는 단점이 존재했다.However, in the conventional pollution control apparatus, a filter medium (or a filter) for filtering polluted water is provided. However, when pollutants stick to the surface of the filter medium during filtration of polluted water, There was a problem that deteriorated over time. Therefore, there is a disadvantage in that it is necessary to replace or wash the filter medium periodically to maintain the filtration performance of the pollution control device, but it is expensive and time consuming to replace or clean the filter medium.

아울러, 여과재는 재질이나 평균 공극의 크기별로 종류가 매우 다양하며, 각 여과재의 평균 공극의 크기에 따라 여과 효율이 상이함에 따라, 사용자는 오염수 정화장치가 설치된 장소의 환경과 여건을 먼저 고려하고, 그에 적합한 여과재를 선별하여 설치해야 하므로 여과재의 선택이 번거롭고, 여과 성능이 우수한 여과재일수록 가격이 비싸서 오염수 정화장치의 제조 단가 상승을 초래하는 문제가 있었다.In addition, since the types of the filter medium vary depending on the material and the average pore size, and the filtration efficiency differs depending on the average pore size of each filter medium, the user first considers the environment and conditions of the place where the pollution control device is installed The filter medium has to be selected and installed. Therefore, the selection of the filter medium is troublesome and the filter medium having an excellent filtration performance is expensive, resulting in an increase in the manufacturing cost of the pollution control device.

본 개시의 기술적 사상은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 여과재를 교체하지 않아도 여과재의 여과 성능을 장기간 유지할 수 있는 기술을 제공하는데 목적이 있다.The technical idea of the present disclosure is to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a technique capable of maintaining filtration performance of a filter medium for a long period of time without replacing the filter medium.

또한, 본 개시의 기술적 사상은 여과재의 수명과 내구성을 향상시키는 기술을 제공하는데 다른 목적이 있다.Further, the technical idea of the present disclosure has another purpose to provide a technique for improving the life and durability of the filter medium.

아울러, 본 개시의 기술적 사상은 여과재의 종류를 변경하거나 교체하지 않아도 여과재의 여과 성능을 임의적으로 조절할 수 있는 기술을 제공하는데 또 다른 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a technique capable of arbitrarily adjusting the filtration performance of a filter medium without changing or changing the kind of the filter medium.

본 발명이 해결하려는 과제는 전술한 과제로 제한되지 아니하며, 언급되지 아니한 또 다른 기술적 과제들은 후술할 내용으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide an apparatus and method for controlling the same.

이러한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시형태로서, 여재를 이용한 오염수 정화장치는 오염수를 저장하는 제1챔버; 상기 제1챔버로부터 유입된 오염수를 여과시키는 여과장치가 구비된 제2챔버; 상기 제2챔버를 통과한 처리수가 저장되는 제3챔버; 상기 여과장치의 내부 공간의 체적을 조절함으로써, 상기 여과장치의 내부에 충전된 여재를 압착시킬 수 있는 압착부재; 압축공기를 상기 여과장치 내부로 분사하는 공기 분사부재; 상기 여재를 충돌시켜 상기 여재에 붙어있는 오염물질을 분리시키는 여재 세척부재; 및 상기 제3챔버에 저장된 처리수를 상기 여과장치로 공급하는 처리수 공급부재;를 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, according to one embodiment of the present invention, a polluted water purification apparatus using a filtering material includes a first chamber for storing polluted water; A second chamber having a filtration device for filtering the polluted water introduced from the first chamber; A third chamber in which process water passing through the second chamber is stored; A pressing member capable of pressing the filter media filled in the filtration device by adjusting the volume of the inner space of the filtration device; An air injection member for injecting compressed air into the filtration apparatus; A filter material cleaning member for separating contaminants attached to the filter material by colliding with the filter material; And a treatment water supply member for supplying treatment water stored in the third chamber to the filtration apparatus.

그리고, 여과장치는 상기 제2챔버의 상부에 설치된 상판과, 상기 제2챔버의 하부에 설치된 하판을 포함하며, 상기 상판과 하판에는 상기 여재의 크기보다 작은 크기로 배출공이 형성되고, 상기 압착부재는 상기 상판 또는 하판과 결합된 상태에서 상기 상판과 하판 사이의 이격 거리를 조절하는 거리조절수단을 포함할 수 있다.The filtration device includes an upper plate disposed on the upper portion of the second chamber and a lower plate disposed on the lower portion of the second chamber. The upper plate and the lower plate are provided with a discharge hole having a size smaller than the size of the filter material, May include distance adjusting means for adjusting a distance between the upper plate and the lower plate in a state of being coupled with the upper plate or the lower plate.

또한, 여재 세척부재는 원통 형상의 하우징으로 마련되고, 압력형성부재를 통해 형성된 일정한 압력에 의해 상기 여과장치로부터 상기 하우징 내부로 유입된 물이 상기 하우징의 내주면 둘레를 따라 회전하면서 와류를 형성하도록 상기 하우징의 상단에는 상기 하우징의 외주면과 접선방향으로 유입관로가 설치될 수 있다.The filter medium cleaning member is provided as a cylindrical housing, and water flowing into the housing from the filtration device by a constant pressure formed through the pressure forming member rotates around the inner circumferential surface of the housing to form a vortex An inlet pipe may be provided at an upper end of the housing in a tangential direction with the outer circumferential surface of the housing.

아울러, 제1챔버 및 제2챔버의 사이에는 상기 제1챔버와 제2챔버를 구획하는 제1격벽이 위치하고, 상기 제1격벽의 하단에 형성된 유출구를 선택적으로 개폐하는 밸브부재가 상기 제1격벽의 하단에 설치될 수 있다.A first partition wall separating the first chamber and the second chamber is located between the first chamber and the second chamber, and a valve member for selectively opening and closing the outlet formed at the lower end of the first partition wall, As shown in FIG.

그리고, 여재가 상기 하우징의 내주면 둘레를 따라 회전할 때, 상기 여재에 붙어있던 오염물질이 물리적인 충격에 의해 분리되도록 상기 하우징의 내주면 둘레 방향을 따라서 일정한 간격으로 복수개의 타격판이 형성될 수 있다.When the filter material rotates around the inner circumferential surface of the housing, a plurality of impact plates may be formed at regular intervals along the circumferential direction of the inner circumferential surface of the housing so that the contaminants attached to the filter material are separated by a physical impact.

상술한 과제의 해결 수단은 단지 예시적인 것으로서, 본 발명을 제한하려는 의도로 해석되지 않아야 한다. 상술한 예시적인 실시예 외에도, 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 추가적인 실시예가 존재할 수 있다.The solution of the above-mentioned problems is merely illustrative and should not be construed as limiting the present invention. In addition to the exemplary embodiments described above, there may be additional embodiments described in the drawings and the detailed description of the invention.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 다양한 실시예에 의하면, 압축공기와 처리수를 이용하여 여재를 세척할 수 있으므로 여재를 교체하지 않아도 여재의 여과 성능이 장기간 유지될 수 있고, 여과재의 수명과 내구성이 향상되는 효과가 있다.As described above, according to various embodiments of the present invention, since the filter material can be cleaned using compressed air and treated water, the filtering performance of the filter material can be maintained for a long period of time without replacing the filter material, Is improved.

또한, 압착부재에 의해 여재를 압착시켜 여재의 평균 공극의 크기를 작게 설정할 수 있으므로 여재의 종류를 변경하거나 교체하지 않아도 여재의 여과 성능을 임의적으로 조절할 수 있으며, 오염수가 여과장치를 통과하면서 여과되는 정도나 여과 속도를 적절하게 조절하는 것이 가능하다.In addition, since the size of the average pore size of the filter material can be set small by pressing the filter material by the compression member, the filtration performance of the filter material can be arbitrarily adjusted without changing or changing the kind of the filter material. And the filtration rate can be adjusted appropriately.

더욱이, 본 발명의 다양한 실시예에 의하면, 여재가 여재 세척부재로 유입되면서 하우징의 내주면 둘레를 따라 회전할 때, 타격판과 충돌하게 되므로 그 과정에서 여재에 붙어있던 오염물질이 쉽게 분리될 수 있고, 여재의 세척이 용이한 장점이 있다.Further, according to various embodiments of the present invention, when the filter material flows into the filter material cleaning member and rotates around the inner circumferential surface of the housing, the filter material collides with the impact plate, so that contaminants attached to the filter material can be easily separated , And the cleaning of the filter media is advantageous.

본 발명의 다양한 실시예에 따른 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Effects according to various embodiments of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned may be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 여재를 이용한 오염수 정화장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 압착부재에 의해 여과장치의 내부 공간의 체적이 변화된 모습을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 여재 세척부재의 하우징 내에서 와류가 형성되는 모습을 개략적으로 도시한 개념도이다.
1 is a cross-sectional view schematically showing a polluted water purification apparatus using a filter material according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a volume of an internal space of a filtration apparatus changed by a compression member according to an embodiment of the present invention.
3 is a conceptual view schematically showing a vortex formed in a housing of a filter medium cleaning member according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 더 구체적으로 설명하되, 이미 주지되어진 기술적 부분에 대해서는 설명의 간결함을 위해 생략하거나 압축하기로 한다.The preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings, in which the technical parts already known will be omitted or compressed for simplicity of explanation.

본 명세서에서 본 발명의 "일" 또는 "하나의" 실시예에 대한 언급들은 반드시 동일한 실시예에 대한 것은 아니며, 이들은 적어도 하나를 의미한다는 것에 유의해야 한다.It should be noted that the references to the " one "or" one "embodiment of the invention herein are not necessarily to the same embodiment, and that they mean at least one.

이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.In the following embodiments, the terms first, second, and the like are used for the purpose of distinguishing one element from another element, not the limitative meaning.

이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다른 의미를 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.In the following examples, the singular forms "a", "an" and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise.

이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.In the following embodiments, terms such as inclusive or having mean that a feature or element described in the specification is present, and do not exclude the possibility that one or more other features or elements are added in advance.

이하의 실시예에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우 뿐만 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다.In the following embodiments, when a part is referred to as being "connected" with another part, it is not limited to a case where it is "directly connected" .

도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In the drawings, components may be exaggerated or reduced in size for convenience of explanation. For example, the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and thus the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 여재를 이용한 오염수 정화장치를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 압착부재에 의해 여과장치의 내부 공간의 체적이 변화된 모습을 개략적으로 도시한 단면도이며, 도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 여재 세척부재의 하우징 내에서 와류가 형성되는 모습을 개략적으로 도시한 개념도이다. 도1 내지 도3을 참조하면, 여재를 이용한 오염수 정화장치(10)는 제1챔버(100), 제2챔버(200), 제3챔버(300), 압착부재(400), 공기 분사부재(500), 여재 세척부재(600) 및 처리수 공급부재(700)를 포함할 수 있다.FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an apparatus for filtering polluted water using a filtering medium according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of a filtering apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a conceptual view schematically showing a vortex formed in a housing of a filter material cleaning member according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1 to 3, a polluted water purification apparatus 10 using a filter medium includes a first chamber 100, a second chamber 200, a third chamber 300, a compression member 400, (500), a filter medium cleaning member (600), and a treatment water supply member (700).

먼저, 제1챔버(100)는 제1챔버벽(110)과 제1격벽(120)에 의해 구획된 공간으로서, 제1챔버(100) 내에는 오염수(130)가 저장될 수 있다. 제1챔버벽(110)에는 유입관(111)이 설치될 수 있고, 외부에 있던 오염수(130)가 유입관(111)을 통해 제1챔버(100)의 내부로 유입될 수 있다.First, the first chamber 100 is partitioned by the first chamber wall 110 and the first partition 120, and the contaminated water 130 may be stored in the first chamber 100. An inflow pipe 111 may be installed in the first chamber wall 110 and the contaminated water 130 may be introduced into the first chamber 100 through the inflow pipe 111.

제1격벽(120)은 제1챔버(100)와 제2챔버(200)의 사이에 설치되며, 제1챔버(100)와 제2챔버(200)를 구획한다. 일 실시예에서 제1격벽(120)의 하단에는 제1챔버(100) 내의 오염수(130)가 제2챔버(200) 쪽으로 이동할 수 있는 유출구(121)가 형성될 수 있다. 또한, 제1격벽(120)의 하단에는 유출구(121)를 선택적으로 개폐하는 밸브부재(122)가 설치될 수 있다. 일 실시예에서 밸브부재(122)는 밸브구동원(123)과 연결되며, 밸브구동원(123)에 의해 밸브부재(122)의 개폐가 이루어질 수 있다.The first partition 120 is installed between the first chamber 100 and the second chamber 200 and defines the first chamber 100 and the second chamber 200. In one embodiment, an outlet 121 through which the contaminated water 130 in the first chamber 100 can move toward the second chamber 200 may be formed at the lower end of the first partition 120. A valve member 122 for selectively opening and closing the outlet 121 may be installed at the lower end of the first partition 120. In one embodiment, the valve member 122 is connected to the valve driving source 123, and the valve member 122 can be opened and closed by the valve driving source 123.

또한, 제1챔버(100)의 바닥면에는 쓰레기 월류방지턱(140)이 일정한 높이로 돌출 형성되고, 쓰레기 월류방지턱(140)은 유출구(121)와 일정한 거리로 이격될 수 있다. 외부에서 유입관(111)을 통해 제1챔버(100) 내부로 유입된 오염수(130)에는 여러 가지의 오물과 쓰레기(T)가 포함되어 있을 수 있으며, 이러한 쓰레기(T)는 시간이 경과됨에 따라 제1챔버(100)의 바닥면에 가라앉아 쌓이게 된다. 일 실시예에서 쓰레기 월류방지턱(140)은 바닥면에 가라앉는 쓰레기(T)가 모일 수 있는 공간을 제1챔버벽(110)과 함께 형성함으로써, 오염수(130) 내에 포함된 쓰레기(T)가 이동하면서 유출구(121)를 막거나 유출구(121)를 통해 제2챔버(200)로 진입하는 것을 차단할 수 있다. In addition, a waste sweeping jaw 140 protrudes at a predetermined height from the bottom surface of the first chamber 100, and the waste sweeping jaw 140 may be spaced apart from the outlet 121 by a predetermined distance. The contaminated water 130 flowing into the first chamber 100 from the outside through the inflow pipe 111 may contain various kinds of dirt and garbage T, The first chamber 100 and the second chamber 100 are separated from each other. In one embodiment, the waste overflow prevention trough 140 forms a space together with the first chamber wall 110 so that the dust T sinking on the floor surface can be collected, It is possible to prevent the outlet 121 from flowing into the second chamber 200 through the outlet 121.

제1챔버(100)의 내부에는 오염수(130)를 외부로 배출하는 배출용 펌프(150)가 설치될 수 있고, 배출용 펌프(150)는 배출용 펌프(150)와 연결된 배출배관(151)을 통해 오염수(130)를 외부로 배출할 수 있다.A discharge pump 150 for discharging the polluted water 130 to the outside can be installed in the first chamber 100 and a discharge pipe 150 connected to the discharge pump 150 The polluted water 130 can be discharged to the outside.

제2챔버(200)는 제1격벽(120)과 제2격벽(220)에 의해 구획된 공간으로서, 제2챔버(200) 내에는 제1챔버(100)로부터 유입된 오염수(130)를 여과시키는 여과장치(210)가 구비될 수 있다. 일 실시예에서 여과장치(210)는 제2챔버(200)의 상부에 설치된 상판(211), 제2챔버(200)의 하부에 설치된 하판(212) 및 복수개의 여재(213, 214)를 포함할 수 있다. The second chamber 200 is a space partitioned by the first partition 120 and the second partition 220. The second chamber 200 is filled with the contaminated water 130 introduced from the first chamber 100 And a filtration device 210 for filtration may be provided. The filtering device 210 includes an upper plate 211 provided on the upper part of the second chamber 200, a lower plate 212 provided on the lower part of the second chamber 200 and a plurality of filter media 213 and 214 can do.

일 실시예에서 상판(211)은 제1격벽(120)과 제2격벽(220)의 사이에 설치되고, 제1격벽(120)과 제2격벽(220)의 각 일면에 결합되어 고정될 수 있다. 상판(211)에는 여재(213, 214) 하나의 크기보다 작은 크기인 배출공(H)이 복수개 형성될 수 있다. 하판(212)은 제1격벽(120)과 제2격벽(220)의 사이에 설치되며, 하판(212)은 상판(211)과 이격됨에 따라 상판(211)과 하판(212) 사이에는 복수개의 여재(213, 214)가 위치할 수 있다. 하판(212)에는 여재(213, 214) 하나의 크기보다 작은 크기의 배출공(H)이 복수개 형성될 수 있다.The upper plate 211 is installed between the first barrier rib 120 and the second barrier rib 220 and may be coupled to one side of the first barrier rib 120 and the second barrier rib 220, have. A plurality of exhaust holes (H) having a size smaller than the size of one of the filter media (213, 214) may be formed in the upper plate (211). The lower plate 212 is disposed between the first partition wall 120 and the second partition 220 and the lower plate 212 is separated from the upper plate 211 so that a plurality of The filter media 213 and 214 can be positioned. A plurality of exhaust holes (H) having a size smaller than the size of one of the filter media (213, 214) may be formed in the lower plate (212).

압착부재(400)는 상판(211)과 하판(212)에 의해 형성된 여과장치(210)의 내부 공간의 체적을 조절함으로써, 여과장치(210)의 내부에 충전된 여재(213, 214)를 압착시킬 수 있다. 일 실시예에서 여재(213, 214)는 다공성 소재로 적용될 수 있다. 구체적인 예로, 여재(213, 214)는 폴리에스터 계열, 나일론 계열, 폴리올레핀 계열, 셀룰로오스 계열 등의 섬유로 적용될 수 있고, 여재(213, 214)는 수중에서 부상할 수 있도록 일정한 비중과 크기를 가질 수 있다. 일 실시예에서는 일정한 크기를 갖는 복수개의 여재(213, 214)가 여과장치(210)의 내부 공간에 충전될 수 있고, 여과장치(210) 내부 공간에 물이 채워지면 복수개의 여재(213, 214)가 부상하면서 여과층을 형성할 수 있다.The pressing member 400 compresses the filter media 213 and 214 filled in the filtering device 210 by adjusting the volume of the inner space of the filtering device 210 formed by the upper plate 211 and the lower plate 212 . In one embodiment, the filter media 213 and 214 may be applied as a porous material. As a specific example, the filter media 213 and 214 may be made of polyester, nylon, polyolefin, or cellulose fibers. The filter media 213 and 214 may have a specific gravity and size have. A plurality of filter media 213 and 214 having a predetermined size may be filled in the inner space of the filtration device 210. When the inner space of the filtration device 210 is filled with water, The filter layer can be formed.

한편, 일 실시예에서 압착부재(400)는 구동원(410) 및 거리조절수단(420)을 포함할 수 있다. 구동원(410)은 거리조절수단(420)의 일측과 연결되며, 거리조절수단(420)을 상측으로 이동시키거나 하측으로 이동시킬 수 있다. Meanwhile, in one embodiment, the pressing member 400 may include the driving source 410 and the distance adjusting means 420. The driving source 410 is connected to one side of the distance adjusting means 420 and can move the distance adjusting means 420 upward or downward.

거리조절수단(420)은 상판(211) 또는 하판(212)과 결합될 수 있고, 상판(211) 또는 하판(212)과 결합된 상태에서 상판(211)과 하판(212) 사이의 이격거리(D)를 조절할 수 있다. 일 실시예에서는 상판(211)이 제1격벽(120)과 제2격벽(220)의 각 일면에 결합되어 상판(211)의 위치가 고정되며, 거리조절수단(420)은 하판(212)과 결합되어 하판(212)을 상승시키거나 하강시킬 수 있다. 물론, 실시하기에 따라, 하판(212)의 위치가 고정되고, 거리조절수단(420)이 상판(211)과 결합된 상태에서 상판(211)을 상승시키거나 하강시키는 것도 가능하다.The distance adjusting means 420 may be combined with the upper plate 211 or the lower plate 212 and may be provided with a distance between the upper plate 211 and the lower plate 212 in a state of being engaged with the upper plate 211 or the lower plate 212 D) can be adjusted. The upper plate 211 is coupled to one side of the first partition 120 and the second partition 220 so that the position of the upper plate 211 is fixed and the distance adjusting unit 420 is fixed to the lower plate 212 So that the lower plate 212 can be raised or lowered. It is also possible to raise or lower the upper plate 211 in a state where the position of the lower plate 212 is fixed and the distance adjusting means 420 is engaged with the upper plate 211.

일 실시예에서는 하나의 거리조절수단(420)이 여과장치(210)의 내부 공간의 체적을 조절하는 것으로 설명하였으나, 실시하기에 따라서 복수개의 거리조절수단이 여과장치(210)와 결합되어 여과장치(210)의 내부 공간의 체적을 조절하는 것도 가능하다.Although it has been described in the embodiment that one distance adjusting means 420 adjusts the volume of the inner space of the filtering device 210, a plurality of distance adjusting means may be combined with the filtering device 210, It is also possible to adjust the volume of the inner space of the inner tube 210.

공기 분사부재(500)는 압축공기를 여과장치(210) 내부로 분사하여 여재(213, 214)에 붙어있던 오염물질들을 분리시킬 수 있다. 일 실시예에서 공기 분사부재(500)는 공기 분사관(510)과 연결되며, 공기 분사부재(500)가 압축공기를 공기 분사관(510)으로 공급하면 공기 분사관(510)의 노즐로부터 압축공기가 분사될 수 있다. 공기 분사관(510)의 노즐에서 분사된 압축공기는 하판(212)의 배출공(H)을 통해 여과장치(210) 내부로 유입될 수 있다. 여과장치(210)의 내부 공간에는 물과 복수개의 여재(213, 214)가 혼합되어 있으며, 압축공기가 여과장치(210) 내부로 들어가면 압축공기에 의해 물과 여재(213, 214)들이 유동하게 되므로 여재(213, 214)에 붙어있던 오염물질들이 쉽게 분리될 수 있다.The air injection member 500 can separate the pollutants attached to the filter media 213 and 214 by injecting the compressed air into the filter device 210. The air injection member 500 is connected to the air injection pipe 510. When the air injection member 500 supplies compressed air to the air injection pipe 510, Air can be injected. The compressed air injected from the nozzle of the air injection pipe 510 can be introduced into the filtration unit 210 through the discharge hole H of the lower plate 212. Water and a plurality of filter media 213 and 214 are mixed in the inner space of the filtration device 210. When the compressed air enters the filtration device 210, the water and the filter media 213 and 214 flow So that contaminants attached to the filter media 213 and 214 can be easily separated.

일 실시예에서는 공기 분사부재(500)에 의한 여재 세척방식 이외에도 보다 효과적인 세척을 위해 여재 세척부재(600)에 의한 여재 세척이 추가적으로 이루어질 수 있다. 즉, 여재 세척부재(600)는 공기 분사부재(500)에 의한 세척 방식과는 다른 방식으로서, 여재(213, 214)를 충돌시켜 여재(213, 214)에 붙어있는 오염물질을 분리시킬 수 있다. 일 실시예에서 여재 세척부재(600)는 하우징(610), 유입관로(620), 복수의 타격판(630, 640, 650), 유출관로(660), 유입배관(670), 유출배관(680) 및 압력형성부재(690)를 포함할 수 있다.In one embodiment, in addition to the filter material cleaning method using the air injection member 500, filter material cleaning by the filter material cleaning member 600 may be additionally performed for more effective cleaning. That is, the filter medium cleaning member 600 can separate contaminants attached to the filter media 213 and 214 by colliding with the filter media 213 and 214 in a manner different from the cleaning method using the air injection member 500 . In one embodiment, the filter media cleaning member 600 includes a housing 610, an inlet conduit 620, a plurality of striking plates 630, 640, 650, an outlet conduit 660, an inlet conduit 670, an outlet conduit 680 And a pressure-forming member 690. The pressure-

여재 세척부재(600)의 하우징(610)은 원통 형상으로 마련될 수 있고, 하우징(610)의 상단에는 하우징(610)의 외주면과 접선(L)방향으로 유입관로(620)가 설치될 수 있다. 일 실시예에서는 유입관로(620)가 하우징(610)의 외주면의 접선(L)방향으로 설치됨에 따라, 충돌손실을 최소화하여 하우징(610) 내에서 와류(20)가 회전되는 속도를 높일 수 있다.The housing 610 of the filter medium cleaning member 600 may be formed in a cylindrical shape and an inlet pipe 620 may be installed at an upper end of the housing 610 in a direction tangential to the outer peripheral surface of the housing 610 . The inflow conduit 620 is installed in the tangential direction L of the outer circumferential surface of the housing 610 so that the collision loss is minimized and the speed at which the vortex 20 is rotated in the housing 610 can be increased .

그리고, 여과장치(210)의 내부에 있는 물과 복수의 여재(213, 214)가 유입관로(620)를 통해 하우징(610)의 내부로 이동할 수 있도록 유입배관(670)의 일단은 상판(211)에 관통 결합되며, 타단은 유입관로(620)와 연결될 수 있다. 또한, 하우징(610)의 하단에는 유출관로(660)가 설치되며, 유출관로(660)는 유출배관(680)의 일단과 연결될 수 있다. 유출배관(680)의 타단은 상판(211)과 관통 결합될 수 있다. One end of the inflow pipe 670 is connected to the upper plate 211 so that water and a plurality of filter media 213 and 214 inside the filtration unit 210 can be moved into the housing 610 through the inflow pipe 620. [ And the other end may be connected to the inflow conduit 620. An outflow conduit 660 is provided at the lower end of the housing 610 and an outflow conduit 660 may be connected to one end of the outflow conduit 680. The other end of the outflow pipe 680 may be coupled with the upper plate 211.

한편, 실시하기에 따라, 와류(20)의 형성이 보다 원활하게 이루어지도록 하우징(610) 내부의 상단 또는 하단에 별도의 회전장치(일 예로, 임펠러)를 설치할 수도 있다. 이 경우, 회전장치는 별도의 구동원에 의해 작동될 수 있다.In the meantime, another rotating device (for example, an impeller) may be installed at the upper or lower end of the inside of the housing 610 so that the vortex 20 can be smoothly formed. In this case, the rotating device can be operated by a separate driving source.

압력형성부재(690)는 여과장치(210) 내부 공간에 있던 물과 여재(213, 214)가 하우징(610) 방향으로 이동하도록 일정한 압력을 형성할 수 있다. 일 실시예에서 압력형성부재(690)는 가압된 수류를 발생시키는 공압펌프 또는 수압펌프로서 적용될 수 있고, 압력형성부재(690)는 유입관로(620) 상에 설치될 수 있다. The pressure forming member 690 may form a constant pressure to move the water and the filter media 213 and 214 in the space inside the filtering device 210 toward the housing 610. In one embodiment, the pressure forming member 690 may be applied as a pneumatic pump or a hydraulic pump to generate pressurized water flow, and the pressure forming member 690 may be installed on the inflow conduit 620.

한편, 다른 실시예에서 압력형성부재(690)는 공기 공급관과 에어펌프를 포함하는 에어리프트 장치(미도시)로서 구현될 수도 있다. 압력형성부재(690)가 에어리프트 장치로 적용될 경우, 공기 공급관은 유입배관(670)의 전단에 위치하며, 에어펌프가 공기 공급관으로 압축공기를 공급하면 공기 공급관이 유입배관(670)의 내부로 압축공기를 보낼 수 있고, 그 과정에서 여과장치(210)의 내부에 있던 물과 여재(213, 214)들이 하우징(610) 방향으로 이동할 수 있다.On the other hand, in another embodiment, the pressure forming member 690 may be implemented as an air lift apparatus (not shown) including an air supply pipe and an air pump. When the pressure forming member 690 is applied to the air lift apparatus, the air supply pipe is located at the front end of the inflow pipe 670, and when the air pump supplies compressed air to the air supply pipe, the air supply pipe is connected to the inside of the inflow pipe 670 And the water and the filter media 213 and 214 inside the filtering device 210 can move in the direction of the housing 610 during the process.

일 실시예에서는 압력형성부재(690)를 통해 형성된 일정한 압력에 의해 여과장치(210)의 내부에 있던 물과 여재(213, 214)들이 하우징(610) 내부로 유입될 수 있고, 유입관로(620)를 통해 하우징(610) 내부로 유입된 물과 여재(213, 214)들은 하우징(610)의 내주면 둘레를 따라 회전하면서 와류(20)를 형성할 수 있다.The water and the filter media 213 and 214 located inside the filtration unit 210 can be introduced into the housing 610 by the constant pressure formed through the pressure forming member 690, The water and the filter media 213 and 214 introduced into the housing 610 through the through holes 611 and 610 can rotate around the inner circumferential surface of the housing 610 to form the vortex 20. [

아울러, 일 실시예에서는 보다 효율적인 여재 세척을 위해 하우징(610)의 내주면 둘레 방향을 따라서 일정한 간격으로 복수개의 타격판(630, 640, 650)이 형성될 수 있다. 즉, 물과 여재(213, 214)가 하우징(610)의 내주면 둘레를 따라 회전할 때, 여재(213, 214)가 타격판(630, 640, 650)과 충돌하면서 물리적인 충격에 의해 여재(213, 214)에 붙어있던 오염물질이 여재(213, 214)와 분리될 수 있다.In addition, in one embodiment, a plurality of striking plates 630, 640, and 650 may be formed at regular intervals along the inner circumferential surface of the housing 610 for more efficient filtering of the filter media. That is, when the water and the filter media 213 and 214 rotate around the inner circumferential surface of the housing 610, the filter media 213 and 214 collide with the impact plates 630, 640 and 650, 213, and 214 can be separated from the filter media 213 and 214.

도1에 도시된 바와 같이, 복수의 타격판(630, 640, 650)은 하우징(610)의 내주면 둘레 방향을 따라 설치되되, 하우징(610)의 길이 방향으로도 서로 이격되어 형성될 수 있다. 그리고, 유입관로(620)를 통해 하우징(610)의 내부로 물이 유입될 때, 물의 유속을 유지하여 강한 회전력을 형성하기 위해 타격판(630, 640, 650)은 유입관로(620)보다 하측에 위치하는 것이 바람직하다. 또한, 와류(20)가 회전하는 속도를 제한하지 않기 위해 복수의 타격판(630, 640, 650)은 하우징(610)의 길이 방향으로 서로 이격되어 형성되는 것이 바람직하다. As shown in FIG. 1, the plurality of striking plates 630, 640, and 650 may be formed along the circumferential direction of the inner circumferential surface of the housing 610, but may be spaced apart from each other in the longitudinal direction of the housing 610. When the water flows into the interior of the housing 610 through the inflow conduit 620, the impact plates 630, 640, and 650 are provided below the inflow conduit 620 in order to maintain the flow velocity of the water, . The plurality of striking plates 630, 640 and 650 may be spaced apart from each other in the longitudinal direction of the housing 610 so as not to restrict the speed at which the vortex 20 rotates.

제3챔버(300)는 제2격벽(220)과 제3챔버벽(310)에 의해 구획된 공간으로서, 제2챔버(200)를 통과한 처리수(320)가 저장될 수 있다. 여기서, 처리수(320)는 제1챔버(100) 내에 저장되어 있던 오염수(130)가 여과장치(210)를 통과하면서 오염물질이 제거되어 깨끗해진 물을 의미한다. 제3챔버벽(310)에는 유출관(311)이 설치될 수 있고, 제3챔버(300) 내에 있던 처리수(320)가 유출관(311)을 통해 제3챔버(300)의 외부로 유출될 수 있다.The third chamber 300 is a space partitioned by the second partition 220 and the third chamber wall 310. The treated water 320 passing through the second chamber 200 may be stored in the third chamber 300. Here, the treatment water 320 means water that has been cleaned by removing contaminants from the contaminated water 130 stored in the first chamber 100 while passing through the filtration unit 210. The third chamber wall 310 may be provided with an outflow pipe 311 and the treated water 320 in the third chamber 300 may flow out of the third chamber 300 through the outflow pipe 311. [ .

처리수 공급부재(700)는 제3챔버(300)에 저장된 처리수(320)를 여과장치(210)로 공급함으로써, 여과장치(210) 내부에 있던 여재(213, 214)를 세척하는 세척수 용도로 사용할 수 있다. 일 실시예에서 처리수 공급부재(700)는 펌프(710) 및 처리수 공급관(720)을 포함할 수 있다. 펌프(710)는 제3챔버(300) 내에 설치될 수 있고, 펌프(710)는 펌프(710)와 연결된 처리수 공급관(720)을 통해 처리수(320)를 여과장치(210)의 내부로 공급할 수 있다. 예를 들어, 처리수 공급관(720)에서 배출되는 처리수(320)는 상판(211)의 배출공(H)을 통해 여과장치(210)의 내부로 유입되며, 유입된 처리수(320)에 의해 여재(213, 214)가 세척될 수 있다.The process water supply member 700 supplies the process water 320 stored in the third chamber 300 to the filtration unit 210 to purify the filtration unit 210 . In one embodiment, the process water supply member 700 may include a pump 710 and a process water supply pipe 720. The pump 710 may be installed in the third chamber 300 and the pump 710 may be connected to the inside of the filtration unit 210 through the treatment water supply pipe 720 connected to the pump 710. [ Can supply. For example, the process water 320 discharged from the process water supply pipe 720 flows into the interior of the filtration device 210 through the discharge hole H of the upper plate 211, The filter media 213 and 214 can be cleaned.

다시 도2를 참조하여 오염수 정화장치(10)가 오염수(130)를 정화하는 과정을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 오염수(130)가 유입관(111)을 통해 제1챔버(100)로 유입되면, 오염수(130)에 포함되어 있던 쓰레기(T)나 오물들이 제1챔버(100)의 바닥에 가라앉게 되고, 제1챔버벽(110)과 쓰레기 월류방지턱(140) 사이에 형성된 공간에 모이게 된다. 평상시에는 밸브부재(122)를 개방시킨 상태를 유지하여 제1챔버(100)로 유입된 오염수(130)가 유출구(121)를 통해 제2챔버(200)로 이동하게 된다. 제2챔버(200)의 바닥면에서부터 오염수(130)가 차오르기 시작하면서 여과장치(210)의 하판(212)의 배출공(H)을 통해 오염수(130)가 유입되고, 오염수(130)에 포함된 대부분의 오염물질들은 복수개의 여재(213, 214)와 접촉하면서 걸러지게 된다. 그리고, 여과장치(210)의 상판(211)을 통과한 처리수(320)는 제3챔버(300)로 이동하게 되고, 제3챔버(300)의 수위가 유출관(311)까지 이르게 되면 처리수(320)는 외부로 배출된다. 여과 과정에서, 구동원(410)을 통해 거리조절수단(420)을 상측으로 이동시키면 거리조절수단(420)과 결합된 상태인 하판(212)이 상측으로 올라가면서 상판(211)과 하판(212) 사이의 이격거리(D)가 짧아지게 된다. 이 과정에서 상판(211)과 하판(212) 사이에 존재하는 다수의 여재(213, 214)가 압착될 수 있으므로 여재(213, 214)의 평균 공극이 줄어들면서 여과장치(210)의 여과 속도나 여과 효율이 조절될 수 있다.Referring to FIG. 2 again, the process of purifying the polluted water 130 by the polluted water purification apparatus 10 will be described. When the contaminated water 130 flows into the first chamber 100 through the inflow pipe 111, the waste T or dirt contained in the contaminated water 130 is discharged to the bottom of the first chamber 100 And is gathered in a space formed between the first chamber wall 110 and the waste overflow restricting trough 140. The contaminated water 130 flowing into the first chamber 100 is moved to the second chamber 200 through the outlet 121 while the valve member 122 is kept open. The contaminated water 130 flows from the bottom surface of the second chamber 200 through the discharge hole H of the lower plate 212 of the filtration unit 210 and the contaminated water 130 Most of the contaminants contained in the filter medium 213 are filtered while being in contact with the plurality of filter media 213 and 214. The treated water 320 passing through the upper plate 211 of the filtration apparatus 210 moves to the third chamber 300. When the level of the third chamber 300 reaches the outlet pipe 311, And the water 320 is discharged to the outside. When the distance adjusting means 420 is moved upward through the driving source 410 in the filtering process, the upper plate 211 and the lower plate 212 are moved upward while the lower plate 212 coupled with the distance adjusting means 420 is moved upward, The spacing distance D between the electrodes is shortened. Since a plurality of filter media 213 and 214 existing between the upper plate 211 and the lower plate 212 can be compressed in this process, the average pore size of the filter media 213 and 214 is reduced and the filtration rate of the filtration device 210 The filtration efficiency can be controlled.

다시 도1을 참조하여 오염수 정화장치(10)에서 여재(213, 214)를 세척하는 과정을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 구동원(410)을 통해 거리조절수단(420)을 하측으로 이동시키면 거리조절수단(420)과 결합된 상태인 하판(212)이 하측으로 내려가면서 상판(211)과 하판(212) 사이의 이격거리(D)가 길어지게 된다. 즉, 상판(211)과 하판(212) 사이의 이격거리(D)를 길게 조절하여 여과장치(210) 내부 공간의 체적을 넓히면 여과장치(210) 내부에서 여재(213, 214)가 움직일 수 있는 공간이 충분하게 확보될 수 있다. 공기 분사부재(500)가 공기 분사관(510)으로 압축공기를 공급하면, 하판(212)의 배출공(H)을 통해 압축공기가 여과장치(210)의 내부 공간으로 유입되면서 상판(211)과 하판(212) 사이에 존재하는 물과 여재(213, 214)들이 진동하게 된다. 물과 여재(213, 214)의 진동시 여재(213, 214)에 붙어있던 오염물질들은 여재(213, 214)로부터 떨어지게 되고, 분리된 오염물질들은 시간이 지나면 제2챔버(200)의 바닥으로 가라앉게 된다.Referring to FIG. 1 again, the process of washing the filter media 213 and 214 in the pollution control device 10 will be described. When the distance adjusting means 420 is moved downward through the driving source 410, the lower plate 212 coupled with the distance adjusting means 420 is moved downward, and the distance between the upper plate 211 and the lower plate 212 The separation distance D becomes longer. That is, if the separation space D between the upper plate 211 and the lower plate 212 is extended to increase the volume of the internal space of the filtration unit 210, the filtration unit 210 can move the filter media 213 and 214 A sufficient space can be secured. The compressed air is introduced into the inner space of the filtration unit 210 through the discharge hole H of the lower plate 212 and the upper plate 211 is compressed by the air injection unit 500, The water and the filter media 213 and 214 existing between the lower plate 212 and the lower plate 212 vibrate. The pollutants adhering to the filter media 213 and 214 during the vibration of the water and the filter media 213 and 214 are separated from the filter media 213 and 214 and the separated pollutants are separated to the bottom of the second chamber 200 .

추가적인 여재 세척을 위해, 압력형성부재(690)가 일정한 압력을 형성함으로써, 여과장치(210) 내부 공간에 있던 물과 여재(213, 214)가 하우징(610) 방향으로 이동하게 되면, 유입관로(620)를 통해 하우징(610) 내부로 유입된 물과 여재(213, 214)들은 하우징(610)의 내주면 둘레를 따라 회전하면서 와류(20)를 형성하게 된다. 물과 여재(213, 214)가 하우징(610)의 내주면 둘레를 따라 회전할 때, 여재(213, 214)가 타격판(630, 640, 650)과 충돌하면서 물리적인 충격에 의해 여재(213, 214)에 붙어있던 오염물질이 여재(213, 214)와 분리된다. 압력형성부재(690)와 공기 분사부재(500)의 작동이 모두 멈추고, 소정 시간이 경과되면 여재(213, 214)로부터 분리된 오염물질이 제2챔버(200)의 바닥에 가라앉게 된다. 이때, 배출용 펌프(150)를 통해 제1챔버(100) 내에 있던 오염수(130) 일부를 외부로 배출시키면, 제2챔버(200)의 바닥에 있던 물이 제1챔버(100) 쪽으로 이동하면서 제2챔버(200)의 바닥에 가라앉아 있던 오염물질도 함께 이동하게 된다. 일 실시예에서는 배출용 펌프(150)의 작동을 통해 제2챔버(200)의 수위를 20~30cm 정도 낮춘 후에 밸브부재(122)를 작동시켜 유출구(121)를 폐쇄한다. 그 후, 작동된 펌프(710)에 의해 처리수(320)가 여과장치(210)의 내부에 공급되면, 여재(213, 214)가 깨끗하게 세척될 수 있다. 소정 시간이 경과한 후에 펌프(710)의 작동이 멈추면, 유출구(121)를 개방하고 상판(211)과 하판(212) 간의 이격거리(D)를 적절하게 조절하여 다시 여과 공정을 수행할 수 있다.When the water and the filter media 213 and 214 in the inner space of the filtration unit 210 are moved toward the housing 610 by the pressure forming member 690 forming a certain pressure for the additional filter material cleaning, The water and the filter media 213 and 214 flowing into the housing 610 through the openings 620 and 620 form a vortex 20 while rotating around the inner circumferential surface of the housing 610. When the water and the filter media 213 and 214 rotate around the inner circumferential surface of the housing 610, the filter media 213 and 214 collide with the impact plates 630, 640 and 650, 214 are separated from the filter media 213, 214. The operation of the pressure forming member 690 and the air injection member 500 are all stopped and the pollutant separated from the filter media 213 and 214 sinks to the bottom of the second chamber 200 after a predetermined time passes. At this time, when a part of the polluted water 130 in the first chamber 100 is discharged to the outside through the discharge pump 150, the water at the bottom of the second chamber 200 is moved toward the first chamber 100 The contaminants that have been sitting on the bottom of the second chamber 200 move together. In one embodiment, the level of the second chamber 200 is reduced by about 20 to 30 cm through the operation of the discharge pump 150, and then the valve member 122 is operated to close the outlet 121. Thereafter, when the treated water 320 is supplied to the inside of the filtration apparatus 210 by the operated pump 710, the filter media 213 and 214 can be cleaned cleanly. If the operation of the pump 710 stops after a predetermined time has elapsed, the filtration process can be performed again by opening the outlet 121 and appropriately adjusting the separation distance D between the upper plate 211 and the lower plate 212 have.

상술한 바와 같이, 본 발명의 다양한 실시예에 의하면, 압축공기와 처리수(320)를 이용하여 여재(213, 214)를 세척할 수 있으므로 여재(213, 214)를 교체하지 않아도 여재(213, 214)의 여과 성능이 장기간 유지될 수 있고, 여재(213, 214)의 수명과 내구성이 향상되는 효과가 있다.As described above, according to various embodiments of the present invention, the filter media 213 and 214 can be cleaned using the compressed air and the process water 320, so that the filter media 213 and 214 can be cleaned without replacing the filter media 213 and 214, 214 can be maintained for a long period of time, and the lifetime and durability of the filter media 213, 214 can be improved.

또한, 압착부재(400)에 의해 여재(213, 214)를 압착시켜 여재(213, 214)의 평균 공극의 크기를 작게 설정할 수 있으므로 여재(213, 214)의 종류를 변경하거나 교체하지 않아도 여재(213, 214)의 여과 성능을 임의적으로 조절할 수 있으며, 오염수(130)가 여과장치(210)를 통과하면서 여과되는 정도나 여과 속도를 적절하게 조절하는 것이 가능하다.The size of the average pores of the filter media 213 and 214 can be reduced by pressing the filter media 213 and 214 with the pressing member 400 so that the size of the filter media 213 and 214 can be reduced, 213 and 214 can be controlled arbitrarily, and it is possible to appropriately control the degree of filtration and the filtration rate while the contaminated water 130 passes through the filtration device 210. [

더욱이, 본 발명의 다양한 실시예에 의하면, 여재(213, 214)가 여재 세척부재(600)로 유입되면서 하우징(610)의 내주면 둘레를 따라 회전할 때, 타격판(630, 640, 650)에 충돌하게 되므로 그 과정에서 여재(213, 214)에 붙어있던 오염물질이 쉽게 분리될 수 있고, 여재(213, 214)의 세척이 용이한 장점이 있다.Further, according to various embodiments of the present invention, when the filter media 213 and 214 are rotated along the inner circumferential surface of the housing 610 while being introduced into the filter material cleaning member 600, The contaminants attached to the filter media 213 and 214 can be easily separated in the process, and the filter media 213 and 214 can be easily cleaned.

그리고, 본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 제1격벽(120)의 하단에 유출구(121)가 형성되므로, 여재(213, 214)에 붙어있던 오염물질이 제2챔버(200)의 바닥에 어느 정도 쌓이게 되면 배출용 펌프(150)를 가동시켜 제2챔버(200)의 하부에 잔류된 오염물질을 외부로 배출할 수 있다. 따라서, 제2챔버(200) 내부의 오염물질이나 슬러지를 보관하기 위한 별도의 공간을 필요로 하지 않으며, 정화장치의 규격을 줄일 수 있으므로 제조 단가가 절감되고, 경제성이 우수한 효과가 있다.According to various embodiments of the present invention, since the outflow port 121 is formed at the lower end of the first partition 120, contaminants attached to the filter media 213 and 214 are prevented from entering the bottom of the second chamber 200 The discharging pump 150 is operated to discharge the contaminants remaining in the lower portion of the second chamber 200 to the outside. Therefore, it is not necessary to provide a separate space for storing contaminants or sludge in the second chamber 200, and the size of the purifier can be reduced, so that the manufacturing cost is reduced and the economical efficiency is excellent.

위에서 설명한 바와 같이 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니 되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 균등개념으로 이해되어져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. And the scope of the present invention should be understood as the scope of the following claims and their equivalents.

10 : 여재를 이용한 오염수 정화장치
100 : 제1챔버
110 : 제1챔버벽
111 : 유입관
120 : 제1격벽
121 : 유출구
122 : 밸브부재
123 : 밸브구동원
130 : 오염수
140 : 쓰레기 월류방지턱
150 : 배출용 펌프
151 : 배출배관
200 : 제2챔버
210 : 여과장치
211 : 상판
212 : 하판
213, 214 : 여재
H : 배출공
220 : 제2격벽
300 : 제3챔버
310 : 제3챔버벽
311 : 유출관
320 : 처리수
400 : 압착부재
410 : 구동원
420 : 거리조절수단
D : 이격거리
500 : 공기 분사부재
510 : 공기 분사관
600 : 여재 세척부재
610 : 하우징
620 : 유입관로
630, 640, 650 : 타격판
660 : 유출관로
670 : 유입배관
680 : 유출배관
690 : 압력형성부재
L : 접선
700 : 처리수 공급부재
710 : 펌프
720 : 처리수 공급관
20 : 와류
T : 쓰레기
10: Pollution water purification device using filter media
100: first chamber
110: first chamber wall
111: inlet pipe
120: first partition
121: Outlet
122: valve member
123: Valve drive source
130: Polluted water
140: Wastewater breezes
150: Exhaust pump
151: discharge pipe
200: Second chamber
210: Filtration device
211: top plate
212: Lower plate
213, 214:
H: Exhaust hole
220: second partition
300: Third chamber
310: Third chamber wall
311: Outflow pipe
320: Processed
400:
410: driving source
420: Distance adjustment means
D: separation distance
500: air injection member
510: air blowing pipe
600:
610: Housing
620: inlet pipe
630, 640, 650: Striking plate
660: Outflow channel
670: Inlet piping
680: Outflow piping
690: pressure forming member
L: Tangent
700: treated water supply member
710: Pump
720: treated water supply pipe
20: Vortex
T: Waste

Claims (5)

여재를 이용한 오염수 정화장치로서,
오염수를 저장하는 제1챔버;
상기 제1챔버로부터 유입된 오염수를 여과시키는 여과장치가 구비된 제2챔버;
상기 제2챔버를 통과한 처리수가 저장되는 제3챔버;
상기 여과장치의 내부 공간의 체적을 조절함으로써, 상기 여과장치의 내부에 충전된 여재를 압착시킬 수 있는 압착부재;
압축공기를 상기 여과장치 내부로 분사하는 공기 분사부재;
상기 여재를 충돌시켜 상기 여재에 붙어있는 오염물질을 분리시키는 여재 세척부재; 및
상기 제3챔버에 저장된 처리수를 상기 여과장치로 공급하는 처리수 공급부재;를 포함하고,
상기 여과장치는 상기 제2챔버의 상부에 설치된 상판과, 상기 제2챔버의 하부에 설치된 하판을 포함하며, 상기 상판과 하판에는 상기 여재의 크기보다 작은 크기로 배출공이 형성되고,
상기 압착부재는 상기 상판 또는 하판과 결합된 상태에서 상기 상판과 하판 사이의 이격 거리를 조절하는 거리조절수단 및 상기 거리조절수단을 상측 또는 하측으로 이동시키기 위하여 상기 거리조절수단과 연결된 구동원을 포함하며,
상기 여재 세척부재는 원통 형상의 하우징, 유입배관, 유입관로, 압력형성부재, 유출관로 및 유출배관을 포함하며, 상기 유입배관의 일단은 상기 제2챔버의 상부에 설치된 상판에 관통 결합되고 상기 유입배관의 타단은 상기 유입관로와 연결되며, 상기 압력형성부재를 통해 형성된 일정한 압력에 의해 상기 여과장치로부터 상기 하우징 내부로 유입된 물과 여재가 상기 하우징의 내주면 둘레를 따라 회전하면서 와류를 형성하도록 상기 하우징의 상단에는 상기 하우징의 외주면과 접선방향으로 상기 유입관로가 설치되고, 상기 유출관로는 상기 하우징의 하단에 설치되며, 상기 유출관로는 상기 유출배관의 일단과 연결되고, 상기 유출배관의 타단은 상기 상판과 관통 결합되며,
상기 여재가 상기 하우징의 내주면 둘레를 따라 회전할 때, 상기 여재에 붙어있던 오염물질이 물리적인 충격에 의해 분리되도록 상기 하우징의 내주면 둘레 방향을 따라서 복수개의 타격판이 형성되되, 상기 복수개의 타격판은 상기 하우징의 길이 방향으로 서로 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는
여재를 이용한 오염수 정화장치.
As a polluted water purification apparatus using filter media,
A first chamber for storing the contaminated water;
A second chamber having a filtration device for filtering the polluted water introduced from the first chamber;
A third chamber in which process water passing through the second chamber is stored;
A pressing member capable of pressing the filter media filled in the filtration device by adjusting the volume of the inner space of the filtration device;
An air injection member for injecting compressed air into the filtration apparatus;
A filter material cleaning member for separating contaminants attached to the filter material by colliding with the filter material; And
And a treatment water supply member for supplying treatment water stored in the third chamber to the filtration apparatus,
The filtration apparatus includes an upper plate disposed on the upper portion of the second chamber and a lower plate disposed on the lower portion of the second chamber, wherein the upper plate and the lower plate are formed with a discharge hole having a size smaller than the size of the filter material,
The pressing member includes a distance adjusting means for adjusting a distance between the upper plate and the lower plate in a state of being engaged with the upper plate or the lower plate and a driving source connected to the distance adjusting means for moving the distance adjusting means upward or downward, ,
Wherein the filter medium cleaning member includes a cylindrical housing, an inlet pipe, an inlet pipe, a pressure forming member, an outlet pipe and an outlet pipe, one end of the inlet pipe being penetratingly connected to an upper plate provided on the upper portion of the second chamber, The other end of the pipe is connected to the inflow conduit and the water and the filter material flowing into the housing from the filtration device by a constant pressure formed through the pressure forming member rotate around the inner circumferential surface of the housing, The inlet pipe is provided at the upper end of the housing in a tangential direction with the outer circumferential surface of the housing, the outlet pipe is provided at the lower end of the housing, the outlet pipe is connected to one end of the outlet pipe, And an upper plate coupled to the upper plate,
A plurality of striking plates are formed along a circumferential direction of the inner circumferential surface of the housing such that contaminants attached to the filter media are separated by a physical impact when the filter media rotates around the inner circumferential surface of the housing, And are spaced apart from each other in the longitudinal direction of the housing
Pollution water purification system using filter media.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1챔버 및 제2챔버의 사이에는 상기 제1챔버와 제2챔버를 구획하는 제1격벽이 위치하고, 상기 제1격벽의 하단에 형성된 유출구를 선택적으로 개폐하는 밸브부재가 상기 제1격벽의 하단에 설치된 것을 특징으로 하는
여재를 이용한 오염수 정화장치.
The method according to claim 1,
Wherein a first partition wall separating the first chamber and the second chamber is positioned between the first chamber and the second chamber and a valve member selectively opening and closing an outlet formed at a lower end of the first partition wall is disposed in the first chamber, Characterized in that it is installed at the lower end
Pollution water purification system using filter media.
삭제delete
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