KR100758228B1 - exposure apparatus and exposure method - Google Patents

exposure apparatus and exposure method Download PDF

Info

Publication number
KR100758228B1
KR100758228B1 KR1020060012809A KR20060012809A KR100758228B1 KR 100758228 B1 KR100758228 B1 KR 100758228B1 KR 1020060012809 A KR1020060012809 A KR 1020060012809A KR 20060012809 A KR20060012809 A KR 20060012809A KR 100758228 B1 KR100758228 B1 KR 100758228B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
liquid crystal
external voltage
light
substrate
polymer dispersed
Prior art date
Application number
KR1020060012809A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070081145A (en
Inventor
김혜진
장종식
전해진
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020060012809A priority Critical patent/KR100758228B1/en
Publication of KR20070081145A publication Critical patent/KR20070081145A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100758228B1 publication Critical patent/KR100758228B1/en

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A43FOOTWEAR
    • A43CFASTENINGS OR ATTACHMENTS OF FOOTWEAR; LACES IN GENERAL
    • A43C3/00Hooks for laces; Guards for hooks

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

전압에 의하여 광을 투과시키는 액정을 이용하여 간단한 제조공정에 의하여 전체 또는 선택적으로 노광할 수 있고, 기판의 뒤틀림을 고려하여 10㎛ 이내의 분할 노광을 할 수 있어, 원하는 특정부위의 부분노광이 가능한 노광장치 및 노광방법을 제공한다. 또한, 셔터의 이동에 따른 이물질 발생의 우려가 없고, 데드 스페이스를 줄일 수 있고, 투사형 디스플레이에서와 같이 액정셔터나 편광자를 불필요하여, 편광자의 광흡수에 의한 온도상승의 우려가 없어 냉각 시스템을 대폭 축소할 수 있는 고분자 분산형 액정판을 이용한 노광장치 및 노광방법을 제공한다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 기판 상에 포토 마스크를 적층하고, 상기 포토 마스크를 통하여 광을 상기 기판에 조사함으로써, 상기 포토 마스크에 인쇄된 패턴을 상기 기판에 전사하는 노광장치에 있어서, 상기 포토 마스크에 광을 일괄 또는 분할하여 전달하기 위하여 광 개폐를 행하기 위한 고분자 분산형 액정판을 가지며, 상기 고분자 분산형 액정판은 외부 전압 인가에 상응하여 광을 투과할 수 있는 노광장치를 제시할 수 있다.By using a liquid crystal that transmits light by voltage, it can be exposed to the whole or selectively by a simple manufacturing process, and partial exposure within 10 μm can be performed in consideration of the distortion of the substrate, so that partial exposure of a specific specific area is possible. An exposure apparatus and an exposure method are provided. In addition, there is no fear of foreign matters caused by the movement of the shutter, and the dead space can be reduced, and liquid crystal shutters and polarizers are unnecessary as in a projection display, and there is no fear of temperature rise due to light absorption of the polarizers. An exposure apparatus and an exposure method using a polymer dispersed liquid crystal plate that can be reduced can be provided. According to an aspect of the present invention, in the exposure apparatus for transferring a pattern printed on the photo mask to the substrate by laminating a photo mask on a substrate and irradiating light to the substrate through the photo mask. It has a polymer dispersed liquid crystal plate for opening and closing the light in order to transfer the light in a batch or divided to the mask, the polymer dispersed liquid crystal plate can present an exposure apparatus that can transmit light in response to the application of an external voltage. have.

고분자 분산형 액정판, 분할 노광, 노광장치, 포토 마스크 Polymer dispersed liquid crystal panel, split exposure, exposure apparatus, photo mask

Description

노광장치 및 노광방법{exposure apparatus and exposure method}Exposure apparatus and exposure method

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 노광장치의 구조를 도시한 평면도;1 is a plan view showing the structure of an exposure apparatus according to a preferred embodiment of the present invention;

도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'부분의 단면도; 및FIG. 2 is a cross-sectional view of II-II 'portion of FIG. 1; FIG. And

도 3은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 고분자 분산형 액정판의 단면을 나타내는 도면;3 is a cross-sectional view of a polymer dispersed liquid crystal panel according to an exemplary embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 고분자 분산형 액정판의 분할 광개폐를 나타내는 도면이다. FIG. 4 is a view showing split light opening and closing of a polymer dispersed liquid crystal panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

10 : 노광장치 110 : 기판10: exposure apparatus 110: substrate

120 : 포토 마스크 130 : 고분자 분산형 액정판120: photo mask 130: polymer dispersed liquid crystal plate

130a : 광 통과영역 130b : 광 차단영역130a: light passing area 130b: light blocking area

130c : 셀 135 : 전선130c: cell 135: wires

210 : 투명 보호층 230 : 투명 전극210: transparent protective layer 230: transparent electrode

250 : 고분자 액정층 251 : 액정 250: polymer liquid crystal layer 251: liquid crystal

253 : 고분자 화합물253: high molecular compound

본 발명은 노광장치 및 노광방법에 관한 것이고, 특히 일괄 또는 분할 노광이 가능한 노광장치 및 노광방법에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method, and more particularly, to an exposure apparatus and an exposure method capable of batch or split exposure.

전자기기의 소형화, 경량화, 박막화되는 경향에 따라, 이에 포함되는 전자부품도 고밀도, 고정밀화 될 것이 요구되고 있다. 따라서 이러한 전자부품을 이루는 기판에 형성되는 도전 패턴은 고밀도, 고정밀화가 요구되는 추세이다. 그러나 일반적인 기판의 절연층으로 사용되는 폴리이미드 필름이나 에폭시 수지 등은 온도나 습도의 변화에 따라 치수 변화가 발생하기 쉽다. 이에 따라 도전성 배선과 절연층의 적층구조로 이루어지는 기판에 있어서, 각층의 도전성 배선패턴의 형성에 오차가 생기고 있다. 기판이 다층으로 적층되면서 이러한 오차의 누적으로 인하여 상하 도전성 배선을 전기적으로 접속하기 곤란하고, 이에 따라 기판의 고밀도화, 고정밀화의 요구에 장애가 되고 있다.As the size of electronic devices becomes smaller, lighter, and thinner, electronic components included therein are required to have high density and high precision. Therefore, the conductive pattern formed on the substrate constituting the electronic component is a trend that requires high density and high precision. However, a polyimide film, an epoxy resin, or the like, which is used as an insulating layer of a general substrate, tends to cause a dimensional change due to a change in temperature or humidity. As a result, an error occurs in the formation of the conductive wiring pattern of each layer in the substrate having the laminated structure of the conductive wiring and the insulating layer. As the substrates are stacked in multiple layers, it is difficult to electrically connect the upper and lower conductive wirings due to the accumulation of these errors, thereby obstructing the demand for higher density and higher precision of the substrates.

이러한 문제를 개선하기 위하여 기판에 배선패턴을 노광하는 공정에 있어서, 노광영역을 복수로 분할하여, 노광영역을 적게 하여 포토 마스크에 인쇄된 패턴을 정밀하게 기판에 전사하는 분할 노광법이 채용되고 있다.In order to solve such a problem, in the step of exposing a wiring pattern to a substrate, a divisional exposure method is adopted in which the exposure area is divided into a plurality of areas, the exposure area is reduced, and the pattern printed on the photomask is accurately transferred to the substrate. .

종래에는 이러한 노광을 위하여 분할된 영역에만 노광하고, 다른 영역의 광 조사를 차단하는 다양한 형태의 셔터를 이용하였다. 그러나 이러한 셔터들은 그 자 체가 분할 좌표축을 이동하면서 광을 차단하는 방식으로 분할 능력이 낮으며, 셔터 자체에서 떨어지는 이물질에 의하여 기판의 불량이 빈번하게 발생하고 있는 문제점이 있다. 또한 셔터의 차폐에 따라 셔터가 접히거나 수납되는 부분으로 인하여 필연적으로 데드 스페이스(dead space)가 발생하여 공정 효율을 떨어뜨리고 있다. 더욱이 투사형 Conventionally, various types of shutters are used for exposing only to divided areas and blocking light irradiation from other areas. However, these shutters have a low division capability in such a way that the light blocks itself while moving the division coordinate axis, and the defect of the substrate is frequently caused by foreign matter falling from the shutter itself. In addition, dead space is inevitably generated due to a portion in which the shutter is folded or accommodated according to the shielding of the shutter, thereby decreasing process efficiency. Moreover projection

본 발명은 전압에 의하여 광을 투과시키는 액정을 이용하여 간단한 제조공정에 의하여 전체 또는 선택적으로 노광할 수 있는 노광장치 및 노광방법을 제공한다.The present invention provides an exposure apparatus and an exposure method capable of exposing whole or selectively by a simple manufacturing process using a liquid crystal that transmits light by voltage.

또한, 본 발명은 기판의 뒤틀림을 고려하여 10㎛ 이내의 분할 노광을 할 수 있어, 원하는 특정부위의 부분노광이 가능한 노광장치 및 노광방법을 제공한다.In addition, the present invention provides an exposure apparatus and an exposure method capable of performing partial exposure within 10 µm in consideration of the warpage of the substrate, thereby enabling partial exposure of a desired specific portion.

또한, 본 발명은 셔터의 이동에 따른 이물질 발생의 우려가 없고, 데드 스페이스를 줄일 수 있는 노광장치 및 노광방법을 제공한다.In addition, the present invention provides an exposure apparatus and an exposure method capable of reducing dead space without fear of foreign matters caused by the movement of the shutter.

또한, 본 발명의 투사형 디스플레이에서와 같이 액정셔터나 편광자를 불요하여, 편광자의 광 흡수에 의한 온도상승의 우려가 없어 냉각 시스템을 대폭 축소할 수 있는 고분자 분산형 액정판을 이용한 노광장치 및 노광방법을 제공한다.In addition, as in the projection display of the present invention, there is no need for a liquid crystal shutter or a polarizer, and there is no fear of temperature rise due to light absorption of the polarizer, and an exposure apparatus and an exposure method using a polymer dispersed liquid crystal plate capable of greatly reducing the cooling system. To provide.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판 상에 포토 마스크를 적층하고, 상기 포토 마스크를 통하여 광을 상기 기판에 조사함으로써, 상기 포토 마스크에 인쇄된 패턴 을 상기 기판에 전사하는 노광장치에 있어서, 상기 포토 마스크에 광을 일괄 또는 분할하여 전달하기 위하여 광 개폐를 행하기 위한 고분자 분산형 액정판을 가지며, 상기 고분자 분산형 액정판은 외부 전압 인가에 상응하여 광을 투과할 수 있는 노광장치를 제시할 수 있다.According to an aspect of the present invention, in the exposure apparatus for transferring a pattern printed on the photo mask to the substrate by laminating a photo mask on a substrate and irradiating light to the substrate through the photo mask. It has a polymer dispersed liquid crystal plate for opening and closing the light in order to transfer the light in a batch or divided to the mask, the polymer dispersed liquid crystal plate can present an exposure apparatus that can transmit light in response to the application of an external voltage. have.

여기서 상기 고분자 분산형 액정판은 상기 포토 마스크에 광이 조사되는 측에 상기 기판의 위치에 상응하여 위치할 수 있고, 상기 고분자 분산형 액정판은 하나 이상의 셀을 포함할 수 있다.Herein, the polymer dispersed liquid crystal plate may be positioned corresponding to the position of the substrate on the side to which light is irradiated onto the photomask, and the polymer dispersed liquid crystal plate may include one or more cells.

여기서 상기 각 셀은 상하 최외층에 위치하는 투명 보호층들, 상기 보호층들에 사이에 협지되는 고분자 액정층, 및 상기 보호층들과 상기 고분자 액정층 사이에 위치하는 투명 전극을 포함할 수 있다.Here, each cell may include transparent protective layers positioned on upper and lower outer layers, a polymer liquid crystal layer sandwiched between the protective layers, and a transparent electrode positioned between the protective layers and the polymer liquid crystal layer. .

또한, 여기서 상기 고분자 분산형 액정판은 상기 투명 전극에 외부 전압을 공급하기 위한 전선을 더 포함할 수 있고, 상기 셀에 상기 외부 전압은 상기 전선을 거쳐 상기 투명 전극 통하여 상기 고분자 액정층에 인가할 수 있다.In addition, the polymer dispersed liquid crystal plate may further include a wire for supplying an external voltage to the transparent electrode, wherein the external voltage to the cell is applied to the polymer liquid crystal layer through the transparent electrode via the wire. Can be.

또한, 여기서 상기 고분자 액정층은 상기 외부 전압 인가에 상응하여 상기 외부 전압이 인가되는 방향을 따라 배향되는 액정 및 상기 액정이 균일하게 분산될 수 있도록 기재로 사용되는 고분자 화합물을 포함할 수 있다.In addition, the polymer liquid crystal layer may include a liquid crystal oriented in a direction in which the external voltage is applied in response to the external voltage application, and a polymer compound used as a substrate so that the liquid crystal may be uniformly dispersed.

또한, 여기서 상기 액정은 말단기가 알킬기와 알콕실기인 시아노비페닐(cyanobiphenyl) 액정 화합물을 포함할 수 있다.In addition, the liquid crystal may include a cyanoobiphenyl liquid crystal compound in which the terminal group is an alkyl group and an alkoxyl group.

또한, 여기서 상기 하나 이상의 셀에 상기 외부 전압이 인가되면, 상기 외부 전압이 인가된 셀이 광을 투과할 수 있고, 상기 하나 이상의 셀에 선택적으로 외부 전압을 인가할 수 있다.In addition, when the external voltage is applied to the one or more cells, the cell to which the external voltage is applied may transmit light, and the external voltage may be selectively applied to the one or more cells.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판 상에 포토 마스크를 적층하는 단계, 상기 포토 마스크에 광이 조사될 방향에 하나 이상의 셀을 포함하는 고분자 분산형 액정판이 위치하는 단계, 상기 하나 이상의 셀의 전부 또는 일부에 외부 전압을 인가하는 단계 및 상기 고분자 분산형 액정판에 상기 광을 조사하는 단계를 포함하는 기판의 노광방법을 제시할 수 있다.According to another aspect of the invention, the step of laminating a photo mask on a substrate, the polymer dispersed liquid crystal plate comprising one or more cells in the direction in which light is irradiated to the photo mask is located, all or one or more of the cells An exposure method of a substrate may be provided, including applying an external voltage to a portion and irradiating the light onto the polymer dispersed liquid crystal plate.

여기서, 상기 고분자 분산형 액정판 중 상기 외부 전압이 인가된 셀만 광을 투과할 수 있고, 상기 하나 이상의 셀에 선택적으로 외부 전압을 인가하여 상기 기판을 분할노광할 수 있다.Here, only the cells to which the external voltage is applied may transmit light among the polymer dispersed liquid crystal plates, and the substrate may be dividedly exposed by selectively applying an external voltage to the one or more cells.

이하, 본 발명에 따른 노광장치 및 노광방법의 바람직한 실시예들을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the exposure apparatus and the exposure method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 노광장치의 구조를 도시한 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'부분의 단면도이다. 도 1 및 2를 참조하면, 본 발명의 노광장치(10)는 포토 마스크(120)와 기판(110)을 근접하여 배치하고, 포토 마스크(120)를 통하여 노광 광원으로부터 광을 기판(110)에 조사함으로써, 포토 마스크(120)에 그려진 패턴을 기판(110)에 전사하는 것이다. 또한 포토 마스크(120)를 근접하여 배치하는 경우에 한하지 않고, 포토 마스크(120)와 기판(110)을 접촉시키는 것도 가능함은 물론이다.1 is a plan view illustrating a structure of an exposure apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a II-II 'portion of FIG. 1. 1 and 2, the exposure apparatus 10 of the present invention arranges the photo mask 120 and the substrate 110 in close proximity, and transmits light from the exposure light source to the substrate 110 through the photo mask 120. By irradiating, the pattern drawn on the photomask 120 is transferred to the substrate 110. In addition, the photomask 120 is not limited to being disposed in close proximity, and the photomask 120 and the substrate 110 may be in contact with each other.

노광장치(10)를 구체적으로 살펴보면, 기판(110)을 흡인 지지하기 위한 기판 홀더(100)와 이 기판홀더(100)와 기판 사이에 위치하여 기판을 고정시키는 평판 테이블 역활을 수행하는 플레튼(platen)(105)을 포함한다. 여기서 플레튼(105)은 기판이 포토마스크(120) 또는 고분자 분산형 액정판(130)에 상응하도록 회전하여 어라인(alignment)시키는 역할을 수행할 수 있다. 또한 포토 마스크(120)는 지지하기 위한 포토 마스크 홀더(125)와 포토 마스크(120)에 광이 조사되는 측에 기판에 상응하여 위치하고, 여기서 포토 마스크 홀더(125)와 포토 마스크(120)는 고정될 수 있다. 포토 마스크(120)에 광을 일괄 또는 분할하여 전달할 수 있는 광 통과영역(130a)을 형성할 수 있는 고분자 분산형 액정판(130)을 더 포함한다. 이 고분자 분산형 액정판(130)은 하나 이상의 셀(130c)을 포함할 수 있으며, 이 셀들은 선택적 광개폐를 통하여 분할노광 시 유용하게 사용될 수 있다. 이 고분자 분산형 액정판(130)을 고정하기 위하여 액정판 홀더(133)를 더 포함할 수 있다. 이 액정판 홀더(133)는 기판의 위치에 상응하도록 고분자 분산형 액정판(130)을 사전 어라인(pre-alignment)시키도록 평면상에서 일정한 각도로 회전할 수도 있다.In detail, the exposure apparatus 10 includes a substrate holder 100 for suction-supporting the substrate 110 and a platen positioned between the substrate holder 100 and the substrate to serve as a flat table for fixing the substrate ( platen) 105. Here, the platen 105 may serve to rotate and align the substrate so as to correspond to the photomask 120 or the polymer dispersed liquid crystal plate 130. In addition, the photo mask 120 is positioned corresponding to the substrate on the side to which the photo mask holder 125 and the photo mask 120 are irradiated with light, where the photo mask holder 125 and the photo mask 120 are fixed. Can be. The photomask 120 further includes a polymer dispersed liquid crystal plate 130 capable of forming a light passing region 130a capable of collectively or dividing light in the photo mask 120. The polymer dispersed liquid crystal panel 130 may include one or more cells 130c, and these cells may be usefully used for split exposure through selective light switching. A liquid crystal plate holder 133 may be further included to fix the polymer dispersed liquid crystal plate 130. The liquid crystal plate holder 133 may rotate at a predetermined angle on a plane to pre-align the polymer dispersed liquid crystal plate 130 to correspond to the position of the substrate.

여기서 고분자 분산형 액정판(130)은 액정 디스플레이어 기술분야의 통상적인 방법에 제조될 수 있다. 일반적으로 고분자 분산형 액정판은 산란모드를 표시하는데 이용하므로 편광판이 불필요하고 고휘도의 표시를 용이하게 얻을 수 있는 장점이 있으며, 액정과 고분자 화합물의 굴절률 매칭을 이용하여 표시하는 것을 특징으로 한다. The polymer dispersed liquid crystal panel 130 may be manufactured by a conventional method in the liquid crystal display technology. In general, the polymer dispersed liquid crystal panel is used to display the scattering mode, so that the polarizing plate is unnecessary and the display can easily obtain a high brightness display, and is displayed by using refractive index matching between the liquid crystal and the polymer compound.

이러한 고분자 분산형 액정판(130)은 크게 2가지로 구분될 수 있는데, 하나는 전압무인가로 산란표시, 전압인가로 투명표시를 하는 노말모드(normal mode)이고, 다른 하나는 전압무인가로 투명표시, 전압인가로 산란표시를 하는 리버스 모드(reverse mode)이다. 여기서 투명표시는 광 통과영역(130a)을 형성하고, 산란표시는 광 차단영역(130b)을 형성한다. The polymer dispersed liquid crystal panel 130 may be classified into two types, one of which is a normal mode in which scattering display is performed without voltage and a transparent display is applied with voltage, and the other is transparent display without voltage. In reverse mode, scattering is displayed by applying voltage. The transparent display forms the light passing region 130a and the scattering display forms the light blocking region 130b.

도 3는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 고분자 분산형 액정판을 나타내는 도면이다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따르면 고분자 분산형 액정판(130)은 하나 이상의 셀(130c)을 포함할 수 있고, 각 셀은 상하에 위치하는 투명 보호층(210), 이 보호층(210)들 사이에 협지되는 고분자 액정층(250), 이 보호층(210)들과 고분자 액정층(250) 사이에 위치하는 투명 전극(230)을 포함한다. 또한 이 고분자 분산형 액정판(130)은 고분자 액정층(250)에 전압을 인가하기 위하여 외부 전압을 공급하기 위한 전선(135)을 더 포함할 수 있다. 3 is a view showing a polymer dispersed liquid crystal plate according to an exemplary embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, in accordance with an embodiment of the present invention, the polymer dispersed liquid crystal panel 130 may include one or more cells 130c, and each cell may include a transparent protective layer 210 disposed above and below. The polymer liquid crystal layer 250 is interposed between the protective layers 210, and the transparent electrode 230 positioned between the protective layers 210 and the polymer liquid crystal layer 250. In addition, the polymer dispersed liquid crystal panel 130 may further include an electric wire 135 for supplying an external voltage to apply a voltage to the polymer liquid crystal layer 250.

여기서 투명 보호층(210)들은 투명한 연성필름과 같은 수지층이나 유리층일 수 있고, 당해 기술의 통상적인 범위에서 투명한 물질을 포함하는 다층으로 이루어질 수 있다. 또한 고분자 액정층(250)은 외부 전압 인가에 상응하여 외부 전압이 인가되는 방향을 따라 배향되는 액정(251)과 이 액정이 균일하게 분산될 수 있도록 베이스 기재로 사용되는 고분자 화합물(253)를 포함한다. 이러한 액정(251)으로는 네마틱(nematic) 액정이 주로 사용되며, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면 말단기가 알킬기와 알콕실기인 시아노비페닐(cyanobiphenyl) 액정 화합물을 사용할 수 있다. The transparent protective layer 210 may be a resin layer or a glass layer, such as a transparent flexible film, it may be made of a multi-layer containing a transparent material in the conventional range of the art. In addition, the polymer liquid crystal layer 250 includes a liquid crystal 251 oriented in a direction in which an external voltage is applied in response to an external voltage application, and a polymer compound 253 used as a base substrate so that the liquid crystal can be uniformly dispersed. do. A nematic liquid crystal is mainly used as the liquid crystal 251, and according to a preferred embodiment of the present invention, a cyanobiphenyl liquid crystal compound in which the terminal group is an alkyl group and an alkoxyl group may be used.

또한 고분자 분산형 액정판(130)은 다이 도핑(dye doped)될 수 있으며, 상술한 바와 같이 액정이 액정분자만으로 이루어질 수 있고, 다이 도핑된 고분자 분산 형 액정판은 액정분자와 다이(dye)분자로 이루어질 수도 있다.In addition, the polymer dispersed liquid crystal panel 130 may be die doped, and as described above, the liquid crystal may be formed of only liquid crystal molecules, and the die doped polymer dispersed liquid crystal plate may be formed of liquid crystal molecules and die molecules. It may be made of.

도 3에서 배향 상태의 이해를 도모하기 위하여 편의상 액정(251) 사이에 공간이 존재하도록 나타내고 있지만, 실제로는 고분자 화합물(253)을 제외한 공간 부분에는 모두 액정이 충전된 상태로 되어 있다. In FIG. 3, in order to understand the alignment state, a space is present between the liquid crystals 251 for convenience, but in reality, all of the space portions except the polymer compound 253 are filled with liquid crystals.

고분자 분산형 액정판의 전압에 따른 특이한 거동은 액정판에 포함되는 액정이 인가되는 전압에 따라 광학적인 특성이 변하기 때문에 발생한다. 일정한 주파수의 전압파형이 인가되면 그 파형의 실효 전압에 의하여 액정분자가 배향 또는 무배향의 특성을 나타낸다. 이러한 전기 광학적인 특성을 측정하기 위해서는 외부에서 전압신호가 인가되고 전압이 일정하게 증가될 때 액정의 광 투과율을 측정할 수 있다. 이러한 고분자 분산형 액정판은 사용한 액정에 따라 역치 전압이 존재하는데, 이 역치값보다 작은 전압을 가하였을 때는 투과율에 아무런 변화를 나타내지 않다고, 인가 전압이 역치값을 넘어서면 투과율이 급격하게 변화하여 임의의 어느 값 이상에서 수렴하게 된다. The unusual behavior according to the voltage of the polymer dispersed liquid crystal panel occurs because the optical properties change depending on the voltage applied to the liquid crystal included in the liquid crystal panel. When a voltage waveform of a constant frequency is applied, the liquid crystal molecules exhibit orientation or non-orientation characteristics by the effective voltage of the waveform. In order to measure such an electro-optical characteristic, the light transmittance of the liquid crystal may be measured when a voltage signal is applied from the outside and the voltage is constantly increased. The polymer dispersed liquid crystal panel has a threshold voltage depending on the liquid crystal used. When a voltage lower than the threshold value is applied, no change in the transmittance is observed. When the applied voltage exceeds the threshold value, the transmittance rapidly changes and becomes random. Converges above any value of.

도 3 (a)를 참조하면, 투명 전극(230)에 전압이 가해지지 않을 때에는 액정(251)내에 불규칙적으로 분산되어 있는 액정분자에 의하여 광이 산란되거나 흡수되어 광이 투과되지 못하는 산란표시 상태, 즉 광 차단영역(130b)이 형성된다. 그러나 도 3 (b)와 같이, 투명 전극(230)에 전압이 가해지면 액정(251)내에 액정분자들이 전압이 인가되는 방향을 따라 배향되기 때문에 광의 산란이나 흡수가 일어나지 않고 액정판에 입사된 광의 대부분이 투과되어 투명 표시상태, 즉 광 통과영역(130a)이 형성된다. Referring to FIG. 3A, when no voltage is applied to the transparent electrode 230, a scattering display state in which light is scattered or absorbed by liquid crystal molecules irregularly dispersed in the liquid crystal 251, and thus the light is not transmitted. That is, the light blocking region 130b is formed. However, as shown in FIG. 3B, when a voltage is applied to the transparent electrode 230, the liquid crystal molecules are aligned in the liquid crystal 251 along the direction in which the voltage is applied, so that scattering or absorption of light does not occur, Most of the light is transmitted to form a transparent display state, that is, a light passing region 130a.

도 4은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 고분자 분산형 액정판의 분할 광개폐를 나타내는 도면이다. 도 4를 참조하면, 이에 한정되지 않으나, 예를 들면 4분할된 고분자 분산형 액정판(130)의 각 셀(130c)들은 외부 전압이 인가되었는지 여부에 따라, 광개폐를 나타낸다. 즉, 외부전압이 인가된 셀을 광 통과영역(130a)을 구성하고, 외부전압이 인가되지 않은 셀을 광 차단영역(130b)을 구성하게 된다. 따라서 고분자 분산형 액정판(130)을 예를 들면, 2분할, 4분할, 8분할, 16분할 등으로 셀을 나눈 후 기판 상에 노광하고자 하는 부분만 선택적으로 외부 전압을 인가하여 노광시킬 수 있다. 그러나 본 발명은 고분자 분산형 액정판을 분할하지 않고, 일괄하여 구성하는 것도 발명의 사상으로 포함함은 물론이다.FIG. 4 is a diagram illustrating split light opening and closing of a polymer dispersed liquid crystal panel according to an exemplary embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the present invention is not limited thereto. For example, each cell 130c of the four-divided polymer dispersed liquid crystal panel 130 exhibits light switching according to whether an external voltage is applied. That is, the cell through which the external voltage is applied configures the light passing region 130a, and the cell without applying the external voltage configures the light blocking region 130b. Therefore, after dividing the cell into 2, 4, 8, 16, and the like, the polymer dispersed liquid crystal panel 130 may be exposed by selectively applying an external voltage only to a portion to be exposed on the substrate. . However, of course, the present invention includes not only the polymer dispersed liquid crystal plate but also the whole composition as a spirit of the invention.

이러한 노광장치에 의하여 기판을 노광하는 방법은 기판(110) 상에 포토 마스크(120)를 적층하는 단계, 이 포토 마스크(120)에 광이 조사될 방향에 고분자 분산형 액정판(130)이 위치하는 단계, 이 고분자 분산형 액정판(130)의 전부 또는 일부에 외부 전압을 인가하는 단계 및 상기 고분자 분산형 액정판(130)에 상기 광을 조사하는 단계를 포함할 수 있다. 여기서 고분자 분산형 액정판이 노말 모드인 경우 고분자 분산형 액정판 중 상기 외부 전압이 인가된 부분만이 광을 투과할 수 있다. In the method of exposing a substrate by the exposure apparatus, the photomask 120 is laminated on the substrate 110, and the polymer dispersed liquid crystal plate 130 is positioned in a direction in which light is irradiated onto the photomask 120. And applying an external voltage to all or a part of the polymer dispersed liquid crystal panel 130 and irradiating the light to the polymer dispersed liquid crystal panel 130. When the polymer dispersed liquid crystal panel is in the normal mode, only a portion of the polymer dispersed liquid crystal panel to which the external voltage is applied may transmit light.

이상에서 노광장치 및 노광방법을 일반적으로 도시한 도면으로 설명하였으며, 이하에서는 본 발명에 따른 구체적인 실시예를 기준으로 설명하기로 한다. In the above description, the exposure apparatus and the exposure method have been described generally with reference to the drawings, and the following will be described with reference to specific embodiments according to the present invention.

<실시예><Example>

인듐 주석산화물(ITO)이 증착된 2장의 연성 필름에 스페이서(spacer)가 혼입된 UV접착제로 합착시켜 필름 사이의 갭을 형성한 후, 이 갭에 UV 중합형 프리폴리머와 네마틱액정의 균일한 배합물질을 모세관 현상을 이용하여 주입하여 셀을 형성시킨다. 균일한 액정 고분자 배합물질이 주입된 셀에 300 내지 400nm, 바람직하게는 365nm의 UV를 조사하여 프리폴리머를 광중합시킨 후 셀의 가장자리를 에폭시 수지로 봉지하여 셀을 완성하였다. After bonding two sheets of indium tin oxide (ITO) deposited with a UV adhesive containing a spacer mixed with a spacer, a gap between the films is formed, and then uniform mixing of the UV polymerized prepolymer and the nematic liquid crystal is formed in this gap. The material is injected using capillary action to form a cell. After the prepolymer was photopolymerized by irradiating UV of 300-400 nm, preferably 365 nm, to the cell into which the uniform liquid crystal polymer compound was injected, the cell edge was sealed with epoxy resin to complete the cell.

이와 같이 제조된 다수의 셀을 연결하여 고분자 분산형 액정판을 만들고 그 하부에 유리 마스크를 장착하고, ON/OFF 모드로 전압을 인가하였다. 전압이 인가된 부위의 셀은 액정이 배열되어 광을 투과하여 투명해지고, 그렇지 않은 부분은 OFF 상태에서 산란되어 UV가 투과되지 못하였다. 이를 이용하여 기판을 선택적으로 노광할 수 있으며, 10㎛이하 단위로 분할하여 노광할 수 있었다. A plurality of cells manufactured as described above were connected to make a polymer dispersed liquid crystal plate, a glass mask was mounted on the lower portion thereof, and a voltage was applied in an ON / OFF mode. Cells in the region where the voltage was applied are transparent to the light through the liquid crystal is arranged, the other portion is scattered in the OFF state, the UV was not transmitted. By using this, the substrate can be selectively exposed, and the substrate can be exposed by dividing it into units of 10 μm or less.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 물론이다.The present invention is not limited to the above embodiments, and many variations are possible by those skilled in the art within the spirit of the present invention.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 노광장치 및 노광방법은 전압에 의하여 광을 투과시키는 액정을 이용하여 간단한 제조공정에 의하여 선택적으로 노광할 수 있으며, 기판의 뒤틀림을 고려하여 10㎛ 이내의 노광을 할 수 있어, 원하는 특정부위의 분할노광이 가능한 노광장치 및 노광방법을 제공한다. 또한, 본 발명에 따른 노광장치 및 노광방법은 셔터의 이동에 따른 이물질 발생의 우려가 없고, 데드 스페이스를 줄일 수 있고, 투사형 디스플레이에서와 같이 액정셔터나 편광자를 불필요하여, 편광자의 광흡수에 의한 온도상승의 우려가 없어 냉각 시스템을 대폭 축소할 수 있는 고분자 분산형 액정판을 이용하였다. As described above, the exposure apparatus and the exposure method according to the present invention can be selectively exposed by a simple manufacturing process using a liquid crystal that transmits light by voltage, and may be exposed to within 10 μm in consideration of the distortion of the substrate. It is possible to provide an exposure apparatus and an exposure method capable of dividing exposure of a desired specific portion. In addition, the exposure apparatus and the exposure method according to the present invention do not cause foreign matters due to the movement of the shutter, and can reduce dead space, and do not require a liquid crystal shutter or a polarizer as in a projection display, resulting in light absorption of the polarizer. The polymer dispersed liquid crystal panel was used, which can greatly reduce the cooling system because there is no fear of temperature rise.

Claims (13)

기판 상에 포토 마스크를 적층하고, 상기 포토 마스크를 통하여 광을 상기 기판에 조사함으로써, 상기 포토 마스크에 인쇄된 패턴을 상기 기판에 전사하는 노광장치에 있어서, In the exposure apparatus which transfers the pattern printed on the said photo mask to the said board | substrate by laminating | stacking a photomask on a board | substrate and irradiating light to the said board | substrate through the said photomask, 상기 포토 마스크에 광을 일괄 또는 분할하여 전달하기 위하여 광 개폐를 행하기 위한 고분자 분산형 액정판을 가지며, 상기 고분자 분산형 액정판은 외부 전압 인가에 상응하여 광을 투과하는 것을 특징으로 하는 노광장치.An exposure apparatus comprising a polymer dispersed liquid crystal plate for opening and closing the light in order to collectively or separately transmit the light to the photo mask, wherein the polymer dispersed liquid crystal plate transmits light in response to the application of an external voltage. . 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 고분자 분산형 액정판은 상기 포토 마스크에 광이 조사되는 측에 상기 기판의 위치에 상응하여 위치하는 것을 특징으로 하는 노광장치. And the polymer dispersed liquid crystal plate is positioned corresponding to the position of the substrate on the side to which light is irradiated onto the photomask. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 고분자 분산형 액정판은 하나 이상의 셀을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.The polymer dispersed liquid crystal plate comprises at least one cell. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 각 셀은 Each cell 상하 최외층에 위치하는 투명 보호층들;Transparent protective layers positioned on upper and lower outermost layers; 상기 보호층들에 사이에 협지되는 고분자 액정층; 및A polymer liquid crystal layer sandwiched between the protective layers; And 상기 보호층들과 상기 고분자 액정층 사이에 위치하는 투명 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.And a transparent electrode positioned between the protective layers and the polymer liquid crystal layer. 청구항 4에 있어서,The method according to claim 4, 상기 고분자 분산형 액정판은 상기 투명 전극에 외부 전압을 공급하기 위한 전선을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.The polymer dispersed liquid crystal plate further comprises a wire for supplying an external voltage to the transparent electrode. 청구항 5에 있어서,The method according to claim 5, 상기 셀에 상기 외부 전압은 상기 전선을 거쳐 상기 투명 전극 통하여 상기 고분자 액정층에 인가되는 것을 특징으로 하는 노광장치.And the external voltage to the cell is applied to the polymer liquid crystal layer through the transparent electrode via the wire. 청구항 5에 있어서,The method according to claim 5, 상기 고분자 액정층은 The polymer liquid crystal layer is 상기 외부 전압 인가에 상응하여 상기 외부 전압이 인가되는 방향을 따라 배향되는 액정; 및A liquid crystal oriented in a direction in which the external voltage is applied according to the external voltage application; And 상기 액정이 균일하게 분산될 수 있도록 기재로 사용되는 고분자 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.Exposure apparatus comprising a polymer compound used as a base material so that the liquid crystal can be uniformly dispersed. 청구항 7에 있어서,The method according to claim 7, 상기 액정은 말단기가 알킬기와 알콕실기인 시아노비페닐(cyanobiphenyl) 액정 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.And the liquid crystal comprises a cyanoobiphenyl liquid crystal compound in which the terminal group is an alkyl group and an alkoxyl group. 청구항 7에 있어서,The method according to claim 7, 상기 하나 이상의 셀에 상기 외부 전압이 인가되면, 상기 외부 전압이 인가된 셀이 광을 투과하는 것을 특징으로 하는 노광장치.And when the external voltage is applied to the at least one cell, the cell to which the external voltage is applied transmits light. 청구항 9에 있어서,The method according to claim 9, 상기 하나 이상의 셀에 선택적으로 외부 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 노광장치.And selectively applying an external voltage to the at least one cell. 기판 상에 포토 마스크를 적층하는 단계;Depositing a photo mask on the substrate; 상기 포토 마스크에 광이 조사될 방향에 하나 이상의 셀을 포함하는 고분자 분산형 액정판이 위치하는 단계;Positioning a polymer dispersed liquid crystal plate including one or more cells in a direction in which light is irradiated onto the photo mask; 상기 하나 이상의 셀의 전부 또는 일부에 외부 전압을 인가하는 단계; 및Applying an external voltage to all or part of the one or more cells; And 상기 고분자 분산형 액정판에 상기 광을 조사하는 단계를 포함하는 기판의 노광방법.And exposing the light to the polymer dispersed liquid crystal plate. 청구항 11에 있어서,The method according to claim 11, 상기 하나 이상의 셀의 전부 또는 일부에 외부 전압을 인가하는 단계는, 상기 하나 이상의 셀에 상기 외부 전압이 인가되어 상기 외부 전압이 인가된 셀이 광을 투과하는 것을 특징으로 하는 기판의 노광방법.The applying of an external voltage to all or part of the one or more cells may include applying the external voltage to the one or more cells so that the cell to which the external voltage is applied transmits light. 청구항 12에 있어서, The method according to claim 12, 상기 하나 이상의 셀에 외부 전압을 인가하는 단계는, 상기 하나 이상의 셀에 선택적으로 외부 전압을 인가하여 상기 기판을 분할노광하는 것을 특징으로 하는 기판의 노광방법.The step of applying an external voltage to the at least one cell, the exposure of the substrate by selectively applying an external voltage to the at least one cell, the exposure method of the substrate.
KR1020060012809A 2006-02-10 2006-02-10 exposure apparatus and exposure method KR100758228B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060012809A KR100758228B1 (en) 2006-02-10 2006-02-10 exposure apparatus and exposure method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060012809A KR100758228B1 (en) 2006-02-10 2006-02-10 exposure apparatus and exposure method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070081145A KR20070081145A (en) 2007-08-16
KR100758228B1 true KR100758228B1 (en) 2007-09-12

Family

ID=38611113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060012809A KR100758228B1 (en) 2006-02-10 2006-02-10 exposure apparatus and exposure method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100758228B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101989600B1 (en) * 2017-12-20 2019-09-30 한국세라믹기술원 Method for forming functional pattern of multi-layer structure

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050091983A (en) * 2004-03-13 2005-09-16 삼성전자주식회사 Exposure apparatus and method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050091983A (en) * 2004-03-13 2005-09-16 삼성전자주식회사 Exposure apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070081145A (en) 2007-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100356603B1 (en) Liquid crystal display device
JP5107905B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal panel
US8330921B2 (en) Pixel structure and display panel
US8848159B2 (en) Method of fabricating liquid crystal display device
KR102039682B1 (en) Method of manufacturing liquid crystal display
KR20000077285A (en) The liquid crystal display device and the method thereof
JP6858495B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method of liquid crystal display device
KR20000011241A (en) Liquid crystal displaying device
US11567372B2 (en) TFT-LCD device
CN108873493B (en) Liquid crystal display panel, device and frame glue curing method of liquid crystal display panel
KR100259440B1 (en) Active matrix type lcd apparatus and formation method and orientation verification method of orientation film thereof
KR101574097B1 (en) Array substrate for Liquid crystal display device
KR102348373B1 (en) Liquid crystal display device
KR20150000743A (en) Display apparatus and method of manufacturing the same
JP2721153B2 (en) Display device
US8305548B2 (en) System for displaying images and manufacturing method of the same
JP2008203448A (en) Liquid crystal display device
KR100758228B1 (en) exposure apparatus and exposure method
JPS59222817A (en) Liquid crystal display device
JP6924588B2 (en) Manufacturing method of liquid crystal display device and liquid crystal table device
JP3896191B2 (en) Color filter and color liquid crystal display device
KR101218088B1 (en) Liquid crystal display device
JP2000171805A (en) Liquid crystal display device
JP7391686B2 (en) Method for manufacturing a liquid crystal display device and liquid crystal display device
KR20180092850A (en) Polarizing plate, method for manufacturing polarizing plate, and display apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130624

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140701

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150707

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160701

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee