KR100757852B1 - Led lighting apparatus, substrates cleaning apparatus using the same and cooling method for lighting apparaus - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 일 예를 보여주는 개략적 평면 구성도,1 is a schematic plan view showing an example of a substrate cleaning apparatus according to the present invention;
도 2는 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 개략적 측면 구성도,2 is a schematic side configuration diagram of a substrate cleaning apparatus according to the present invention;
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 엘이디 조명 기구의 개략적 구성도,3 is a schematic configuration diagram of the LED lighting fixture shown in FIGS. 1 and 2;
도 4는 도 3의 A-A'선에 따른 단면도,4 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 3;
도 5는 본 발명에 따른 엘이디 조명 기구의 개략적 동작 상태도이다.5 is a schematic operation state diagram of the LED lighting fixture according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
100 : 로딩/언로딩부 200 : 정렬부100: loading / unloading unit 200: alignment unit
300 : 메인부 310 : 세정 처리부300: main portion 310: washing treatment portion
320 : 조명 기구 322 : 하우징320: lighting fixture 322: housing
324 : 회로 기판 325 : 발광 다이오드324: circuit board 325: light emitting diode
326b : 제 2 공간 327 : 가스 공급 부재326b: second space 327: gas supply member
328 : 배기 부재 400 : 유틸리티부328: exhaust member 400: utility part
420 : 약액 순환 유닛 500 : 작업 공간420: chemical liquid circulation unit 500: working space
본 발명은 반도체 제조 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 표면에 잔류하는 오염 물질을 제거하는 기판 세정 장치 및 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus and method, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus and method for removing contaminants remaining on a substrate surface.
일반적으로, 반도체 소자가 고밀도, 고집적화, 고성능화됨에 따라 회로 패턴의 미세화가 급속히 진행됨으로써, 기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle), 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염 물질은 소자의 특성과 생산 수율에 많은 영향을 미치게 된다. 이 때문에 기판 표면에 부착된 각종 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 반도체 제조 공정에서 매우 중요하게 대두되고 있으며, 반도체 제조의 각 단위 공정 전후 단계에서 기판의 세정 공정이 실시되고 있다.In general, as semiconductor devices become dense, highly integrated, and high-performance, microcirculation of circuit patterns proceeds rapidly, and contaminants such as particles, organic contaminants, and metal contaminants remaining on the surface of the substrate have a great effect on device characteristics and production yield. Will be affected. For this reason, the cleaning process for removing various contaminants adhering to the substrate surface is very important in the semiconductor manufacturing process, and the substrate cleaning process is performed at each step before and after each unit process of semiconductor manufacturing.
현재 반도체 제조 공정에서 사용되는 세정 방법은, 가스 상태에서 기판 표면의 오염 물질을 제거하는 건식 세정(Dry Cleaning)과, 약액 중에 기판을 침적시켜 화학적 용해 등에 의해서 오염 물질을 제거하는 습식 세정(Wet Cleaning)으로 크게 나뉘어진다.The cleaning method used in the present semiconductor manufacturing process includes dry cleaning to remove contaminants on the surface of the substrate in a gas state, and wet cleaning to remove contaminants by chemical dissolution by depositing the substrate in a chemical solution. It is largely divided into).
이러한 세정 공정 중 습식 세정에 사용되는 세정 장치인 웨트 스테이션(Wet Station)은 기판이 침적될 수 있도록 상부 면이 개방되고 처리 약액(세정액, 식각액 등)으로 채워진 배스들과, 배스들 간의 기판 이송을 위한 이송 로봇을 갖는다. 그리고, 배스들과 이송 로봇이 구비된 세정 처리 공간의 일 측에는 그 내부를 밝게 비추기 위한 조명 기구가 설치되며, 조명 기구의 광원으로는 발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED)가 사용되고 있다.The wet station, a cleaning device used for wet cleaning during this cleaning process, allows the transfer of substrates between the baths and the bass filled with the processing chemicals (cleaning liquid, etching liquid, etc.) with the top surface open to allow the substrate to be deposited. Has a transport robot for it. In addition, a light fixture for illuminating the inside of the cleaning processing space equipped with the baths and the transfer robot is installed, and a light emitting diode (LED) is used as a light source of the light fixture.
그런데, 발광 다이오드(LED)를 이용한 조명 기구는 소비 전력이 적게 소모되는 장점을 가지나, 요구되는 전류량이 많기 때문에 과도한 열이 발생하게 되며, 이를 효율적으로 발산시키지 못할 경우 조명 기구의 수명이 단축되거나 그 성능이 저하되는 등의 문제점이 있었다.By the way, a light fixture using a light emitting diode (LED) has the advantage that the power consumption is reduced, but excessive heat is generated because of the large amount of current required, if it does not dissipate it efficiently, the life of the light fixture is shortened or There was a problem such as a decrease in performance.
따라서, 본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 통상적인 웨트 스테이션에 설치된 조명 기구가 가진 문제점을 감안하여 이를 해소하기 위해 창출된 것으로서, 본 발명의 목적은 조명 기구 내의 열을 효율적으로 발산시킬 수 있는 엘이디 조명 기구와, 이를 이용한 기판 세정 장치 및 엘이디 조명 기구의 냉각 방법을 제공하기 위한 것이다.Therefore, the present invention was created to solve the problem in view of the problems of the lighting fixtures installed in the conventional conventional wet station as described above, the object of the present invention is to provide an LED that can efficiently dissipate heat in the lighting fixtures It is to provide a lighting apparatus, a substrate cleaning device and a cooling method of the LED lighting apparatus using the same.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 엘이디 조명 기구는, 중공형의 관 부재로 마련된 하우징과; 상기 하우징의 내부 공간을 길이 방향으로 구획하며, 전면(前面)에 다수의 발광 다이오드들이 접속된 회로 기판과; 상기 회로 기판의 후면(後面)으로 냉각 가스를 유통시켜 상기 발광 다이오드의 발광시 발생하는 열을 외부로 배출시키는 쿨링 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the LED lighting apparatus according to the present invention comprises a housing provided with a hollow tubular member; A circuit board partitioning the inner space of the housing in a longitudinal direction and having a plurality of light emitting diodes connected to a front surface thereof; And a cooling unit circulating the cooling gas to the rear surface of the circuit board to discharge heat generated when the light emitting diode emits light to the outside.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 엘이디 조명 기구에 있어서, 상기 쿨링 유닛은 상기 하우징의 일 측에 연결되어 상기 하우징 내에 냉각 가스를 주입하는 가스 공급 부재와; 상기 하우징의 타 측에 연결되며, 상기 하우징 내에서 유통된 냉각 가스를 외부로 배출시키는 배기 부재;를 포함하는 것이 바람직하다.In the LED lighting device according to the present invention having the configuration as described above, the cooling unit is connected to one side of the housing and the gas supply member for injecting cooling gas into the housing; And an exhaust member connected to the other side of the housing and discharging the cooling gas distributed in the housing to the outside.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 기판 세정 장치는, 기판 세정 장치에 있어서, 약액이 채워진 처리조들에 기판을 순차적으로 로딩/언로딩하여 기판을 세정 처리하는 세정 처리부와; 상기 세정 처리부의 내측에 설치되어 그 내부 공간에 빛을 조사하는 조명 기구;를 포함하되, 상기 조명 기구는 중공형의 관 부재로 마련된 하우징과; 상기 하우징의 내부 공간을 길이 방향으로 구획하며, 전면(前面)에 다수의 발광 다이오드들이 접속된 회로 기판과; 상기 회로 기판의 후면(後面)으로 냉각 가스를 유통시켜 상기 발광 다이오드의 발광시 발생하는 열을 외부로 배출시키는 쿨링 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the substrate cleaning apparatus according to the present invention includes: a substrate cleaning apparatus comprising: a cleaning processing unit for cleaning a substrate by sequentially loading / unloading the substrate into processing tanks filled with a chemical liquid; A lighting device installed inside the cleaning processing unit and irradiating light to the inner space thereof, wherein the lighting device comprises: a housing formed of a hollow tube member; A circuit board partitioning the inner space of the housing in a longitudinal direction and having a plurality of light emitting diodes connected to a front surface thereof; And a cooling unit circulating the cooling gas to the rear surface of the circuit board to discharge heat generated when the light emitting diode emits light to the outside.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 기판 세정 장치에 있어서, 상기 쿨링 유닛은 상기 하우징의 일 측에 연결되어 상기 하우징 내에 냉각 가스를 주입하는 가스 공급 부재와; 상기 하우징의 타 측에 연결되며, 상기 하우징 내에서 유통된 냉각 가스를 외부로 배출시키는 배기 부재;를 포함하는 것이 바람직하다.In the substrate cleaning apparatus according to the present invention having the configuration as described above, the cooling unit is connected to one side of the housing and a gas supply member for injecting a cooling gas into the housing; And an exhaust member connected to the other side of the housing and discharging the cooling gas distributed in the housing to the outside.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 엘이디 조명 기구의 냉각 방법은, 다수의 발광 다이오드들이 내장된 엘이디 조명 기구를 냉각하는 방법에 있어서, 상기 발광 다이오드들이 접속되어 있는 회로 기판의 후면으로 냉각 가스를 유통시켜 상기 발광 다이오드들의 발광시 발생하는 열을 상기 엘이디 조명 기구의 외부로 배출시키는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of cooling an LED lighting device according to the present invention includes a method of cooling an LED lighting device having a plurality of light emitting diodes embedded therein, the cooling gas being directed to a rear surface of a circuit board to which the light emitting diodes are connected. It is characterized in that by discharging the heat generated when the light emitting diodes emit light to the outside of the LED lighting fixture.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 엘이디 조 명 기구와, 이를 이용한 기판 세정 장치 및 엘이디 조명 기구의 냉각 방법을 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, an LED lighting apparatus, a substrate cleaning apparatus, and a cooling method of the LED lighting apparatus using the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are assigned to the same components as much as possible, even if shown on different drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related well-known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.
( 실시예 )(Example)
도 1은 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 일 예를 보여주는 개략적 평면 구성도이고, 도 2는 본 발명에 따른 기판 세정 장치의 개략적 측면 구성도이다.1 is a schematic plan view showing an example of a substrate cleaning apparatus according to the present invention, Figure 2 is a schematic side view of a substrate cleaning apparatus according to the present invention.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 기판 세정 장치(10)는 기판 캐리어(미도시)가 로딩 또는 언로딩되는 로딩/언로딩부(100)와, 기판들의 정렬이 이루어지는 정렬부(200)와, 기판들의 세정 처리가 이루어지는 메인부(300)와, 그리고 기판 세정을 위한 약액의 순환 및 설비의 제어를 위한 제어반(Power & Controller Box)을 가지는 유틸리티부(400)를 포함한다.1 and 2, the
로딩/언로딩부(100)에서는 복수 개의 기판들이 수용된 기판 캐리어(미도시)가 로딩/언로딩되며, 로딩/언로딩부(100)에는 세정 공정을 진행하기 위해 운반된 캐리어 또는 다음 공정으로 운반될 캐리어들이 대기 상태로 보관되는 스톡커를 포함하는 통상의 구성과 기능을 갖는다.In the loading /
정렬부(200)에서는 기판들을 세정 공정에 맞도록 정렬하고, 정렬된 기판들은 메인부(300)로 이송되어 세정 처리된다.The
메인부(300)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 상층과 하층의 복층 구조로 배치된 세정 처리부(310,310')를 가진다. 각각의 세정 처리부(310,310')에는 약액이 채워지는 복수의 처리조(312,312')들과, 각각의 처리조(312,312')들에 기판을 이송하는 이송 로봇(314,314')이 설치된다. 그리고, 세정 처리부(310)의 일 측에는 그 내부 공간을 밝게 비추기 위해 빛을 조사하는 조명 기구(320)가 설치된다.As shown in FIG. 2, the
유틸리티부(400)는 상부와 하부로 구획된다. 상부에는 전반적인 설비를 제어하는 제어반(Power & Controller Box; 410)이 설치되고, 하부에는 각각의 처리조(312,312')에서의 기판 세정을 위한 약액 순환 유닛(420,430)들이 처리조(312,312')들 각각에 대응되도록 설치된다. 약액 순환 유닛(420,430)들 각각은 유틸리티부(400)의 하부 공간에 착탈 가능하게 설치될 수 있다. 그리고, 메인부(300)와 유틸리티부(400)의 사이에는 기판 세정 장치(10)의 유지 보수 작업을 용이하게 하기 위한 작업 공간(500)이 마련될 수 있다. The
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 엘이디 조명 기구의 개략적 구성도이고, 도 4는 도 3의 A-A'선에 따른 단면도이다.3 is a schematic configuration diagram of the LED lighting apparatus illustrated in FIGS. 1 and 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 3.
도 3 및 도 4를 참조하면, 조명 기구(320)는 하우징(322)과, 회로 기판(324) 및 쿨링 유닛을 포함한다. 조명 기구(320)의 하우징(322)은 중공형의 관 부재로 마련되며, 그 양단에는 가스 유입구(미도시) 및 배기구(미도시) 형성된 캡 부재(323a,323b)들이 각각 결합된다. 하우징(322)은 후술할 발광 다이오드(325)에서 조사된 빛이 효율적으로 투과될 수 있도록 투명 재질로 형성될 수 있다. 하우징(322) 내에는 그 내부 공간을 길이 방향으로 구획하는 격벽 형상의 회로 기 판(324)이 삽입 설치된다. 이에 따라 하우징(322)의 내부 공간은 회로 기판(324)을 중심으로 그 전면(前面)에 형성된 제 1 공간(326a)과 후면(後面)에 형성된 제 2 공간(326b)으로 구획된다. 제 1 공간(326a) 측의 회로 기판(324) 전면에는 빛을 조사하기 위한 수단으로 다수의 발광 다이오드(325)들이 일정 배열로 접속된다. 그리고, 제 2 공간(326b)은 후술할 쿨링 유닛을 통해 하우징(322) 내로 공급되는 냉각 가스의 이동 통로를 제공한다.3 and 4, the
회로 기판(324)에 접속된 발광 다이오드(325)들의 발광시 하우징(322) 내부에는 과도한 열이 발생할 수 있으며, 이를 냉각시키기 위한 쿨링 유닛이 하우징(322)에 연결된다. 쿨링 유닛은 하우징(322) 내의 제 2 공간(326b)에 냉각 가스를 공급하기 위한 가스 공급 부재(327)와, 제 2 공간(326b)을 통해 유통되는 냉각 가스를 배출시키기 위한 배기 부재(328)를 가진다. 가스 공급 부재(327)는 제 2 공간(326b)에 연통되도록 캡 부재(323a)의 가스 유입구(미도시)에 연결된 배관을 가지며, 배기 부재(328)는 제 2 공간(326b)에 연통되도록 캡 부재(323b)의 배기구(미도시)에 연결된 배관을 갖는다. 가스 공급 부재(327)의 배관은 냉각 가스 공급원(미도시)에 연결되며, 배기 부재(328)의 배관은 펌프(미도시)에 연결된다. 여기서, 냉각 가스로는 질소 가스와 같은 불활성 가스가 사용될 수 있다. 상술한 바와 같은 구성에 의해, 쿨링 유닛은 하우징(322)과 회로 기판(324)의 후면(後面) 사이에 형성된 제 2 공간(326b)에 냉각 가스를 유통시켜 발광 다이오드(325)의 구동에 의해 발생되는 열을 외부로 배출시킨다.When the
도 5는 본 발명에 따른 엘이디 조명 기구의 개략적 동작 상태도이다.5 is a schematic operation state diagram of the LED lighting fixture according to the present invention.
도 5를 참조하면, 가스 공급원(미도시)으로부터 공급되는 냉각 가스는 가스 공급 부재(327)의 배관을 통해 하우징(322) 내의 제 2 공간(326b)에 유입된다. 제 2 공간(326b)에 유입된 냉각 가스는 회로 기판(324)의 후면을 따라 흐르고, 이때 발광 다이오드(325)들의 발광시 발생하는 열은 회로 기판(324)의 후면을 따라 흐르는 냉각 가스에 전달된다. 그리고, 발광 다이오드(325)들의 발열이 전달된 냉각 가스는 배기 부재(328)의 배관을 통해 하우징(326b) 내의 제 2 공간(326b)으로부터 배기된다.Referring to FIG. 5, the cooling gas supplied from the gas supply source (not shown) flows into the
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 조명 기구 내의 열을 효율적으로 발산시킬 수 있다.As described above, according to the present invention, heat in the lighting fixture can be dissipated efficiently.
또한, 본 발명에 의하면, 조명 기구의 수명을 연장시키고 그 성능을 향상시킴으로써 비용 절감의 효과를 얻을 수 있다.In addition, according to the present invention, the effect of cost reduction can be obtained by extending the life of the lighting fixture and improving its performance.
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KR1020060080596A KR100757852B1 (en) | 2006-08-24 | 2006-08-24 | Led lighting apparatus, substrates cleaning apparatus using the same and cooling method for lighting apparaus |
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2006
- 2006-08-24 KR KR1020060080596A patent/KR100757852B1/en not_active IP Right Cessation
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