KR100739652B1 - Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof - Google Patents

Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof Download PDF

Info

Publication number
KR100739652B1
KR100739652B1 KR1020060111164A KR20060111164A KR100739652B1 KR 100739652 B1 KR100739652 B1 KR 100739652B1 KR 1020060111164 A KR1020060111164 A KR 1020060111164A KR 20060111164 A KR20060111164 A KR 20060111164A KR 100739652 B1 KR100739652 B1 KR 100739652B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
width
common power
forming
data line
hole pattern
Prior art date
Application number
KR1020060111164A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
성동영
이근수
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020060111164A priority Critical patent/KR100739652B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100739652B1 publication Critical patent/KR100739652B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G3/00Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
    • G09G3/20Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
    • G09G3/22Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources
    • G09G3/30Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels
    • G09G3/32Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED]
    • G09G3/3208Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED]
    • G09G3/3225Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED] using an active matrix
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2330/00Aspects of power supply; Aspects of display protection and defect management
    • G09G2330/08Fault-tolerant or redundant circuits, or circuits in which repair of defects is prepared
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/861Repairing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

An organic light emitting diode display device and a method for fabricating the same are provided to reduce short failure due to particles existing on an overlapped area, by reducing the overlapped area of a first common voltage line and a data line. A semiconductor layer is formed on a driving circuit board. A gate insulator covers the semiconductor layer. A first common voltage line(50) is formed on the gate insulator along the first direction and is overlapped with the semiconductor layer, and is connected to a gate line. An interlayer insulation film(70) covers the first common voltage line. A data line(60) is formed on the interlayer insulation film along the second direction crossing with the first common voltage line. A second common voltage line(80) is formed on the interlayer insulation film along the second direction in parallel with the data line, and is connected to a source/drain electrode electrically. An organic light emitting diode comprises a first pixel electrode, a second pixel electrode and an organic film arranged between the first and second pixel electrodes. The first common voltage line comprises a laser repair part on a crossing region with the data line.

Description

유기 전계 발광 표시장치 및 이의 제조 방법{ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}Organic electroluminescent display and manufacturing method thereof {ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치에 있어서, 구동 회로 기판 상에 반도체층이 형성된 상태를 나타내는 평면도이다.1 is a plan view illustrating a semiconductor layer formed on a driving circuit board in an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 구동 회로 기판 상에 제1 공통 전원 라인이 형성된 상태를 나타내는 평면도이다.FIG. 2 is a plan view illustrating a state in which a first common power line is formed on the driving circuit board of FIG. 1.

도 3은 도 2의 "Ⅲ-Ⅲ"부분 단면도이다.3 is a partial cross-sectional view taken along line "III-III" of FIG.

도 4는 도 1의 구동 회로 기판 상에 데이터 라인 및 제2 공통 전원 라인이 형성된 상태를 나타내는 평면도이다.4 is a plan view illustrating a state in which a data line and a second common power line are formed on the driving circuit board of FIG. 1.

도 5는 도 4의 "Ⅴ-Ⅴ"부분 단면도이다.FIG. 5 is a partial cross-sectional view of "V-V" of FIG. 4.

본 발명은 유기 전계 발광 표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 상부 및 하부에 적층 형성된 배선들간의 쇼트로 인해 발생된 암점 또는 암수직선을 효과적으로 리페어할 수 있는 유기 전계 발광 표시장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an organic light emitting display device capable of effectively repairing dark spots or dark vertical lines caused by a short circuit between upper and lower interconnections. It relates to a production method thereof.

최근, 음극선관의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판 표시장치는 액정 표시장치(LCD: Liquid Crystal Display)), 전계 방출 표시장치(FED: Field Emission Display), 플라즈마 표시장치(PDP: Plasma Display Panel) 및 유기 전계 발광 표시장치(Organic Light Emitting Diode Display Device) 등이 있다.Recently, various flat panel displays have been developed to reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes. Such flat panel displays include liquid crystal displays (LCDs), field emission displays (FEDs), plasma display panels (PDPs), and organic light emitting diodes (Organic Light Emitting Diodes). Display Device).

이 중에서 상기 유기 전계 발광 표시장치는 유기 화합물을 전기적으로 여기시켜 발광시키는 자발광형 표시 소자로서, N×M 개의 유기 발광 소자들을 전압 구동 또는 전류 구동하여 영상을 표현할 수 있도록 되어 있다.The organic light emitting display device is a self-luminous display device that electrically excites an organic compound to emit light. The organic light emitting display device may display an image by voltage driving or current driving N × M organic light emitting devices.

상기 유기 발광 소자는 다이오드 특성을 가져서 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode)라고도 불리며, 이는 정공 주입 전극인 애노드 전극과, 발광층인 유기 박막과 전자 주입 전극인 캐소드 전극의 구조로 이루어져, 각 전극으로부터 각각 정공과 전자를 유기박막 내부로 주입시켜 주입된 정공과 전자가 결합한 엑시톤(exiton)이 여기상태로부터 기저상태로 떨어질 때 발광이 이루어진다.The organic light emitting diode has a diode characteristic and is also called an organic light emitting diode, which is composed of an anode electrode as a hole injection electrode, an organic thin film as a light emitting layer, and a cathode electrode as an electron injection electrode. Holes and electrons are injected into the organic thin film to emit light when an exciton in which holes and electrons are combined falls from an excited state to a ground state.

통상적으로, 상기한 유기 전계 발광 표시장치는 구동 회로부가 형성된 구동 회로 기판을 포함한다. 구동 회로 기판에는 버퍼막이 제공되며, 버퍼막 위에는 복수의 박막 트랜지스터(이하, 'TFT'라 한다)들을 포함하는 구동 회로부가 형성된다.In general, the organic light emitting display device includes a driving circuit board on which a driving circuit unit is formed. A buffer film is provided on the driving circuit board, and a driving circuit part including a plurality of thin film transistors (hereinafter, referred to as TFTs) is formed on the buffer film.

상기 구동 회로부는 한 개의 유기 발광 셀을 구성하는 3개(적색, 녹색, 청색)의 서브 픽셀(sub pixel)에 대해 적어도 2개의 TFT를 각각 구비한다.The driving circuit unit includes at least two TFTs for each of three (red, green, blue) sub pixels constituting one organic light emitting cell.

상기 2개의 TFT중 하나인 제1 TFT는 복수의 유기 발광 셀들 중에서 발광시키고자 하는 소자를 선택하는 작용을 하는 스위칭 TFT로 작용하고, 다른 하나인 제2 TFT는 선택된 유기 발광 셀의 발광층을 발광시키기 위한 구동 전원을 인가하는 구동 TFT로 작용한다.The first TFT, which is one of the two TFTs, serves as a switching TFT that selects an element to emit light from among a plurality of organic light emitting cells, and the second TFT, which is the other, emits light from the light emitting layer of the selected organic light emitting cell. It acts as a driving TFT for applying a driving power supply.

통상적으로, 상기한 TFT는 소스 영역과 드레인 영역 및 채널 영역이 형성된 반도체층과, 반도체층을 덮는 게이트 절연막과, 상기 반도체 영역에 인입되며 게이트 배선에 연결되는 제1 공통 전원 라인(ELVDD)과, 제1 공통 전원 라인을 덮는 층간 절연막과, 상기 게이트 배선과 교차하는 방향으로 상기 층간 절연막 상에 형성되는 데이터 라인과, 데이터 라인과 평행한 방향으로 인접 배치되며 소스/드레인 전극에 전기적으로 연결되는 제2 공통 전원 라인을 포함한다.Typically, the TFT includes a semiconductor layer having a source region, a drain region, and a channel region formed therein, a gate insulating layer covering the semiconductor layer, a first common power line ELVDD introduced into the semiconductor region and connected to a gate wiring; An interlayer insulating film covering a first common power supply line, a data line formed on the interlayer insulating film in a direction crossing the gate wiring, and a data line adjacent to the data line and electrically connected to a source / drain electrode; It includes two common power lines.

그런데, 상기한 구성의 구동 회로부는 데이터 라인과 제1 공통 전원 라인이 층간 절연막을 사이에 두고 적층되어 있으므로, 파티클(particle)에 의해 서로간에 쇼트가 발생될 수 있다.However, since the data line and the first common power supply line are stacked with the interlayer insulating film interposed therebetween, the short circuit may be generated by the particles.

그리고, 상기와 같이 쇼트가 발생되는 경우에는 암점 또는 암수직선이 발생된다.When a short is generated as described above, dark spots or dark vertical lines are generated.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 그 목적은 상부 및 하부에 배치된 배선간에 쇼트가 발생되는 경우 레이저 리페어를 효과적으로 실시할 수 있는 유기 전계 발광 표시장치 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide an organic light emitting display device and a method of manufacturing the same, which can effectively perform laser repair when a short circuit occurs between wirings disposed above and below.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 구동 회로 기판 상에 형성되는 반도체층, 상기 반도체층을 덮는 게이트 절연막, 상기 반도체 영역과 중첩되어 상 기 게이트 절연막 상에 제1 방향으로 형성되며 게이트 배선에 연결되는 제1 공통 전원 라인, 상기 제1 공통 전원 라인을 덮는 층간 절연막, 상기 제1 공통 전원 라인과 교차하는 제2 방향으로 상기 층간 절연막 상에 형성되는 데이터 라인, 상기 데이터 라인과 평행한 제2 방향으로 상기 층간 절연막 상에 형성되며 소스/드레인 전극에 전기적으로 연결되는 제2 공통 전원 라인, 및 제1 화소 전극과 제2 화소 전극 및 이 전극들 사이에 배치되는 유기막을 구비하는 유기 전계 발광 소자를 포함하는 유기 전계 발광 표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor layer formed on a driving circuit board, a gate insulating film covering the semiconductor layer, overlapping the semiconductor region, and being formed in a first direction on the gate insulating film, A first common power line to be connected, an interlayer insulating layer covering the first common power line, a data line formed on the interlayer insulating layer in a second direction crossing the first common power line, and a second parallel to the data line Organic electroluminescent device comprising a second common power supply line formed on the interlayer insulating film in a direction and electrically connected to a source / drain electrode, and a first pixel electrode, a second pixel electrode, and an organic film disposed between the electrodes It provides an organic electroluminescent display comprising a.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 제1 공통 전원 라인은 상기 데이터 라인과의 교차 영역에 레이저 리페어부를 구비한다.According to an embodiment of the present invention, the first common power line includes a laser repair unit in an area crossing the data line.

상기 레이저 리페어부는 상기 제2 방향을 따라 일정한 피치로 복수개 형성되는 홀 패턴들과, 홀 패턴들 사이에 구비되는 브릿지를 포함할 수 있으며, 상기 홀 패턴의 제1 방향 폭은 상기 데이터 라인의 제1 방향 폭보다 크거나 작게 형성될 수 있다.The laser repair unit may include a plurality of hole patterns formed at a predetermined pitch along the second direction, and a bridge provided between the hole patterns, wherein the first width of the hole pattern is a first width of the data line. It may be formed larger or smaller than the directional width.

그리고, 상기 브릿지의 제2 방향 폭은 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 크거나 작게 형성될 수 있다.The second width of the bridge may be greater than or smaller than the second width of the hole pattern.

본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 능동 매트릭스 방식으로 구동되는 표시장치로서, 구동 회로 기판 상에 구동 회로부 및 유기 전계 발광 소자가 구비된다.An organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention is a display device driven by an active matrix method, and a driving circuit unit and an organic light emitting device are provided on a driving circuit board.

상기 구동 회로부는 박막 트랜지스터, 스캔 라인, 데이터 라인, 공통 전원 라인, 저장 커패시터 등의 구성 요소를 포함할 수 있으며, 상기 유기 전계 발광 소 자는 제1 화소 전극 및 제2 화소 전극을 포함할 수 있다.The driving circuit unit may include components such as a thin film transistor, a scan line, a data line, a common power line, and a storage capacitor, and the organic electroluminescent element may include a first pixel electrode and a second pixel electrode.

상기 제1 화소 전극은 정공을 주입하는 기능을 가지며, 제1 도전성 투명 전극으로 형성된다. 또한, 상기 제1 화소 전극은 유기 전계 발광 소자의 발광 방향에 따라 도전성 반사막을 추가적으로 포함할 수 있다.The first pixel electrode has a function of injecting holes and is formed of a first conductive transparent electrode. In addition, the first pixel electrode may further include a conductive reflective film according to the emission direction of the organic electroluminescent device.

상기 도전성 반사막은 상기 유기 전계 발광 소자에서 발생되는 빛을 반사시키거나, 상기 도전성 투명 전극 사이에서 일함수(Work function) 또는 전기 전도도(Electrical Conductivity)를 향상시키기 위한 것으로, 통상적으로, 알루미늄(Al) 혹은 알루미늄 합금(Al-alloy), 은(Ag) 혹은 은 합금(Ag-alloy), 금(Au) 혹은 금합금(Au-alloy) 중 어느 한 재료로 구성될 수 있다.The conductive reflective film is for reflecting light generated from the organic electroluminescent device, or to improve a work function or electrical conductivity between the conductive transparent electrodes, and is typically aluminum (Al). Or it may be made of any one of aluminum alloy (Al-alloy), silver (Ag) or silver alloy (Ag-alloy), gold (Au) or gold alloy (Au-alloy).

그리고, 상기 도전성 반사막 상에 추가적으로 제2 도전성 투명 전극을 형성할 수 있다. 상기 제2 도전성 투명 전극은 상기 도전성 반사막의 금속 산화를 억제하며, 추가적으로 정공 주입층과 상기 도전성 반사막의 일함수를 향상시키는 기능을 할 수 있다.In addition, a second conductive transparent electrode may be additionally formed on the conductive reflective film. The second conductive transparent electrode may suppress metal oxidation of the conductive reflective film, and may further function to improve a work function of the hole injection layer and the conductive reflective film.

상기 제1 도전성 투명 전극과 제2 도전성 투명 전극은 ITO(Indium Thin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 등으로 형성될 수 있다.The first conductive transparent electrode and the second conductive transparent electrode may be formed of indium thin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or the like.

유기 전계 발광 소자는 상기 제1 화소 전극과 제2 화소 전극 사이에 유기막을 더 형성할 수 있으며, 유기막을 형성하는 유기 재료의 분자량에 따라 저분자 유기 전계 발광 소자(Small Molecule OLED)와 고분자 유기 전계 발광 소자(Polymer OLED)로 구분되어 진다.The organic electroluminescent device can further form an organic film between the first pixel electrode and the second pixel electrode, and according to the molecular weight of the organic material forming the organic film, a small molecule organic light emitting diode (Small Molecule OLED) and a polymer organic electroluminescence It is divided into device (Polymer OLED).

이 중에서 상기 저분자 유기 전계 발광 소자는 진공 열증착 방식과 기상 증 착 방식 및 레이저 열전사 방식(LITI; Laser Induced Thermal Imaging) 중 어느 한 방식에 의해 제조할 수 있다.Among these, the low molecular weight organic EL device may be manufactured by any one of a vacuum thermal deposition method, a vapor deposition method, and a laser induced thermal imaging method (LITI).

실제로 저분자 유기 전계 발광 소자에 사용되는 유기막은 정공이나 전자 등의 캐리어를 발광층까지 효율적으로 전달시켜주는 유기층이 발광층의 상하부에 적층된 다층 박막 구조로 이루어진다.In fact, the organic film used in the low molecular organic EL device has a multi-layered thin film structure in which an organic layer for efficiently transferring carriers such as holes and electrons to the light emitting layer is stacked on the top and bottom of the light emitting layer.

예를 들면, 상기 유기막은 유기 전계 발광 소자의 제1 화소 전극 상에 순차적으로 적층되는 정공 주입층, 정공 전달층, 발광층, 정공 차단층, 전자 전달층 및 전자 주입층 등의 다층 박막 구조로 이루어질 수 있다.For example, the organic layer may be formed of a multilayer thin film structure such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer that are sequentially stacked on the first pixel electrode of the organic EL device. Can be.

상기한 다층 박막 구조의 유기막을 형성하는 저분자 재료는 그 기능에 따라, 정공 주입 및 전달 재료, 정공 차단 재료, 전자 전달 재료, 발광 재료로 구분할 수 있다.The low molecular weight material forming the organic film of the multilayer thin film structure can be classified into a hole injection and transfer material, a hole blocking material, an electron transfer material, and a light emitting material according to its function.

그리고, 발광 메커니즘에 따라서는 단일항 여기자에서 유래하는 형광 재료와 삼중항 여기자에서 유래하는 인광 재료로 구분할 수 있으며, 또한 발광색에 따라 청색, 적색, 황색, 주황색 발광 재료로 구분할 수 있다.According to the light emitting mechanism, the fluorescent material derived from the singlet excitons and the phosphorescent material derived from the triplet excitons can be classified into blue, red, yellow, and orange light emitting materials according to the emission color.

저분자 발광 재료는 기능적인 측면에서 호스트(Host) 재료와 도펀트(Dopant) 재료로 구분할 수 있으며, 분자 구조에 따른 분류를 겸해 유기계 호스트 재료, 유기 금속계 호스트 재료, 유기계 도펀트 재료, 유기 금속계 도펀트 재료로 구분할 수 있다.The low molecular weight light emitting material can be classified into a host material and a dopant material in terms of its functions, and can be classified into an organic host material, an organic metal host material, an organic dopant material, and an organic metal dopant material by combining the molecular structure. Can be.

일반적으로 상기 호스트 재료나 도펀트 재료는 이들 재료만으로도 빛을 낼 수 있다. 하지만, 이 경우에는 효율 및 휘도가 매우 낮고, 각각의 분자들끼리 근 접하게 되면서 각 분자의 고유한 특성이 아닌 엑사이머(excimer) 특성이 함께 나타나기 때문에 바람직하지 않다.Generally, the host material or dopant material can shine with only these materials. However, in this case, the efficiency and brightness is very low, and as each molecule is in close proximity, it is not preferable because the excimer characteristic, which is not a unique characteristic of each molecule, appears together.

물론, 상기 유기 전계 발광소자의 유기막 구조 및 제조 공정은 저분자 재료에 따라 상이하다.Of course, the organic film structure and manufacturing process of the organic EL device differ depending on the low molecular weight material.

한편, 상기 구동 회로부의 박막 트랜지스터는 결정질의 재료에 따라 무기 박막 트랜지스터와 유기 박막 트랜지스터로 구분될 수 있다.The thin film transistor of the driving circuit unit may be classified into an inorganic thin film transistor and an organic thin film transistor according to a crystalline material.

상기 무기 박막 트랜지스터는 결정도에 따라, 비정질 박막 트랜지스터(a-Si TFT), 다정질 박막 트랜지스터(Poly-Si TFT), 및 상기 비정질 박막 트랜지스터의 결정질과 다정질 박막 트랜지스터의 결정질의 중간 정도로 형성되는 마이크로 정질 트랜지스터로 구분될 수 있다.The inorganic thin film transistor may be formed between an amorphous thin film transistor (a-Si TFT), an amorphous thin film transistor (Poly-Si TFT), and the crystalline of the amorphous thin film transistor according to the degree of crystallinity. It can be divided into crystalline transistors.

상기 비정질 박막 트랜지스터는 전자 이동도가 낮고 신뢰성이 낮은 반면 별도의 결정화 공정이 필요 없이 박막트랜지스터를 형성할 수 있고, 기존 박막 액정 표시장치(TFT-LCD) 공정을 사용할 수 있는 장점이 있다.The amorphous thin film transistor has a low electron mobility and low reliability, but may form a thin film transistor without requiring a separate crystallization process, and may use a conventional thin film liquid crystal display (TFT-LCD) process.

그리고, 상기 다정질 박막 트랜지스터(Poly Si TFT)는 결정화에 필요한 추가 공정 및 장비가 필요한 반면, 상기 비정질 박막 트랜지스터에 비해 전자 이동도가 우수하고 신뢰성이 높은 장점이 있다.In addition, the poly Si TFT requires an additional process and equipment necessary for crystallization, but has an advantage of high electron mobility and high reliability compared to the amorphous thin film transistor.

그리고, 상기 마이크로 박막 정질 트랜지스터는 상기 비정질 박막 트랜지스터에 비해 전자 이동도가 높은 반면, 상기 다정질 박막 트랜지스터에 비해 추가 공정이 필요하지 않아 최근 연구 개발이 활발하게 진행되고 있다.In addition, the micro thin film crystalline transistor has a higher electron mobility than the amorphous thin film transistor, but does not require an additional process compared to the polycrystalline thin film transistor, and thus research and development have been actively conducted recently.

상기 유기 전계 발광 소자를 구성하는 제1 화소 전극, 유기막 및 제2 화소 전극의 구조는 상기 비정질 박막 트랜지스터와 상기 다정질 박막 트랜지스터에 따라 그 구조가 상이하다.The structures of the first pixel electrode, the organic film, and the second pixel electrode constituting the organic electroluminescent element differ in structure depending on the amorphous thin film transistor and the polycrystalline thin film transistor.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention.

이하의 실시예를 설명함에 있어서, 층, 막 등의 부분이 다른 부분의 "상에" 형성된다고 할 때, 이는 다른 부분의 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.In describing the following embodiments, when a portion such as a layer, a film, etc. is formed "on" of another portion, it is not only when it is "just above" the other portion but also when there is another portion in the middle. Include.

도 1 내지 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 개략적인 구성을 나타내기 위한 도면으로서, 도 1은 구동 회로 기판 상에 반도체층이 형성된 상태를 나타내는 평면도이고, 도 2는 구동 회로 기판 상에 제1 공통 전원 라인이 형성된 상태를 나타내는 평면도이며, 도 3은 도 2의 "Ⅲ-Ⅲ"부분 단면도이다.1 to 5 are diagrams for illustrating a schematic configuration of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view showing a state in which a semiconductor layer is formed on a driving circuit board. FIG. 3 is a plan view showing a state where a first common power supply line is formed on a driving circuit board, and FIG.

그리고, 도 4는 구동 회로 기판 상에 데이터 라인 및 제2 공통 전원 라인이 형성된 상태를 나타내는 평면도이며, 도 5는 도 4의 "Ⅴ-Ⅴ"부분 단면도이다.4 is a plan view illustrating a state in which a data line and a second common power supply line are formed on a driving circuit board, and FIG. 5 is a partial cross-sectional view of "V-V" of FIG. 4.

구동 회로 기판(10) 상에는 버퍼막(20)이 형성되고, 버퍼막(20) 상에는 반도체층(20)이 형성된다. 상기 반도체층(20)은 소스 영역과 드레인 영역 및 채널 영역을 구비하는 다결정 실리콘층으로 이루어질 수 있다.The buffer film 20 is formed on the driving circuit board 10, and the semiconductor layer 20 is formed on the buffer film 20. The semiconductor layer 20 may be formed of a polycrystalline silicon layer having a source region, a drain region, and a channel region.

그리고, 상기 구동 회로 기판(10)으로는 투명한 재질의 글라스 기판 또는 불 투명한 재질의 수지재 기판을 사용할 수 있으며, 휘어질 수 있을 정도의 얇은 금속재 기판도 사용이 가능하다.As the driving circuit board 10, a glass substrate made of a transparent material or a resin substrate made of an intransparent material may be used, and a thin metal substrate capable of bending may be used.

상기한 반도체층(30) 상에는 게이트 절연막(40)이 형성되며, 게이트 절연막(40) 상에는 반도체층(30)과 중첩되도록 제1 공통 전원 라인(50)이 형성된다.The gate insulating layer 40 is formed on the semiconductor layer 30, and the first common power line 50 is formed on the gate insulating layer 40 so as to overlap the semiconductor layer 30.

상기한 제1 공통 전원 라인(50)은 제1 방향(X-X'방향)으로 형성되며, 게이트 배선에 전기적으로 연결된다.The first common power line 50 is formed in a first direction (X-X 'direction) and is electrically connected to the gate wiring.

여기에서, 상기 제1 공통 전원 라인(50)은 레이저 리페어부(52)를 구비하는데, 본 발명의 실시예에서는 상기한 레이저 리페어부(52)가 제2 방향(Y-Y'방향)을 따라 일정한 피치로 복수개 형성되는 홀 패턴(52a)들과, 홀 패턴(52a)들 사이에 구비되는 브릿지(52b)를 포함한다.Here, the first common power line 50 includes a laser repair unit 52. In the embodiment of the present invention, the laser repair unit 52 is along the second direction (Y-Y 'direction). A plurality of hole patterns 52a formed at a constant pitch and a bridge 52b provided between the hole patterns 52a are included.

상기 홀 패턴(52a)은 제1 방향 폭(W1)이 상기 데이터 라인(60)의 제1 방향 폭(W2)보다 크게 형성될 수 있다. 그리고, 상기 브릿지(52b)의 제2 방향 폭(W3)은 상기 홀 패턴(52a)의 제2 방향 폭(W4)보다 작게 형성될 수 있다.The hole pattern 52a may have a first width W1 greater than the first width W2 of the data line 60. The second width W3 of the bridge 52b may be smaller than the second width W4 of the hole pattern 52a.

물론, 도시하지는 않았지만 상기 브릿지(52b)의 제2 방향 폭(W3)이 상기 홀 패턴(52a)의 제2 방향 폭(W4)보다 크게 형성될 수도 있다.Although not shown, the second width W3 of the bridge 52b may be larger than the second width W4 of the hole pattern 52a.

또한, 상기 홀 패턴(52a)은 제1 방향 폭(W1)이 상기 데이터 라인(60)의 제1 방향 폭(W2)보다 작게 형성될 수 있으며, 이 경우에도 상기 브릿지(52b)의 제2 방향 폭(W3)은 상기 홀 패턴(52a)의 제2 방향 폭(W4)보다 크게 형성되거나 작게 형성될 수 있다.In addition, the hole pattern 52a may have a first width W1 smaller than the first width W2 of the data line 60, and in this case, the second direction of the bridge 52b may also be formed. The width W3 may be larger or smaller than the second width W4 of the hole pattern 52a.

그리고, 상기 제1 공통 전원 라인(50) 상에는 층간 절연막(70)이 형성된다.In addition, an interlayer insulating layer 70 is formed on the first common power line 50.

이때, 상기 층간 절연막(70)은 홀 패턴(52a)들로 인해 노출된 게이트 절연막(40) 상에도 형성되며, 층간 절연막(70) 상에는 데이터 라인(60) 및 제2 공통 전원 라인(80)이 제2 방향(Y-Y'방향)으로 형성된다.In this case, the interlayer insulating film 70 is also formed on the gate insulating film 40 exposed by the hole patterns 52a, and the data line 60 and the second common power supply line 80 are formed on the interlayer insulating film 70. It is formed in a second direction (Y-Y 'direction).

상기 제2 공통 전원 라인(80)은 도시하지 않은 소스/드레인 전극에 전기적으로 연결될 수 있다.The second common power line 80 may be electrically connected to a source / drain electrode (not shown).

그리고, 도시하지는 않았지만, 상기한 구동 회로부 상에는 유기 전계 발광 소자가 형성된다.And although not shown, the organic electroluminescent element is formed on the said drive circuit part.

이러한 구성의 유기 전계 발광 표시장치에 의하면, 상기 제1 공통 전원 라인(50)이 홀 패턴(52a)들을 구비하고 있으므로, 제1 공통 전원 라인(50)과 데이터 라인(60)이 중첩하는 면적이 상기 홀 패턴(52a)들의 면적을 합한 만큼 종래에 비해 감소된다.According to the organic light emitting display having the above configuration, since the first common power supply line 50 includes the hole patterns 52a, an area where the first common power supply line 50 and the data line 60 overlap each other The sum of the areas of the hole patterns 52a is reduced compared to the related art.

따라서, 파티클로 인해 제1 공통 전원 라인(50)과 데이터 라인(60)이 쇼트될 가능성을 줄일 수 있다.Therefore, it is possible to reduce the possibility of particles shorting the first common power supply line 50 and the data line 60.

그리고, 상기 파티클이 브릿지(52b) 상에 잔류하여 이 파티클로 인해 제1 공통 전원 라인(50)과 데이터 라인(60)이 쇼트된 경우에는 레이저를 이용하여 상기 브릿지(52b)를 단선시킴으로써, 암점 또는 암수직선이 발생되는 것을 리페어할 수 있다.When the particles remain on the bridge 52b and the first common power supply line 50 and the data line 60 are shorted due to the particles, the bridge 52b is disconnected by using a laser, thereby causing a dark spot. Alternatively, the occurrence of the dark vertical line can be repaired.

상기한 구성의 유기 전계 발광 표시장치는 다음의 제조 방법에 따라 제조할 수 있다.The organic light emitting display device having the above configuration can be manufactured according to the following manufacturing method.

먼저, 구동 회로 기판(10)의 버퍼막(20) 상에 반도체층(30)을 형성한다. 여 기에서, 상기 반도체층(30)은 비정질 실리콘막을 형성한 후 결정화를 실시하여 폴리실리콘막을 형성하고, 폴리실리콘막을 패터닝한 후, 이온 주입 공정을 실시하는 것에 따라 형성할 수 있다.First, the semiconductor layer 30 is formed on the buffer film 20 of the driving circuit board 10. Here, the semiconductor layer 30 may be formed by forming an amorphous silicon film and then performing crystallization to form a polysilicon film, patterning the polysilicon film, and then performing an ion implantation process.

이러한 방법에 의하면, 소스 영역과 드레인 영역 및 이 영역들 사이의 채널 영역을 갖는 반도체층(30)을 형성할 수 있다.According to this method, the semiconductor layer 30 having a source region and a drain region and a channel region therebetween can be formed.

반도체층(30)을 형성한 후에는 게이트 절연막(40)을 형성하고, 복수의 홀 패턴(52a)들 및 브릿지(52b)로 이루어진 레이저 리페어부(52)를 구비하는 형상으로 제1 공통 전원 라인(50)을 게이트 절연막(40) 상에 형성한다.After forming the semiconductor layer 30, the gate insulating layer 40 is formed, and the first common power line has a shape including a plurality of hole patterns 52a and a laser repair portion 52 formed of a bridge 52b. 50 is formed on the gate insulating film 40.

이때, 상기 제1 공통 전원 라인(50)은 상기 반도체층(30)과 중첩되도록 제1 방향(X-X'방향)으로 형성할 수 있다.In this case, the first common power line 50 may be formed in a first direction (X-X 'direction) so as to overlap the semiconductor layer 30.

그리고, 상기 홀 패턴(52a)은 제1 방향 폭(W1)이 상기 데이터 라인(60)의 제1 방향 폭(W2)보다 크게 형성하거나 작게 형성할 수 있으며, 상기 브릿지(52b)의 제2 방향 폭(W3)은 상기 홀 패턴(52a)의 제2 방향 폭(W4)보다 작게 형성하거나 크게 형성할 수 있다.In addition, the hole pattern 52a may have a first direction width W1 greater than or smaller than the first direction width W2 of the data line 60, and may be formed in a second direction of the bridge 52b. The width W3 may be formed smaller or larger than the second width W4 of the hole pattern 52a.

이어서, 상기 제1 공통 전원 라인(50)을 덮는 층간 절연막(70)을 형성하고, 상기 제1 공통 전원 라인(50)과 교차하는 제2 방향(Y-Y'방향)으로 상기 층간 절연막(70) 상에 데이터 라인(60) 및 제2 공통 전원 라인(80)을 형성한다.Subsequently, an interlayer insulating film 70 covering the first common power line 50 is formed, and the interlayer insulating film 70 is intersected with the first common power line 50 in a second direction (Y-Y 'direction). ) To form a data line 60 and a second common power supply line 80.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범 위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the scope of the invention.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 제1 공통 전원 라인이 데이터 라인이 교차하는 영역에 레이저 리페어부를 구비하고 있다. 또한, 상기 레이저 리페어부를 복수의 홀 패턴과 브릿지로 구성하고 있다.As described above, the organic light emitting display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a laser repair unit in a region where the first common power line crosses the data line. Moreover, the said laser repair part is comprised by the several hole pattern and bridge.

따라서, 제1 공통 전원 라인과 데이터 라인의 중첩 면적이 상기 홀 패턴의 면적만큼 감소되므로, 상기 중첩 면적 상에 존재하는 파티클로 인한 쇼트 불량을 줄일 수 있다.Therefore, since the overlap area of the first common power supply line and the data line is reduced by the area of the hole pattern, short defects due to particles existing on the overlap area can be reduced.

또한, 브릿지 상에 존재하는 파티클로 인해 암점 또는 암수직선이 발생되는 경우에는 레이저를 이용하여 브릿지를 단선시킴으로써 리페어가 가능하게 된다.In addition, when dark spots or dark vertical lines are generated due to particles present on the bridge, repair is possible by disconnecting the bridge using a laser.

Claims (15)

구동 회로 기판 상에 형성되는 반도체층;A semiconductor layer formed on the driving circuit board; 상기 반도체층을 덮는 게이트 절연막;A gate insulating film covering the semiconductor layer; 상기 반도체 영역과 중첩되어 상기 게이트 절연막 상에 제1 방향으로 형성되며, 게이트 배선에 연결되는 제1 공통 전원 라인;A first common power line overlapping the semiconductor region and formed in the first direction on the gate insulating layer and connected to the gate line; 상기 제1 공통 전원 라인을 덮는 층간 절연막;An interlayer insulating layer covering the first common power line; 상기 제1 공통 전원 라인과 교차하는 제2 방향으로 상기 층간 절연막 상에 형성되는 데이터 라인;A data line formed on the interlayer insulating film in a second direction crossing the first common power line; 상기 데이터 라인과 평행한 제2 방향으로 상기 층간 절연막 상에 형성되며, 소스/드레인 전극에 전기적으로 연결되는 제2 공통 전원 라인; 및A second common power line formed on the interlayer insulating film in a second direction parallel to the data line and electrically connected to a source / drain electrode; And 제1 화소 전극과 제2 화소 전극 및 이 전극들 사이에 배치되는 유기막을 구비하는 유기 전계 발광 소자An organic electroluminescent element comprising a first pixel electrode and a second pixel electrode and an organic film disposed between the electrodes 를 포함하며,Including; 상기 제1 공통 전원 라인은 상기 데이터 라인과의 교차 영역에 레이저 리페어부를 구비하는 유기 전계 발광 표시장치.And the first common power supply line includes a laser repair unit at an intersection with the data line. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 레이저 리페어부는 상기 제2 방향을 따라 일정한 피치로 복수개 형성되는 홀 패턴들과, 홀 패턴들 사이에 구비되는 브릿지를 포함하는 유기 전계 발광 표 시장치.The laser repair unit may include a plurality of hole patterns formed at a predetermined pitch along the second direction, and a bridge provided between the hole patterns. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 홀 패턴의 제1 방향 폭이 상기 데이터 라인의 제1 방향 폭보다 크게 형성되는 유기 전계 발광 표시장치.And a first width of the hole pattern greater than a first width of the data line. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 브릿지의 제2 방향 폭이 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 크게 형성되는 유기 전계 발광 표시장치.And a second width of the bridge is greater than a second width of the hole pattern. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 브릿지의 제2 방향 폭이 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 작게 형성되는 유기 전계 발광 표시장치.And a second width in the second direction of the bridge is smaller than a width in the second direction of the hole pattern. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 홀 패턴의 제1 방향 폭이 상기 데이터 라인의 제1 방향 폭보다 작게 형성되는 유기 전계 발광 표시장치.And the first width of the hole pattern is smaller than the first width of the data line. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 브릿지의 제2 방향 폭이 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 크게 형성되 는 유기 전계 발광 표시장치.And the second width of the bridge is greater than the second width of the hole pattern. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 브릿지의 제2 방향 폭이 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 작게 형성되는 유기 전계 발광 표시장치.And a second width in the second direction of the bridge is smaller than a width in the second direction of the hole pattern. 구동 회로 기판 상에 반도체층을 형성하는 단계;Forming a semiconductor layer on the drive circuit board; 상기 반도체층을 덮는 게이트 절연막을 형성하는 단계;Forming a gate insulating film covering the semiconductor layer; 상기 반도체 영역과 중첩되도록 상기 게이트 절연막 상에 제1 방향으로 제1 공통 전원 라인을 형성하는 단계;Forming a first common power line in a first direction on the gate insulating layer to overlap the semiconductor region; 상기 제1 공통 전원 라인을 덮는 층간 절연막을 형성하는 단계;Forming an interlayer insulating layer covering the first common power line; 상기 제1 공통 전원 라인과 교차하는 제2 방향으로 상기 층간 절연막 상에 데이터 라인 및 제2 공통 전원 라인을 형성하는 단계Forming a data line and a second common power line on the interlayer insulating layer in a second direction crossing the first common power line; 를 포함하며,Including; 상기 제1 공통 전원 라인을 형성하는 단계에서는 상기 제2 방향을 따라 일정한 피치로 복수개 형성되는 홀 패턴들과, 홀 패턴들 사이에 구비되는 브릿지를 포함하는 레이저 리페어부를 상기 데이터 라인과의 교차 영역에 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.In the forming of the first common power line, a laser repair part including a plurality of hole patterns formed at a predetermined pitch along the second direction and a bridge provided between the hole patterns may be formed at an intersection area with the data line. Forming method of manufacturing an organic light emitting display device. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 홀 패턴의 제1 방향 폭을 상기 데이터 라인의 제1 방향 폭보다 크게 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.And forming a first width of the hole pattern larger than a first width of the data line. 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 브릿지의 제2 방향 폭을 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 크게 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.And forming a second width of the bridge larger than a second width of the hole pattern. 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 브릿지의 제2 방향 폭을 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 작게 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.And forming a width in the second direction of the bridge smaller than a width in the second direction of the hole pattern. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 홀 패턴의 제1 방향 폭을 상기 데이터 라인의 제1 방향 폭보다 작게 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.And forming a first width of the hole pattern smaller than a first width of the data line. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 브릿지의 제2 방향 폭을 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 크게 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.And forming a second width of the bridge larger than a second width of the hole pattern. 제 13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 브릿지의 제2 방향 폭을 상기 홀 패턴의 제2 방향 폭보다 작게 형성하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조 방법.And forming a width in the second direction of the bridge smaller than a width in the second direction of the hole pattern.
KR1020060111164A 2006-11-10 2006-11-10 Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof KR100739652B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060111164A KR100739652B1 (en) 2006-11-10 2006-11-10 Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060111164A KR100739652B1 (en) 2006-11-10 2006-11-10 Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100739652B1 true KR100739652B1 (en) 2007-07-13

Family

ID=38504349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060111164A KR100739652B1 (en) 2006-11-10 2006-11-10 Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100739652B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105938704A (en) * 2015-03-04 2016-09-14 三星显示有限公司 Organic light emitting diode display

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040060103A (en) * 2002-12-30 2004-07-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 LCD with data line open repair pattern
KR20070024810A (en) * 2005-08-30 2007-03-08 삼성에스디아이 주식회사 Organic electro luminescence device display and method for fabricating the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040060103A (en) * 2002-12-30 2004-07-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 LCD with data line open repair pattern
KR20070024810A (en) * 2005-08-30 2007-03-08 삼성에스디아이 주식회사 Organic electro luminescence device display and method for fabricating the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105938704A (en) * 2015-03-04 2016-09-14 三星显示有限公司 Organic light emitting diode display

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100504998C (en) Flat panel display device
EP3518281B1 (en) Organic light-emitting diode (oled) array substrate and fabrication method therefor, display device
KR100932989B1 (en) Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same
JP3940738B2 (en) Electroluminescent display device
JP4049330B2 (en) Electroluminescent display device and manufacturing method thereof
KR100740132B1 (en) Organic light emitting display
KR100739065B1 (en) Organic light emitting display and method for fabricating thereof
KR20070024085A (en) Organic light emitting diode display and method for manufacturing the same
KR20110015757A (en) Organic light emitting display device and method for fabricating the same
US20120007497A1 (en) Organic light emitting device
US20070164277A1 (en) Organic light emitting display
KR100766949B1 (en) Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof
KR100739652B1 (en) Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof
KR20130008428A (en) Organic electro-luminescent device
KR100739649B1 (en) Organic light emitting diode display device and method for fabricating thereof
CN101414620B (en) Electronic device, thin-film transistor structure, and flat panel display having the same
KR100778443B1 (en) Organic light emitting display
KR100739651B1 (en) Organic light emitting diode display device and fabrication method thereof
KR101717075B1 (en) organic electroluminescent display device
KR100669316B1 (en) Organic electro luminescence display device
US20080211392A1 (en) Method of manufacturing organic el element
KR101097789B1 (en) Organic electroluminescence device having muti-electroluminescence layer and method for rabricating the same
KR100578794B1 (en) Organic electro luminescence display device
KR100638084B1 (en) Organic electro luminescence display device
KR101603230B1 (en) Organic Light Emitting Display Device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130628

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140701

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150701

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160629

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170704

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180702

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190701

Year of fee payment: 13