KR100737226B1 - Apparatus for wafer transfer - Google Patents

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KR100737226B1
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고성근
김호식
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주식회사 아토
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Abstract

A wafer transfer apparatus is provided to reduce a process time by treating simultaneously three or more wafers and transferring the wafer to a loadlock module in a predetermined process at a process module. A wafer transfer apparatus(100) includes an EFEM(Equipment Front End Module)(110) with a first robot(111) for transferring a plurality of wafers, a loadlock module(120) having a common loader with a plurality of slots capable of loading stably the wafers transferred by the first robot, a plurality of transfer modules, and a plurality of process modules. The plurality of transfer modules(130) includes a second robot, respectively. The second robot is used for transferring at least one out of the wafers loaded on the slots of the common loader. The plurality of process modules(140) includes a shaft, respectively. The shaft is used for loading stably the wafer transferred by the second robot of the transfer module.

Description

웨이퍼 이송 장치{Apparatus for wafer transfer}Wafer Transfer Device {Apparatus for wafer transfer}

도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치의 일실시예를 도시한 것이다.1 illustrates an embodiment of a wafer transfer apparatus according to the present invention.

도 2 및 도 3은 EFEM의 제1로봇의 일실시예를 도시한 측면도 및 평면도이다.2 and 3 are a side view and a plan view showing an embodiment of the first robot of the EFEM.

도 4는 로드락 모듈의 공용 로더의 일실시예를 도시한 정면도이다.4 is a front view illustrating an embodiment of a common loader of a load lock module.

도 5는 도 4에 도시된 공용 로더의 평면도이다.5 is a plan view of the common loader shown in FIG.

도 6은 로드락 모듈의 공용 로더의 다른 일실시예를 도시한 평면도이다.6 is a plan view illustrating another embodiment of a common loader of a load lock module.

도 7은 트랜스퍼 모듈의 제2로봇 일실시예를 개략적으로 도시한 것이다.7 schematically illustrates a second robot embodiment of the transfer module.

도 8은 트랜스퍼 모듈의 제2로봇의 다른 일실시예를 개략적으로 도시한 것이다.8 schematically illustrates another embodiment of a second robot of the transfer module.

도 9는 프로세스 모듈의 샤프트의 일실시예를 개략적으로 도시한 것이다.9 schematically illustrates one embodiment of a shaft of a process module.

도 10은 도 1에 도시된 웨이퍼 이송 장치의 변형된 예를 나타낸 것이다. FIG. 10 shows a modified example of the wafer transfer apparatus shown in FIG. 1.

도 11은 트랜스퍼 모듈 및 프로세스 모듈이 트윈 모듈로 구성된 것을 도시한 것이다.11 illustrates that the transfer module and the process module are configured as twin modules.

도 12 및 13은 도 1에 도시된 웨이퍼 이송 장치(100)에서 웨이퍼가 이송되는 과정을 간략히 도시한 것이다. 12 and 13 briefly illustrate a process of transferring a wafer in the wafer transfer apparatus 100 shown in FIG. 1.

도 14 내지 도 16은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치의 다른 일실시예들을 도시한 것이다.14 to 16 show other embodiments of the wafer transfer apparatus according to the present invention.

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 EFEM(Equipment Front End Module)과 복수의 프로세스 모듈(Process Module) 간에 웨이퍼를 이송하기 위한 웨이퍼 이송 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly, to a wafer transfer apparatus for transferring wafers between an equipment front end module (EFEM) and a plurality of process modules.

종래의 웨이퍼 이송 장치는 복수의 웨이퍼를 이송하기 위하여 EFEM(Equipment Front End Module), 로드락 모듈(Loadlock Module) 및 복수의 프로세스 모듈(Process Module)로 구성된다.The conventional wafer transfer apparatus is composed of an equipment front end module (EFEM), a loadlock module and a plurality of process modules to transfer a plurality of wafers.

여기서, EFEM은 2개의 대기반송로봇을 구비하여 2개의 대기반송로봇이 동시에 또는 시간차를 두고 로드락 모듈로 또는 로드락 모듈로부터 웨이퍼를 이송하며, 로드락 모듈은 한번에 2매의 웨이퍼의 이송이 가능한 진공 로봇을 구비하여 프로세스 모듈과 EFEM 간에 웨이퍼를 이송하는 역할을 수행한다. 종래의 웨이퍼 이송 장치에서는, 각각 1매의 웨이퍼를 처리할 수 있는 최대 6개의 프로세스 모듈(또는 3개의 트윈 모듈)이 마련되고, 로드락 모듈에서 동시에 2매의 웨이퍼를 이송함으로써, 6매의 웨이퍼를 처리할 수 있도록 되어 있다. 이는 1998년 8월 17일 공개된 대한민국공개특허공보 제10-1998-0042482(웨이퍼 처리 장치 및 방법)에 상세히 기재되어 있으므로, 그 설명을 생략하기로 한다. Here, the EFEM is equipped with two large base transport robots so that the two large base transport robots can transfer wafers to or from the load lock module at the same time or at a time difference, and the load lock module can transfer two wafers at a time. A vacuum robot is provided to transfer wafers between the process module and the EFEM. In the conventional wafer transfer apparatus, up to six process modules (or three twin modules) each capable of processing one wafer are provided, and six wafers are transferred by simultaneously transferring two wafers from the load lock module. It can handle. This is described in detail in Korean Patent Publication No. 10-1998-0042482 (wafer processing apparatus and method) published August 17, 1998, the description thereof will be omitted.

그러나, 상기의 종래의 웨이퍼 이송 장치에서, 6매의 웨이퍼가 각각의 프로세스 모듈에서 처리되더라도 실질적으로는 로드락 모듈에서 동시에 2매의 웨이퍼가 이송되고, 2매의 웨이퍼만이 동시에 처리될 수 있는 것이어서, 동시에 4~6매의 웨이퍼를 동시에 처리할 수는 없게 되어 있다. However, in the above conventional wafer transfer apparatus, even if six wafers are processed in each process module, substantially two wafers are transferred simultaneously in the load lock module, and only two wafers can be processed simultaneously. As a result, 4 to 6 wafers cannot be processed at the same time.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 3매 이상의 웨이퍼를 실질적으로 동시에 처리할 수 있으며, 프로세스 모듈에서 공정이 진행되는 동안에도 로드락 모듈 등에서는 웨이퍼의 이송이 이루어질 수 있는 웨이퍼 이송 장치를 제공하는데 있다. The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a wafer transfer apparatus capable of processing three or more wafers at substantially the same time, the transfer of the wafer in the load lock module, etc., even during the process in the process module.

상기 기술적 과제를 이루기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치는 EFEM(Equipment Front End Module), 로드락 모듈(Load-lock Module), 복수의 트랜스퍼 모듈(Transfer Module) 및 복수의 프로세스 모듈(Process Module)을 구비하여 이루어진다. Wafer transfer apparatus according to the present invention for achieving the above technical problem is a front end module (EFEM), a load-lock module (Load-lock Module), a plurality of transfer modules (Transfer Module) and a plurality of process modules (Process Module) It is made.

상기 EFEM은 핸드에 복수개의 슬롯이 마련되어 복수개의 웨이퍼를 이송하는 제1로봇을 구비한다. 상기 로드락 모듈은 상기 EFEM의 제1로봇에 의해 이송되는 복수개의 웨이퍼가 안착되는 복수개의 슬롯이 마련된 공용 로더를 구비한다. 상기 트랜스퍼 모듈 각각은 상기 공용 로더의 복수개의 슬롯에 안착된 복수개의 웨이퍼중 적어도 하나를 이송하는 제2로봇을 구비한다. 상기 프로세스 모듈 각각은 상기 트랜스퍼 모듈의 제2로봇에 의해 이송된 웨이퍼가 안착되는 샤프트를 구비한다.The EFEM has a first robot provided with a plurality of slots in the hand for transferring a plurality of wafers. The load lock module includes a common loader provided with a plurality of slots in which a plurality of wafers transported by the first robot of the EFEM is mounted. Each of the transfer modules has a second robot for transferring at least one of a plurality of wafers seated in a plurality of slots of the common loader. Each of the process modules has a shaft on which a wafer transferred by a second robot of the transfer module is seated.

이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치의 일실시예를 도시한 것이다.1 illustrates an embodiment of a wafer transfer apparatus according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치(100)는 EFEM(Equipment Front End Module, 110), 로드락 모듈(Loadlock Module, 120), 복수개의 트랜스퍼 모듈(Transfer Module, 130) 및 복수개의 프로세스 모듈(Process Module, 140)을 구비하여 이루어진다. Referring to FIG. 1, the wafer transfer apparatus 100 according to the present invention includes an equipment front end module (EFEM) 110, a load lock module 120, a plurality of transfer modules 130, and a plurality of transfer modules 130. A process module 140 is provided.

EFEM(110)은 핸드에 복수개의 슬롯이 마련되어 복수개의 웨이퍼를 이송하는 제1로봇(111)을 구비한다. The EFEM 110 includes a first robot 111 provided with a plurality of slots in the hand to transfer a plurality of wafers.

EFEM(110)과 로드락 모듈(120) 간의 웨이퍼 이송은 대기압 상태에서 이루어지고, 로드락(120) 모듈과 상기 트랜스퍼 모듈(130) 간의 웨이퍼 이송 및 트랜스퍼 모듈(130)과 프로세스 모듈(140) 간의 웨이퍼 이송은 진공 상태에서 이루어진다. 여기서, 로드락 모듈(120)은 진공 상태 및 대기압 상태를 반복하게 된다. 이를 위하여, EFEM(110)은 로드락 모듈(120)을 진공 상태 및 대기 상태로 만들기 위한 펌핑 장치(미도시)를 구비한다.Wafer transfer between the EFEM 110 and the load lock module 120 is performed at atmospheric pressure, and wafer transfer between the load lock 120 module and the transfer module 130 and between the transfer module 130 and the process module 140. Wafer transfer takes place in a vacuum. Here, the load lock module 120 repeats the vacuum state and the atmospheric pressure state. To this end, the EFEM 110 includes a pumping device (not shown) for bringing the load lock module 120 into a vacuum state and a standby state.

도 2 및 도 3은 EFEM의 제1로봇(111)의 일실시예를 도시한 측면도 및 평면도이다.2 and 3 are a side view and a plan view showing an embodiment of the first robot 111 of the EFEM.

도 2 및 도 3을 참조하면, 제1로봇(111)은 다관절 로봇의 형태로서, 본체(210), 상하 이동 가능한 주회전축(220), 독립회전이 가능한 복수의 아암들(230a, 230b) 및 상기 복수의 아암들(230a, 230b) 중 가장 끝에 있는 아암(230b)에 결합되며 서로 다른 높이의 복수의 슬롯(250)이 마련된 핸드(240)를 구비한다. 복수의 슬롯(250) 각각에는 웨이퍼가 로딩된다. 제1로봇(111)은 복수의 링크(260a, 260b, 260c) 각각에 의하여 독립회전이 가능한 복수의 아암(230a, 230b)에 의하여 직진 및 회전이 가능하다. 2 and 3, the first robot 111 is in the form of a multi-joint robot, the main body 210, the main axis of rotation 220 to move up and down, a plurality of arms (230a, 230b) capable of independent rotation And a hand 240 coupled to the arm 230b at the end of the plurality of arms 230a and 230b and provided with a plurality of slots 250 having different heights. Each of the plurality of slots 250 is loaded with a wafer. The first robot 111 can be straightened and rotated by a plurality of arms 230a and 230b which can be independently rotated by the plurality of links 260a, 260b and 260c, respectively.

EFEM(110)에는 복수개의 웨이퍼를 격납하는 적어도 하나의 웨이퍼 격납 수단(112)이 장착된다. 제1로봇(111)은 웨이퍼 격납 수단(112)에 있는 복수개의 웨이퍼 중 일부의 웨이퍼들을 한번에 로딩하여 로드락 모듈(120)로 이송한다. 또한, 제1로봇(111)은 반대로, 로드락 모듈(120)에서 웨이퍼들을 한번에 로딩하여 웨이퍼 격납 수단(112)으로 이송한다. The EFEM 110 is equipped with at least one wafer storage means 112 for storing a plurality of wafers. The first robot 111 loads some of the wafers of the plurality of wafers in the wafer storage means 112 at one time and transfers them to the load lock module 120. In addition, the first robot 111, on the contrary, loads the wafers from the load lock module 120 at once and transfers them to the wafer storage means 112.

일예로, 웨이퍼 격납 수단(112)은 25장의 웨이퍼를 격납할 수 있고, 제1로봇(111)의 핸드(240)에 구비된 슬롯(250)이 4개라면, 제1로봇(111)은 한번에 4매의 웨이퍼를 이송할 수 있다. 이 경우, 제1로봇(111)은 최초 4매의 웨이퍼를 슬롯(250)에 로딩하여 로드락 모듈(120)로 이송한 후에, 주회전축(220)이 수직방향으로 상승 또는 하강하여, 다음 4매의 웨이퍼를 슬롯(250)에 로딩하게 된다. For example, the wafer storage means 112 may store 25 wafers, and if there are four slots 250 provided in the hand 240 of the first robot 111, the first robot 111 may be used at a time. Four wafers can be transferred. In this case, the first robot 111 loads the first four wafers into the slot 250 and transfers them to the load lock module 120, and then the main shaft 220 rises or falls in the vertical direction. Each wafer is loaded into the slot 250.

상기의 예에서, 제1로봇(111)이 한번에 4매의 웨이퍼를 이송하게 되면, 6번의 로딩을 통하여 24매의 웨이퍼를 이송하고, 마지막 1번의 로딩을 통하여 남은 1매의 웨이퍼를 이송하게 된다. 이때 제1로봇(111)이 한번에 4매의 웨이퍼를 이송하기 위한 6번의 로딩의 경우, 제1로봇(111)에 구비된 4개의 슬롯(250)들은 별도의 제어를 필요로 하지 않는다. In the above example, when the first robot 111 transfers four wafers at once, 24 wafers are transferred through six loadings, and the remaining one wafer is transferred through the last one loading. . In this case, in the case of six loadings in which the first robot 111 transfers four wafers at once, the four slots 250 provided in the first robot 111 do not need separate control.

그러나, 마지막 1매의 웨이퍼를 이송하기 위한 로딩의 경우, 제1로봇(111)에 구비된 4개의 슬롯(250)들 중 하나의 슬롯에만 웨이퍼가 로딩된다. 이 경우 나머지 3개의 슬롯에는 웨이퍼가 로딩되지 않는다. 이때, 나머지 3개의 슬롯이 웨이퍼 격납 수단(112)으로 진행할 경우, 나머지 3개의 슬롯(250)과 웨이퍼 격납 수단(112) 과의 충돌이 발생할 수 있다. 이를 피하기 위한 방법은 다음과 같이 2가지로 나눌 수 있다. However, in the case of loading for transporting the last one wafer, the wafer is loaded only in one of four slots 250 provided in the first robot 111. In this case, no wafer is loaded into the remaining three slots. In this case, when the remaining three slots proceed to the wafer storage means 112, collision between the remaining three slots 250 and the wafer storage means 112 may occur. There are two ways to avoid this.

우선 1가지 방법으로, 웨이퍼 격납 수단(112)에 격납될 수 있는 웨이퍼의 수를 제1로봇(111)에 구비된 복수개의 슬롯(250)의 배수로 하는 것이다. 상기의 예의 경우, 25장의 웨이퍼를 격납할 수 있는 웨이퍼 격납 수단(112)에 24장의 웨이퍼를 격납하고, 1매의 웨이퍼를 격납할 수 있는 공간은 비워두거나, 웨이퍼 격납 수단(112)에 3장의 웨이퍼를 격납할 수 있는 공간을 더 마련하여 28장의 웨이퍼를 격납하거나, 25장의 웨이퍼를 격납하고, 나머지 공간은 비워두는 것과 같은 방법이 있다.First, in one method, the number of wafers that can be stored in the wafer storage means 112 is a multiple of the plurality of slots 250 provided in the first robot 111. In the case of the above example, 24 wafers are stored in the wafer storage means 112 that can hold 25 wafers, and the space for storing one wafer is left empty or three wafers are stored in the wafer storage means 112. There are methods such as providing more space for storing wafers to store 28 wafers, storing 25 wafers, and leaving the remaining space empty.

다른 1가지 방법으로, 제1로봇(111)의 핸드(240)에 장착되는 복수개의 슬롯(250)들을 제어하는 방법이 있다. 상기의 예의 경우, 4개의 슬롯 중 1개의 슬롯은 웨이퍼 격납 수단(112)에서 웨이퍼를 로딩하기 위하여 웨이퍼 격납 수단(112)으로 진입하고, 나머지 3개의 슬롯은 본체(210)에 구비된 모터(미도시)를 통하여 일측방향으로 회전하여 웨이퍼 격납 수단(112)과 충돌하지 않도록 한다. 이때, 4개의 슬롯들(250)은 제어를 위해 각 슬롯마다 별도의 모터와 연결되어 모든 슬롯이 독립 제어될 수 있다. 또한, 동시에 제어되어야 하는 슬롯이 하나의 모터와 연결되어 이들 슬롯들은 동시에 제어되고, 나머지 슬롯들은 독립 제어될 수 있다. 결국, 제1로봇(111)에 구비되는 핸드(240)에 장착되는 복수개의 슬롯(250)들 중에서 적어도 1개의 슬롯은 독립적으로 제어될 수 있다. As another method, there is a method of controlling the plurality of slots 250 mounted on the hand 240 of the first robot 111. In the above example, one of the four slots enters the wafer containment means 112 to load the wafer from the wafer containment means 112, and the remaining three slots are provided with a motor (not shown) in the main body 210. Rotate in one direction so as not to collide with the wafer containment means 112. At this time, the four slots 250 are connected to a separate motor for each slot for control, all slots can be independently controlled. In addition, the slots to be controlled at the same time can be connected to one motor so that these slots are controlled at the same time and the remaining slots can be controlled independently. As a result, at least one slot among the plurality of slots 250 mounted on the hand 240 provided in the first robot 111 may be independently controlled.

로드락 모듈(120)은 제1로봇(111)에 의해 이송된 복수개의 웨이퍼가 안착되 는 복수개의 슬롯이 마련된 공용 로더(121)를 구비한다. The load lock module 120 includes a common loader 121 provided with a plurality of slots in which a plurality of wafers transferred by the first robot 111 are seated.

도 4 및 도 5는 로드락 모듈(120)의 공용 로더(121)의 일실시예를 도시한 정면도 및 평면도이다. 4 and 5 are a front view and a plan view showing an embodiment of the common loader 121 of the load lock module 120.

도 4 및 도 5에 도시된 공용 로더(400)는 본체(401), 웨이퍼가 수평으로 안착될 수 있는 서로 다른 높이의 복수개의 슬롯(410), 복수개의 슬롯(410)을 측면에서 지지하는 측면 지지부(420), 그리고, 복수개의 슬롯(410) 및 측면 지지부(420)를 하부에서 지지하는 하부 지지부(430)를 구비하여 이루어진다. The common loader 400 illustrated in FIGS. 4 and 5 has a main body 401, a plurality of slots 410 having different heights on which the wafer can be horizontally positioned, and a side of the plurality of slots 410. The support part 420 and the lower support part 430 which support the some slot 410 and the side support part 420 from the lower part are comprised.

공용 로더(400)에 구비된 슬롯(410)의 개수는 제1로봇에 구비된 슬롯(250)의 개수와 동일할 수 있다. 그러나 이 경우 EFEM(110)으로부터 복수개의 프로세스 모듈(140)로의 웨이퍼 이송 및 복수개의 프로세스 모듈(140)로부터 EFEM(110)으로의 웨이퍼의 이송은 동시에 일어날 수 없는 문제가 있을 수 있다. 따라서, 공용 로더(400)에 구비된 슬롯(410)의 개수는 제1로봇(111)에 구비된 슬롯(250)의 개수의 2배인 것이 바람직하다. 여기서, 공용 로더(121)에 구비된 복수개의 슬롯(410) 중 일부는, EFEM(110)에서 이송되는 웨이퍼를 안착하기 위한 슬롯들이고, 다른 일부는, 트랜스퍼 모듈(130)에서 이송되는 웨이퍼를 안착하기 위한 슬롯들이다. The number of slots 410 provided in the common loader 400 may be equal to the number of slots 250 provided in the first robot. However, in this case, there may be a problem that wafer transfer from the EFEM 110 to the plurality of process modules 140 and wafer transfer from the plurality of process modules 140 to the EFEM 110 may not occur at the same time. Therefore, the number of slots 410 provided in the common loader 400 is preferably twice the number of slots 250 provided in the first robot 111. Here, some of the plurality of slots 410 provided in the common loader 121 are slots for seating the wafer transferred from the EFEM 110, and other parts seat the wafer transferred from the transfer module 130. Slots for

예를 들어, 제1로봇(111)에 구비된 슬롯이 4개라면, 공용 로더(400)에 구비되는 슬롯은 8개일 수 있다. 이때, 아래에 있는 4개의 슬롯은 제1로봇(111)으로부터 이송된 4개의 웨이퍼 각각이 안착되는 슬롯이며, 위에 있는 4개의 슬롯은 트랜스퍼 모듈(130)로부터 이송된 4개의 웨이퍼 각각이 안착되는 슬롯일 수 있다. For example, if four slots are provided in the first robot 111, eight slots may be provided in the common loader 400. In this case, the lower four slots are slots in which each of the four wafers transferred from the first robot 111 is seated, and the upper four slots are slots in which each of the four wafers transferred from the transfer module 130 is seated. Can be.

공용 로더(121)의 하부 지지부(430)는 본체(401) 내부에 구비되는 공용 로더 구동용 제1모터(미도시)에 의해 수직방향으로 이동이 가능한 것일 수 있다. 상기의 예에서, 제1로봇(111)으로부터 웨이퍼들이 공용 로더(400)의 하부 4개의 슬롯에 안착될 경우의 높이와 공용 로더(400)의 상부 4개의 슬롯에 안착된 웨이퍼들이 제1로봇(111)으로 로딩될 경우의 높이는 같을 수 있다. 이 경우, 공용 로더(400)의 하부 지지부(430)가 수직방향으로 적절히 이동하면 제1로봇(111)의 상하이동 없이도 공용 로더(400)와 제1로봇(111) 간의 웨이퍼 이송이 자유로워진다.The lower support part 430 of the common loader 121 may be movable vertically by a first motor (not shown) for driving a common loader provided in the main body 401. In the above example, the height when the wafers are seated in the lower four slots of the common loader 400 from the first robot 111 and the wafers seated in the upper four slots of the common loader 400 are the first robots. 111 may be the same height when loaded. In this case, if the lower support portion 430 of the common loader 400 is properly moved in the vertical direction, wafer transfer between the common loader 400 and the first robot 111 is freed without the movement of the first robot 111. .

또한, 공용 로더(400)의 하부 지지부(430)는 본체(401) 내부에 구비되는 공용 로더 구동용 제2모터(미도시)에 의해 회전 가능한 것일 수 있다. 복수의 슬롯(410)을 측면에서 지지하는 측면 지지부(420)의 존재로 인하여, 공용 로더(400)가 회전하지 않고 고정되어 있는 경우, 측면 지지부(420)가 존재하는 방향으로는 웨이퍼가 자유롭게 이송될 수 없다. In addition, the lower support part 430 of the common loader 400 may be rotatable by a second motor (not shown) for driving the common loader provided inside the main body 401. Due to the presence of the side support part 420 supporting the plurality of slots 410 from the side, when the common loader 400 is fixed without rotation, the wafer is freely transferred in the direction in which the side support part 420 exists. Can't be.

특히, EFEM(110)과 로드락 모듈(120) 간에 웨이퍼의 이송이 자유로운 경우에는 제1로봇(111)이 구동하는 경로에 어떠한 장애도 존재하지 않는다. 이 경우 공용 로더(400)의 측면 지지부(420)는 로드락 모듈(120)과 트랜스퍼 모듈(130)에서 복수의 제2로봇(131) 중 적어도 하나가 구동하는 경로에 위치하여 제2로봇(131)들 중 적어도 하나의 구동을 방해할 수 있다. 따라서, 이 경우 공용 로더(400)의 하부 지지부(430)가 회전하면 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있다. In particular, when the wafer is freely transferred between the EFEM 110 and the load lock module 120, there are no obstacles in the path driven by the first robot 111. In this case, the side support part 420 of the common loader 400 is positioned in a path driven by at least one of the plurality of second robots 131 in the load lock module 120 and the transfer module 130 so that the second robot 131 May interfere with driving of at least one of them. Therefore, in this case, when the lower support part 430 of the common loader 400 rotates, the above problem can be solved.

도 6은 공용 로더의 다른 일실시예를 도시한 평면도이다. 6 is a plan view showing another embodiment of a common loader.

도 4 및 도 5에 도시된 공용 로더(400)에는 측면 지지부(420)를 기준으로 한쪽 방향으로만 복수개의 슬롯(410)이 형성되어 있는데 비해, 도 6에 도시된 공용 로더(600)에는 측면 지지부(420)를 기준으로 양쪽 방향으로 복수의 슬롯(410)이 형성되어 있는 것을 나타낸다. 동일한 슬롯(410)의 수를 가정한다면, 도 4에 도시된 공용 로더(400)는 도 5에 도시된 공용 로더(500)에 비하여 수직 사이즈가 커지는 단점이 있는 반면, 수평 사이즈를 작아지는 장점이 있다. 4 and 5, a plurality of slots 410 are formed in only one direction based on the side support part 420, whereas the common loader 400 shown in FIG. 6 has a side surface. A plurality of slots 410 are formed in both directions with respect to the support part 420. Assuming the same number of slots 410, the common loader 400 shown in Figure 4 has the disadvantage that the vertical size is larger than the common loader 500 shown in Figure 5, while the advantage that the horizontal size is smaller have.

복수개의 트랜스퍼 모듈(130) 각각은 공용 로더(121)의 복수개의 슬롯에 안착된 복수개의 웨이퍼 중 적어도 하나를 이송하는 제2로봇(131)을 각각 구비한다. Each of the plurality of transfer modules 130 includes a second robot 131 for transferring at least one of a plurality of wafers seated in a plurality of slots of the common loader 121.

제2로봇(131) 각각에는 회전에 의하여 로드락 모듈(120)과 프로세스 모듈(130) 간에 웨이퍼를 이송하는 적어도 하나의 아암(510)이 구비되어 있다. Each of the second robots 131 is provided with at least one arm 510 for transferring the wafer between the load lock module 120 and the process module 130 by rotation.

각각의 제2로봇(131)에 아암이 1개가 구비되어 있을 경우, 하나의 제2로봇(131)에 구비된 아암이 로드락 모듈(120)의 공용 로더(121)에 구비된 복수개의 슬롯 중 미리 정해진 하나의 슬롯에 안착된 웨이퍼를 로딩하여, 회전을 통해 미리 정해진 프로세스 모듈(140)로 웨이퍼를 이송하고, 다시 그 아암이 프로세스 모듈(140)로부터 웨이퍼를 로딩하여, 회전을 통해 복수개의 슬롯 중 미리 정해진 다른 하나의 슬롯에 웨이퍼를 안착시킨다. When one arm is provided in each of the second robots 131, an arm provided in one second robot 131 is one of a plurality of slots provided in the common loader 121 of the load lock module 120. The wafer seated in one predetermined slot is loaded to transfer the wafer to the predetermined process module 140 through rotation, and the arm again loads the wafer from the process module 140, thereby rotating the plurality of slots. The wafer is seated in one of the other predetermined slots.

각각의 제2로봇(131)에 아암이 2개가 구비되어 있을 경우, 하나의 제2로봇(131)에 구비된 하나의 아암이 로드락 모듈(120)의 공용 로더(121)에 구비된 복수개의 슬롯 중 미리 정해진 하나의 슬롯에 안착된 웨이퍼를 로딩하여, 회전을 통해 미리 정해진 프로세스 모듈(140)로 웨이퍼를 이송하고, 다른 아암이 프로세스 모듈(140)로부터 웨이퍼를 로딩하여, 회전을 통해 복수개의 슬롯 중 미리 정해진 다른 하나의 슬롯에 웨이퍼를 안착시킨다. 이 경우, 2개의 아암 중 하나의 아암은 프로세스 모듈로 로딩 만을 수행하며, 다른 하나의 아암은 프로세스 모듈로부터 언로딩 만을 수행하게 할 수 있다. When each of the second robots 131 is provided with two arms, one arm provided in one second robot 131 is provided in the common loader 121 of the load lock module 120. By loading the wafer seated in one of the slots, the wafer is transferred to the predetermined process module 140 through rotation, and the other arm loads the wafer from the process module 140, thereby rotating the wafer. The wafer is seated in one of the other predetermined slots. In this case, one of the two arms can only perform loading into the process module and the other arm can only perform unloading from the process module.

여기서, 제2로봇(131) 각각은, 로드락 모듈(120)과 프로세스 모듈(140) 사이에서 웨이퍼를 이송한다. 구체적으로는 로드락 모듈(120)의 공용 로더(121)와 후술할 프로세스 모듈(140)의 샤프트(도 9의 910) 사이에서 웨이퍼를 이송한다. 이때, 각각의 제2로봇(131)들은 시간을 두고 웨이퍼를 이송할 수 있으나, 공정 효율을 최대한 높이기 위하여 제2로봇(131) 각각이 동시에 로드락 모듈(120)의 공용 로더(121)로부터 각각의 프로세스 모듈(140)로 웨이퍼를 이송하고, 각각의 프로세스 모듈(140)로부터 공용 로더(121)로 동시에 웨이퍼를 이송하는 것이 가장 바람직하다. Here, each of the second robots 131 transfers the wafer between the load lock module 120 and the process module 140. Specifically, the wafer is transferred between the common loader 121 of the load lock module 120 and the shaft (910 of FIG. 9) of the process module 140 to be described later. In this case, each of the second robots 131 may transfer wafers over time, but each of the second robots 131 may be simultaneously loaded from the common loader 121 of the load lock module 120 in order to maximize process efficiency. It is most preferable to transfer the wafers to the process module 140, and simultaneously transfer the wafers from the respective process modules 140 to the common loader 121.

도 7은 트랜스퍼 모듈(130)에 구비되는 제2로봇(131)의 일실시예를 나타낸 것이다. 7 illustrates an embodiment of a second robot 131 provided in the transfer module 130.

도 7에 도시된 제2로봇(700)은 제1회전축(701), 제1아암(710) 및 제2아암(720)을 구비한다. The second robot 700 illustrated in FIG. 7 includes a first rotation shaft 701, a first arm 710, and a second arm 720.

제1아암(710) 및 제2아암(720) 끝단에는 슬롯(132)이 결합되어 있으며, 제1아암(710) 및 제2아암(720) 각각은 제1회전축(701)을 중심으로 회전한다. 제1아암(710) 및 제2아암(720) 각각에는 모터(미도시)가 구비되어 있어서, 서로 다른 각각의 모터(미도시)에 의해 두 아암이 독립적으로 구동될 수 있다. Slots 132 are coupled to the ends of the first arm 710 and the second arm 720, and each of the first arm 710 and the second arm 720 rotates about the first rotation shaft 701. . Each of the first arm 710 and the second arm 720 is provided with a motor (not shown), so that the two arms can be independently driven by different motors (not shown).

제1아암(710) 및 제2아암(720)이 동일한 높이에서 수평으로 회전할 경우에 제1아암(710) 및 제2아암(720)이 충돌할 수 있으므로, 제1아암(710) 및 제2아 암(720)은 서로 다른 높이에서 회전하도록 제1회전축(701)에 서로 다른 높이로 배치되는 것이 바람직하다. Since the first arm 710 and the second arm 720 may collide when the first arm 710 and the second arm 720 rotate horizontally at the same height, the first arm 710 and the first arm 710 may collide. The two arms 720 are preferably arranged at different heights on the first rotation shaft 701 so as to rotate at different heights.

제1아암(710) 및 제2아암(720) 중에서 하나의 아암은 로드락 모듈(120)로부터 하나의 웨이퍼를 로딩하여 정해진 프로세스 모듈(140)로 이송하고, 다른 하나의 아암은 정해진 프로세스 모듈(140)로부터 웨이퍼를 로딩하여 로드락 모듈(120)로 웨이퍼를 이송할 수 있다. One arm of the first arm 710 and the second arm 720 loads one wafer from the load lock module 120 and transfers the wafer to the predetermined process module 140, and the other arm is the predetermined process module ( The wafer may be loaded from 140 to transfer the wafer to the load lock module 120.

일예로, 제1아암(710)은 도 4에 도시된 로드락 모듈(120)의 공용 로더(400)에 구비된 복수의 슬롯(410) 중에서 정해진 하나의 슬롯에 안착된 웨이퍼를 로딩하고, 제1회전축(701)을 중심으로 회전하여, 복수의 프로세스 모듈(140) 중에서 정해진 프로세스 모듈의 샤프트에 언로딩하고, 제2아암은 상기의 프로세스 모듈의 샤프트에 안착된 웨이퍼를 로딩하고 제1회전축(701)을 중심으로 회전하여, 로드락 모듈(120)의 공용 로더(400)의 복수의 슬롯(410) 중에서 정해진 다른 하나의 슬롯에 언로딩하여, 로드락 모듈(120)과 프로세스 모듈(140) 간의 제2로봇(700)에 의한 웨이퍼 이송이 이루어질 수 있다. For example, the first arm 710 loads a wafer seated in a predetermined slot among a plurality of slots 410 provided in the common loader 400 of the load lock module 120 illustrated in FIG. 4. It rotates about one rotation shaft 701, and unloads the shaft of a predetermined process module among the plurality of process modules 140, and the second arm loads the wafer seated on the shaft of the process module and the first rotation shaft ( The load lock module 120 and the process module 140 are rotated about the 701 and unloaded to another one of a plurality of slots 410 of the common loader 400 of the load lock module 120. Wafer transfer by the second robot 700 may be performed.

도 8은 트랜스퍼 모듈(130)의 제2로봇(131)의 다른 일실시예를 나타낸 것으로, 도 8에 도시된 제2로봇(800)의 제1아암 및 제2아암 각각이 2개의 아암으로 구성된 형태이다. FIG. 8 illustrates another embodiment of the second robot 131 of the transfer module 130. Each of the first arm and the second arm of the second robot 800 shown in FIG. 8 includes two arms. Form.

도 8에 도시된 제2로봇(800)은 제1회전축(801), 제2회전축(802), 제3회전축(803), 제1-1아암(811), 제2-1아암(821), 제1-2아암(812) 및 제2-2아암(822)을 구비한다.The second robot 800 illustrated in FIG. 8 includes a first rotating shaft 801, a second rotating shaft 802, a third rotating shaft 803, a first-first arm 811, and a second-first arm 821. And a second arm 812 and a second arm 822.

제1-1아암(811) 및 제2-1아암(821)은 제1회전축(801)을 중심으로 회전한다. 제2회전축(802)은 제1-1아암(811) 끝단에 형성되며, 제3회전축(803)은 제2-1아암(821) 끝단에 형성된다. 제1-2아암(812) 및 제2-2아암(822) 끝단에는 슬롯(132)이 결합되어 있으며, 제1-2아암(812)은 제2회전축(802)을 중심으로 회전하고, 제2-2아암(822)은 제3회전축(803)을 중심으로 회전한다. The first-first arm 811 and the second-first arm 821 rotate about the first rotation shaft 801. The second rotary shaft 802 is formed at the end of the first-first arm 811, and the third rotary shaft 803 is formed at the end of the second-first arm 821. Slots 132 are coupled to ends of the first and second arms 812 and the second and second arms 822, and the first and second arms 812 rotate about the second rotation shaft 802. The 2-2 arms 822 rotate about the third rotation shaft 803.

제1-1아암(811), 제2-1아암(821), 제1-2아암(812) 및 제2-2아암(822) 각각에는 모터(미도시)가 구비되어 있어서, 서로 다른 각각의 모터에 의해 각각의 아암들이 독립적으로 구동될 수 있다. Each of the first-first arm 811, the second-first arm 821, the first-second arm 812, and the second-second arm 822 is provided with a motor (not shown). Each arm can be driven independently by the motor of.

제1-1아암(811), 제2-1아암(821), 제1-2아암(812) 및 제2-2아암(822)이 동일한 높이에서 수평으로 회전할 경우에 각각의 아암들 사이에 충돌이 발생할 수 있으므로, 상기 아암들은 서로 다른 높이에서 회전하는 것이 바람직하다. Between 1-1 arm 811, 2-1 arm 821, 1-2 arm 812, and 2-2 arm 822 when they rotate horizontally at the same height. It is preferable that the arms rotate at different heights as a collision may occur.

제1-1아암(811)과 제1-2아암(812) 및 제2-1아암(821)과 제2-2아암(822) 중에서 제1-1아암(811)과 제1-2아암(812)은 로드락 모듈(120)로부터 하나의 웨이퍼를 로딩하여 정해진 프로세스 모듈(140)로 이송하고, 제2-1아암(821)과 제2-2아암(822)은 정해진 프로세스 모듈(140)로부터 웨이퍼를 로딩하여 로드락 모듈(120)로 웨이퍼를 이송할 수 있도록 제어할 수 있다. 물론, 반대의 경우도 가능하다.1-1 Arm 811 and 1-2 Arm among 1-1 Arm 811, 1-2 Arm 812, 2-1 Arm 821 and 2-2 Arm 822 812 loads one wafer from the load lock module 120 and transfers it to the predetermined process module 140, and the 2-1nd arm 821 and the 2-2nd arm 822 are defined process module 140. By loading the wafer from) may be controlled to transfer the wafer to the load lock module 120. Of course, the opposite is also possible.

일예로, 제1-2아암(812)이 제1-1아암(811)과의 각도를 넓힌 상태에서 로드락 모듈(120)의 공용 로더(121)에 구비된 복수의 슬롯(410) 중에서 정해진 하나의 슬롯에 안착된 웨이퍼를 로딩하고, 제2회전축(802)을 중심으로 제1-2아암(812)이 회전하여 제1-1아암(811)과의 각도를 줄인 상태에서 제1회전축(801)을 중심으로 제1- 1아암(811)이 회전하고, 제2회전축(802)을 중심으로 제1-2아암(812)이 회전하여 제1-1아암(811)과의 각도를 넓힌 상태에서 제1-2아암(812)이 복수의 프로세스 모듈 중에서 정해진 프로세스 모듈의 샤프트에 언로딩하여 로드락 모듈(120)에서 프로세스 모듈(140)로 제2로봇(800)에 의한 웨이퍼 이송이 이루어질 수 있다. For example, the first-second arm 812 is defined among the plurality of slots 410 provided in the common loader 121 of the load lock module 120 in a state in which the first-first arm 811 is widened with the first-first arm 811. Load the wafer seated in one slot, and rotate the first-second arm 812 around the second rotation axis 802 to reduce the angle with the first-first arm 811 (the first rotation shaft ( The first-first arm 811 rotates about the 801, and the first-second arm 812 rotates about the second rotary shaft 802 to widen the angle with the first-first arm 811. In the state, the first-second arm 812 is unloaded to the shaft of the predetermined process module among the plurality of process modules to transfer the wafer by the second robot 800 from the load lock module 120 to the process module 140. Can be.

또한, 제2-2아암(822)이 제2-1아암(821)과의 각도를 넓힌 상태에서 복수의 프로세스 모듈(140) 중에서 정해진 프로세스 모듈의 샤프트에 안착된 웨이퍼를 로딩하고, 제3회전축(803)을 중심으로 제2-2아암(822)이 회전하여 제2-1아암(821)과의 각도를 줄인 상태에서 제1회전축(801)을 중심으로 제2-1아암(821)이 회전하고, 제3회전축(803)을 중심으로 제2-2아암(822)이 회전하여 제2-1아암(821)과의 각도를 넓힌 상태에서 제2-2아암(822)이 로드락 모듈(120)의 공용 로더(121)에 구비된 복수의 슬롯(410) 중에서 정해진 다른 하나의 슬롯에 언로딩하여 프로세스 모듈(120)에서 로드락 모듈(120)로 제2로봇(800)에 의한 웨이퍼 이송이 이루어질 수 있다. Further, the second arm 822 loads a wafer seated on a shaft of a predetermined process module among the plurality of process modules 140 in a state in which the second arm 822 widens the angle of the second arm 182, and the third rotary shaft The 2-1st arm 821 rotates about the 1st rotating shaft 801 in the state which the 2nd-2nd arm 822 rotated about 803, and reduced the angle with the 2-1st arm 821. 2-2 arm 822 is a load lock module in a state in which the 2-2nd arm 822 is rotated about the 3rd rotating shaft 803 to widen the angle with the 2-1th arm 821. Wafer by the second robot 800 from the process module 120 to the load lock module 120 by unloading the other one of the plurality of slots 410 provided in the common loader 121 of the 120 The transfer can take place.

각각의 트랜스퍼 모듈(130)에 구비되는 제2로봇(131)의 각 아암이 동일한 역할을 하더라도 도 10에 도시된 바와 같이 로드락 모듈(120)의 형태가 변형될 수 있기 때문에, 각 트랜스퍼 모듈(130)마다 제2로봇(131)의 길이가 동일할 필요는 없다. Even though each arm of the second robot 131 provided in each transfer module 130 plays the same role, as shown in FIG. 10, the shape of the load lock module 120 may be modified. The length of the second robot 131 need not be the same for each 130.

복수개의 프로세스 모듈(140) 각각은 트랜스퍼 모듈(130)의 제2로봇(131)에 의해 이송된 웨이퍼가 안착되는 샤프트(Shaft)를 구비한다. 도 9는 프로세스 모듈(140)의 샤프트(910)의 일실시예를 간략히 도시한 것이다. Each of the plurality of process modules 140 includes a shaft on which a wafer transferred by the second robot 131 of the transfer module 130 is seated. 9 briefly illustrates one embodiment of the shaft 910 of the process module 140.

트랜스퍼 모듈(130)에 구비된 제2로봇(131)과의 웨이퍼 이송을 위해서, 프로 세스 모듈(140)에 구비된 샤프트(910)가 상하이동하거나, 또는 도 9에 도시된 바와 같이, 샤프트(910)는 고정되어 있고, 대신에 샤프트(910)를 관통하여 로딩핀 세트(920)가 모터(930)의 구동에 의하여 상하이동할 수 있다. In order to transfer the wafer to the second robot 131 provided in the transfer module 130, the shaft 910 provided in the process module 140 may be moved up or down, or as shown in FIG. 9. The 910 is fixed, and instead, the loading pin set 920 may move through the shaft 910 by driving the motor 930.

이때, 로딩핀 세트(920)는 2단 업(up)이 가능할 수 있다. 이 경우, 로딩핀 세트(920)는 로드락 모듈(120)로부터 프로세스 모듈(140)로 웨이퍼를 이송하기 위하여 제2로봇(131)이 프로세스 모듈(140)로 진입한 경우, 초기높이(940a)에서 미리 정해진 로딩용 높이(940b)까지 업(up)하고, 프로세스 모듈(140)로부터 로드락 모듈(120)로 웨이퍼를 이송하기 위하여 제2로봇(131)이 프로세스 모듈(140)로 진입한 경우, 초기높이에서 언로딩용 높이(940c)까지 업(up)하도록 할 수 있다. In this case, the loading pin set 920 may be two stages up. In this case, the loading pin set 920 has an initial height 940a when the second robot 131 enters the process module 140 to transfer the wafer from the load lock module 120 to the process module 140. In the case where the second robot 131 enters the process module 140 to up to a predetermined loading height 940b and transfers the wafer from the process module 140 to the load lock module 120. It may be up to the height for unloading 940c from the initial height.

이때의 하나의 프로세스 모듈(140) 내부의 로딩용 높이(940b)와 언로딩용 높이(940c)는 그 프로세스 모듈(140)에 웨이퍼의 이송을 담당하는 하나의 제2로봇(131)의 아암의 높이 및 개수에 따라 결정된다. 하나의 프로세스 모듈(140)에 웨이퍼의 이송을 담당하는 하나의 제2로봇(131)의 아암이 1개인 경우, 상기의 로딩용 높이(940b)와 언로딩용 높이(940c)는 동일하고, 또한 하나의 제2로봇(131)의 아암의 높이와 동일하다. At this time, the loading height 940b and the unloading height 940c in one process module 140 may be defined by the arm of one arm of the second robot 131 which is responsible for transferring the wafer to the process module 140. It depends on the height and the number. In the case where one arm of one second robot 131 that is responsible for transferring wafers to one process module 140 is one arm, the loading height 940b and the unloading height 940c are the same, and It is equal to the height of the arm of one second robot 131.

반면, 하나의 제2로봇(131)에 독립 구동 가능한 2개의 아암이 구비되어 있는 경우, 상기의 로딩용 높이(940b)와 언로딩용 높이(940c)는 다를 수 있다. 이때, 로딩용 높이(940b)는 2개의 아암 중 프로세스 모듈(140)로 웨이퍼를 이송하기 위한 아암의 높이와 같고, 언로딩용 높이(940c)는 2개의 아암 중 프로세스 모듈(140)로부터 웨이퍼를 이송하기 위한 아암의 높이와 같을 수 있다.On the other hand, when two arms that are independently driven are provided in one second robot 131, the loading height 940b and the unloading height 940c may be different. At this time, the loading height 940b is equal to the height of the arm for transferring the wafer to the process module 140 of the two arms, and the unloading height 940c is used to lift the wafer from the process module 140 of the two arms. It may be equal to the height of the arm for conveying.

각 프로세스 모듈(140)의 로딩용 높이(940b) 및 언로딩용 높이(940c)는 서로 다른 것이 바람직하다. 예를 들어, 인접한 프로세스 모듈들의 로딩용 높이(940b)가 동일할 경우에는 제2로봇(131)의 충돌이 발생할 수 있으므로 적어도 인접한 프로세스 모듈들의 로딩용 높이(140b)는 서로 다른 것이 바람직하며, 이에 따라 제2로봇(131) 각각의 아암들의 높이도 다른 것이 바람직하다. Preferably, the loading height 940b and the unloading height 940c of each process module 140 are different. For example, when the loading heights 940b of the adjacent process modules are the same, the collision of the second robot 131 may occur, so that at least the loading heights 140b of the adjacent process modules are different from each other. Accordingly, the heights of the arms of each of the second robots 131 may be different.

트랜스퍼 모듈(130)에 구비되는 제2로봇(131)의 총 개수는 EFEM(110)의 제1로봇(111)에 구비된 복수개의 슬롯(260)의 개수와 동일한 것이 바람직하다. 이와 마찬가지로, 프로세스 모듈(140)에 구비되는 샤프트(141)의 총 개수도 EFEM(110)의 제1로봇(111)에 구비된 복수개의 슬롯(260)의 수와 동일한 것이 바람직하다. The total number of second robots 131 provided in the transfer module 130 is preferably equal to the number of slots 260 provided in the first robot 111 of the EFEM 110. Similarly, the total number of shafts 141 provided in the process module 140 is also preferably equal to the number of slots 260 provided in the first robot 111 of the EFEM 110.

복수개의 트랜스퍼 모듈(130) 각각은 전부가 독립 모듈로서 구성될 수 있으며, 또한, 일부 또는 전체가 2개의 모듈이 결합된 형태의 트윈 모듈로 구성될 수 있다. 이와 마찬가지로, 복수개의 프로세스 모듈(140) 각각도, 상술한 복수개의 트랜스퍼 모듈(130)과 마찬가지로, 전부가 독립 모듈로서 구성될 수 있으며, 또한, 일부 또는 전체가 2개의 모듈이 결합된 형태의 트윈 모듈로 구성될 수 있다. Each of the plurality of transfer modules 130 may be configured as an independent module as a whole, or may be configured as a twin module in which two or more modules are combined. Similarly, each of the plurality of process modules 140, like the plurality of transfer modules 130 described above, may all be configured as independent modules, and some or all of the twin modules may be combined. It can be configured as a module.

도 11은 트랜스퍼 모듈(130) 및 프로세스 모듈(140)이 트윈 모듈로 구성된 것을 도시한 것이다.11 illustrates that the transfer module 130 and the process module 140 are configured as twin modules.

각각의 프로세스 모듈(140) 및 각각의 트랜스퍼 모듈(130)을 독립적으로 구성하여도 각 프로세스 모듈(140)이나, 각 트랜스퍼 모듈(130)에서의 공정 및 제2로봇(131)의 구동을 동시에 수행하도록 제어할 수도 있지만, 각각의 프로세스 모듈(140)이나 각각의 트랜스퍼 모듈(130)의 전부 또는 일부를 트윈 모듈(130', 140')로 구성할 경우에는 다음과 같은 장점이 있다. Even if each process module 140 and each transfer module 130 are configured independently, the process in each process module 140 or each transfer module 130 and the driving of the second robot 131 can be performed simultaneously. Although it can be controlled to, but when all or part of each process module 140 or each transfer module 130 is configured as a twin module (130 ', 140') has the following advantages.

예를 들어, 좌측 및 우측 2개씩의 프로세스 모듈이 트윈 모듈(140')로 구성될 경우, 2개의 프로세스 모듈(140)에서의 공정을 하나의 트윈 모듈(140')에서도 동시에 수행할 수 있다. 또한, 로딩핀 세트(도 9의 920)를 구동하기 위한 모터(도 9의 930)와 같은 일부 구성 요소를 공용으로 사용할 수 있어서, 각 프로세스 모듈(140) 내부의 일부 구성 요소를 절반으로 줄일 수도 있다. 마찬가지로, 좌측 및 우측 2개씩의 트랜스퍼 모듈이 트윈 모듈(130')로 구성될 경우, 각 트랜스퍼 모듈(130)에서의 각각의 제2로봇(131)에 의한 웨이퍼의 이송을 동시에 수행할 수 있다. 또한, 제2로봇(131)에 구비된 각각의 아암을 구동하기 위한 모터와 같은 일부 구성 요소를 공용으로 사용할 수 있어서, 각 트랜스퍼 모듈(130) 내부의 일부 구성 요소를 절반으로 줄일 수도 있다.For example, when two left and right process modules are configured as twin modules 140 ', the processes in the two process modules 140 may be simultaneously performed in one twin module 140'. In addition, some components, such as a motor (930 in FIG. 9) for driving the set of loading pins (920 in FIG. 9), may be used in common, and some components within each process module 140 may be cut in half. have. Similarly, when two transfer modules of the left and the right are configured as the twin modules 130 ', the transfer of the wafers by the respective second robots 131 in each transfer module 130 may be simultaneously performed. In addition, some components such as a motor for driving each arm provided in the second robot 131 may be used in common, so that some components inside each transfer module 130 may be cut in half.

도 12 및 13은 도 1에 도시된 웨이퍼 이송 장치(100)에서 웨이퍼가 이송되는 과정을 간략히 도시한 것이다. 도 12 및 도 13에서 LM은 로드락 모듈을, TM은 트랜스퍼 모듈을, PM은 프로세스 모듈을 의미한다.12 and 13 briefly illustrate a process of transferring a wafer in the wafer transfer apparatus 100 shown in FIG. 1. 12 and 13, LM denotes a load lock module, TM denotes a transfer module, and PM denotes a process module.

도 12를 참조하면, ①, ②, ③, ④번의 4장의 웨이퍼는 한번에 EFEM(110)에서 로드락 모듈(120)로 이송된다. 로드락 모듈(120)에서 ①번 웨이퍼는 1번 트랜스퍼 모듈(130-1)을 통하여 1번 프로세스 모듈(140-1)로 이송되고, ②번 웨이퍼는 2번 트랜스퍼 모듈(130-2)을 통하여 2번 프로세스 모듈(140-2)로 이송되고, ③번 웨이퍼는 3번 트랜스퍼 모듈(130-3)을 통하여 3번 프로세스 모듈(140-3)로 이송되고, ④번 웨이퍼는 4번 트랜스퍼 모듈(130-4)을 통하여 4번 프로세스 모듈(140-4)로 동 시에 이송된다. Referring to FIG. 12, four wafers of ①, ②, ③, and ④ are transferred from the EFEM 110 to the load lock module 120 at a time. Wafer ① in the load lock module 120 is transferred to the first process module 140-1 through the transfer module 130-1, and wafer ② is transferred through the transfer module 130-2. The wafer No. 3 is transferred to the process module 140-2, the wafer ③ is transferred to the process module 140-3 through the third transfer module 130-3, and the wafer ④ is transferred to the fourth transfer module ( 130-4) to the number 4 process module 140-4 at the same time.

도 13을 참조하면, 각 프로세스 모듈에서 ①, ②, ③, ④번의 웨이퍼의 공정이 진행되는 동안 ⑤, ⑥, ⑦, ⑧번의 4장의 웨이퍼는 한번에 EFEM(110)에서 로드락 모듈(120)로 이송된다. 로드락 모듈(120)에서 ⑤번 웨이퍼는 1번 트랜스퍼 모듈(130-1)에 대기하게 되고, ⑥번 웨이퍼는 2번 트랜스퍼 모듈(130-2)에 대기하게 되고, ⑦번 웨이퍼는 3번 트랜스퍼 모듈(130-3)에 대기하게 되고, ⑧번 웨이퍼는 4번 트랜스퍼 모듈(130-4)에 대기하게 된다. Referring to FIG. 13, four wafers ⑤, ⑥, ⑦, and ⑧ are loaded from the EFEM 110 to the load lock module 120 at a time during the process of wafers ①, ②, ③, and ④ in each process module. Transferred. In the load lock module 120, wafer ⑤ waits for the first transfer module 130-1, wafer ⑥ waits for the second transfer module 130-2, and wafer ⑦ transfers three. The module 130-3 waits, and the wafer ⑧ waits for the fourth transfer module 130-4.

그 후, 각 프로세스 모듈(140-1,2,3,4)에서 ①, ②, ③, ④번의 웨이퍼가 각 트랜스퍼 모듈(130-1,2,3,4)을 통하여 로드락 모듈(120)로 이송되고, 다시 로드락 모듈(120)에서 EFEM(110)으로 이송된다. 이와 동시에 또는 순차적으로 각 트랜스퍼 모듈(130-1,2,3,4)에 대기하고 있는 ⑤, ⑥, ⑦, ⑧번의 웨이퍼가 각 프로세스 모듈(140-1,2,3,4)로 이송된다. 이는 각 트랜스퍼 모듈(130-1,2,3,4)에 구비된 제2로봇(131)이 각각 독립 구동이 가능한 2개의 아암을 구비함으로써 이루어질 수 있는 것이다. Thereafter, the wafers 1, 2, 3, and 4 of the process modules 140-1, 2, 3, and 4 are loaded through the transfer modules 130-1, 2, 3, and 4, respectively. Is transferred to the EFEM 110 from the load lock module 120 again. At the same time or sequentially, wafers ⑤, ⑥, ⑦, and ⑧ waiting in the transfer modules 130-1, 2, 3, and 4 are transferred to the process modules 140-1, 2, 3, and 4, respectively. . This can be accomplished by the second robot 131 provided in each transfer module 130-1, 2, 3, and 4 having two arms each capable of independent driving.

이상에서는 주로 4개의 프로세스 모듈에 대하여 설명하였으나, 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치의 다른 일실시예는 도 14 내지 도 16에 도시한 것처럼 5개의 프로세스 모듈(140)이나 6개의 프로세스 모듈(140)의 경우에도 적용 가능하다. 물론 공간이 허락하는 범위라면 그 이상도 가능할 수 있다. 도 16의 경우는 6개의 프로세스 모듈(140) 및 6개의 트랜스퍼 모듈(130) 대신에 3개의 트윈 모듈들(130', 140')이 이용되었다.In the above description, four process modules have been mainly described. However, another embodiment of the wafer transfer apparatus according to the present invention may include five process modules 140 or six process modules 140 as illustrated in FIGS. 14 to 16. It is also applicable. Of course, more space is possible if the space allows. In the case of FIG. 16, three twin modules 130 ′ and 140 ′ are used instead of six process modules 140 and six transfer modules 130.

도 14 내지 도 16에서는 설명의 편의를 위해 제1로봇(111), 공용 로더(121) 및 제2로봇(131)은 생략하였으나, 프로세스 모듈(140)의 수가 정해지면 제1로봇(111)의 슬롯의 수, 공용 로더(121)의 슬롯의 수 및 제2로봇의 수도 쉽게 정해질 수 있다. 일예로, 제1로봇(111)이 도 14에 도시된 웨이퍼 이송 장치에 적용되는 경우에는 프로세스 모듈(140)이 5개 이므로, 제1로봇(111)의 슬롯의 개수가 5개이고, 공용 로더(121)의 슬롯의 개수가 10개이고, 제2로봇(131)의 개수가 5개일 수 있다. 제1로봇(111)이 도 15 또는 도 16에 도시된 웨이퍼 이송 장치에 적용되는 경우에는 프로세스 모듈(140)이 6개 이므로, 제1로봇(111)의 슬롯의 개수가 6개이고, 공용 로더(121)의 슬롯의 개수가 12개이고, 제2로봇(131)의 개수가 6개일 수 있다. In FIG. 14 to FIG. 16, the first robot 111, the common loader 121, and the second robot 131 are omitted for convenience of description, but once the number of the process modules 140 is determined, The number of slots, the number of slots of the common loader 121 and the number of second robots can be easily determined. For example, when the first robot 111 is applied to the wafer transfer apparatus illustrated in FIG. 14, since there are five process modules 140, the number of slots of the first robot 111 is five, and the common loader ( The number of slots 121 may be ten and the number of second robots 131 may be five. When the first robot 111 is applied to the wafer transfer apparatus shown in FIG. 15 or 16, since there are six process modules 140, the number of slots of the first robot 111 is six, and the common loader ( The number of slots 121 may be twelve, and the number of second robots 131 may be six.

이상에서 본 발명에 대한 기술사상을 첨부 도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 기술적 사상의 범주를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.The technical spirit of the present invention has been described above with reference to the accompanying drawings. However, the present invention has been described by way of example only, and is not intended to limit the present invention. In addition, it is apparent that any person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs may make various modifications and imitations without departing from the scope of the technical idea of the present invention.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치는 4~6장의 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있는 장점이 있다. As described above, the wafer transfer apparatus according to the present invention has an advantage of simultaneously processing 4 to 6 wafers.

또한, 본 발명에 따른 웨이퍼 이송 장치는 트랜스퍼 모듈에 구비된 제2로봇에 의해 프로세스 모듈에서 공정이 진행되는 동안에도 웨이퍼들이 트랜스퍼 모듈에 대기하거나 로드락 모듈로 이송될 수 있어서, 전체적인 공정 시간을 단축할 수 있 는 장점이 있다. In addition, in the wafer transfer apparatus according to the present invention, the wafers may be transferred to the load module or waited on the transfer module by the second robot provided in the transfer module, thereby shortening the overall process time. There is an advantage to this.

Claims (24)

핸드에 복수개의 슬롯이 마련되어 복수개의 웨이퍼를 이송하는 제1로봇을 구비하는 EFEM(Equipment Front End Module);An equipment front end module (EFEM) including a first robot provided with a plurality of slots in the hand to transfer a plurality of wafers; 상기 제1로봇에 의해 이송된 복수개의 웨이퍼가 안착되는 복수개의 슬롯이 마련된 공용 로더를 구비하는 로드락 모듈(Loadlock Module); A loadlock module having a common loader provided with a plurality of slots in which a plurality of wafers transported by the first robot are seated; 상기 공용 로더의 복수개의 슬롯에 안착된 복수개의 웨이퍼중 적어도 하나를 이송하는 제2로봇을 각각 구비하는 복수개의 트랜스퍼 모듈(Transfer Module); 및A plurality of transfer modules each having a second robot for transferring at least one of a plurality of wafers seated in a plurality of slots of the common loader; And 상기 트랜스퍼 모듈의 제2로봇에 의해 이송된 웨이퍼가 안착되는 샤프트(Shaft)를 각각 구비하는 복수개의 프로세스 모듈(Process Module)을 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.And a plurality of process modules each having a shaft on which the wafer transferred by the second robot of the transfer module is seated. 제1항에 있어서, 상기 제2로봇 각각은,The method of claim 1, wherein each of the second robot, 상기 로드락 모듈과 상기 프로세스 모듈 간에 동시에 웨이퍼를 이송하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer apparatus characterized in that for transferring the wafer between the load lock module and the process module at the same time. 제1항에 있어서, 상기 EFEM은,The method of claim 1, wherein the EFEM, 복수개의 웨이퍼를 격납하는 적어도 하나의 웨이퍼 격납 수단이 장착되고,At least one wafer storage means for storing a plurality of wafers is mounted, 상기 제1로봇은, 상기 웨이퍼 격납 수단에 있는 복수개의 웨이퍼 중 일부를 구비된 복수의 슬롯 각각에 로딩하여, 상기 로드락 모듈로 이송하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.And the first robot loads each of a plurality of slots provided with a portion of a plurality of wafers in the wafer storage means and transfers them to the load lock module. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1로봇에 구비된 복수개의 슬롯 중에서 적어도 1개의 슬롯은 독립적으로 제어되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.At least one slot among the plurality of slots provided in the first robot is independently controlled. 제1항에 있어서, 상기 공용 로더는, The method of claim 1, wherein the common loader, 공용 로더 구동용 제1모터에 의해 수직방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.A wafer transfer device characterized by moving in a vertical direction by a first motor for driving a common loader. 제1항에 있어서, 상기 공용 로더는, The method of claim 1, wherein the common loader, 공용 로더 구동용 제2모터에 의해 회전하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.A wafer transfer device characterized by rotating by a second motor for driving a common loader. 제1항에 있어서, 상기 공용 로더에 구비된 복수개의 슬롯의 수는,According to claim 1, The number of slots provided in the common loader, 상기 제1로봇에 구비된 복수개의 슬롯의 수보다 2배 많은 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer apparatus, characterized in that more than twice the number of the plurality of slots provided in the first robot. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 공용 로더에 구비된 복수개의 슬롯 중 일부는, 상기 EFEM에서 이송되는 웨이퍼를 안착하기 위한 슬롯들이고,Some of the plurality of slots provided in the common loader are slots for seating a wafer transferred from the EFEM, 상기 공용 로더에 구비된 복수개의 슬롯 중 다른 일부는, 상기 트랜스퍼 모듈에서 이송되는 웨이퍼를 안착하기위한 슬롯들인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.The other part of the plurality of slots provided in the common loader, the wafer transport apparatus, characterized in that the slots for seating the wafer to be transferred from the transfer module. 제1항에 있어서, 상기 제2로봇 각각은,The method of claim 1, wherein each of the second robot, 회전에 의하여 상기 로드락 모듈과 상기 프로세스 모듈 간에 웨이퍼를 이송하는 적어도 하나의 아암을 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.And at least one arm for transferring a wafer between the load lock module and the process module by rotation. 제9항에 있어서, 상기 제2로봇은,The method of claim 9, wherein the second robot, 제1회전축을 중심으로 회전하는 제1아암; 및A first arm rotating about a first axis of rotation; And 상기 제1회전축을 중심으로 회전하는 제2아암을 구비하고,And a second arm rotating about the first rotational shaft, 상기 제1아암 및 상기 제2아암은 서로 다른 높이에서 회전하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.And the first arm and the second arm rotate at different heights. 제10항에 있어서, 상기 제1아암 및 상기 제2아암 각각은,The method of claim 10, wherein each of the first arm and the second arm, 서로 다른 모터에 의해 독립적으로 구동되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer apparatus, characterized in that driven independently by different motors. 제11항에 있어서, The method of claim 11, 상기 제1아암은, 상기 로드락 모듈의 공용 로더에 구비된 복수의 슬롯 중에서 정해진 하나에 안착된 웨이퍼를 로딩하고, 상기 제1회전축을 중심으로 회전하여, 상기 복수의 프로세스 모듈 중에서 정해진 하나의 프로세스 모듈의 샤프트에 언로딩하고,The first arm loads a wafer seated in a predetermined one of a plurality of slots provided in the common loader of the load lock module, rotates about the first rotational shaft, and determines one process among the plurality of process modules. Unloaded into the shaft of the module, 상기 제2아암은, 상기 정해진 하나의 프로세스 모듈의 샤프트에 안착된 웨이퍼를 로딩하고, 상기 제1회전축을 중심으로 회전하여, 상기 로드락 모듈의 공용 로더의 복수의 슬롯 중에서 정해진 다른 하나에 언로딩하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.The second arm loads the wafer seated on the shaft of the predetermined one process module, rotates about the first rotational axis, and unloads the other one of the plurality of slots of the common loader of the load lock module. Wafer transfer apparatus characterized in that. 제9항에 있어서, 상기 제2로봇은,The method of claim 9, wherein the second robot, 제1회전축을 중심으로 회전하는 제1-1아암; A first-first arm rotating about the first rotating shaft; 상기 제1회전축을 중심으로 회전하는 제2-1아암;A 2-1 arm rotating around the first rotation shaft; 상기 제1-1아암 끝단에 형성되는 제2회전축을 중심으로 회전하는 제1-2아암; 및A 1-2 arm rotating around a second rotational shaft formed at an end of the 1-1 arm; And 상기 제2-1아암 끝단에 형성되는 제3회전축을 중심으로 회전하는 제2-2아암을 구비하고,And a 2-2 arm that rotates about a third rotational shaft formed at the end of the 2-1 arm, 상기 각각의 아암은 서로 다른 높이에서 회전하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wherein each arm rotates at a different height. 제13항에 있어서, 상기 각각의 아암 각각은,The method of claim 13, wherein each of the respective arms, 서로 다른 모터와 연결되어 독립적으로 구동되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer apparatus characterized in that the drive independently connected to the different motors. 제14항에 있어서, 상기 제2로봇은,The method of claim 14, wherein the second robot, 상기 제1-2아암이 상기 제1-1아암과의 각도를 넓힌 상태에서 상기 로드락 모듈의 공용 로더에 구비된 복수의 슬롯 중에서 정해진 하나에 안착된 웨이퍼를 로딩하고, Load the wafer seated in a predetermined one of a plurality of slots provided in the common loader of the load lock module in a state in which the 1-2 arm widens the angle with the 1-1 arm, 상기 제2회전축을 중심으로 제1-2아암이 회전하여 상기 제1-1아암과의 각도를 줄인 상태에서 상기 제1회전축을 중심으로 제1-1아암이 회전하고, The first-first arm rotates about the first rotation axis while the first-second arm rotates about the second rotation axis to reduce the angle with the first-first arm, 상기 제2회전축을 중심으로 상기 제1-2아암이 회전하여 상기 제1-1아암과의 각도를 넓힌 상태에서 상기 제1-2아암이 상기 복수의 프로세스 모듈 중에서 정해진 하나의 프로세스 모듈의 샤프트에 언로딩하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.The first and second arms are rotated around the second rotational axis to widen the angle with the first and second arms. Wafer transfer apparatus, characterized in that for unloading. 제15항에 있어서, 상기 제2로봇은,The method of claim 15, wherein the second robot, 상기 제2-2아암이 상기 제2-1아암과의 각도를 넓힌 상태에서 상기 복수의 프로세스 모듈 중에서 정해진 하나의 프로세스 모듈의 샤프트에 안착된 웨이퍼를 로딩하고, Load the wafer seated on the shaft of one of the plurality of process modules in a state in which the second-2 arm widens the angle with the second-1 arm, 상기 제3회전축을 중심으로 제2-2아암이 회전하여 상기 제2-1아암과의 각도를 줄인 상태에서 상기 제1회전축을 중심으로 제2-1아암이 회전하고, The second arm is rotated around the first rotary shaft while the second arm is rotated about the third rotary shaft to reduce the angle with the second arm. 상기 제3회전축을 중심으로 상기 제2-2아암이 회전하여 상기 제2-1아암과의 각도를 넓힌 상태에서 상기 제2-2아암이 상기 로드락 모듈의 공용 로더에 구비된 복수의 슬롯 중에서 정해진 다른 하나에 언로딩하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Of the plurality of slots provided in the common loader of the load lock module in the state in which the second arm is rotated about the third rotary shaft to widen the angle with the second arm. Wafer transfer apparatus, characterized in that the unloading to another one. 제1항에 있어서, 상기 프로세스 모듈에 구비된 샤프트 각각은, The method of claim 1, wherein each of the shafts provided in the process module, 2단 업(up)이 가능한 로딩핀 세트가 장착되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer device characterized in that the loading pin set is equipped with a two-stage up (up). 제17항에 있어서, 상기 로딩핀 세트는 The method of claim 17, wherein the loading pin set 상기 로드락 모듈로부터 상기 프로세스 모듈로 웨이퍼를 이송하기 위하여 상기 제2로봇이 상기 프로세스 모듈로 진입한 경우, 초기높이에서 미리 정해진 로딩용 높이까지 업(up)하고,When the second robot enters the process module in order to transfer the wafer from the load lock module to the process module, up from the initial height to a predetermined loading height, 상기 프로세스 모듈로부터 상기 로드락 모듈로 웨이퍼를 이송하기 위하여 상기 제2로봇이 상기 프로세스 모듈로 진입한 경우, 초기높이에서 언로딩용 높이까지 업(up)하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.And the second robot enters the process module in order to transfer the wafer from the process module to the load lock module. The wafer transfer device ups from an initial height to an unloading height. 제1항에 있어서, 상기 트랜스퍼 모듈의 제2로봇의 수는,According to claim 1, wherein the number of the second robot of the transfer module, 상기 EFEM의 제1로봇에 구비된 복수개의 슬롯의 수와 동일한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer apparatus, characterized in that the same as the number of the plurality of slots provided in the first robot of the EFEM. 제1항에 있어서, 상기 프로세스 모듈의 샤프트의 수는,The method of claim 1, wherein the number of shafts of the process module, 상기 제1로봇에 구비된 복수개의 슬롯의 수와 동일한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer apparatus, characterized in that the same as the number of the plurality of slots provided in the first robot. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 트랜스퍼 모듈은,The method of claim 1, wherein the plurality of transfer modules, 적어도 일부가, 인접한 2개의 트랜스퍼 모듈이 결합된 형태의 트윈 모듈로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.At least a portion of the wafer transfer device, characterized in that consisting of a twin module of the form of two adjacent transfer modules combined. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 프로세스 모듈은,The method of claim 1, wherein the plurality of process modules, 적어도 일부가, 인접한 2개의 프로세스 모듈이 결합된 형태의 트윈 모듈로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.At least a portion of the wafer transfer device, characterized in that consisting of a twin module of the form of two adjacent adjacent process modules combined. 제1항에 있어서, 상기 EFEM의 제1로봇은,The method of claim 1, wherein the first robot of the EFEM, 직진 및 회전이 가능한 다관절 로봇인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치.Wafer transfer device characterized in that the articulated robot that can go straight and rotate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 EFEM과 상기 로드락 모듈 간의 웨이퍼 이송은 대기압 상태에서 이루어지고, The wafer transfer between the EFEM and the load lock module is performed at atmospheric pressure, 상기 로드락 모듈과 상기 트랜스퍼 모듈 간의 웨이퍼 이송 및 상기 트랜스퍼 모듈과 상기 프로세스 모듈 간의 웨이퍼 이송은 진공 상태에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송 장치. Wafer transfer between the load lock module and the transfer module and wafer transfer between the transfer module and the process module are performed in a vacuum state.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100914738B1 (en) * 2007-08-03 2009-08-31 세메스 주식회사 Semiconductor manufacturing equipment with wafer transfer robot and method for transferring wafer of the same
KR20160074988A (en) 2014-12-19 2016-06-29 주식회사 썬닉스 Multi-directional system for transferring wafer

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040103676A (en) * 2003-06-02 2004-12-09 주식회사 엘티케이 Apparatus for manufacturing semiconductor device and operating method thereof
KR20060022146A (en) * 2004-09-06 2006-03-09 삼성전자주식회사 Wafer loading robot used for semiconductor manufacturing apparatus

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040103676A (en) * 2003-06-02 2004-12-09 주식회사 엘티케이 Apparatus for manufacturing semiconductor device and operating method thereof
KR20060022146A (en) * 2004-09-06 2006-03-09 삼성전자주식회사 Wafer loading robot used for semiconductor manufacturing apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100914738B1 (en) * 2007-08-03 2009-08-31 세메스 주식회사 Semiconductor manufacturing equipment with wafer transfer robot and method for transferring wafer of the same
KR20160074988A (en) 2014-12-19 2016-06-29 주식회사 썬닉스 Multi-directional system for transferring wafer

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