KR100728785B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 대향방전 구조에 적용되는 전극 형성 공정을 개선하여 플라즈마 디스플레이 패널의 전체 제조공정 수를 감소시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 어드레스전극을 형성하는 단계, 어드레스전극을 덮는 제1 유전층을 형성하는 단계, 제1 유전층 위에 와이어(wire)상(狀)의 제1 전극 및 제2 전극을 배열하는 단계, 제1 전극 및 제2 전극을 덮는 제2 유전층을 형성하는 단계, 및 제1 전극과 제2 전극 사이에 방전공간을 형성하는 단계를 포함한다.

플라즈마 디스플레이 패널, PDP, 전극, 와이어

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법{PLASMA DISPLAY PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성을 도시한 사시도이다.

도 2는 도 1의 선 Ⅱ-Ⅱ에 따른 단면도이다.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 공정도이다.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 두 막대에 전극으로 사용될 와이어를 일정한 간격으로 미리 감아 놓은 상태를 도시한 사시도이다.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 공정도이다.

도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 공정도이다.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.

통상적으로, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP ; Plasma Display Panel)은 기체방전을 통하여 얻어진 플라즈마로부터 방사되는 진공 자외선(VUV ; Vacuum Ultra Violet)이 형광체를 여기(勵起, Excited) 시킴으로서 발생되는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 가시광을 이용하여 영상을 구현한다.

이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 60인치 이상의 초대형 화면을 불과 10㎝ 이내의 두께로 구현할 수 있고, 음극선관(CRT)과 같은 자발광 디스플레이 소자이므로 색 재현력 및 시야각에 따른 왜곡현상이 없는 특성을 갖는다.

또한, 플라즈마 디스플레이 패널은 액정표시장치(LCD) 등에 비해 제조공법이 단순하여 생산성 및 원가 측면에서도 강점을 갖는 텔레비전(TV) 및 산업용 평판 디스플레이로 각광 받고 있다.

플라즈마 디스플레이 패널의 구조는 1970년대부터 오랜 기간에 걸쳐 발전되어 왔는데, 현재 일반적으로 알려져 있는 구조는 3전극 면방전형 구조이다. 3전극 면방전형 구조는 동일 면상에 위치한 두 개의 전극을 포함한 1개의 기판과 이로부터 일정 거리를 두고 이격되어 수직방향으로 이어지는 어드레스전극을 포함한 또 다른 기판으로 이루어지며, 그 사이에 방전가스가 봉입된 구조이다. 일반적으로 방전의 유무는 각 라인에 연결되어 독립적으로 제어되는 주사전극과 대향하고 있는 어드레스전극의 방전에 의해 결정되고, 휘도를 표시하는 유지방전은 동일 면상에 위치한 두 전극군(群)에 의해 이루어진다.

최근 시장에서 선보이고 있는 플라즈마 디스플레이 패널들은 42인치 급에서 XGA(1024ㅧ768)급의 해상도를 보이고 있는데, 궁극적으로 Full-HD(High Definition)급의 화상을 표현할 수 있는 디스플레이 소자가 요구되고 있는 실정이다. 플라즈마 디스플레이 패널에서 Full-HD급(1920ㅧ1080)의 화상을 표현할 수 있기 위해서는 방전셀의 크기를 줄이는 것, 즉 고정세(higher density)를 이루는 것이 필요하다.

종래 3전극 면방전형 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널에서 방전셀 크기의 감소는 곧 전극 길이와 면적의 감소를 의미한다. 이는 결과적으로 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도 및 효율의 감소와 함께 방전개시전압의 상승이라는 문제를 야기할 수 있다. 따라서 플라즈마 디스플레이 패널이 고정세로 갈수록 어드레스는 대향방전으로 유지방전은 면방전으로 발생시키는 구조와는 다른 구조가 필요하게 되었다.

본 발명의 목적은 대향방전 구조에 적용되는 전극 형성 공정을 개선하여 플라즈마 디스플레이 패널의 전체 제조공정 수를 감소시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 기판 상에 어드레스전극을 형성하는 단계, 어드레스전극을 덮는 제1 유전층을 형성하는 단계, 제1 유전층 위에 와이어(wire)상(狀)의 제1 전극 및 제2 전극을 배열하는 단계, 제1 전극 및 제2 전극을 덮는 제2 유전층을 형성하는 단계, 및 제1 전극과 제2 전극 사이에 방전공간을 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.

방전공간을 형성하는 단계는 제2 유전층 위에 레지스트를 도포하는 단계, fp지스트를 패터닝하는 단계, 패터닝된 레지스트를 보호막으로 제2 유전층을 식각하여 제1 전극과 제2 전극 사이에 공간을 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.

한편, 방전공간을 형성하는 단계는 제1 전극과 제2 전극을 덮는 제2 유전층을 패턴 인쇄하여 제1 전극과 제2 전극 사이에 공간을 형성할 수 있다.

또한, 방전공간을 형성하는 단계는 제2 유전층 위에 포토 레지스트(photo resist)를 덮고 패터닝한 다음, 에칭액을 분사하여 에칭하여 방전공간을 형성할 수 있으며, 제2 유전층 위에 드라이 필름 레지스트(dry film resist)를 덮고 패터닝한 다음, 샌드 블라스트법으로 식각하여 방전공간을 형성할 수 있다.

제1 전극 및 제2 전극을 배열하는 단계는 두 개의 막대, 각각에 와이어상의 전극을 감아서 배열할 수 있다.

제2 유전층을 덮는 보호막을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.

그리고, 제1 전극과 제2 전극 사이에 방전공간을 형성 후 소성하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.

한편, 기판 상에 어드레스전극을 형성하는 단계, 어드레스전극을 덮는 제1 유전층을 형성하는 단계, 제1 유전층을 덮는 제2 유전층을 형성하는 단계, 제2 유전층 내에 와이어(wire)상(狀)의 제1 전극 및 제2 전극을 삽입하는 단계를 포함할 수 있다.

제1 전극 및 제2 전극이 삽입되는 전극 형성홈을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 전극 형성홈을 형성하는 단계는 제2 유전층 위에 레지스트를 도포하는 단계, 레지스트를 패터닝하는 단계, 패터닝된 레지스트를 보호막으로 제2 유전층을 식각하여 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.

그리고, 전극 형성홈의 개구면을 덮는 제3 유전층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.

제1 유전층 내지 제3 유전층은 격벽용 유전체 재료로 형성되는 것이 바람직하다.

제1 전극 및 제2 전극은 기판쪽으로 가압하여 삽입될 수 있다.

제1 전극 및 제2 전극은 외주면에 다이아몬드(Diamond) 코팅 처리된 와이어로 이루어질 수 있다.

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 하기 설명 및 첨부 도면과 같은 많은 특정 상세 내용들이 본 발명의 보다 전반적인 이해를 제공하기 위해 나타나 있으나, 이들 특정 상세 내용들은 본 발명의 설명을 위해 예시한 것으로 본 발명이 그러한 상세 내용들에 한정됨을 의미하는 것은 아니다. 그리고 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성을 도시한 사시도이며, 도 2는 도 1의 선 Ⅱ-Ⅱ에 따른 단면도이다.

도 1과 도 2를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성을 설명한다.

먼저, 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 기본적으로 제1 기판(10)(이하 '전면기판'이라 함)과 제2 기판(20)(이하 '배면기판'이라 함)이 설정된 간격을 두고 서로 대향 배치되며, 전면기판(10)에는 표시전극(25)과 어드레스전극(32)이 배치되고, 배면기판(20)에는 전면기판(10)과 배면기판(20)의 사이공간에서 플라즈마 방전을 일으킬 수 있도록 다수의 방전셀(18)들이 격벽(16)에 의하여 형성된다.

방전셀(18)을 형성하는 격벽(16)은 어드레스전극(32)이 뻗은 방향(도면의 y축 방향, 제1 방향)으로 나란하게 형성되는 제1 격벽부재(16a)와, 어드레스전극(32)이 뻗은 방향과 직각으로 교차하는 방향(도면의 x축 방향, 제2 방향)으로 형성되는 제2 격벽부재(16b)를 포함하여 이루어진다. 제1 격벽부재(16a)와 제2 격벽부재(16b)는 서로 연결되어 일체로 형성할 수 있다.

방전셀(18)의 내에는 자외선을 흡수하여 가시광을 방출하는 형광체층(19)이 격벽(16)면과 바닥면을 따라 형성되며, 플라즈마 방전을 일으킬 수 있도록 방전가스(예를 들어, 제논(Xe), 네온(Ne) 등을 포함하는 혼합가스)가 채워진다. 방전셀(18)의 내부에 형성되는 형광체층(19)은 각각 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 형광체가 도포되어 형성되는 형광체층(19)이다.

전면기판(10)에 형성되는 표시전극(25)은 어드레스전극(32)과의 상호작용으로 발광시킬 방전셀을 선택하고, 선택된 방전셀을 표시할 수 있도록 유지방전을 일으키는 기능을 수행한다. 표시전극(25)은 각 방전셀(18)에 대응되는 제1 전극(21, 이하 '유지전극'이라 한다)과 제2 전극(23, 이하 '주사전극'이라 한다)을 포함한 다.

참고적으로, 유지전극(21) 및 주사전극(23)의 기능은 각각의 전극에 공급되는 방전전압에 따라 그 기능을 달리할 수 있으므로 유지전극(21)과 주사전극(23)을 구분함에 있어서, 이에 한정하는 것은 바람직하지 않다.

유지전극(21)은 주로 유지구간의 방전에 필요한 전압을 공급하며, 주사전극(23)은 리셋구간, 어드레스구간 및 유지구간에 각각 필요한 전압을 공급한다. 즉, 유지전극(21)은 주로 유지구간의 방전에 관여하고, 주사전극(23)은 리셋구간, 어드레스구간 및 유지구간의 방전에 모두 관여한다.

표시전극(25)을 구성하는 유지전극(21)과 주사전극(23)은 어드레스전극(32)과 직각으로 교차하는 방향(도면의 x축 방향)을 따라 각각 길게 이어지도록 신장 형성되어 어드레스전극(32)이 형성되는 방향과 교호적으로 배치된다. 즉, 표시전극(25)은 어드레스전극(32)과 서로 다른 층에 형성되며, 어드레스전극(32)과 교차하는 방향으로 형성되는 격벽(16)에 대응하여 각각 이웃하는 방전셀(18)에 공유되도록 형성한다.

이러한 구성에서, 주사 전극(23)과 어드레스 전극(32)이 작용하여 방전셀을 선택하는 경우 어드레스전극(32)에 어드레스 펄스를 공급하고 주사전극(23)에 스캔 펄스를 공급하면, 이웃하는 2개의 방전셀들(18)이 선택된다. 따라서, 본 발명의 제1 실시예에서와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 유지전극(21)과 주사전극(23)을 각각 짝수 행과 홀수 행으로 구분하고, 짝수 행의 유지방전 시에는 짝수 행의 유지전극(21)과 주사전극(23)에 유지 펄스를 공급하며, 홀수 행의 유지방전 시에는 홀 수 행의 유지전극(21)과 주사전극(23)에 유지 펄스를 공급하여 최종 화상을 표시할 수 있다.

한편, 유지전극(21)과 주사전극(23)은 전면기판(10)으로부터 멀어지는 방향(도 1과 도 2에서 음의 z축 방향)으로 배면기판(20)을 향해 돌출되어, 그 사이에 공간을 두고 서로 대향하도록 형성된다. 이렇게 형성되는 공간은 서로 대향하는 유지전극(21)과 주사전극(23) 사이에서 대향방전을 유도할 수 있다. 즉, 유지전극(21)과 주사전극(23)은 각 방전셀(18)의 중심을 향하여 대향되도록 형성하는 것이 바람직하며, 통전성을 확보하기 위해 금속전극으로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 유지전극(21)과 주사전극(23)은 각각 와이어(wire) 형상으로 형성한다.

표시전극(25)은 제2 유전층(28b)으로 덮여지며, 제1 유전층(28a) 및 제2 유전층(28b)을 사이에 두고 어드레스전극(32)과 이격됨으로써 전기적으로 구분된다.

한편, 제1 유전층(28a)과 제2 유전층(28b)을 보호하기 위해 MgO보호막(29)을 형성하여 플라즈마 방전 시 전리된 원자의 이온의 충돌로부터 유전층(28)을 보호할 수 있다. 이러한 MgO보호막(29)은 이온이 부딪혔을 때 2차 전자의 방출계수도 높기 때문에 방전효율을 높일 수 있다.

어드레스전극(32)은 전면기판(10)에서 배면기판(20)과의 대향면 상에 전면기판(10)의 제1 방향(도면의 y축 방향)을 따라 복수개로 형성된다. 어드레스전극(32)은 전면기판(10)의 내측면 전체에 형성되는 제1 유전층(28a)으로 덮여진다. 어드레스전극(32)은 본 발명의 제1 실시예에서와 같이 버스전극(32a)과 돌출전극(32b)의 조합으로 구성하며, 스트라이프형으로 이루어져 이웃하는 어드레스전극과 설정된 간격을 유지하면서 서로 나란하게 형성할 수도 있다.

버스전극(32a)은 방전셀(18)의 일측 가장자리에 배치되도록 도 1에 도시된 바와 같이 제1 방향(y 방향)으로 길게 이어지도록 형성한다. 이때, 버스전극(32a)은 제1 격벽부재(16a) 바로 위로 위치하도록 배치하여 방전셀(18)과의 간섭부분을 감소시킴으로써 방전셀(18)의 개구율을 보다 향상시킬 수 있게 하는 것이 바람직하다.

돌출전극(32b)은 버스전극(32a)에서 방전셀(18) 내부를 향해 돌출되도록 직사각형상으로 형성한다. 이때, 돌출전극(32b)은 플라즈마 디스플레이 패널의 개구율 확보를 위해 투명전극(예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide) 전극)으로 형성할 수 있다. 이러한 경우 버스전극(32a)은 투명전극의 높은 저항을 보상하여 통전성을 좋게하기 위하여 금속전극으로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기한 바와 같은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 의하면, 어드레스전극(32)을 전면기판(10)에 배치함으로써 방전셀(18) 내에서의 방전에 관여하는 전극이 모두 전면기판(10)에 위치하게 되고, 따라서 배면기판(20)에 형성되는 격벽(16)에 의하여 설정되는 방전공간을 더욱 크게 확보할 수 있다. 이는 곧 형광체가 도포되는 부분의 면적이 넓어짐에 따라 발광효율을 증가시킬 수 있다. 뿐만 아니라 형광체 위에 전하가 쌓이면서 이온 스퍼터링(Sputtering) 등에 의해 형광체 수명이 감소되는 것을 방지할 수 있다.

또한, 유지전극(21)과 주사전극(23) 사이에서 대향방전을 유도함으로써 발광효율이 우수한 것으로 알려진 롱갭(long gap) 방전이 가능하므로, 종래의 면방전 구조에 비해 더욱 높은 발광 효율을 얻을 수 있다.

그리고, 플라즈마 디스플레이 패널이 고정세화 되고 방전셀의 크기가 작아짐에 따라 종래의 면방전 구조에서 야기되는 문제점, 즉 발광효율과 휘도의 감소, 방전개시전압 증가 등의 문제점을 극복할 수 있다.

이하에서는 상기 설명한 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 방법에 관하여 상세하게 설명한다.

도 3의 (a) 내지 (e)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 공정도이다.

먼저, 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 전면기판(10)에서 제1 방향을 따라 어드레스전극(32)을 형성하는 단계, 어드레스전극(32)을 덮는 제1 유전층(28a)을 형성하는 단계, 제1 유전층(28a) 위에 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 길게 이어지도록 신장되며, 각각 제1 방향을 따라 설정된 간격을 두고 교호적으로 배치되는 유지전극(21) 및 주사전극을 배열하는 단계, 그리고, 배면기판(20)에 전면기판(10)에 형성되는 각각의 전극들에 대응되는 방전셀(18)들을 구분하도록 격벽을 형성하는 단계, 및 전면기판(10)과 배면기판(20)의 상호 대향면을 정렬하여 전면기판(10)과 배면기판(20)을 합착하는 단계를 포함하여 이루어진다. 그리고, 방전셀의 내측 벽면과 바닥면을 따라 대응되는 형광체층을 형성하는 단계와 제2 유전층(28b)을 덮는 MgO보호막을 형성하는 단계를 더 포함한다.

여기서, 유지전극(21) 및 주사전극을 배열하는 단계는 도 3에 도시된 바와 같이

(a) 제1 유전층(28a) 위에 와이어(wire) 상(狀)의 전극을 배열하는 단계,

(b) 와이어상의 전극을 덮는 제2 유전층(28b)을 형성하는 단계,

(c) 제2 유전층(28b) 위에 레지스트를 도포하여 레지스트층(302)을 형성하는 단계,

(d) 레지스트를 패터닝하는 단계,

(e) 패터닝된 레지스트를 보호막으로 제2 유전층(28b)을 식각하여 유지전극(21) 및 주사전극 사이에 방전공간을 형성하는 단계로 이루어진다. 그리고, 방전공간을 형성 후 소성하는 단계를 더 포함한다.

상기한 (b) 단계에서 제1 유전층(28a)과 제2 유전층(28b)은 격벽용 유전체 재료로 형성된다. 상기한 바와 같이 유지전극(21) 및 주사전극을 와이어로 형성하는 경우 도 4에 도시된 바와 같이 두 막대(400, 402)에 전극으로 사용될 와이어(410)를 일정한 간격으로 미리 감아 놓아 와이어 형성 작업을 용이하게 할 수 있다. 즉, 두 개의 막대(400, 402) 각각에 와이어상의 전극을 일정한 간격으로 감아서 제1 유전층(28a) 위에 와이어상의 전극만을 배열하여 유지전극(21) 및 주사전극을 와이어로 형성할 수 있다.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 방전공간을 형성하는 방법(b단계 ~ e단계)은 다른 방법으로도 가능하다. 예를 들면, 제2 유전층(28b) 위에 레지스트층으로 포토 레지스트(photo resist)를 덮은 다음 패터닝하고 에칭액을 분사하여 에칭하는 방법과 제2 유전층(28b) 위에 레지스트층으로 드라이 필름 레지스트(dry film resist)를 덮은 다음 패터닝하고 샌드 블라스트법으로 식각하는 방법으로도 본 발명의 제1 실시예에 따른 방전공간을 형성할 수 있다.

도 5의 (a) 내지 (e)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 공정도이며, 도 6의 (a) 내지 (e)는 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 도시한 공정도이다.

본 발명의 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 대한 설명에 앞서, 본 발명의 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성은 대부분 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성과 동일함에 대해 설명한다. 다만, 본 발명의 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성은 전술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 구성에서 유지전극(21) 및 주사전극의 제조방법을 다르게 함으로써 발생되는 구성상의 차이점이 반영된 것이다. 예를 들어, 본 발명의 제2 실시예는 유지전극(21) 및 주사전극이 전극 형성홈에 삽입되고 전극 형성홈의 개구면을 제3 유전층으로 덮는 것이며, 본 발명의 제3 실시예는 유지전극(21) 및 주사전극의 외주면에 다이아몬드(Diamond) 코팅 처리하여 미리 형성된 제2 유전층(28b)에 삽입하는 것으로 제1 실시예에서와는 유지전극(21) 및 주사전극의 형상의 차이점이 있다. 이러한 이유로 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구성에서 제1 실시예와 중복되는 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.

또한, 본 발명의 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 본 발명의 제1 실시예와는 유지전극(21) 및 주사전극을 형성하는 제조방법의 상이점이 있다. 따라서, 제2 실시예 및 제3 실시예에 따른 플라즈마 디 스플레이 패널의 제조방법의 설명에서 제1 실시예와 중복되는 제조방법에 대한 상세한 설명은 생략한다.

도 5를 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 설명한다.

본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에서 유지전극(21) 및 주사전극을 형성하는 단계는 도 5에 도시된 바와 같이

(a) 제1 유전층(28a)을 덮는 제2 유전층(28b)을 형성하는 단계,

(b) 제2 유전층(28b) 위에 레지스트를 도포하여 레지스트층(402)을 형성하는 단계,

(c) 레지스트를 패터닝하고, 패터닝된 레지스트를 보호막으로 제2 유전층(28b)을 식각하여 일면이 개구된 전극 형성홈을 형성하는 단계,

(d) 전극 형성홈의 개구면을 통해 와이어상의 전극을 삽입하는 단계,

(e) 와이어상의 전극이 삽입된 전극 형성홈의 개구면을 덮는 제3 유전층을 형성하는 단계로 이루어진다.

상기한 도 5의 (a) 단계 내지 (e) 단계에서 제1 유전층(28a) 내지 제3 유전층은 격벽용 유전체 재료로 형성된다.

한편, 본 발명의 제2 실시예에 따른 전극 형성홈을 형성하는 방법(a단계 ~ c단계)은 다른 방법으로도 가능하다. 예를 들면, 제2 유전층(28b) 위에 레지스트층으로 포토 레지스트(photo resist)를 덮은 다음 패터닝하고 에칭액을 분사하여 에칭하는 방법과 제2 유전층(28b) 위에 레지스트층으로 드라이 필름 레지스트(dry film resist)를 덮은 다음 패터닝하고 샌드 블라스트법으로 식각하는 방법으로도 본 발명의 제2 실시예에 따른 전극 형성홈을 형성할 수 있다.

도 6 (a) 내지 (e)를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 설명한다.

본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에서 유지전극(21) 및 주사전극을 형성하는 단계는 도 6에 도시된 바와 같이

(a) 제1 유전층(28a)을 덮는 제2 유전층(28b)을 형성하는 단계,

(b) 제2 유전층(28b) 위에 레지스트를 도포하여 레지스트층(502)을 형성하는 단계,

(c) 레지스트를 패터닝하고, 패터닝된 레지스트를 보호막으로 제2 유전층(28b)을 식각하여 전극이 삽입되는 부분을 형성하는 단계,

(d, e) 전극이 삽입되는 부분의 일면을 통해 와이어상의 전극을 삽입하는 단계로 이루어진다.

상기한 (a) 단계에서 제1 유전층(28a)과 제2 유전층(28b)은 격벽용 유전체 재료로 형성되며, (d, e) 단계에서 와이어상의 전극은 외주면에 다이아몬드(Diamond) 코팅 처리된다. 이러한 구성으로 전극이 삽입되는 부분이 형성된 후 와이어상의 전극 외주면에 코팅된 다이아몬드를 통해 전극이 삽입되는 부분을 파고 들어가 전극이 삽입되는 부분 내에 와이어상의 전극이 삽입되게 된다.

한편, 본 발명의 제3 실시예에 따른 전극이 삽입되는 부분을 형성하는 방법(a단계 ~ c단계)은 다른 방법으로도 가능하다. 예를 들면, 제2 유전층(28b) 위에 레지스트층으로 포토 레지스트(photo resist)를 덮은 다음 패터닝하고 에칭액을 분사하여 에칭하는 방법과 제2 유전층(28b) 위에 레지스트층으로 드라이 필름 레지스트(dry film resist)를 덮은 다음 패터닝하고 샌드 블라스트법으로 식각하는 방법으로도 본 발명의 제3 실시예에 따른 전극이 삽입되는 부분을 형성할 수 있다.

상기한 본 발명의 제1 실시예 내지 제3 실시예에서와 같이 유지전극(21) 및 주사전극을 와이어 전극으로 이용하면 유지전극(21) 및 주사전극의 수축 현상이 거의 없으므로 인쇄 등을 이용하여 형성되는 전극들에서 발생되는 문제점들을 해소할 수 있다. 인쇄 등을 이용하여 형성된 전극은 소성 중 수축률이 주변재료인 유전체 또는 격벽의 수축률과 다르며, 유전체 또는 격벽들과 동시 소성을 하게 되면 끊어짐, 격벽 무너짐 등의 현상이 나타나는 문제점이 있다. 그리고, 인쇄 등에 사용되는 전극 재료는 페이스트(Paste) 형태로 주 재료인 금속 이외에도 유리 원료(Glass Frit)와 유기물 등이 포함되어 있어 소성 후 전도성이 순수 금속에 못 미치는 결과를 나타낸다. 또한, 소성 중 산화, 이온 확산 등의 현상을 일으켜 전도성 저하와 플라즈마 디스플레이 패널의 변색 등과 같은 문제를 일으키기도 한다.

이와는 달리, 본 발명의 실시예에 따른 유지전극(21) 및 주사전극은 산화가 된다 하더라도 표면에서만 그 현상이 나타나게 되므로 전도성에는 큰 문제가 없으며 또한 변색의 문제도 해결할 수 있다.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법은 대향방전 구조에 적용되는 전극 형성시 전극 형성에 따른 소성과정을 생략할 수 있고, 각각의 전극과 격벽, 유전체 등의 동시 소성이 가능하게 되어 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널 제조공정에 비해 전체적인 제조공수 및 제조원가를 절감할 수 있는 효과가 있다.

Claims (15)

1. 기판 상에 어드레스전극을 형성하는 단계;

   상기 어드레스전극을 덮는 제1 유전층을 형성하는 단계;

   상기 제1 유전층 위에 와이어(wire)상(狀)의 제1 전극 및 제2 전극을 배열하는 단계;

   상기 제1 전극 및 제2 전극을 덮는 제2 유전층을 형성하는 단계; 및

   상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 방전공간을 형성하는 단계;

   를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
2. 제1항에 있어서,

   상기 방전공간을 형성하는 단계는

   상기 제2 유전층 위에 레지스트를 도포하는 단계;

   상기 레지스트를 패터닝하는 단계;

   상기 패터닝된 레지스트를 보호막으로 상기 제2 유전층을 식각하여 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 공간을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
3. 제1항에 있어서,

   상기 방전공간을 형성하는 단계는

   상기 제1 전극과 제2 전극을 덮는 제2 유전층을 패턴 인쇄하여 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 공간을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
4. 제1항에 있어서,

   상기 방전공간을 형성하는 단계는

   상기 제2 유전층 위에 포토 레지스트(photo resist)를 덮고 패터닝한 다음, 에칭액을 분사하여 에칭하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
5. 제1항에 있어서,

   상기 방전공간을 형성하는 단계는

   상기 제2 유전층 위에 드라이 필름 레지스트(dry film resist)를 덮고 패터닝한 다음, 샌드 블라스트법으로 식각하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
6. 제1항에 있어서,

   상기 제1 전극 및 제2 전극을 배열하는 단계는

   두 개의 막대 각각에 와이어상의 전극을 일정한 간격으로 감아서 상기 제1 유전층 위에 와이어상의 전극만을 배열하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
7. 제1항에 있어서,

   상기 제2 유전층을 덮는 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 디 스플레이 패널 제조방법.
8. 제1항에 있어서,

   상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 방전공간을 형성 후 소성하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
9. 기판 상에 어드레스전극을 형성하는 단계;

   상기 어드레스전극을 덮는 제1 유전층을 형성하는 단계;

   상기 제1 유전층을 덮는 제2 유전층을 형성하는 단계;

   상기 제2 유전층 내에 와이어(wire)상(狀)의 제1 전극 및 제2 전극을 삽입하는 단계;

   를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
10. 제9항에 있어서,

    상기 제1 전극 및 제2 전극이 삽입되는 전극 형성홈을 형성하는 단계를 더 포함하며,

    상기 전극 형성홈을 형성하는 단계는

    상기 제2 유전층 위에 레지스트를 도포하는 단계;

    상기 레지스트를 패터닝하는 단계;

    상기 패터닝된 레지스트를 보호막으로 상기 제2 유전층을 식각하여 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
11. 제10항에 있어서,

    상기 전극 형성홈의 개구면을 덮는 제3 유전층을 형성하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
12. 제11항에 있어서,

    상기 제1 유전층 내지 제3 유전층은 격벽용 유전체 재료로 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
13. 제9항에 있어서,

    상기 제1 전극 및 제2 전극은 기판쪽으로 가압하여 삽입되는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
14. 제13항에 있어서,

    상기 제1 전극 및 제2 전극은 외주면에 다이아몬드(Diamond) 코팅 처리된 와이어로 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
15. 제1항 내지 제14항 가운데 어느 한 항에 따른 제조방법에 의하여 제조되는 플라즈마 디스플레이 패널.

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