KR100726254B1 - Liquid crystal display device having shielding layer for blocking light incident from side - Google Patents

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Abstract

본 발명의 액정표시소자는 복수의 화소를 포함하는 제1기판 및 제2기판과, 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층과, 상기 제1기판 및 제2기판의 화소 사이에 형성되어 인접 화소로 투과되는 광을 차단하는 차단막으로 구성된다. 상기 차단막은 블랙매트릭스를 따라 배치되는데, 포토폴리머로 이루어져 측면광을 반사시켜 액정표시소자의 정면 휘도를 향상시킨다.A liquid crystal display element of the present invention includes a first substrate and a second substrate including a plurality of pixels, a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate, and a liquid crystal layer formed between the pixels of the first substrate and the second substrate And blocking the light transmitted to the adjacent pixels. The blocking layer is disposed along the black matrix. The blocking layer is made of a photopolymer and reflects the side light to improve the front brightness of the liquid crystal display.

차단막, 측면광, 반사, 빛샘, 휘도, 포토폴리머Blocking film, side light, reflection, light leakage, luminance, photopolymer

Description

측면광 차단막을 구비한 액정표시소자{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE HAVING SHIELDING LAYER FOR BLOCKING LIGHT INCIDENT FROM SIDE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a liquid crystal display (LCD)

도 1은 종래 액정표시소자의 구조를 나타내는 평면도.1 is a plan view showing a structure of a conventional liquid crystal display element.

도 2a는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ′선 단면도.FIG. 2A is a sectional view taken along the line I-I 'of FIG. 1; FIG.

도 2b는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ′선 단면도.2B is a sectional view taken along the line II-II 'in FIG.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시소자의 구조를 나타내는 단면도.3 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal display element according to a first embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자의 구조를 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view showing a structure of a liquid crystal display element according to a second embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Description of the Related Art [0002]

105,205 : 공통전극 107,207 : 화소전극105, 205: common electrode 107, 207: pixel electrode

120,130,220,230 : 기판 122,222 : 게이트절연층120, 130, 220, 230: substrate 122, 222: gate insulating layer

124,224 : 보호층 132,232 : 블랙매트릭스124,224: protective layer 132,232: black matrix

140,240 : 액정층 150,250 : 백라이트140, 240: liquid crystal layer 150, 250: backlight

160,260 ; 차단막160,260; Barrier

본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 특히 광차단막을 설치하여 인접 화소로 투과되는 광을 차단함으로써 빛샘현상을 방지하고 휘도를 향상시킬 수 있는 액정표시소자에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to a liquid crystal display device capable of preventing a light leakage phenomenon and improving brightness by blocking light transmitted to adjacent pixels by providing a light blocking film.

근래, 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 노트북컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 경박단소용의 평판표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시소자(LCD)가 각광을 받고 있다.2. Description of the Related Art Recently, various portable electronic devices such as a mobile phone, a PDA, and a notebook computer have been developed. Accordingly, there is a growing need for a flat panel display device for a light and small size. As such flat panel display devices, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED) and a vacuum fluorescent display (VFD) have been actively studied. However, Because of its implementation, liquid crystal display devices (LCDs) are now spotlighted.

이러한 액정표시소자는 액정분자의 배열에 따라 다양한 표시모드가 존재하지만, 현재에는 흑백표시가 용이하고 응답속도가 빠르며 구동전압이 낮다는 장점 때문에 주로 TN모드의 액정표시소자가 사용되고 있다. 이러한 TN모드 액정표시소자에서는 기판과 수평하게 배향된 액정분자가 전압이 인가될 때 기판과 거의 수직으로 배향된다. 따라서, 액정분자의 굴절률 이방성(refractive anisotropy)에 의해 전압의 인가시 시야각이 좁아진다는 문제가 있었다.Although these liquid crystal display devices have various display modes depending on the arrangement of liquid crystal molecules, liquid crystal display devices of TN mode are mainly used because of their advantages of easy monochrome display, quick response speed and low driving voltage. In such a TN mode liquid crystal display element, liquid crystal molecules aligned horizontally with the substrate are oriented substantially perpendicular to the substrate when a voltage is applied. Therefore, there is a problem that the viewing angle is narrowed when the voltage is applied due to the refractive index anisotropy of the liquid crystal molecules.

이러한 시야각문제를 해결하기 위해, 근래 광시야각특성(wide viewing angle characteristic)을 갖는 각종 모드의 액정표시소자가 제안되고 있지만, 그중에서도 횡전계모드(In Plane Switching Mode)의 액정표시소자가 실제 양산에 적용되어 생 산되고 있다. 상기 IPS모드 액정표시소자는 화소내에 평행으로 배열된 적어도 한쌍의 전극을 형성하여 기판과 실질적으로 평행한 횡전계를 형성함으로써 액정분자를 평면상으로 배향시키는 것이다.In order to solve such a viewing angle problem, liquid crystal display devices of various modes having a wide viewing angle characteristic have been proposed. Among them, liquid crystal display devices of a transverse electric field mode (In Plane Switching Mode) . The IPS mode liquid crystal display element forms at least one pair of electrodes arranged in parallel in a pixel to form a transversal electric field substantially parallel to the substrate, thereby aligning the liquid crystal molecules in a plane.

도 1은 종래 IPS모드 액정표시소자의 구조를 나타내는 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 액정패널(1)의 화소는 종횡으로 배치된 게이트라인(3) 및 데이터라인(4)에 의해 정의된다. 도면에는 비록 (n,m)번째의 화소만을 도시하고 있지만 실제의 액정패널(1)에는 상기한 게이트라인(3)과 데이터라인(4)이 각각 n개 및 m개 배치되어 액정패널(1) 전체에 걸쳐서 n×m개의 화소를 형성한다. 상기 화소내의 게이트라인(3)과 데이터라인(4)의 교차영역에는 박막트랜지스터(10)가 형성되어 있다. 상기 박막트랜지스터(10)는 게이트라인(3)으로부터 주사신호가 인가되는 게이트전극(11)과, 상기 게이트전극(11) 위에 형성되어 주사신호가 인가됨에 따라 활성화되어 채널층을 형성하는 반도체층(12)과, 상기 반도체층(12) 위에 형성되어 데이터라인(4)을 통해 화상신호가 인가되는 소스전극(13) 및 드레인전극(14)으로 구성되어 외부로부터 입력되는 화상신호를 액정층에 인가한다.1 is a view showing a structure of a conventional IPS mode liquid crystal display device. As shown in Fig. 1, the pixels of the liquid crystal panel 1 are defined by the gate line 3 and the data line 4 arranged vertically and horizontally. Although only the (n, m) -th pixel is shown in the figure, n and m of the gate line 3 and the data line 4 are arranged in the liquid crystal panel 1, N x m pixels are formed over the entire area. A thin film transistor 10 is formed in a crossing region of the gate line 3 and the data line 4 in the pixel. The thin film transistor 10 includes a gate electrode 11 to which a scanning signal is applied from a gate line 3 and a semiconductor layer which is formed on the gate electrode 11 and is activated by a scanning signal to form a channel layer And a source electrode 13 and a drain electrode 14 formed on the semiconductor layer 12 and applied with an image signal through the data line 4 to apply an image signal inputted from the outside to the liquid crystal layer do.

화소내에는 데이터라인(4)과 실질적으로 평행하게 배열된 복수의 공통전극(5)과 화소전극(7)이 배치되어 있다. 또한, 화소의 중간에는 상기 공통전극(5)과 접속되는 공통라인(16)이 배치되어 있으며, 상기 공통라인(16) 위에는 화소전극(7)과 접속되는 화소전극라인(18)이 배치되어 상기 공통라인(16)과 오버랩되어 있다. 상기 공통라인(16)과 화소전극라인(18)의 오버랩에 의해 횡전계모드 액정표시소자에는 축적용량(storage capacitance)이 형성된다.In the pixel, a plurality of common electrodes 5 and pixel electrodes 7 arranged substantially in parallel with the data lines 4 are arranged. A common line 16 connected to the common electrode 5 is disposed in the middle of the pixel and a pixel electrode line 18 connected to the pixel electrode 7 is disposed on the common line 16, And overlaps with the common line 16. A storage capacitance is formed in the transverse electric field mode liquid crystal display element by overlapping the common line 16 and the pixel electrode line 18. [

상기와 같이, 구성된 IPS모드 액정표시소자에서 액정분자는 공통전극(5) 및 화소전극(7)과 실질적으로 평행하게 배향되어 있다. 박막트랜지스터(10)가 작동하여 화소전극(7)에 신호가 인가되면, 공통전극(5)과 화소전극(7) 사이에는 액정패널(1)과 실질적으로 평행한 횡전계가 발생하게 된다. 액정분자는 상기 횡전계를 따라 동일 평면상에서 회전하게 되므로, 액정분자의 굴절률 이방성에 의한 계조반전을 방지할 수 있게 된다.As described above, in the configured IPS mode liquid crystal display element, the liquid crystal molecules are oriented substantially parallel to the common electrode 5 and the pixel electrode 7. A horizontal electric field substantially parallel to the liquid crystal panel 1 is generated between the common electrode 5 and the pixel electrode 7 when the thin film transistor 10 is operated and a signal is applied to the pixel electrode 7. [ Since the liquid crystal molecules rotate on the same plane along the transverse electric field, the grayscale inversion due to the refractive index anisotropy of the liquid crystal molecules can be prevented.

상기한 구조의 종래 IPS모드 액정표시소자를 도 2a 및 도 2b를 참조하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.A conventional IPS mode liquid crystal display device having the above structure will be described in more detail with reference to FIGS. 2A and 2B.

도 2a에 도시된 바와 같이, 제1기판(20) 위에는 게이트전극(11)이 형성되어 있으며, 상기 제1기판(20) 전체에 걸쳐 게이트절연층(22)이 적층되어 있다. 상기 게이트절연층(22) 위에는 반도체층(12)이 형성되어 있으며, 그 위에 소스전극(13) 및 드레인전극(14)이 형성되어 박막트랜지스터(1)가 형성된다. 또한, 상기 제1기판(20) 전체에 걸쳐 보호층(passivation layer;24)이 형성되어 있다.As shown in FIG. 2A, a gate electrode 11 is formed on a first substrate 20, and a gate insulating layer 22 is formed over the entire surface of the first substrate 20. A semiconductor layer 12 is formed on the gate insulating layer 22 and a source electrode 13 and a drain electrode 14 are formed on the semiconductor layer 12 to form the thin film transistor 1. In addition, a passivation layer 24 is formed over the entire surface of the first substrate 20.

제2기판(30)에는 블랙매트릭스(32)와 컬러필터층(34)이 형성되어 있다. 상기 블랙매트릭스(32)는 액정분자가 동작하지 않는 영역으로 광이 누설되는 것을 방지하기 위한 것으로, 도면에 도시한 바와 같이 박막트랜지스터(10) 영역 및 화소와 화소 사이(즉, 게이트라인 및 데이터라인 영역)에 주로 형성된다. 컬러필터층(34)은 R(Red), B(Blue), G(Green)로 구성되어 실제 컬러를 구현하기 위한 것이다. 상기 제1기판(20) 및 제2기판(30) 사이에는 액정층(40)이 형성되어 액정패널(1)이 완성된다.On the second substrate 30, a black matrix 32 and a color filter layer 34 are formed. The black matrix 32 serves to prevent light from leaking into a region where the liquid crystal molecules do not operate. As shown in the figure, the black matrix 32 is formed between the pixel region and the pixel (that is, the gate line and the data line Region). The color filter layer 34 is formed of R (Red), B (Blue), and G (Green) to realize actual colors. A liquid crystal layer 40 is formed between the first substrate 20 and the second substrate 30 to complete the liquid crystal panel 1.

도 2b에 도시된 바와 같이, 제1기판(20) 위에는 복수의 공통전극(5)이 형성되어 있고 게이트절연층(22) 위에는 화소전극(7) 및 데이터라인(4)이 형성되어, 상기 공통전극(5)과 화소전극(7) 사이에 횡전계(E)가 발생한다. 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제1기판(20) 및 제2기판(30)에는 편광판이 부착되어 액정층(40)을 투과하는 특정방향의 광을 투과시키거나 차단한다. 제1기판(20)의 하부에는 백라이트(50)가 배치되어 상기 액정층(40)에 광을 공급한다.A plurality of common electrodes 5 are formed on the first substrate 20 and a pixel electrode 7 and a data line 4 are formed on the gate insulating layer 22, A transverse electric field E is generated between the electrode 5 and the pixel electrode 7. Although not shown in the drawing, a polarizer is attached to the first substrate 20 and the second substrate 30 to transmit or block light in a specific direction transmitted through the liquid crystal layer 40. [ A backlight 50 is disposed under the first substrate 20 to supply light to the liquid crystal layer 40.

그러나, 상기와 같은 구조의 액정표시소자에서는 다음과 같은 문제가 발생한다. 즉, 백라이트(50)로부터 발생되는 광은 백라이트(50)로부터 방출되어 액정층(40)으로 수직으로 입사될 뿐만 아니라 일정한 각도로 입사된다. 일반적으로 각 화소에는 서로 다른 화상신호가 인가되기 때문에, 각 화소의 액정층에는 다른 전계가 인가된다. 따라서, 각 화소에서는 액정층을 투과하는 광의 양이 다르게 되므로, 각각의 화소에는 다른 화상이 표시된다.However, the following problems arise in the liquid crystal display device having such a structure. That is, the light emitted from the backlight 50 is emitted from the backlight 50 and is vertically incident on the liquid crystal layer 40 as well as incident at a predetermined angle. Generally, since different image signals are applied to each pixel, another electric field is applied to the liquid crystal layer of each pixel. Therefore, since the amount of light transmitted through the liquid crystal layer in each pixel is different, different images are displayed in each pixel.

백라이트(50)로부터 발생하여 액정층(40)으로 입사되는 광이 액정층(40)과 설정된 각도 이상으로 입사되는 경우 해당 화소를 투과한 광이 화소의 측면을 통해 인접하는 화소로 침범하게 되는데, 이 경우 해당 화소에 의해 조절된 광이 인접하는 화소에 표시되므로(이를 빛샘현상이라 한다) 인접하는 화소에는 빛샘현상에 의해 원하지 않는 화상이 표시되어 화질이 저하되는 문제가 있었다.When the light generated from the backlight 50 and incident on the liquid crystal layer 40 is incident on the liquid crystal layer 40 at a predetermined angle or more, the light transmitted through the pixel invades the adjacent pixel through the side surface of the pixel, In this case, since the light adjusted by the corresponding pixel is displayed on adjacent pixels (referred to as light leakage phenomenon), there is a problem that the image quality is deteriorated by displaying an unwanted image due to light leakage phenomenon in adjacent pixels.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 화소 사이의 경계영역에 차단막을 설치하여 인접 화소를 침투하는 광을 차단함으로써 빛샘현상에 의한 화질저 하를 방지할 수 있는 액정표시소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of preventing image quality deterioration due to light leakage phenomenon by blocking light penetrating adjacent pixels by providing a blocking film in a boundary region between pixels The purpose.

본 발명의 다른 목적은 인접 화소로 침투하는 광을 반사시키는 차단막을 설치하여 화소의 정면 휘도를 향상시킬 수 있는 액정표시소자를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a liquid crystal display element capable of improving a front luminance of a pixel by providing a blocking film for reflecting light penetrating into adjacent pixels.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 액정표시소자는 복수의 화소를 포함하는 제1기판 및 제2기판과, 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층과, 상기 제1기판 및 제2기판의 화소 사이에 형성되어 인접 화소로 투과되는 광을 차단하는 차단막으로 구성된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device including a first substrate and a second substrate including a plurality of pixels, a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate, And a blocking film formed between the pixels of the second substrate and shielding light transmitted to adjacent pixels.

상기 차단막은 블랙매트릭스를 따라 배치되는데, 포토폴리머로 이루어져 측면광을 반사시켜 액정표시소자의 정면 휘도를 향상시킨다.The blocking layer is disposed along the black matrix. The blocking layer is made of a photopolymer and reflects the side light to improve the front brightness of the liquid crystal display.

차단막은 제1기판에 형성될 수도 있으며 제2기판에 형성될 수도 있다. 상기 차단막의 높이는 해당 화소로 입사되는 광의 임계각도에 따라 결정되는데, 상기 임계각도는 블랙매트릭스 사이의 거리, 셀갭 및 제1기판과 제2기판에 형성된 층의 두께에 기초하여 산출한다. 한편, 상기 차단막은 셀갭과 동일한 높이로 형성되어 셀갭을 일정하게 유지하는 스페이서의 역할을 할 수도 있다.The blocking layer may be formed on the first substrate or on the second substrate. The height of the blocking layer is determined according to the critical angle of light incident on the pixel. The critical angle is calculated based on the distance between the black matrixes, the cell gap, and the thickness of the first substrate and the layer formed on the second substrate. Meanwhile, the blocking layer may be formed at the same height as the cell gap to serve as a spacer for keeping the cell gap constant.

본 발명에서는 백라이트에서 발생되어 액정층을 투과하는 광이 인접 화소로 침투하는 것을 방지하여 화질이 저하되는 것을 방지한다. 더욱이 본 발명에서는 인접 화소로 침투하는 광을 다시 해당 화소로 반사시킴으로서 화질이 저하되는 것을 방지할 뿐만 아니라 휘도를 향상시킬 수 있게 된다.In the present invention, light transmitted through the liquid crystal layer generated in the backlight is prevented from penetrating into adjacent pixels, thereby preventing the image quality from deteriorating. In addition, according to the present invention, the light penetrating into the adjacent pixels is reflected to the corresponding pixel again, thereby preventing the deterioration of image quality and improving the luminance.

이를 위해, 본 발명에서는 화소와 화소 사이, 즉 화상이 표시되지 않는 블랙 매트릭스 형성영역에 측면광을 차단하는 차단막을 설치하여 인접 화소로 광이 침투하는 것을 차단한다. 상기 차단막은 포토폴리머로 이루어져 입사되는 측면광을 차단함과 동시에 해당 화소로 반사시킨다.To this end, in the present invention, a blocking film for blocking the side light is provided between the pixel and the pixel, that is, the black matrix forming region where no image is displayed, thereby blocking light from penetrating into the adjacent pixel. The blocking layer is made of a photopolymer and shields incident side light and reflects the side light to the corresponding pixel.

본 발명의 차단막은 가능한 모든 표시모드의 액정표시소자에 적용 가능하다. 상술한 종래의 설명과 하기의 설명에서는 IPS모드의 액정표시소자를 주로 설명하고 있지만, 이러한 모드의 액정표시소자는 본 발명의 일례에 불과한 것으로 단지 설명의 편의를 위한 것이다. 따라서, 본 발명은 IPS모드뿐만 아니라 TN(Twisted Nematic)모드나 VA(Vertical Alignment)모드의 액정표시소자에 적용 가능할 것이다.The shielding film of the present invention is applicable to liquid crystal display devices of all possible display modes. Although the liquid crystal display element of the IPS mode is mainly described in the foregoing description and the following description, the liquid crystal display element of this mode is only an example of the present invention and is for convenience of explanation. Therefore, the present invention can be applied not only to the IPS mode but also to a TN (Twisted Nematic) mode or VA (Vertical Alignment) mode liquid crystal display device.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 액정표시소자를 상세히 설명한다.Hereinafter, a liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 액정표시소자의 구조를 나타내는 단면도이다. 도면에 도시된 바와 같이, 제1기판(120)에는 복수의 공통전극(105)이 형성되어 있으며, 상기 제1기판(120) 전체에 걸쳐서 게이트절연층(122)이 형성된다. 또한, 상기 게이트절연층(122) 위에는 화소전극(107)이 형성되어 상기 공통전극(105)과 횡전계를 형성하며, 그 위에 보호층(124)이 형성된다.3 is a cross-sectional view illustrating the structure of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. As shown in the drawing, a plurality of common electrodes 105 are formed on a first substrate 120, and a gate insulating layer 122 is formed over the entire surface of the first substrate 120. A pixel electrode 107 is formed on the gate insulating layer 122 to form a transverse electric field with the common electrode 105 and a protective layer 124 is formed thereon.

상기 공통전극(105)은 Al이나 Al합금 또는 Cu와 같은 금속으로 형성되며, 화소전극(107)은 Cr이나 Cr합금 또는 Mo 등으로 이루어진다. 또한, 상기 공통전극(105)은 ITO(Indium Tin Oxide)나 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 도전물질로 이루어져 보호층(124) 위에 형성될 수 있으며 화소전극(107) 역시 ITO 나 IZO와 같은 투명한 도전물질로 이루어져 보호층(124) 위에 형성될 수 있다. 보호층(124)은 SiNx나 SiOx와 같은 무기물질 또는 BCB(Benzo Cyclo Butene)나 포토아크릴 같은 유기물질로 이루어질 수 있다.The common electrode 105 is formed of a metal such as Al or an Al alloy or Cu, and the pixel electrode 107 is made of Cr, a Cr alloy, Mo, or the like. The common electrode 105 may be formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) and may be formed on the protective layer 124. The pixel electrode 107 may be formed of ITO or IZO And may be formed on the protective layer 124. The protective layer 124 may be formed of an inorganic material such as SiNx or SiOx, or an organic material such as BCB (Benzo Cyclo Butene) or photoacryl.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제1기판(120) 상에는 게이트전극이 형성되어 있고 게이트절연층(122) 위에는 반도체층과 소스/드레인전극이 배치되어 박막트랜지스터가 형성된다.Although not shown, a gate electrode is formed on the first substrate 120, and a semiconductor layer and a source / drain electrode are disposed on the gate insulating layer 122 to form a thin film transistor.

제2기판(130)에는 화상비표시영역, 예를 들어 박막트랜지스터 배치영역이나 데이터라인(104)과 그 근처에 배치된 공통전극(105)의 상부영역 등에는 블랙매트릭스(132)가 형성된다. 공통전극(105)이 데이터라인(104) 근처에 배치되는 이유는 데이터라인(104)에 의해 발생하는 전계를 차단(shielding)하여 횡전계가 왜곡되는 것을 방지하기 위한 것이다. 상기 데이터라인(104)은 해당 화소와 인접하는 화소를 구별하는 기준이 된다. 결과적으로, 블랙매트릭스(132)는 화소영역의 일부(즉, 박막트랜지스터 배치영역 및 공통전극의 배치영역) 및 화소와 화소 사이의 경계영역에 형성되는 것이다.The black matrix 132 is formed on the second substrate 130 in the image non-display region, for example, the thin film transistor arrangement region or the data line 104 and the upper region of the common electrode 105 disposed in the vicinity thereof. The reason that the common electrode 105 is disposed near the data line 104 is to shield the electric field generated by the data line 104 to prevent the transverse electric field from being distorted. The data line 104 serves as a reference for distinguishing a pixel from an adjacent pixel. As a result, the black matrix 132 is formed in a part of the pixel region (that is, the thin film transistor arrangement region and the common electrode arrangement region) and the boundary region between the pixel and the pixel.

상기 제1기판(120) 및 제2기판(130)은 실링재에 의해 합착되고 제1기판(120) 및 제2기판(130) 사이에 액정이 주입되어 액정층(140)이 형성된다. 상기 제1기판(120)의 하부에는 광을 발생시키는 백라이트(150)가 배치되어 상기 액정층(140)에 광을 공급한다.The first substrate 120 and the second substrate 130 are bonded together by a sealing material and liquid crystal is injected between the first substrate 120 and the second substrate 130 to form a liquid crystal layer 140. A backlight 150 for generating light is disposed below the first substrate 120 to supply light to the liquid crystal layer 140.

한편, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제1기판(120)의 보호막(124) 위에는 측면광 차단막(160)이 형성되어 있다. 상기 차단막(160)은 화소와 화소 사이에 형 성되어 한 화소의 액정층(140)을 투과한 광(해당 화소의 신호에 따라 투과한 광)이 인접하는 화소로 투과되는 것을 차단한다.Meanwhile, as shown in FIG. 3, a side light blocking layer 160 is formed on the protective layer 124 of the first substrate 120. The blocking layer 160 is formed between a pixel and a pixel, and blocks the light transmitted through the liquid crystal layer 140 of one pixel (light transmitted according to a signal of the pixel) from being transmitted to an adjacent pixel.

또한, 상기 차단막(160)은 포토폴리머(photo-polymer)와 같이 반사율이 좋은 물질로 이루어져 인접 화소로 투과되는 광을 반사시켜 다시 해당 화소의 컬러필터층(134)을 투과하도록 한다.In addition, the blocking layer 160 is made of a material having a high reflectance such as a photo-polymer, and reflects light transmitted through the adjacent pixels to transmit the color filter layer 134 of the corresponding pixel.

실질적으로 상기 차단막(160)은 블랙매트릭스(132)가 형성된 영역에 형성되므로, 상기 차단막(160)에 의한 개구율 저하는 발생하지 않는다. 화소의 액정층(140)으로 입사된 광은 해당 화소의 컬러필터층을 투과하며, 일정 각도로 입사되는 광은 화소의 경계에 배치되는 블랙매트릭스(132)에 의해 차단된다. 그러나, 광이 해당 화소에 제1기판(120)의 표면과 임계각도(α) 이하로 입사되는 경우 블랙매트릭스(132)에 의해 차단이 불가능하게 되므로, 상기와 같은 차단막(160)을 형성함으로써 광을 차단하는 것이다.Since the blocking layer 160 is formed in a region where the black matrix 132 is formed, the aperture ratio of the blocking layer 160 does not decrease. The light incident on the liquid crystal layer 140 of the pixel is transmitted through the color filter layer of the pixel and light incident at a predetermined angle is blocked by the black matrix 132 disposed at the boundary of the pixel. However, when light is incident on the corresponding pixel at a critical angle or less with respect to the surface of the first substrate 120, blocking can not be performed by the black matrix 132. Thus, by forming the blocking layer 160 as described above, Lt; / RTI >

화소로 입사되는 광 중에서 임계각도(α) 이하로 입사되는 광을 차단할 수 있으면, 모든 측면광을 차단할 수 있으므로, 상기 차단막(160)의 높이는 상기 임계각도(α)에 따라 결정된다. 그런데, 상기 임계각도는 한 화소의 크기(즉, 화소 경계의 블랙매트릭스 사이의 거리)와 공통전극(105)이 형성되는 제1기판(120)에서 블랙매트릭스(132)까지의 거리(즉, 셀갭과 제1기판에 형성되는 층 및 제2기판에 형성된 층의 합)에 따라 달라지므로, 차단막(160)의 최적의 높이(모든 측면광을 차단할 수 있는 높이)는 화소 경계의 블랙매트릭스 사이의 거리(또는 해당화소의 최외각 광입사영역에서 반대 최외각 블랙매트릭스의 단부)와 공통전극(105)이 형성되는 제1기판(120)에서 블랙매트릭스(132)까지의 거리에 의해 결정될 것이다. 상기 최적의 높이는 광을 차단하기 위한 최소의 높이이다. 따라서, 상기 차단막이 최적의 높이 이상으로 형성된다면 측면광을 효과적으로 차단할 수 있을 것이다.Since the light incident on the pixel can block light incident at a critical angle? Or less, the height of the blocking layer 160 is determined according to the critical angle?. The critical angle is a distance from the first substrate 120 on which the common electrode 105 is formed to the black matrix 132 on which the size of one pixel (i.e., the distance between the black matrix of the pixel boundary) The height of the blocking film 160 (the height at which all the side light can be blocked) of the blocking film 160 is set to be a distance between black matrices of the pixel boundary (Or the end of the opposite outermost black matrix in the outermost light incidence region of the pixel) and the distance from the first substrate 120 to the black matrix 132 where the common electrode 105 is formed. The optimum height is a minimum height for blocking light. Therefore, if the blocking film is formed at an optimal height or more, side light can be effectively blocked.

이와 같은 차단막(160)의 형성에 의해 한 화소에 입사된 광이 인접하는 화소로 투과되는 것을 완전히 방지할 수 있게 된다. 따라서, 인접화소에 빛샘현상이 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다. 더욱이, 상기 차단막(160)은 반사율이 좋은 포토폴리머로 이루어져 있기 때문에 상기 차단막(160)에서 반사되는 광, 즉 임계각도(α) 이하로 입사되는 광을 다시 해당 화소로 반사한다. 따라서, 해당 화소를 투과하는 광의 양이 종래에 비해 증가하게 되므로, 휘도(특히, 정면휘도)가 대폭 향상된다.By forming the blocking layer 160, it is possible to completely prevent light incident on one pixel from being transmitted to adjacent pixels. Accordingly, occurrence of a light leakage phenomenon in the adjacent pixels can be prevented. In addition, since the blocking layer 160 is formed of a photopolymer having a high reflectance, the light reflected by the blocking layer 160, that is, the light incident at a critical angle? Therefore, since the amount of light transmitted through the pixel is increased compared with the conventional one, the luminance (particularly the front luminance) is greatly improved.

일반적으로 액정표시소자의 가장 큰 단점은 휘도가 낮다는 것이다. 그 이유는 백라이트(150)로부터 발생한 광이 편광판과 액정층 및 컬러필터층을 투과하면서 대폭 흡수되기 때문이다. 실질적으로 백라이트(150)로부터 발생한 광의 약 33%만이 액정표시소자를 통해 출력되는 것으로 알려져 있다. 이러한 낮은 휘도를 극복하기 위해, 백라이트(150)의 램프 휘도를 증가시키는 등 여러 연구가 진행되고 있지만 현재 만족할 만한 결과를 얻지 못하고 있다. 그러나, 본 발명에서는 측면광을 반사시켜 휘도를 향상시키기 때문에, 액정표시소자의 가장 큰 단점인 낮은 휘도 문제를 용이하게 해결할 수 있게 되는 것이다.Generally, the biggest drawback of a liquid crystal display device is that the luminance is low. This is because light generated from the backlight 150 is largely absorbed while passing through the polarizing plate, the liquid crystal layer, and the color filter layer. It is known that only about 33% of light generated from the backlight 150 is substantially output through the liquid crystal display element. In order to overcome such a low luminance, various studies have been made, such as increasing the lamp brightness of the backlight 150, but currently, satisfactory results have not been obtained. However, in the present invention, since the side light is reflected to improve the luminance, the problem of low luminance, which is the biggest disadvantage of the liquid crystal display element, can be easily solved.

도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 액정표시소자의 구조를 나타내는 도면이다. 제1실시예의 액정표시소자에서는 측면광 차단막이 제1기판에 형성되어 있는 반 면에, 이 실시예에서는 측면광 차단막(260)이 제2기판(230)에 형성되어 있다. 따라서, 이 실시예의 액정표시소자와 제1실시예의 액정표시소자는 차단막을 제외한 다른 구조는 동일하다. 따라서, 제1실시예와 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략하고 주로 차단막에 대해서만 설명한다.4 is a view showing a structure of a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention. In the liquid crystal display device of the first embodiment, the side light blocking film 260 is formed on the second substrate 230 on the side where the side light blocking film is formed on the first substrate. Therefore, the liquid crystal display element of this embodiment and the liquid crystal display element of the first embodiment have the same structure except for the shielding film. Therefore, description of the same configuration as that of the first embodiment will be omitted, and mainly only the shielding film will be described.

도 4에 도시된 바와 같이, 상기 측면광 차단막(260)은 화소의 경계, 즉 블랙매트릭스(232)를 따라 배치된다. 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 블랙매트릭스(232) 및 컬러필터층(234) 위에는 컬러필터층(234)을 보호하고 기판의 평탄성 향상시키기 위한 오버코트층(overcoat layer)을 형성할 수도 있다. 이 경우, 차단막(260)은 상기 오버코트층 위에 형성될 것이다.As shown in FIG. 4, the side light blocking film 260 is disposed along the boundary of the pixel, that is, the black matrix 232. Although not shown in the drawing, an overcoat layer may be formed on the black matrix 232 and the color filter layer 234 to protect the color filter layer 234 and improve the flatness of the substrate. In this case, the blocking film 260 will be formed on the overcoat layer.

상기 차단막(260)은 제1실시예와 마찬가지로 최적의 높이(즉, 최소의 높이)로 형성할 수도 있지만, 셀갭과 동일한 높이로 형성할 수도 있을 것이다(차단막(260)이 제2기판(230)에 형성된 경우에는 제1기판(220) 표면 근처로 투과되는 광을 차단하기 위해서는 이 높이가 더 바람직할 것이다). 이와 같이, 차단막(260)이 셀갭과 동일한 높이로 형성하는 경우 상기 차단막(260)이 포토폴리머로 이루어지므로, 제1기판(220)과 제2기판(230)의 셀갭을 일정하게 유지하기 위한 스페이서(spacer)의 역할을 할 수 있게 된다. 즉, 본 발명의 차단막(260)은 측면광을 차단할 뿐만 아니라 액정표시소자의 셀갭을 일정하게 유지하게 되는 것이다. 따라서, 별도의 스페이서(볼스페이서나 컬럼스페이서)가 필요없게 되므로 제조비용을 절감할 수 있게 된다.The shielding film 260 may be formed at an optimal height (i.e., a minimum height) as in the first embodiment, but may be formed to have the same height as the cell gap. (The shielding film 260 may be formed on the second substrate 230, The height may be more preferable in order to block light transmitted near the surface of the first substrate 220). When the shielding film 260 is formed at the same height as the cell gap, the shielding film 260 is made of a photopolymer. Thus, the spacers 260 for maintaining a constant cell gap between the first substrate 220 and the second substrate 230, it can serve as a spacer. That is, the shielding film 260 of the present invention not only shields the side light, but also maintains a constant cell gap of the liquid crystal display device. Therefore, a separate spacer (a ball spacer or a column spacer) is not required, and manufacturing cost can be reduced.

이와 같은 관점에어 볼 때, 본 발명은 새로운 컬럼스페이서에 관한 것으로 간주할 수도 있을 것이다. 즉, 측면광 차단기능을 가진 컬럼스페이서에 관한 것으로 간주될 수도 있을 것이다.In view of this point of view, the present invention may be regarded as relating to a new column spacer. That is, it may be regarded as relating to the column spacer having the side light blocking function.

상기와 같이, 차단막(260)이 셀갭의 높이와 동일하게 형성되는 경우, 액정층(240)의 형성은 제1기판(220)과 제2기판(230)을 합착한 후 액정을 진공주입함으로써 형성할 수도 있겠지만, 적하방법(dispensing method)에 의해 형성할 수도 있을 것이다. 즉, 제2기판(230)에 차단막(260)을 형성하고 제1기판(220)상에는 액정을 직접 적하한 후 상기 제1기판(220)과 제2기판(230)을 압착하여 기판(220,230) 전체에 걸쳐 액정을 균일하게 퍼지게 함으로써 액정층(240)을 형성하게 되는 것이다.When the barrier layer 260 is formed to have the same height as the cell gap, the liquid crystal layer 240 may be formed by bonding the first and second substrates 220 and 230 to each other, Or may be formed by a dispensing method. That is, a shielding film 260 is formed on the second substrate 230, liquid crystal is directly dropped on the first substrate 220, and the first substrate 220 and the second substrate 230 are pressed to form the substrates 220 and 230, The liquid crystal layer 240 is formed by uniformly spreading the liquid crystal throughout.

상기한 바와 같이, 본 발명에서는 화소의 경계에 측면광 차단막을 배치함으로서 화질이 저하되는 것을 방지할 수 있고 휘도를 향상시킬 수 있게 된다.As described above, in the present invention, by disposing the side light blocking film at the boundary of the pixels, the image quality can be prevented from being degraded and the luminance can be improved.

한편, 상기 실시예에서는 IPS모드 액정표시소자를 예를 들어 본 발명에 대해 설명했지만, 본 발명이 상기 IPS모드 액정표시소자에만 한정되는 것은 아니라 TN모드나 VA모드 액정표시소자에도 적용될 수 있다. 이 경우, 동일한 기판에 공통전극과 화소전극이 형성되는 대신에, 제1기판 및 제2기판 각각에 화소전극과 공통전극이 형성된다는 점이 다를 뿐, 블랙매트릭스를 따라 화소의 경계에 차단막을 형성한다는 기본적인 특징은 모든 표시모드의 액정표시소자에서 동일하다. 따라서, 본 발명은 특정 표시모드나 특정 구조에 한정되는 것이 아니라 가능한 모든 표시모드 및 구조에 적용 가능할 것이다.Although the IPS mode liquid crystal display device has been described with reference to the present invention, the present invention is not limited to the IPS mode liquid crystal display device, but may be applied to a TN mode or VA mode liquid crystal display device. In this case, only a pixel electrode and a common electrode are formed on the first substrate and the second substrate, respectively, instead of forming the common electrode and the pixel electrode on the same substrate, and a blocking film is formed at the boundary of pixels along the black matrix The basic features are the same in liquid crystal display elements of all display modes. Accordingly, the present invention is not limited to a specific display mode or a specific structure, but may be applicable to all possible display modes and structures.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 화소와 화소 사이에 차단막을 형성하여 인접하는 화소로 광이 침입하는 것을 방지할 수 있게 되므로, 인접화소로의 빛샘현상에 의한 화질저하를 효과적으로 방지할 수 있게 된다. 또한, 본 발명에서는 임계각도 이하로 입사되는 광을 차단막으로 반사시켜 해당 화소를 투과하게 하므로 휘도를 향상시킬 수 있게 된다. As described above, according to the present invention, it is possible to prevent light from entering adjacent pixels by forming a blocking film between the pixel and the pixel, thereby effectively preventing image quality degradation due to light leakage to adjacent pixels. In addition, according to the present invention, light incident at a critical angle or less is reflected by a shielding film to transmit the corresponding pixel, thereby improving brightness.

Claims (14)

복수의 화소를 정의하는 복수의 게이트라인 및 데이터라인이 배치된 제1기판;A first substrate on which a plurality of gate lines and data lines defining a plurality of pixels are arranged; 화상비표시영역으로 광이 투과하는 것을 차단하는 블랙매트릭스가 형성된 제2기판;A second substrate on which a black matrix for blocking transmission of light to the image non-display area is formed; 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 형성된 액정층; 및A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate; And 상기 블랙매트릭스를 따라 상기 제1기판 및 제2기판의 화소 사이에 형성되어 인접 화소로 투과되는 광을 차단 및 반사시키는 차단막으로 구성된 액정표시소자.And a blocking film formed between the pixels of the first substrate and the second substrate along the black matrix to shield and reflect light transmitted to adjacent pixels. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 차단막은 포토폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the blocking film is made of a photopolymer. 삭제delete 제1항에 있어서, 각각의 화소에 형성되어 화소에 신호를 인가하는 박막트랜지스터를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display element according to claim 1, further comprising a thin film transistor formed in each pixel and applying a signal to the pixel. 제1항에 있어서, 상기 차단막은 제1기판에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the blocking layer is formed on the first substrate. 제7항에 있어서, 상기 차단막의 높이는 해당 화소로 입사되는 광의 임계각도에 따라 결정되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.8. The liquid crystal display of claim 7, wherein the height of the blocking layer is determined according to a critical angle of light incident on the pixel. 제8항에 있어서, 상기 임계각도는 블랙매트릭스 사이의 거리, 셀갭 및 제1기판과 제2기판에 형성된 층의 두께에 기초하여 산출하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display according to claim 8, wherein the critical angle is calculated based on a distance between the black matrices, a cell gap, and a thickness of a layer formed on the first substrate and the second substrate. 제1항에 있어서, 상기 차단막은 제2기판에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display of claim 1, wherein the blocking layer is formed on the second substrate. 제10항에 있어서, 상기 차단막의 높이는 셀갭과 실질적으로 동일한 것을 특 징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device according to claim 10, wherein the height of the blocking layer is substantially the same as the cell gap. 제11항에 있어서, 상기 차단막은 셀갭을 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the blocking film keeps a cell gap constant. 제1항에 있어서, 상기 제1기판에 실질적으로 평행하게 배치되어 횡전계를 형성하는 적어도 한쌍의 전극을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising at least a pair of electrodes disposed substantially parallel to the first substrate to form a transverse electric field. 제1항에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제1기판에 형성된 제1전극; 및A first electrode formed on the first substrate; And 상기 제2기판에 형성된 제2전극을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a second electrode formed on the second substrate.
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