KR100726249B1 - Prepreg and copper clad laminate comprising inorganic reinforcement having honeycomb structure - Google Patents

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Abstract

무게가 가볍고 저 유전율을 가지며 뒤틀림의 문제를 감소시킬 수 있는 3차원 구조의 무기 보강재를 포함하는 프리프레그, 동박적층판 및 이의 제조방법이 제시되어 있다. 본 발명의 일 측면에 따르면 수평방향만이 아니라 수직방향으로도 연결된 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 포함하는 동박적층판을 제공한다.A prepreg, a copper clad laminate, and a method of manufacturing the same, which include an inorganic reinforcement having a three-dimensional structure, which is light in weight, has a low dielectric constant, and can reduce the problem of warpage, has been proposed. According to an aspect of the present invention provides a copper clad laminate comprising an inorganic reinforcing material having a honeycomb structure connected not only in the horizontal direction but also in the vertical direction.

프리프레그, 동박적층판, 무기 보강재, 허니컴 Prepreg, copper clad laminate, inorganic reinforcement, honeycomb

Description

허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 포함하는 프리프레그 및 동박적층판{Prepreg and copper clad laminate comprising inorganic reinforcement having honeycomb structure}Prepreg and copper clad laminate comprising inorganic reinforcement having honeycomb structure}

도 1은 종래의 동박적층판의 단면 구조를 나타낸 도면이고,1 is a view showing a cross-sectional structure of a conventional copper clad laminate,

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 동박적층판의 단면 구조를 나타낸 도면이고,2 is a view showing a cross-sectional structure of a copper clad laminate according to an embodiment of the present invention,

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 고분자 콜로이달 크리스탈을 SEM을 통해 관찰한 확대(×10,000) 사진이고,3 is an enlarged (× 10,000) photograph of a polymer colloidal crystal according to one embodiment of the present invention observed through a SEM,

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 무기 보강재를 SEM을 통해 관찰한 확대(×10,000) 사진이고, 4 is an enlarged (× 10,000) photograph of an inorganic reinforcing material observed through an SEM according to an embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 동박적층판을 제조하는 과정을 나타낸 모식도이다.5 is a schematic diagram showing a process of manufacturing a copper clad laminate according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1: 동박(copper foil)1: copper foil

2, 4: 유리 섬유(glass fabric)2, 4: glass fabric

3: 수지(resin) 3: resin

5: 무기 보강재와 수지로 이루어진 혼합층5: mixed layer of inorganic reinforcing material and resin

6: 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재6: inorganic reinforcement with honeycomb structure

본 발명은 기판 제조에 사용될 수 있는 프리프레그 및 동박적층판에 관한 것이다.The present invention relates to prepregs and copper clad laminates that can be used for substrate manufacture.

최근 전자기기가 점차 소형화, 박형화, 경량화되어 가는 경향이 있으며, 이에 사용되는 인쇄회로기판도 더 얇은 두께의 것이 요구되고 있다. 그러나 얇은 재료를 이용하여 인쇄회로기판을 가공하는 경우에는 가공 중의 취급방법이나 가공 공정에서의 장치상의 문제 등에 의하여 기판이 비틀어지거나 휘어지는 등의 불량이 다량 발생하여 제품 수율이 떨어지는 문제가 있다. 또한, 환경적으로 무해한 무할로겐화, 무연 솔더 등을 사용한 인쇄회로기판이 요구되면서 가공 온도가 올라가 기판 재료에 미치는 열적 영향이 더욱 커지고 있으며, 이에 따라 기판의 휨 현상도 심각해지고 있다. 이러한 휨 현상은 플립칩 인쇄회로 기판에서 더욱 문제가 되는데, 이는 상대적으로 많은 범프로 인해 발생하는 열팽창의 차이 때문으로, 현재 생산되고 있는 제품은 이러한 휨 현상을 방지하기 위하여 빌드업 층에 비해 매우 두 꺼운 코어를 사용하여 휨을 방지하고 있다. Recently, electronic devices tend to become smaller, thinner, and lighter, and printed circuit boards used for them are also required to have a thinner thickness. However, when a printed circuit board is processed using a thin material, a large amount of defects such as twisting or bending of the substrate may occur due to handling problems during processing or device problems in the processing process, resulting in a decrease in product yield. In addition, as printed circuit boards using halogen-free halogen-free, lead-free solder, etc., which are environmentally harmless, are required, thermal effects on substrate materials are increased due to higher processing temperatures. This warpage is more problematic in flip-chip printed circuit boards, due to the difference in thermal expansion caused by the relatively large bumps. The core is used to prevent warpage.

그러나, 전기적 특성을 개선하기 위해서 향후 점차 박형의 자재가 사용될 것으로 예상되며, 그에 따른 휨 발생을 제거할 수 있는 방안의 모색이 필수적이다. 이러한 문제점을 개선하기 위한 방법으로 반도체 칩의 열팽창에 가깝고 탄성률이 높은 세라믹 기판을 이용하는 방법이 제시되었으나 이 방법에 의하면 제조비용이 상승하고, 기판의 무게가 무거워지며, 더욱이 고밀도 배선을 형성하기가 어렵다는 단점을 가진다. 또한, 유기 기판으로 전방향족 폴리아미드 섬유직포를 사용한 다층 인쇄회로기판이 제안되었으나, 기판에 대한 휨이나 뒤틀림에 대한 문제는 여전히 내포하고 있다.However, in order to improve the electrical characteristics, it is expected that thin materials will be gradually used in the future, and it is essential to find a way to eliminate the occurrence of warpage. As a method of improving this problem, a method of using a ceramic substrate close to thermal expansion of a semiconductor chip and having a high modulus of elasticity has been proposed. However, this method increases manufacturing costs, increases the weight of the substrate, and makes it difficult to form high-density wiring. Has its drawbacks. In addition, a multilayer printed circuit board using a wholly aromatic polyamide fiber cloth as an organic substrate has been proposed, but problems of warping and warping of the substrate still exist.

본 발명은 무게가 가볍고 저 유전율을 가지며 뒤틀림의 문제를 감소시킬 수 있는 허니컴 구조의 무기 보강재를 포함하는 프리프레그 및 동박적층판, 상기 동박적층판의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a prepreg and a copper clad laminate, and a method for manufacturing the copper clad laminate, which include an inorganic reinforcing material having a honeycomb structure that is light in weight, has a low dielectric constant, and can reduce the problem of warping.

본 발명의 일 측면에 따르면, 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재와 수지를 포함하는 프리프레그 및 동박적층판을 제시할 수 있다. According to an aspect of the present invention, it is possible to provide a prepreg and a copper foil laminated plate including an inorganic reinforcing material having a honeycomb structure and a resin.

또한, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 허니컴 구조의 무기 보강재와 수지를 포함하는 프리프레그 또는 동박적층판을 포함하는 기판을 제시할 수 있다.In addition, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a substrate comprising a prepreg or a copper-clad laminate comprising the inorganic reinforcing material and the resin of the honeycomb structure.

아울러, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 형성하는 단계를 포함하는 동박적층판의 제조방법을 제시할 수 있다. In addition, according to another aspect of the present invention, it is possible to present a method for producing a copper clad laminate comprising the step of forming an inorganic reinforcing material having the honeycomb structure.

이하 이에 관하여 바람직한 실시예에 따라 상세히 설명하기로 한다. 다만, 상세한 설명에 앞서 기판의 휨이 발생하는 원인과 해결방법에 관하여 먼저 살펴보기로 한다.Hereinafter, this will be described in detail according to a preferred embodiment. However, prior to detailed description, the cause and the solution of the warpage of the substrate will be described first.

기판의 휨이 발생하는 주 원인은 기판 재료와 칩 간의 열 팽창율 차이에 의한 열적 스트레스에 기인하는 것으로 알려져 있다. 이를 해결하기 위한 방법으로 크게 두 가지가 있는데, 첫째로, 발생하는 스트레스를 견딜 수 있도록 유리섬유보다 강한 재료 즉, 탄성계수가 큰 재료를 보강재로 사용하는 방법이 있고, 두 번째로 열팽창 계수가 칩과 유사한 재료를 코어 자재로 사용하여 휨의 원인이 되는 열적 스트레스 자체를 발생하지 않도록 하는 방법이 있다. It is known that the main cause of the warpage of the substrate is due to thermal stress due to the difference in thermal expansion rate between the substrate material and the chip. There are two ways to solve this problem. First, there is a method of using a material stronger than glass fiber, that is, a material having a high modulus of elasticity, as a reinforcing material to withstand the stress generated. There is a method to use similar materials as the core material so as not to generate thermal stress itself which causes bending.

유리 섬유보다 탄성 계수가 높고 열팽창 계수가 낮은 재료로는 여러 가지 금속 재료, 무기 재료, 강화 섬유 등이 있으나 금속 재료는 전기적 절연 특성이 없어 사용시 공정이 복잡해지고 공정 비용이 상승하므로 그 사용이 제한되고 있다. 또한, 세라믹 재료는 기계적 특성 및 전기적 특성에서 적용가능성이 높지만 기판을 제조할 때 무게가 증가하고 유전율이 높아진다는 단점을 갖고 있다.Materials with higher modulus of elasticity and lower coefficient of thermal expansion than glass fiber include various metal materials, inorganic materials, and reinforcing fibers. However, metal materials have no electrical insulation properties, which makes the process complicated and increases the process cost. have. In addition, ceramic materials have high applicability in mechanical and electrical properties, but have disadvantages of increased weight and high dielectric constant when manufacturing a substrate.

본 발명은 세라믹 재료를 기판 자재로 상용할 때 야기되는 상기 문제점을 해결하고 세라믹 재료가 갖는 장점을 그대로 유지할 수 있는 새로운 기판 재료를 제시하고자 한다. 섬유 형태의 세라믹 재료를 직조하여 사용하는 것은 유리 섬유 보강재를 사용하는 경우와 같이 평면상으로의 열적 팽창 특성은 우수하나 수직 방향으로는 보강 효과가 없어 휨 특성 개선에는 크게 효과가 없는 것으로 나타나고 있다. The present invention seeks to solve the above problems caused when the ceramic material is used as a substrate material and to propose a new substrate material which can maintain the advantages of the ceramic material. The use of a woven ceramic material in the form of a fiber is excellent in thermal expansion characteristics in the plane, as in the case of using a glass fiber reinforcement, but has no reinforcing effect in the vertical direction, it has been shown to have no significant effect in improving the bending property.

따라서, 본 발명에서는 열 팽창률을 칩과 유사하게 유지하면서 수평 방향 만이 아니라 수직 방향으로도 보강재가 서로 연결되어 있는 3차원 허니컴 구조의 무기 보강재를 사용하여 기판의 휨 특성을 개선하였다. Accordingly, in the present invention, the bending property of the substrate is improved by using an inorganic reinforcing material having a three-dimensional honeycomb structure in which the reinforcing materials are connected to each other not only in the horizontal direction but also in the vertical direction while maintaining the thermal expansion rate similar to that of the chip.

도 1, 도 2 및 도 5를 참조하여 설명하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 프리프레그 및 동박적층판은 무기 보강재(6)가 3차원적으로 연결되어 있고, 내부 공간은 수지(3)로 채워져 있어 평판 형태의 무기 재료를 사용할 때에 비하여 상대적으로 무게가 가볍고 50% 이상의 수지를 함침할 수 있으므로 유전율을 낮게 유지할 수 있다는 장점을 지닌다.1, 2 and 5, in the prepreg and the copper-clad laminate according to an embodiment of the present invention, the inorganic reinforcing material 6 is three-dimensionally connected, and the internal space is made of resin 3. Compared to the use of a flat plate-type inorganic material, it is relatively light in weight and can impregnate more than 50% of resin, and thus has an advantage of maintaining a low dielectric constant.

본 발명에서는 무기 보강재에 수직 방향 및 수평 방향으로 연결된 3차원 구조를 도입하기 위하여, 허니컴(honeycomb) 구조를 성형하였다. In the present invention, in order to introduce a three-dimensional structure connected in the vertical and horizontal directions to the inorganic reinforcing material, a honeycomb structure was formed.

허니컴 구조란 복수의 격자에 의하여 구획되어 유체의 유로가 되는 복수의 셀이 형성되어 있는 형상, 즉, 복수의 격자로 구획되어 있는 다공질 구조체를 의미한다.  따라서, 복수의 격자로 구획되어 있는 다공질 구조를 가진다면 허니컴 성형체의 전체 형상은 특별히 제한되지 않고, 원통형, 사각 기둥형, 삼각 기둥형 등의 형상이 포함될 수 있다.  또한, 허니컴 성형체의 셀 형상(셀의 형성 방향에 대하여 수직 단면에서의 셀 형상)에 관해서도 특히 한정되는 것은 아니며 도 4의 육각형 셀 외에 사각형 셀 및 삼각형 셀 등의 형상이 포함될 수 있다. 또한, 허니컴 구조를 포함하는 3차원 구조체의 성형방법은 압출 성형, 사출 성형, 프레스 성형 등 당해 기술의 통상의 지식을 가진 자라면 알 수 있는 성형법을 이용할 수 있다. 건조 방법도 특히 한정되지 않고 열풍 건조, 마이크로파 건조, 유전 건조, 감압 건조, 진공 건조 및 동결 건조 등의 종래의 건조 방법을 이용할 수 있다.The honeycomb structure means a shape in which a plurality of cells, which are partitioned by a plurality of gratings and serving as a fluid flow path, is formed, that is, a porous structure partitioned by a plurality of gratings. Therefore, the overall shape of the honeycomb molded body is not particularly limited as long as it has a porous structure partitioned into a plurality of lattice, and may include shapes such as cylindrical, square pillars, triangular pillars and the like. The honeycomb molded body's cell shape (cell shape in the vertical section with respect to the cell formation direction) is not particularly limited, and may include shapes such as rectangular cells and triangle cells in addition to the hexagonal cells of FIG. 4. In addition, the molding method of the three-dimensional structure including a honeycomb structure may be a molding method known to those skilled in the art, such as extrusion molding, injection molding, press molding. The drying method is not particularly limited, and conventional drying methods such as hot air drying, microwave drying, dielectric drying, reduced pressure drying, vacuum drying and freeze drying can be used.

본 발명 바람직한 실시예에서는 상기 허니컴 구조를 성형하기 위하여 콜로이달 크리스탈 템플레이팅 방법을 이용하였다.In a preferred embodiment of the present invention, a colloidal crystal template method was used to mold the honeycomb structure.

상기 방법에 의하면 우선, 균일한 직경을 가지는 구형의 단분산된 고분자 입자를 합성한다. 이 단분산된 고분자 입자는 일반적인 유화중합 혹은 유화제를 사용하지 않는 유화중합(emulsifier-free emulsion polymerization)을 통하여 쉽게 합성할 수 있으며 반응 조건을 조절함에 따라 200 nm 내지 800 nm 정도의 입경을 가진 고분자 입자를 분산도를 일정하게 유지하면서 합성할 수 있다. 고분자 종류로는 일반적으로 폴리스티렌(polystylene)이 가장 많이 사용되나 이외에도 비닐아세테이트(vinyl acetate), 부틸 아크릴레이트(butyl acrylate), 부틸 메타크릴레이트(butyl metacrylate), 비닐 프로피오네이트(vinyl propionate), 비닐 시클로 프로펜(vinyl cyclo propene), 아크릴 아미드(acrylamide), 비닐리덴 클로라이드(vinylidene chloride), 비닐 프리딘(vinyl pridine) 메타크릴레이트(metacrylate)와 같은 자유-라디칼 중합이 가능한 분자를 중합하여 사용할 수 있다. 합성된 단분산 고분자 입자를 결정화할 때 보다 균일한 배열을 이루도록 하기 위하여 고분자 입자의 표면에 이온기를 도입하기도 한다. 본 발명의 바람직한 일 실시예에서는 술폰산(-SO3H)기를 폴리스티렌 입자 표면에 도입하였다.According to this method, first, spherical monodisperse polymer particles having a uniform diameter are synthesized. These monodisperse polymer particles can be easily synthesized through general emulsion polymerization or emulsifier-free emulsion polymerization without using an emulsifier, and polymer particles having a particle size of 200 nm to 800 nm as the reaction conditions are controlled. Can be synthesized while maintaining a constant degree of dispersion. Generally, polystyrene is most commonly used as a polymer, but in addition, vinyl acetate, butyl acrylate, butyl methacrylate, vinyl propionate, and vinyl Can be used by polymerizing free-radical polymerizable molecules such as cyclopropene, acrylamide, vinylylidene chloride, and vinyl pridine methacrylate. have. In order to form a more uniform arrangement when the synthesized monodisperse polymer particles are crystallized, ionic groups may be introduced to the surface of the polymer particles. In one preferred embodiment of the present invention, sulfonic acid (-SO 3 H) groups are introduced to the polystyrene particle surface.

그 후 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 합성된 균일 직경의 고분자 입자를 여과법에 의하여 도 3과 같이 배열하여 콜로이달 크리스탈을 형성한다. 이러한 배열은 액상에 분산되어 있는 고분자 입자를 중력에 의하여 바닥에 가라앉힘으로써 자기 배열 현상에 의하여 형성할 수 있다. 보다 빠른 배열을 위해서는 여과(filtration), 원심분리(centrifugation) 등의 원동력(driving force)을 가할 수 있다. 이어, 상기 고분자 입자를 완전히 건조시킨 후에 무기 재료의 전구체를 액상의 형태로 고분자 입자 사이의 공간에 침투시켜 도입한다. 고분자 입자 사이는 나노 크기의 공간으로 액상의 무기 재료 전구체를 모세관 현상에 의하여 쉽게 도입할 수 있다. Then, according to a preferred embodiment of the present invention, the synthesized uniform diameter polymer particles are arranged as shown in Figure 3 by filtration to form a colloidal crystal. Such an arrangement may be formed by a self-arrangement phenomenon by allowing the polymer particles dispersed in the liquid phase to sink to the bottom by gravity. For faster alignment, driving forces such as filtration and centrifugation can be applied. Subsequently, after the polymer particles are completely dried, the precursor of the inorganic material is introduced into the space between the polymer particles in a liquid form. The liquid inorganic material precursor can be easily introduced into the nano-sized space between the polymer particles by capillary action.

이러한 무기 재료로는 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 실리콘 나이트라이드(Si3N4), 알루미늄 나이트라이드(AlN) 등이 사용될 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시예에서는 실리카의 전구체로서 TEOS(Tetra ethyl ortho silicate)를 사용하였는 바, 상기 폴리스티렌 고분자 입자 사이에 무기 재료가 도입된 구조체를 완전히 건조한 후 고온의 소성로에서 고분자 입자를 태우고 무기 재료의 전구체를 소성시키면 도 4의 벌집 모양과 유사한 허니컴(honeycomb) 구조의 무기 보강재가 얻어진다. As the inorganic material, silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), aluminum nitride (AlN), or the like may be used. In a preferred embodiment of the present invention, Tetra ethyl ortho silicate (TEOS) was used as a precursor of silica, and after drying the structure in which the inorganic material was introduced between the polystyrene polymer particles, the polymer particles were burned in a high-temperature firing furnace and Firing the precursor yields an inorganic reinforcement with a honeycomb structure similar to the honeycomb shape of FIG. 4.

상기 방법으로 얻어진 무기 보강재는 다른 보강재와 마찬가지로 일반적인 방법에 따라 수지를 함침하여 건조시켜 프리프레그나 기판 제조용 절연재의 제조에 사용할 수 있다. The inorganic reinforcing material obtained by the above method can be used for the production of an insulating material for prepreg or substrate manufacture by impregnating and drying the resin in the same manner as other reinforcing materials.

또한, 수지가 함침된 무기 보강재에 공지의 방법으로 동박을 입히거나 무기 보강재에 수지가 코팅된 동박을 적층 성형하여 동박적층판을 제조할 수도 있다. 본 발명의 바람직한 일 실시예에서는 무기 보강재의 상층과 하층에 B-스테이지 RCC(Resin coated copper)를 적층하고 진공 하에서 성형하여 양면 동박적층판을 수득하였다. In addition, a copper foil laminated sheet may be manufactured by coating copper foil on a resin-impregnated inorganic reinforcing material by a known method or by laminating a copper foil coated with resin on an inorganic reinforcing material. In a preferred embodiment of the present invention, the B-stage Resin coated copper (RCC) was laminated on the upper and lower layers of the inorganic reinforcing material and molded under vacuum to obtain a double-sided copper clad laminate.

프리프레그 및 동박적층판의 제조를 위해 사용되는 수지는 특별히 제한되는 것은 없고 일반적으로 알려진 것을 사용할 수 있다. 예를 들면 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스말레이미드 수지, 폴리이미드 수지, 개질된 폴리페닐렌 에테르 수지 등을 들 수 있으며, 이들 수지를 단독으로 또는 2종류 이상 배합하여 사용할 수 있다. 또한, 상술한 수지들에 브롬이 부가되어 난연화된 수지도 사용할 수 있다. 일반적으로 동박적층판이나 인쇄회로기판의 절연층을 구성하는 수지는 단일 물질로 사용되는 경우는 드물고, 소망하는 물성과 가격을 고려하여 적절히 배합하여 사용하고 있다. 또한, 이들 열경화성 수지 조성물의 특성에 크게 영향을 미치지 않는 범위에서 다양한 첨가물을 혼합할 수 있다. 예를 들면 상술한 열경화성 수지 조성물 이외의 열경화성 수지, 열가소성 수지, 무기, 유기 충전제, 염료, 증점제, 윤활제, 소포제, 분산제, 레벨링제, 광택제, 중합 개시제 등의 각종 첨가제가 소망하는 목적이나 용도에 따라 첨가될 수 있다. 또한 난연제로도 예를 들면 인, 브롬으로 난연화된 화합물, 무할로겐 타입 등이 사용 가능하다. 또 이 난연제는 분자 내에 관능기가 존재하거나 존재하지 않는 것 모두 사용 가능하다. 수지 조성물은 수지 그 자체를 가열하여 경화할 수 있지만, 경화속도가 늦고 생산성이 떨어지기 때문에 공지의 경화제, 열경화성 촉매를 적정량 더 포함할 수 있다.The resin used for the production of the prepreg and the copper clad laminate is not particularly limited and may be one commonly known. For example, an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a bismaleimide resin, a polyimide resin, a modified polyphenylene ether resin, etc. are mentioned, These resin can be used individually or in mixture of 2 or more types. In addition, bromine is added to the above-mentioned resins, and flame retardant resins can also be used. In general, the resin constituting the insulating layer of a copper clad laminate or a printed circuit board is rarely used as a single material, and is suitably used in consideration of desired physical properties and price. Moreover, various additives can be mixed in the range which does not greatly affect the characteristic of these thermosetting resin compositions. For example, various additives such as thermosetting resins, thermoplastic resins, inorganics, organic fillers, dyes, thickeners, lubricants, defoamers, dispersants, leveling agents, brighteners, and polymerization initiators other than the above-mentioned thermosetting resin compositions may be used depending on the desired purpose or use. Can be added. Moreover, as a flame retardant, phosphorus, a flame-retardant compound, bromine-free, etc. can be used, for example. Moreover, this flame retardant can use all the functional groups which exist or do not exist in a molecule | numerator. The resin composition may be cured by heating the resin itself, but may further include a suitable amount of a known curing agent and a thermosetting catalyst because the curing rate is slow and productivity is poor.

또한, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 허니컴 구조의 무기 보강재를 가지는 프리프레그 또는 동박적층판을 포함하는 기판을 제시할 수 있다. 즉, 상기 프리프레그 및 동박적층판을 적용하여 소요 매수 만큼 다양한 층수로 적층하여 인쇄회로기판이나 반도체 칩 실장용 기판을 제조할 수 있다.In addition, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a substrate including a prepreg or a copper clad laminate having an inorganic reinforcing material of a honeycomb structure. In other words, by applying the prepreg and the copper-clad laminate, it is possible to manufacture a printed circuit board or a semiconductor chip mounting substrate by laminating in various layers as required.

아울러, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 형성하는 단계를 포함하는 동박적층판의 제조방법을 제시할 수 있다.In addition, according to another aspect of the present invention, it is possible to present a method for manufacturing a copper clad laminate comprising the step of forming an inorganic reinforcing material having a honeycomb structure.

구체적으로 상기 동박적층판의 제조방법은, Specifically, the manufacturing method of the copper-clad laminate,

1) 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 형성하는 단계; 및1) forming an inorganic reinforcement having a honeycomb structure; And

2) 상기 무기 보강재의 상층과 하층에 수지가 코팅된 동박층을 형성하는 단계를 포함하거나, 2) forming a copper foil layer coated with a resin on the upper layer and the lower layer of the inorganic reinforcing material, or

1) 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 형성하는 단계;1) forming an inorganic reinforcement having a honeycomb structure;

2) 상기 무기 보강재의 상층과 하층에 수지층을 형성하는 단계; 및2) forming a resin layer on the upper layer and the lower layer of the inorganic reinforcing material; And

3) 상기 수지층의 바깥층에 동박층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.3) forming a copper foil layer on the outer layer of the resin layer.

여기서, 단계 1)의 무기 보강재를 형성하는 단계는 허니컴 구조를 형성할 수 있는 방법이면 특별히 제한되지 않으며 바람직하게는 상술한 콜로이달 크리스탈 템플레이팅 방법에 의할 수 있다. Here, the step of forming the inorganic reinforcing material of step 1) is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a honeycomb structure, preferably by the colloidal crystal template method described above.

또한, 단계 2) 는 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 예측 가능한 조건과 방법에 의하여 달성 가능하며 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로 온도 100 내지 300℃, 압력 5 내지 50 ㎏f/㎠에서, 바람직하게는 진공 하에서 30분 내지 3시간 적층하여 달성될 수 있다.In addition, step 2) can be achieved by those who are skilled in the art by predictable conditions and methods, and is not particularly limited, but generally at a temperature of 100 to 300 ° C. and a pressure of 5 to 50 kgf / cm 2, Preferably it can be achieved by lamination for 30 minutes to 3 hours under vacuum.

이하 본 발명을 실시예에 의하여 상세히 설명하나 본 발명의 사상이 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 물론이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the spirit of the present invention is not limited to the above embodiments, and many modifications are possible by those skilled in the art within the spirit of the present invention.

실시예 1: 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재의 제조Example 1 Preparation of Inorganic Reinforcement with Honeycomb Structure

3차원 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재는 콜로이달 크리스탈 템플레이팅(Colloidal crystal templating) 방법에 의해 형성하였다. Inorganic reinforcement having a three-dimensional honeycomb structure was formed by the colloidal crystal templating method.

우선, 200 nm 내지 800 nm 정도의 균일한 직경을 가지는 구형의 폴리스티렌 입자를 유화중합 방법을 통하여 합성하였다. 단분산 고분자 입자를 결정화할 때보다 균일한 배열을 이루도록 하기 위하여 폴리스티렌의 표면에 술폰산(-SO3H)기를 도입하였다. 제조한 균일 직경의 폴리스티렌 입자를 여과법에 의하여 배열하여 콜로이달 크리스탈을 형성하고 폴리스티렌 입자를 완전히 건조시킨 후에 무기 재료의 전구체 TEOS(Tetra ethyl ortho silicate)를 액상의 형태로 폴리스티렌 입자 사이의 공간에 침투시켰다. 이것을 완전히 건조한 후 600℃ 에서 폴리스티렌 입자를 5 시간 동안 태우고 TEOS를 소성시켜 3차원 구조의 무기 보강재를 수득하였다. First, spherical polystyrene particles having a uniform diameter of about 200 nm to 800 nm were synthesized through an emulsion polymerization method. In order to form a more uniform arrangement when crystallizing monodisperse polymer particles, sulfonic acid (-SO 3 H) groups were introduced to the surface of polystyrene. Polystyrene particles of uniform diameter were prepared by filtration to form colloidal crystals, and the polystyrene particles were completely dried. Then, the precursor TEOS (Tetra ethyl ortho silicate) of the inorganic material was penetrated into the space between the polystyrene particles in liquid form. . After drying completely, the polystyrene particles were burned at 600 ° C. for 5 hours and the TEOS was calcined to obtain an inorganic reinforcing material having a three-dimensional structure.

실시예 2: 허니컴 구조의 무기 보강재를 포함하는 프리프레그의 제조Example 2 Preparation of Prepreg Including Inorganic Reinforcement of Honeycomb Structure

수지조성물 2,2,-비스(4-시아네이트페닐)프로판 모노머 450 중량부를 160℃에서 용융시키고, 교반하면서 4.5 시간 반응시켜, 모노머와 프리폴리머(prepolymer)의 혼합물을 얻었다. 이것을 메틸에틸케톤에 용해하고, 이것에 비스페놀 A형 에폭시 수지 300 중량부, 페놀노볼락형 에폭시 수지 100 중량부, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 150 중량부를 배합하였다. 여기에 소성 탈크 1000 중량부를 더하고, 경화 촉매로서 옥틸산 아연을 0.2 중량부의 메틸에틸 케톤에 용해하여 첨가하고, 잘 교반하여 얻어진 화합물을 바니쉬로 하였다.450 parts by weight of the resin composition 2,2, -bis (4-cyanatephenyl) propane monomer was melted at 160 ° C. and reacted for 4.5 hours while stirring to obtain a mixture of the monomer and the prepolymer. This was melt | dissolved in methyl ethyl ketone, and 300 weight part of bisphenol-A epoxy resins, 100 weight part of phenol novolak-type epoxy resins, and 150 weight part of cresol novolak-type epoxy resins were mix | blended with this. 1000 weight part of calcined talc was added here, zinc octylate was melt | dissolved in 0.2 weight part of methyl ethyl ketone, and added as a hardening catalyst, and the compound obtained by well stirring was made into the varnish.

상기 바니쉬를 실시예 1의 무기 보강재에 함침, 건조하여, 성형 후의 두께가 100 ㎛가 되도록 프리프레그를 제작하였다. The varnish was impregnated into the inorganic reinforcing material of Example 1, dried, and the prepreg was produced so that the thickness after shaping | molding might be 100 micrometers.

실시예 3: 허니컴 구조의 무기 보강재를 포함하는 동박적층판의 제조 1Example 3 Preparation of Copper Clad Laminates Including Inorganic Reinforcement of Honeycomb Structure 1

실시예 1에서 제조된 무기 보강재의 상층과 하층에 동박의 두께가 12 ㎛ 인 RCC(Resin coated copper)를 적층시키고 250℃, 5 ㎜Hg 이하의 진공 하에서 2시간 동안 성형하여 절연층 두께가 200 ㎛인 양면 동박적층판을 제조하였다. Resin coated copper (RCC) having a thickness of 12 μm was laminated on the upper layer and the lower layer of the inorganic reinforcing material prepared in Example 1, and then molded for 2 hours under vacuum at 250 ° C. and 5 mmHg, and the insulating layer thickness was 200 μm. Phosphor double-sided copper clad laminate was prepared.

실시예 4: 허니컴 구조의 무기 보강재를 포함하는 동박적층판의 제조 2Example 4 Preparation of Copper Clad Laminates Including Inorganic Reinforcement of Honeycomb Structure 2

실시예 2에서 제조된 프리프레그의 양 외측에 두께 12 ㎛의 전해 동박을 두고, 250℃, 5 ㎜Hg 이하의 진공 하에서 2시간 동안 적층 성형하여 절연층 두께 200 ㎛의 양면 동박적층판을 제조하였다. An electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm was placed on both outer sides of the prepreg prepared in Example 2, and laminated by molding for 2 hours under vacuum at 250 ° C. and 5 mmHg to prepare a double-sided copper foil laminated plate having an insulating layer thickness of 200 μm.

비교예 1: 수평 방향의 보강재를 가지는 동박적층판의 제조Comparative Example 1: Fabrication of Copper Clad Laminate with Horizontal Reinforcement

실시예 2의 바니쉬를 두께 0.093 ㎜의 유리 직포에 함침, 건조하여, 성형 후의 두께가 100 ㎛가 되도록 수지량을 부착시킨 후 프리프레그를 제작하였다. 상기 프리프레그 2매를 겹친 후 상층과 하층에 두께 12㎛의 전해 동박을 두고, 250℃, 5 ㎜Hg 이하의 진공 하에서 2시간 동안 적층 성형하여 절연층 두께 200 ㎛의 양면 동박적층판을 제조하였다. The varnish of Example 2 was impregnated and dried by the glass woven fabric of thickness 0.093mm, and the resin amount was made to adhere so that the thickness after shaping | molding may be 100 micrometers, and the prepreg was produced. After stacking the two prepregs, the electrolytic copper foil having a thickness of 12 μm was placed on the upper layer and the lower layer, followed by lamination molding under vacuum at 250 ° C. and 5 mmHg for 2 hours to prepare a double-sided copper foil laminated plate having an insulating layer thickness of 200 μm.

실험예 1: 동박적층판의 효율 측정 Experimental Example 1: Efficiency Measurement of Copper Clad Laminates

1-1: 유전율 측정1-1: permittivity measurement

실시예 2 내지 실시예 4, 비교예 1의 구성으로 IPC-650 2.5.5.3의 방법대로 측정하였다.It measured according to the method of IPC-650 2.5.5.3 with the structure of Example 2-Example 4 and the comparative example 1.

1-2: 휨, 비틀어짐(탄성율) 측정 1-2: Warping and twisting (elastic modulus) measurement

각 실시예, 비교예의 구성으로 동박을 사용하지 않고, 동일하게 적층하여 적층판을 제작하고, DMA법으로 측정하여 260℃인 때의 탄성률을 측정하였다.In the structure of each Example and a comparative example, without using copper foil, it laminated | stacked similarly and produced the laminated board, measured by DMA method, and measured the elasticity modulus at 260 degreeC.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 비교예 1Comparative Example 1 유전율 (1MHz)Permittivity (1MHz) 5.05.0 4.94.9 4.64.6 탄성율 (GPa)Modulus of elasticity (GPa) 3939 3838 2626

이상의 결과로부터 본 발명의 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 포함하는 동박적층판은 유전율을 낮추고 기판의 휨이나 뒤틀림 문제를 감소시킬 수 있음을 확인하였다.From the above results, it was confirmed that the copper-clad laminate including the inorganic reinforcing material having the honeycomb structure of the present invention can lower the dielectric constant and reduce the warpage or distortion of the substrate.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 3차원 구조를 가지는 무기 보강재를 포함하는 프리프레그 및 동박적층판은 무게가 가볍고 저 유전율을 가지며 휨이나 뒤틀림의 문제를 감소시킬 수 있으므로 전자기기의 소형화 및 경량화를 위하여 유용한 기판 자재로 사용될 수 있다.As described above, the prepreg and copper-clad laminate including the inorganic reinforcing material having the three-dimensional structure according to the present invention is light in weight, has a low dielectric constant, and can reduce the problems of warpage or warping, which is useful for miniaturization and weight reduction of electronic devices. Can be used as substrate material.

Claims (13)

허니컴(honeycomb) 구조를 가지는 무기 보강재와 수지를 포함하는 프리프레그.A prepreg comprising an inorganic reinforcement and a resin having a honeycomb structure. 제1항에 있어서, 상기 무기 보강재는 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 실리콘 나이트라이드(Si3N4) 및 알루미늄 나이트라이드(AlN)로 구성되는 군으로부터 선택되는, 하나 이상의 전구체로부터 얻어지는 것인 프리프레그.The method of claim 1, wherein the inorganic reinforcing material is at least one selected from the group consisting of silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), and aluminum nitride (AlN). Prepreg obtained from a precursor. 제1항에 있어서, 상기 수지는 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스말레이미드 수지, 폴리이미드 수지 및 개질된 폴리페닐렌 에테르 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 수지인 프리프레그.The prepreg of claim 1, wherein the resin is at least one resin selected from the group consisting of epoxy resins, cyanic acid ester resins, bismaleimide resins, polyimide resins, and modified polyphenylene ether resins. 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재와 수지를 포함하는 동박적층판.Copper foil laminated board containing inorganic reinforcement material and resin which have honeycomb structure. 제4항에 있어서, 상기 무기 보강재는 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 실리콘 나이트라이드(Si3N4) 및 알루미늄 나이트라이드(AlN)로 구성되는 군으로부터 선택되는, 하나 이상의 전구체로부터 얻어지는 것인 동박적층판.The method of claim 4, wherein the inorganic reinforcing material is at least one selected from the group consisting of silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ) and aluminum nitride (AlN). The copper clad laminated board obtained from a precursor. 제4항에 있어서, 상기 수지는 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스말레이미드 수지, 폴리이미드 수지 및 개질된 폴리페닐렌 에테르 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 수지인 동박적층판.The copper-clad laminate of claim 4, wherein the resin is at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a bismaleimide resin, a polyimide resin, and a modified polyphenylene ether resin. 제1항의 프리프레그 또는 제4항의 동박적층판을 포함하는 기판.A substrate comprising the prepreg of claim 1 or the copper-clad laminate of claim 4. 제7항에 있어서, 상기 기판은 인쇄회로기판 또는 반도체 칩 실장용 기판인 것을 특징으로 하는 기판. The substrate of claim 7, wherein the substrate is a printed circuit board or a semiconductor chip mounting substrate. 1) 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 형성하는 단계; 및 1) forming an inorganic reinforcement having a honeycomb structure; And 2) 상기 무기 보강재의 상층과 하층에 수지가 코팅된 동박층을 형성하는 단 계를 포함하는 동박적층판의 제조방법.2) A method of manufacturing a copper-clad laminate comprising a step of forming a resin-coated copper foil layer on the upper layer and the lower layer of the inorganic reinforcing material. 1) 허니컴 구조를 가지는 무기 보강재를 형성하는 단계;1) forming an inorganic reinforcement having a honeycomb structure; 2) 상기 무기 보강재의 상층과 하층에 수지층을 형성하는 단계; 및2) forming a resin layer on the upper layer and the lower layer of the inorganic reinforcing material; And 3) 상기 수지층의 바깥층에 동박층을 형성하는 단계를 포함하는 동박적층판의 제조방법.3) A method for producing a copper clad laminate comprising the step of forming a copper foil layer on the outer layer of the resin layer. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 무기 보강재가 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3), 실리콘 나이트라이드(Si3N4) 및 알루미늄 나이트라이드(AlN)로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 전구체로부터 얻어지는 동박적층판의 제조방법.The method of claim 9 or 10, wherein the inorganic reinforcing material is selected from the group consisting of silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ) and aluminum nitride (AlN). A method for producing a copper clad laminate obtained from at least one precursor. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 수지는 에폭시 수지, 시안산 에스테르 수지, 비스말레이미드 수지, 폴리이미드 수지 및 개질된 폴리페닐렌 에테르 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 수지인 동박적층판의 제조방법.The copper clad laminate according to claim 9 or 10, wherein the resin is at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a cyanic acid ester resin, a bismaleimide resin, a polyimide resin, and a modified polyphenylene ether resin. Manufacturing method. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 무기 보강재는 콜로이달 크리스탈 템플레이팅 법에 의하여 형성되는 동박적층판의 제조방법.The method for producing a copper clad laminate according to claim 9 or 10, wherein the inorganic reinforcing material is formed by a colloidal crystal template method.
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