KR100716549B1 - 전해복합연마방법 및 장치 - Google Patents

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    • B24GRINDING; POLISHING
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    • B24B31/00Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/10Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work
    • B24B31/102Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor involving other means for tumbling of work using an alternating magnetic field

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Abstract

본 발명은 정밀주조제의 하나인 티타늄 등과 같이 내산성이 크고 산화력이 강한 금속의 표면을 광휘 처리하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 산성현탁액이 담긴 용기에 정밀주조제를 담가 상기 정밀주조제의 표면이 상기 산성혼탁액에 의해 용해되는 것과, 상기 용기에 담긴 상기 산성현탁액에 전극부재를 담그고, 상기 전극부재에 전압을 인가하여 상기 용기의 담긴 상기 정밀주조제의 표면이 전기분해되어 이온화되는 것과, 상기 용기의 상기 산성현탁액에 철성분를 포함하는 연마석을 담그고, 전자석을 상기 용기의 외측 하부에서 회전시켜 상기 전자석의 회전을 따라 상기 철성분을 포함하는 연마석이 이동하여 상기 정밀주조제의 표면을 때리는 것이 동시에 수행되는 전해복합연마방법 및 장치에 관한 것이다. 따라서, 복합적인 처리를 동시에 수행함으로써, 티타늄의 광휘처리를 하기 위한 시간을 줄이고, 막대한 비용을 절감하며, 제품에 손상을 주지않고 광휘처리를 할 수 있는 장점이 있다.
광휘처리, 연마장치, 전해복합연마방법

Description

전해복합연마방법 및 장치{ELECTRO-CHEMICAL MAGNETIC BARREL POLISHING METHOD AND EQUIPMENT}
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 전해복합연마장치의 분해 사시도임.
도 2는 도 1의 결합 단면도임.
도 3은 도 2의 작동 상태도임.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 전해복합연마방법의 개략적인 순서도임.
도 5는 본 발명의 전해복합연마방법의 응용예를 나타낸 개략적인 순서도임.
* 주요 도면 부호의 설명 *
100 ; 전해복합연마장치 110 ; 커버
111 ; 제1전극부재(음극) 112 ; 제2전극부재(양극)
120 ; 용기 130 ; 본체
131 ; 수용공간 132 ; 전자석
133 ; 모터 140 ; 정밀주조제(티타늄)
150 ; 연마석 160 ; 산성현탁액
본 발명은 정밀주조제의 하나인 티타늄 등과 같이 내산성이 크고 산화력이 강한 금속의 표면을 광휘 처리하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 복합적인 공정이 동시에 수행되는 전해복합연마방법 및 장치에 관한 것이다.
현재까지 금속표면의 광을 내기 위한 방법으로, 자기바렐연마, 화학연마, 버프연마, 전해연마법 등을 이용하고 있으며, 각각의 특징들을 살펴 보기로 한다.
자기바렐연마법은 제품과 연마석(철가루)을 액이 담긴 비커에 넣고, 비커의 아래에서 전자석을 돌리면, 비커내의 철가루들이 액속을 유동하면서 제품을 때려 제품의 표면에 광을 내는 방법이다.
화학연마법은 산성용액에 제품을 담가 제품의 표면이 용해되어 광을 내는 방법이다.
버프연마법은 헝겊·펠트·가죽 등 유연성 재료의 외주면에 숫돌 입자를 접착제 등으로 고정시키거나, 숫돌 입자를 유지성·비유지성, 그 밖의 매제와 혼합한 버프 연마제를 칠하여 제품을 버핑하여 광을 내는 방법이다.
전해연마법은 제품에 제1전극(양극)을 접촉하고 용액에 제2전극(음극)을 담가 그 사이에서 전기분해를 행함으로써 금속표면에 광을 내는 방법이다.
그러나 상기와 같은 연마법들은 다음과 같은 문제점이 있다.
자기바렐연마의 경우 복잡한 형상의 전면 처리가 가능하므로 일반 금속제품 의 광휘처리에 널리 이용되고 있으나, 티타늄과 같이 내산성이 크고 산화력이 강한 금속의 경우에는 그러한 금속 자체에 형성된 산화막이 거의 제거되지 않으며, 또한 연마 중 온도상승에 의해 추가적인 산화막이 발생하기 때문에 티타늄 광휘에의 적용상 어려움이 있고, 또한 광휘처리를 하기 위해 수십 시간 이상이 소요된다.
또, 화학연마의 경우에는 액조성, 온도, 시간 등의 조건선정이 어렵고 공정조건의 미세한 변화에도 피팅(PITTING)을 일으켜 배껍질의 표면이 생성되는 문제가 있으며 강산으로 인하여 미세하고 복잡한 형상의 부분이 먼저 용해되어 제품의 형상을 손상시키는 단점이 있고, 버프연마의 경우 연마 중 가공변질층이 발생되어 이를 제거하는 데 상당한 노력과 많은 시간이 소요되고, 미세 홈이나 홀 또는 특정 요철을 갖는 복잡한 형상의 제품을 처리할 수 없는 단점이 있다.
또한, 전해연마는 티타늄 표면에 생성된 견고한 산화피막을 제거하기 위해서는 높은 전압이 요구되며, 전해액으로 인산수용액 등을 사용할 때 두꺼운 산화피막이 순식간에 발생되는 문제가 있으며, 가장자리와 중앙부의 전해정도가 달라 중앙부가 전해되려면 이미 가장자리는 과도하게 깎여나가는 문제점이 있었다.
본 발명은 정밀주조제인 티타늄의 표면을 광휘처리하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 산성현탁액이 담긴 용기에 정밀주조제를 담가 상기 정밀주조제의 표면이 상기 산성혼탁액에 의해 용해되는 것과, 상기 용기에 담긴 상기 산성현탁액에 전극부재를 담그고, 상기 전극부재에 전압을 인가하여 상기 용기의 담긴 상기 정밀주조제의 표면이 전기분해되어 이온화되는 것과, 상기 용기의 상기 산성현탁액에 철성 분를 포함하는 연마석을 담그고, 전자석을 상기 용기의 외측 하부에서 회전시켜 상기 전자석의 회전을 따라 상기 철성분을 포함하는 연마석이 이동하여 상기 정밀주조제의 표면을 때리는 것이 동시에 수행되는 전해복합연마공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 정밀주조제의 표면을 때리는 것은 상기 용기와, 상부에 상기 용기가 수용되는 수용공간, 상기 수용공간의 하부에 위치하는 상기 전자석 및 상기 전자석을 회전시키기 위한 모터를 가지는 본체에 의해 수행되며, 상기 수용공간에 상기 용기가 수용되고, 상기 본체의 상기 전자석이 회전하여 상기 전자석의 회전을 따라 상기 용기에 담긴 상기 철성분을 포함하는 연마석이 이동하여 상기 정밀주조제의 표면을 때리는 것을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 정밀주조제의 칠(CHILL)조직과 편석을 제거하기 위해 상기 정밀주조제를 가열하는 순간어닐링공정;을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 정밀주조제의 표면에 글자 또는 무늬를 형성하는 마스킹/에칭(ETCHING) 공정;을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명은 전해복합연마장치에 관한 것으로, 산성현탁액, 정밀주조제품 및 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀이 수용된 용기; 상기 용기가 수용되는 수용공간과, 상기 수용공간의 하부에 위치하여 상기 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀을 회전시키는 전자석과, 상기 전자석을 회전시키는 모터가 구비된 본체; 상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 설치되며 정밀주조제와 접촉하고 임의의 극성을 띄는 제1 전극부재; 및 상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 상기 제1 전극부재와 이격하여 설치되며 상기 제1 전극부재와 반대의 극성을 띠는 제2 전극부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명은 전해복합연마장치에 관한 것으로, 산성현탁액, 정밀주조제품 및 철성분을 포함하는 연마석이 수용된 용기; 상기 용기가 수용되는 수용공간과, 상기 수용공간의 하부에 위치하여 상기 철 성분의 연마석을 회전시키는 전자석과, 상기 전자석을 회전시키는 모터가 구비된 본체; 상기 용기의 내측 가장자리에 적어도 일부가 삽입되는 원통형으로, 상기 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 설치되며 정밀주조제와 접촉하고 임의의 극성을 띄는 제1 전극부재; 및 상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 상기 제1 전극부재와 이격하여 상기 용기의 중앙에 설치되며 상기 제1 전극부재와 반대의 극성을 띠는 제2 전극부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명은 전해복합연마장치에 관한 것으로, 산성현탁액, 정밀주조제품 및 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀이 수용된 용기; 상기 용기가 수용되는 수용공간과, 상기 수용공간의 하부에 위치하여 상기 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀을 회전시키는 전자석과, 상기 전자석을 회전시키는 모터가 구비된 본체; 상기 용기의 내측 가장자리에 적어도 일부가 삽입되는 원통형으로, 상기 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 설치되며 정밀주조제와 접촉하고 임의의 극성을 띄는 제1 전극부재; 및 상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 상기 제1 전극부재와 이격하여 상기 용기의 중앙에 설치되며 상기 제1 전극부재와 반대의 극성을 띠는 제2 전극부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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이하에서 첨부도면을 참조하여 본 발명의 전해복합연마장치를 더욱 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 전해복합연마장치(100)는 크게 본체(130), 용기(120), 커버(110)로 구성된다.
상기 본체(130)는 상부에 용기(120)가 놓이는 수용공간(131)이 형성되어있고, 수용공간(131) 아래 전자석(132)이 형성되어있으며, 전자석(132)의 하부에 전자석(132)을 회전시키기 위한 모터(133)가 형성되어있다.
상기 용기(120)는 상부가 개구되고, 용기(120) 바닥의 중앙 일부가 상향 돌출되어있으며, 재질은 산성용액에 부식되지않는 유리로 형성되어있고, 상기 본체(130)의 상부에 얹혀 진다.
상기 커버(110)는 하부 안쪽 둘레로 제1전극부재(111)(이하 '음극'이라고 함)가 원통형으로 형성되고, 음극(111)의 중간에 산성현탁액의 소통을 위한 다수의 홀이 형성되어있으며, 커버(110)의 중앙에 제2전극부재(112)(이하 '양극'이라고 함)가 형성되어있고, 커버(110)의 상부에는 음극 또는 양극의 상단 일부가 관통 돌출되어 있으며, 돌출된 부재에 전압을 인가하는 전선이 연결되어 있고, 용기(120)의 상부를 덮는다.
따라서, 본 발명의 전해복합연마장치(100)를 구동하기 위해 상기 본체(130)의 수용공간(131)에 산성현탁액(160), 정밀주조제(140)(예를 들면 티타늄제품 등), 연마석(세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 철핀)이 담긴 용기(120)를 얹고, 커버(110)로 용기(120)를 덮으면, 상기 커버(110)에 형성된 음극부재(111) 하단부는 용기(120) 내부의 바닥까지 내려오고, 양극부재(112)는 용기(120)의 중앙에 형성된 돌출부의 위쪽에 위치하며, 음극(111)와 양극(112)의 하단 일부가 산성현탁액(160)에 잠기게 된다.
그리고 본체(130)에 전원을 인가하면 본체(130) 내부에 형성된 전자석(132)이 자화되고, 자화된 전자석(132)은 모터(133)에 의해 회전하게 된다. 그로 인해 연마석(150)이 전자석(132)에 이끌려 회전하게 되며, 연마석(150)은 정밀주조제(140)의 표면을 때려 광휘처리를 하는 것이다. 이때 연마석(150)의 회전이 산성현탁액(160)을 저어주게 되어 산성현탁액(160) 역시 회전을 하고 산성현탁액(160)의 회전이 정밀주조제(140)를 회전시킨다. 따라서, 연마석(150))은 정밀주조제(140)에 비해 질량이 작으므로 정밀주조제(140)보다 더 빨리 회전하고 이에 따라 연마가 일어난다.
용기(120)에 담긴 산성현탁액(160)속의 정밀주조제(140)는 회전에 따른 원심 력에 의해 가장자리로 치우치게 되고 그 결과 음극(111)에 접촉한다. 이 때 음극(111)과 양극(112)에 전압을 인가하면, 정밀주조제(140)가 전기분해되고, 정밀주조제(140)의 표면이 이온화되면서 광휘처리가 되는 것이다.
또한, 산성현탁액(160)으로 인해 정밀주조제(140)가 산화되면서 정밀주조제(140)의 표면이 용해되어 광휘처리가 되는 것이다.
상기의 동작상태가 도 3에 도시되어 있으며, 전해복합연마장치(100)가 구동될 때 원심력에 의해 산성현탁액(160)의 둘레 수위가 높아지고 정밀주조제(140)가 음극(111)에 접촉되면서 회전하며, 자기바렐연마, 전기분해작용, 산성현탁액(160)에 의한 용해작용이 동시에 이루어지면서 정밀주조제(140)의 표면이 광휘처리 되는 것을 알 수 있다.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 상기 전해복합연마장치(100)를 토대로 한 본 발명의 전해복합연마방법을 더욱 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 도 4와 도 5를 참조하면, 본 발명의 전해복합연마방법에 따른 공정은 다음과 같다.
먼저 정밀주조제의 샌드블라스트 처리 등을 통해 표면산화물을 제거하고, 샌드블라스트에 의해 발생한 요철을 제거하기 위해 산으로 세정처리를 한 후 표면의 잔존물이 세정된 정밀주조제(예를 들면 티타늄제품 등)를 산성현탁액과 연마석(세라믹으로 코팅된 철가루)이 섞인 용기에 투입시키는 정밀주조제 투입공정<S98>과 전해복합연마(ECMB:ELECTRO-CHEMICAL MAGNETIC BARREL)공정<S101>을 거쳐 정밀주조제가 광휘처리돼서 나오는 것이다.
여기서, 전해복합연마(ECMB:ELECTRO-CHEMICAL MAGNETIC BARREL)란 산성현탁액속에서 정밀주조제의 표면이 용해되고, 정밀주조제의 표면이 전기분해되어 이온화되며, 연마석이 회전하면서 정밀주조제의 표면을 때리는 과정이 동시에 이루어지는 것이다. 따라서, 산성현탁액이 담긴 용기에 정밀주조제(예를 들면 티타늄제품 등)와 연마석(세라믹으로 코팅된 철가루)을 넣고, 음극부재와 양극부재를 설치한 상태에서 용기의 하부에 자화된 전자석을 모터로 회전시키면, 정밀주조제의 표면이 전기분해되어 이온화되고, 산성현탁액에 의해 정밀주조제의 표면이 용해되며, 연마석이 정밀주조제의 표면을 때리게 되는 것이다.
산성현탁액은 플루오르화수소산(HF)과 질산(HNO3)을 1:2의 비율로하여 물에 혼합한 것이며, 플루오르화수소산(HF)과 질산(HNO3)의 혼합액은 물을 기준으로 하여 0.5중량%~1중량%를 차지한다. 따라서 종래의 산이 50중량%이상을 차지하는 강산에 비해 매우 소량의 산성용액을 가지고도 뛰어난 광휘처리를 한다. 이는 산성현탁액에 의한 연마뿐만 아니라 전기분해연마 및 자기바렐연마가 동시에 이루어지기 때문에 가능한 것이다. 따라서, 광휘처리시 강산에 의해 정밀주조제가 과도하게 부식되어 복잡한 형상을 갖는 부분이 손상되는 것을 막고, 또한 정밀주조제가 부식되면서 발생하는 유독성 가스가 현저히 줄어든다.
전기분해의 경우, 산성현탁액에 의한 산화작용과 자기바렐연마의 도움에 의해, 직류 12V 이하의 전압을 사용할 수 있어 종래의 사용전압인 20~30V 또는 30V 이상에 비하여 낮은 전압을 사용하게 되고 전력소모 또한 매우 낮다.
상기와 같은 복합적인 작용으로 인하여 종래의 자기바렐연마의 경우 수십 시간을 필요로 하는데 반해 본 발명은 1시간 안에 광휘처리된 정밀주조제를 얻을 수 있다.
정밀주조제는 지문이나 얼룩이 묻더라도 쉽게 지울 수 있도록 표면이 일정 수준 이상으로 매끄러울 필요가 있는데, 본 발명에 따른 전해복합연마법은 산성현탁액의 비율을 적절히 조절하여 단 한 번의 공정으로도 정밀주조제의 표면을 매끄럽게 처리할 수 있다.
한편, 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 전해복합연마방법을 응용하면 정밀주조제의 칠(CHILL)조직 또는 편석제거를 위한 순간어닐링 공정<S99>을 추가하여 향상된 광휘처리를 할 수 있으며, 티타늄의 표면에 글자 또는 조직 패턴을 형성하는 마스킹/에칭(ETCHING)공정<S100>을 추가함으로써 좀더 다양한 표면을 갖는 티타늄을 생산할 수 있게 되는 것이다.
여기서, 상기 순간어닐링에 대해서 알아보기로 한다.
티타늄(정밀주조제)의 경우 가공재와는 달리 좀처럼 광휘처리가 되지 않는 특징이 있으며, 이는 용질원자의 편석, 냉금(CHILLED)조직 및 주물케이스의 잔존에 기인된 것이다. 따라서 주조티타늄의 효과적인 광휘화를 위해서는 전처리조건으로서 블라스트에 의한 잔존 산화층의 제거가 필요하고 주조공정에서 생긴 주조조직을 제거하기 위한 고온 어닐링이 필요하다.
그러나, 고온 어닐링시 결정립의 성장으로 인하여 티타늄 자체의 강도가 크게 저하되기 때문에, 장시간의 어닐링 처리는 오히려 기계적 성질에 역효과를 줄 수가 있다.
따라서, 본 발명에 따른 전해복합연마의 순간어닐링은 정밀주조제가 안치된 노안을 약 5분이내에 상온에서부터 1500~1600℃까지 승온시킨 후 1500~1600℃를 1~5분 동안 유지시키고, 이후 가열원을 오프시키거나 자연냉각하여 이루어진다.
따라서, 단시간에 제품을 고온으로 가열하여 냉각하는 순간어닐링 공정을 채택하여, 티타늄 자체의 강도 저하를 막고 기계적 성질이 바뀌지않으면서 좀 더 향상된 광휘처리를 할 수 있다.
상기 순간어닐링 공정<S99>과 마스킹/에칭(ETCHING)<S100>공정은 필요에 따라 선택적으로 사용할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면 도 1 내지 도 5 를 참조한 실시 예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시 예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에 본 발명이 상기의 실시 예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니 된다. 따라서 상기에서 설명한 것 외에도 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 사람은 본 발명의 실시 예에 대한 설명만으로도 쉽게 상기 실시 예와 동일 범주 내의 다른 형태의 본 발명을 실시할 수 있거나, 본 발명과 균등한 영역의 발명을 실시할 수 있을 것이다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명은 복합적인 처리를 동시에 수행함으로써, 티타늄의 광휘처리를 하기 위한 시간을 1시간 안으로 단축하고, 고비용을 초래하는 전처리 공정을 없애고 전체적인 공정을 줄여 막대한 비용을 절감하는 효과가 있다.
또, 산성현탁액이 매우 약한 산성을 띠므로, 광휘처리 시 정밀주조제의 표면이 부식될 때 발생하는 유독가스를 현저히 줄이고, 복잡하고 미세한 형상의 제품을 손상시키지 않는 효과가 있다.
*또, 전기분해시 12V 이하의 낮은 전압을 사용하므로 산화피막이 발생되는 것을 방지하고 소비전력을 감소시킨다.
또한, 버프연마와는 달리 가공변질층이 발생 되지않고, 산성현탁액의 조건을 조절함으로써 정밀주조제의 표면을 매끄럽게 처리하여 지문 또는 얼룩이 묻어도 천 이나 휴지 등으로 쉽게 지울 수 있는 장점이 있다.

Claims (7)

  1. 산성현탁액이 담긴 용기에 정밀주조제를 담가 상기 정밀주조제의 표면이 상기 산성혼탁액에 의해 용해되는 것과,
    상기 용기에 담긴 상기 산성현탁액에 전극부재를 담그고, 상기 전극부재에 전압을 인가하여 상기 용기의 담긴 상기 정밀주조제의 표면이 전기분해되어 이온화되는 것과,
    상기 용기의 상기 산성현탁액에 철성분를 포함하는 연마석을 담그고, 전자석을 상기 용기의 외측 하부에서 회전시켜 상기 전자석의 회전을 따라 상기 철성분을 포함하는 연마석이 이동하여 상기 정밀주조제의 표면을 때리는 것이 동시에 수행되는 전해복합연마공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해복합연마방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 정밀주조제의 표면을 때리는 것은
    상기 용기와,
    상부에 상기 용기가 수용되는 수용공간, 상기 수용공간의 하부에 위치하는 상기 전자석 및 상기 전자석을 회전시키기 위한 모터를 가지는 본체에 의해 수행되며,
    상기 수용공간에 상기 용기가 수용되고, 상기 본체의 상기 전자석이 회전하여 상기 전자석의 회전을 따라 상기 용기에 담긴 상기 철성분을 포함하는 연마석이 이동하여 상기 정밀주조제의 표면을 때리는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 전해복합연마방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 정밀주조제의 칠(CHILL)조직과 편석을 제거하기 위해 상기 정밀주조제를 가열하는 순간어닐링공정;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해복합연마방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 정밀주조제의 표면에 글자 또는 무늬를 형성하는 마스킹/에칭(ETCHING) 공정;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전해복합연마방법.
  5. 산성현탁액, 정밀주조제품 및 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀이 수용된 용기;
    상기 용기가 수용되는 수용공간과, 상기 수용공간의 하부에 위치하여 상기 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀을 회전시키는 전자석과, 상기 전자석을 회전시키는 모터가 구비된 본체;
    상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 설치되며 정밀주조제와 접촉하고 임의의 극성을 띄는 제1 전극부재; 및
    상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 상기 제1 전극부재와 이격하여 설치되며 상기 제1 전극부재와 반대의 극성을 띠는 제2 전극부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해복합연마장치.
  6. 산성현탁액, 정밀주조제품 및 철성분을 포함하는 연마석이 수용된 용기;
    상기 용기가 수용되는 수용공간과, 상기 수용공간의 하부에 위치하여 상기 철 성분의 연마석을 회전시키는 전자석과, 상기 전자석을 회전시키는 모터가 구비된 본체;
    상기 용기의 내측 가장자리에 적어도 일부가 삽입되는 원통형으로, 상기 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 설치되며 정밀주조제와 접촉하고 임의의 극성을 띄는 제1 전극부재; 및
    상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 상기 제1 전극부재와 이격하여 상기 용기의 중앙에 설치되며 상기 제1 전극부재와 반대의 극성을 띠는 제2 전극부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해복합연마장치.
  7. 산성현탁액, 정밀주조제품 및 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀이 수용된 용기;
    상기 용기가 수용되는 수용공간과, 상기 수용공간의 하부에 위치하여 상기 세라믹으로 코팅된 자화된 철가루 또는 세라믹으로 코팅된 자화된 철핀을 회전시키는 전자석과, 상기 전자석을 회전시키는 모터가 구비된 본체;
    상기 용기의 내측 가장자리에 적어도 일부가 삽입되는 원통형으로, 상기 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 설치되며 정밀주조제와 접촉하고 임의의 극성을 띄는 제1 전극부재; 및
    상기 용기의 산성현탁액에 적어도 일부가 잠기도록 상기 제1 전극부재와 이격하여 상기 용기의 중앙에 설치되며 상기 제1 전극부재와 반대의 극성을 띠는 제2 전극부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전해복합연마장치.
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KR200275705Y1 (ko) * 2002-02-06 2002-05-16 임현재 자장을 이용한 연마장치

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