KR100702480B1 - 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치 및 이를이용한 이온빔 스위칭 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이동이 가능하도록 구비되는 전자석을 이용한 이온빔 스위치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 스위치 전자석과 집속 전자석을 병렬로 배치하고 각 전자석을 이온빔이 조사되는 방향과 수직으로 왕복 이동시키는 이동 수단을 구비하여 이온빔이 스위치 전자석과 집속 전자석을 선택적으로 통과하도록 구성함으로써, 빔을 인출하지 않고 다음 가속 단계로 공급하는 경우에 빔이 스위치 전자석을 통과하지 않고 바로 집속 전자석 만을 통과하게 하여, 장치의 설치 공간 및 집속 전자석의 용량을 줄일 수 있는 이온빔 스위치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치는, 이온빔의 진행 방향을 편향시키는 스위치 전자석과; 발산되는 이온빔을 집속해주는 집속 전자석; 및 상기 스위치 전자석 및 집속 전자석을 병렬로 탑재하고 이온빔의 입사 방향과 수직으로 왕복 이동이 가능하도록 구성되어, 이온빔이 상기 스위치 전자석 또는 집속 전자석의 중심을 선택적으로 통과할 수 있도록 구비되는 이송 테이블을 포함하여 구성되는 점을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치는 스위치 전자석과 집속 전자석이 병렬로 배치되므로 각 전자석이 직렬로 배치된 종래의 이온빔 스위치에 비하여 길이가 짧은 이온빔 공급 라인을 구성할 수 있으며, 다음 가속 단계로 직진하기 위해 스위치 전자석을 통과하지 않으므로 이온빔의 발산 정도가 작아 집속 전자석의 용량을 줄여 단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.
이온빔 스위치, 병렬 배치, 스위치 전자석, 집속 전자석, 가속기

Description

이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치 및 이를 이용한 이온빔 스위칭 방법{An ion beam switch using movable electromagnets and the switching method using the same}
도 1은 종래 기술에 따른 이온빔 스위치의 구성과 작동을 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치의 정면도.
도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치의 작동 상태를 나타내는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 이온빔 10, 110 : 스위치 전자석
20, 120 : 집속 전자석 130 : 이송 테이블
135 : 이송 수단 200 : 빔 이송관
본 발명은 이동이 가능하도록 구비되는 전자석을 이용한 이온빔 스위치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 스위치 전자석과 집속 전자석을 병렬로 배치하고 각 전자석을 이온빔이 조사되는 방향과 수직으로 왕복 이동시키는 이동 수단을 구비하여 이온빔이 스위치 전자석과 집속 전자석을 선택적으로 통과하도록 구성함으로써, 빔을 인출하지 않고 다음 가속 단계로 공급하는 경우에 빔이 스위치 전자석을 통과하지 않고 바로 집속 전자석 만을 통과하게 하여, 장치의 설치 공간 및 집속 전자석의 용량을 줄일 수 있는 이온빔 스위치에 관한 것이다.
가속기는 전하를 띤 입자, 즉 이온 입자를 생성한 후 여기에 전기장을 이용한 높은 전위차를 걸어 줌으로써 입자를 가속시켜 원하는 표적으로 이동시키는 장치이다.
이러한 가속기는 통상 가속되는 경로 상의 하나 이상의 지점에 가속된 이온빔을 원하는 방향으로 배분해주는 이온빔 스위치를 구비하여, 해당 위치에서 선택적으로 이온빔을 인출하여 외부의 이온빔 수요처에 공급하거나, 또는 다음 가속 단계로 계속 직진시켜 더 높은 에너지로 가속되도록 구성되어 있다.
종래의 이온빔 스위치는 도 1에 도시된 바와 같이, 이온빔(1)의 방향을 변환시켜주는 스위치 전자석(10)과 자유 공간에서 발산된 이온빔(1)을 집속해 주는 집속 전자석(20)으로 구성되어, 이온빔(1)의 공급 방향을 필요에 따라 전환시켜 주는 기능을 수행한다.
종래의 이온빔 스위치를 가속기의 빔 공급 라인의 일부에 구비하여 이온빔의 공급 방향을 전환하는 작동 방식은 다음과 같다.
먼저, 이온빔을 다음 가속 단계로 계속 직진시키기 위해서는, 도 1의 (a)에서와 같이, 스위치 전자석(10)에 흐르는 전류를 차단하여 스위치 전자석(10)을 OFF 시킴으로써, 이온빔이 그대로 스위치 전자석(10)을 통과하도록 한다. 여기서, 이온빔은 스위치 전자석(10) 내부를 포함하는 자유 공간을 구속 없이 통과하는 동안 점차 발산하게 되므로, 스위치 전자석(10)의 후방에 구비되는 집속 전자석(20)에 전류를 인가하여 발산된 이온빔을 다시 집속해줌으로써, 다음 가속 단계로 집속도가 좋은 이온빔이 공급될 수 있도록 한다.
한편, 이온빔을 외부의 수요처에 공급하기 위해서는, 도 1의 (b)에서와 같이, 스위치 전자석(10)에 전류를 인가함으로써 이온빔을 편향시켜 해당 수요처 방향으로 인출한다. 이 경우, 이온빔이 집속 전자석(20)을 통과하기 전에 외부로 인출되므로, 집속 전자석(20)으로 흐르는 전류를 차단하여 집속 전자석(20)을 OFF 시키게 된다.
이와 같이, 종래의 이온빔 스위치는 스위치 전자석과 집속 전자석을 직렬로 배열한 구조를 가지므로, 비교적 긴 설치 공간을 필요로 하여 전체 이온빔 가속 라인이 길어지는 단점이 있다.
또한, 이온빔을 다음 가속 단계로 직진시키는 경우에도 이온빔이 스위치 전자석을 불필요하게 통과하면서 발산되기 때문에 이를 다시 모아주기 위해서 집속 전자석의 용량이 커져야 한다는 문제점이 있다. 더불어, 스위치 전자석을 가동시켜 이온빔을 외부의 수요처로 공급하다가 다음 가속 단계로 이온빔을 직진시킬 필요가 있을 때, 스위치 전자석을 OFF 시킨 후에도 남아 있는 잔류 자기장을 상쇄시키는 작업이 필요하기 때문에, 빔의 진행 방향을 스위칭하는 데에 걸리는 시간이 많이 소요된다는 문제점도 있다.
본 발명의 목적은 상기한 종래의 이온빔 스위치가 가지는 문제점을 해결하는 데에 있다. 즉, 스위치 전자석과 집속 전자석을 병렬로 배치하고 각 전자석을 이온빔 조사 방향과 수직으로 왕복 이동시키는 이동 수단을 구비하여 이온빔이 스위치 전자석과 집속 전자석을 선택적으로 통과하도록 이온빔 스위치를 구성함으로써, 이온빔이 다음 가속 단계로 직진되는 경우 스위치 전자석을 통과하지 않고 집속 전자석 만을 바로 통과하게 하여 장치의 설치 공간을 절감하고 집속 전자석의 용량을 줄이는 데에 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 기술적 사상으로서의 본 발명은,
이온빔의 진행 방향을 편향시키는 스위치 전자석과;
발산되는 이온빔을 집속해주는 집속 전자석; 및
상기 스위치 전자석 및 집속 전자석을 병렬로 탑재하고 이온빔의 입사 방향과 수직으로 왕복 이동이 가능하도록 구성되어, 이온빔이 상기 스위치 전자석 또는 집속 전자석의 중심을 선택적으로 통과할 수 있도록 구비되는 이송 테이블;
을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치를 제공한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면에 의거하여 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치의 정면도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치는 이온빔의 진행 방향을 편향시키는 스위치 전자석(110)과, 스위치 전자석(110)의 일측에 병렬 배치되고 직진하는 이온빔을 집속해주는 집속 전자석(120) 및 스위치 전자석(110)과 집속 전자석(120)을 탑재하여 이동시키는 이송 테이블(130)로 구성된다.
이송 테이블(130)은 상면에 스위치 전자석(110) 및 집속 전자석(120)을 병렬로 탑재하고, 이송 수단(135)을 구비하여 지면상에서 이온빔이 입사되는 방향과 수직으로 이동할 수 있는데, 일정한 위치에 고정되어 있는 빔 이송관(미도시)이 스위치 전자석(110)의 중심을 관통하게 되는 위치와 집속 전자석(120)의 중심을 관통하게 되는 위치 사이를 왕복 이동하게 된다.
여기서, 이송 수단(135)으로는 이송 테이블(130) 하면에 구비되는 4륜 바퀴 또는 볼스크류(ball-screw) 등이 될 수 있으며, 바람직하게는 4륜 바퀴 또는 볼 스크류의 회전축에 서보 모터를 연결하여 서보 모터의 제어를 통해 이송 테이블(130)이 정확한 위치로 이동하도록 하는 것이 좋다.
스위치 전자석(110)은 C형 이극 전자석으로서, 인가되는 전류를 조절하여 그 중심부를 통과하는 이온빔의 편향 각도를 제어함으로써, 외부의 수요처로 정확하게 이온빔을 인출시킨다.
집속 전자석(120)은 사극 전자석으로서, 중심부를 통과하는 이온빔에 이온빔의 중심 방향으로 자기력을 가하여 다음 가속 단계로 진입하기 전까지 발산되지 않도록 이온빔을 집속해주게 된다. 여기서, 이온빔의 발산 정도는 이온빔이 통과하는 자유 공간의 길이에 따라 증가하므로, 집속 전자석(120)의 개수 및 크기를 장치 전체의 길이를 고려하여 조절함으로써, 집속 전자석이 필요한 최적의 용량을 갖도록 구성하는 것이 좋다.
도 3은 이온빔을 직진시키는 경우의 작동 상태를 도시한 도면이며, 도 4는 이온빔을 외부의 수요처로 공급하기 위하여 편향시키는 작동 상태을 도시한 도면이다. 여기서, 도면의 하측은 장치의 정면 즉 이온빔이 투입되는 위치에서 작동 상태를 바라본 모습이고, 상측은 장치의 상부에서 작동 상태를 내려다본 모습이다.
이하, 도 3 및 도 4를 참조하여, 상기한 바와 같이 구성된 본 발명의 일실시예에 따른 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치를 이용하여 이온빔을 배분하는 작동 과정을 설명하기로 한다.
먼저, 이온빔(1)을 다음 가속 단계로 계속 직진시키기 위해서는, 도 3에서와 같이, 이송 테이블(130)의 이송 수단(135)을 구동하여 빔 이송관(200)이 집속 전자석(120)의 중심부를 통과하게 되는 위치로 이송 테이블(130)을 이동시킨다.
이후, 집속 전자석(120)으로 전류를 인가하여 집속 전자석(120)을 ON 시킴으로써, 이온빔이 발산하지 않고 집속된 상태로 다음 가속 단계에 진입하도록 한다. 이 때 스위치 전자석(110)은 작동될 필요가 없으므로 OFF 상태로 유지시킨다.
한편, 이온빔(1)을 외부의 수요처에 공급하기 위해서는, 도 4에서와 같이, 이송 테이블(130)의 이송 수단(135)을 제어하여 빔 이송관(200)이 스위치 전자석(110)의 중심부를 통과하게 되는 위치로 이송 테이블(130)을 이동시킨다.
이후, 스위치 전자석(110)으로 전류를 인가하여 스위치 전자석(110)을 ON 시킴으로써, 이온빔이 빔 이송관(200)의 분기관(201) 측으로 편향되어 외부의 이온빔 수요처로 공급되게 한다. 이 때 집속 전자석(120)은 작동될 필요가 없으므로 OFF 상태로 유지시킨다.
이와 같이, 스위치 전자석과 집속 전자석을 병렬로 배치하고 필요에 따라 이온빔이 각 전자석을 선택적으로 통과하도록 이온빔 스위치를 구성함으로써, 길이가 짧은 이온빔 공급 라인을 구성할 수 있으며, 다음 가속 단계로 직진하기 위해 스위치 전자석을 통과하지 않게 되어 이온빔의 발산 정도가 작아 집속 전자석의 용량을 줄일 수 있다.
또한, 이온빔을 외부의 수요처에 공급하는 상태에서 다음 가속 단계로 직진시키는 상태로 전환시킬 때, 스위치 전자석의 잔류 자기장을 상쇄하기 위한 별도의 작업이 필요 없게 된다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부한 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에게 있어 명백하다 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치는 스위치 전자석과 집속 전자석이 병렬로 배치되므로 각 전자석이 직렬로 배치된 종래의 이온빔 스위치에 비하여 길이가 짧은 이온빔 공급 라인을 구성할 수 있으며, 다음 가속 단계로 직진하기 위해 스위치 전자석을 통과하지 않으므로 이온빔의 발산 정도가 작아 집속 전자석의 용량을 줄여 단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.
또한, 이온빔을 외부의 수요처에 공급하는 상태에서 다음 가속 단계로 직진시키는 상태로 전환시킬 때, 스위치 전자석의 잔류 자기장을 상쇄하기 위한 별도의 작업이 필요 없으므로, 전환 시간을 단축시키는 동시에 운영 비용을 절감할 수 있다.

Claims (3)

  1. 이온빔 가속기에 구비되어 이온빔의 공급 방향을 전환해주는 이온빔 스위치에 있어서,
    이온빔의 진행 방향을 편향시키는 스위치 전자석과;
    발산되는 이온빔을 집속해주는 집속 전자석; 및
    상기 스위치 전자석 및 집속 전자석을 병렬로 탑재하고 이온빔의 입사 방향과 수직으로 왕복 이동이 가능하도록 구성되어, 이온빔이 상기 스위치 전자석 또는 집속 전자석의 중심을 선택적으로 통과할 수 있도록 구비되는 이송 테이블;
    을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 스위치 전자석은,
    C형 이극 전자석으로서,
    인가되는 전류를 조절하여 중심부를 통과하는 이온빔의 편향 각도를 조절하는 것을 특징으로 하는 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위치.
  3. 이온빔의 진행 방향을 편향시키는 스위치 전자석과, 발산되는 이온빔을 집속해주는 집속 전자석 및 상기 스위치 전자석 및 집속 전자석을 병렬로 탑재하고 이 온빔의 입사 방향과 수직으로 왕복 이동하는 이송 테이블로 구성되는 이온빔 스위치를 이용하여 이온빔을 스위칭하는 방법에 있어서,
    이온빔을 다음 가속 단계로 공급하는 경우, 빔 이송관이 상기 집속 전자석의 중심부를 통과하게 되는 위치로 상기 이송 테이블을 이동시킨 후, 상기 집속 전자석은 ON 시키고 상기 스위치 전자석은 OFF 시킴으로써, 이온빔이 발산되지 않고 다음 가속 단계로 공급되게 하고,
    이온빔을 편향시켜 외부의 이온빔 수요처로 공급하는 경우, 빔 이송관이 상기 스위치 전자석의 중심부를 통과하게 되는 위치로 상기 이송 테이블을 이동 시킨 후, 상기 스위치 전자석은 ON 시키고 상기 집속 전자석은 OFF 시킴으로써, 이온빔을 편향시켜 이온빔 수요처로 인출하는 것을 특징으로 하는 이동 가능한 전자석을 이용한 이온빔 스위칭 방법.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5481116A (en) 1994-06-10 1996-01-02 Ibis Technology Corporation Magnetic system and method for uniformly scanning heavy ion beams
US6956225B1 (en) 2004-04-01 2005-10-18 Axcelis Technologies, Inc. Method and apparatus for selective pre-dispersion of extracted ion beams in ion implantation systems
KR20060018706A (ko) * 2004-08-25 2006-03-02 주식회사 하이닉스반도체 이온 주입 장치
KR20060068105A (ko) * 2004-12-15 2006-06-21 동부일렉트로닉스 주식회사 이온 주입 장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5481116A (en) 1994-06-10 1996-01-02 Ibis Technology Corporation Magnetic system and method for uniformly scanning heavy ion beams
US6956225B1 (en) 2004-04-01 2005-10-18 Axcelis Technologies, Inc. Method and apparatus for selective pre-dispersion of extracted ion beams in ion implantation systems
KR20060018706A (ko) * 2004-08-25 2006-03-02 주식회사 하이닉스반도체 이온 주입 장치
KR20060068105A (ko) * 2004-12-15 2006-06-21 동부일렉트로닉스 주식회사 이온 주입 장치

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