KR100701390B1 - Wafer profiler of a wafer stage - Google Patents

Wafer profiler of a wafer stage Download PDF

Info

Publication number
KR100701390B1
KR100701390B1 KR1020020086389A KR20020086389A KR100701390B1 KR 100701390 B1 KR100701390 B1 KR 100701390B1 KR 1020020086389 A KR1020020086389 A KR 1020020086389A KR 20020086389 A KR20020086389 A KR 20020086389A KR 100701390 B1 KR100701390 B1 KR 100701390B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
sample
profiler
stage
wafer stage
Prior art date
Application number
KR1020020086389A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040059884A (en
Inventor
노문홍
Original Assignee
동부일렉트로닉스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동부일렉트로닉스 주식회사 filed Critical 동부일렉트로닉스 주식회사
Priority to KR1020020086389A priority Critical patent/KR100701390B1/en
Publication of KR20040059884A publication Critical patent/KR20040059884A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100701390B1 publication Critical patent/KR100701390B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68735—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by edge profile or support profile

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

본 발명은 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지에 관한 것으로서, 웨이퍼 프로파일러의 측정테이블(미도시)상에 이동가능하게 설치되며, 상측면에 측정하고자 하는 시료(14)가 안착되는 웨이퍼 스테이지(10)에 있어서, 일측에 시료지지대(13)가 고정되며, 시료지지대(13) 상단에 시료(14)가 고정되는 것으로서, 웨이퍼 프로파일러로 시료의 프로파일을 측정시 웨이퍼 스테이지에 시료가 부착됨으로써 웨이퍼 스테이지에 시료를 로딩/언로딩되는 시간을 절약할뿐만 아니라 정확한 데이터 수집이 가능하여 수율을 향상시키며, 시료가 오염되거나 파손되는 것을 방지하는 효과를 가지고 있다. The present invention relates to a wafer stage of a wafer profiler, which is movably installed on a measurement table (not shown) of the wafer profiler, and on a wafer stage 10 on which a sample 14 to be measured is placed on an upper side. In this case, the sample support 13 is fixed to one side, and the sample 14 is fixed to the upper end of the sample support 13, and the sample is attached to the wafer stage when the profile of the sample is measured by the wafer profiler. It not only saves the time of loading / unloading, but also improves the yield by enabling accurate data collection, and has the effect of preventing the sample from being contaminated or broken.

Description

웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지{WAFER PROFILER OF A WAFER STAGE}Wafer Profiler Wafer Stage {WAFER PROFILER OF A WAFER STAGE}

도 1은 종래의 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지에 시료가 안착된 것을 도시한 사시도이고,1 is a perspective view illustrating a sample seated on a wafer stage of a conventional wafer profiler;

도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지를 도시한 정면도이다.2 is a front view showing the wafer stage of the wafer profiler according to the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

11 ; 스테이지 12 ; 홀더11; Stage 12; holder

13 ; 시료지지대 14 ; 시료13; Sample support 14; sample

본 발명은 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 프로파일러로 시료의 프로파일을 측정시 웨이퍼 스테이지에 시료가 부착됨으로써 웨이퍼 스테이지에 시료를 로딩/언로딩되는 시간을 절약할뿐만 아니라 정확한 데이터 수집이 가능하여 수율을 향상시키는 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer stage of a wafer profiler, and more particularly, the sample is attached to the wafer stage when measuring the profile of the sample with the wafer profiler, thereby saving time for loading / unloading the sample on the wafer stage. It relates to a wafer stage of a wafer profiler that enables accurate data collection to improve yield.

일반적으로, 웨이퍼의 단차를 측정하기 위한 웨이퍼 프로파일러(wafer profiler)는 그 스탠다드(standard) 값이 시료에서 측정하여 얻어진 값이다. 이러한 시료는 웨이퍼의 형상을 가지는 것이 아니라 일정한 크기의 사각형상의 플레이트로서 작업자가 웨이퍼 프로파일러의 도어를 열고, 시료를 웨이퍼 스테이지(wafer stage)에 손으로 올려 놓은 다음 측정한다.Generally, a wafer profiler for measuring a wafer step is a value obtained by measuring a standard value on a sample. These samples do not have the shape of a wafer but are rectangular plates of constant size, which the operator opens the door of the wafer profiler, places the sample on the wafer stage by hand, and then measures it.

종래의 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지를 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다.The wafer stage of the conventional wafer profiler will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지에 시료가 안착된 것을 도시한 사시도이다. 도시된 바와 같이, 종래의 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지(1)는 측정테이블(미도시)상에 X축, Y축 및 Z축으로 이동 가능한 스테이지(2)의 상측에 홀더(3)가 구비되며, 홀더(3)에는 시료(4)가 작업자의 손에 의해 수동으로 놓여진다.1 is a perspective view showing that a sample is seated on a wafer stage of a conventional wafer profiler. As shown, the wafer stage 1 of the conventional wafer profiler is provided with a holder 3 on the upper side of the stage 2 that is movable in the X, Y and Z axes on a measurement table (not shown). In the holder 3, the sample 4 is manually placed by a worker's hand.

이러한 종래의 웨이퍼 프로파일러는 센터 리피터빌리티(center repeatability) 측정은 되지만 시료(4)가 자동으로 로딩/언로딩되지 않기 때문에 리프로덕시빌리티(reproducibility)의 측정이 불가능하다.Such a conventional wafer profiler makes center repeatability measurements but cannot measure reproducibility because the sample 4 is not automatically loaded / unloaded.

또한, 스테이지(2)의 홀더(3)에 시료(4)를 손으로 로딩/언로딩하기 때문에 측정작업에 시간이 많이 소요될뿐만 아니라 시료(4)가 오염됨은 물론 작업자의 부주의로 인해 파손되는 문제점을 가지고 있었다.In addition, since the sample 4 is loaded / unloaded into the holder 3 of the stage 2 by hand, not only the measurement work takes much time but also the sample 4 is contaminated and damaged due to carelessness of the operator. Had

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 웨이퍼 프로파일러로 시료의 프로파일을 측정시 웨이퍼 스테이지에 시료가 부착 됨으로써 웨이퍼 스테이지에 시료를 로딩/언로딩되는 시간을 절약할뿐만 아니라 정확한 데이터 수집이 가능하여 수율을 향상시키며, 시료가 오염되거나 파손되는 것을 방지하는 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, an object of the present invention is to save the time to load / unload the sample on the wafer stage by attaching the sample to the wafer stage when measuring the profile of the sample with the wafer profiler. In addition, it provides a wafer stage of a wafer profiler that enables accurate data collection, improves yield, and prevents samples from being contaminated or broken.

이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은, 웨이퍼 프로파일러의 측정테이블상에 이동가능하게 설치되며, 상측면의 홀더에 측정하고자 하는 시료가 안착되는 웨이퍼 스테이지에 있어서, 측면에 시료지지대가 고정되며, 시료가 홀더에 이웃하도록 시료지지대의 상단에 고정되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is installed on the measuring table of the wafer profiler so as to be movable, and in the wafer stage on which the sample to be measured is mounted on the holder of the upper side, the sample support is fixed to the side surface, It is characterized in that the sample is fixed to the top of the sample support so as to be adjacent to the holder.

이하, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지를 도시한 정면도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지(10)는, 측정테이블(미도시)상에 이동 가능하도록 스테이지(11)가 설치되고, 스테이지(11) 상측에 홀더(12)가 구비되며, 스테이지(11)의 일측에 시료지지대(13)가 고정되고, 시료지지대(13) 상단에 시료(14)가 고정된다.2 is a front view showing the wafer stage of the wafer profiler according to the present invention. As shown, in the wafer stage 10 of the wafer profiler according to the present invention, the stage 11 is installed to be movable on a measurement table (not shown), and the holder 12 is disposed above the stage 11. Is provided, the sample support 13 is fixed to one side of the stage 11, the sample 14 is fixed to the upper end of the sample support (13).

스테이지(11)는 웨이퍼 프로파일러(wafer profiler)의 측정테이블(미도시)상에 X축, Y축 및 Z축으로 이동가능하게 설치되며, 상측에 웨이퍼(미도시)등이 안착되는 홀더(12)가 구비된다. The stage 11 is installed on the measurement table (not shown) of the wafer profiler so as to be movable in the X, Y, and Z axes, and a holder 12 on which a wafer (not shown) is seated. ) Is provided.                     

시료지지대(13)는 도 2에 도시된 바와 같이, 스테이지(11)의 측면에 볼트(B1)로 고정되며, 상단이 시료(14)의 하측에 볼트(B2)로 고정되어 시료(14)를 홀더(12)에 이웃하도록 위치시켜서 스테이지(11)와 함께 이동하도록 지지한다. As shown in FIG. 2, the sample support 13 is fixed to the side of the stage 11 with bolts B 1 , and the upper end thereof is fixed to the lower side of the sample 14 with bolts B 2 . ) Is positioned adjacent to the holder 12 to support movement with the stage 11.

시료(14)는 시료지지대(13) 상단에 고정되어 그 상측면이 홀더(12)의 상측면과 비슷한 높이에 위치한다. The sample 14 is fixed to the upper end of the sample support 13 so that its upper side is located at a height similar to the upper side of the holder 12.

이와 같은 구조로 이루어진 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지의 작용은 다음과 같이 이루어진다.The wafer stage of the wafer profiler having such a structure is performed as follows.

시료(14)는 스테이지(11)에 고정되어 스테이지(11)와 함께 이동됨으로써 시료(14)의 프로파일 측정이 가능하다.The sample 14 is fixed to the stage 11 and moved together with the stage 11, so that the profile of the sample 14 can be measured.

그러므로, 시료(14)를 스테이지(11)상의 홀더(12)에 손으로 로딩하거나 언로딩할 필요가 없이 스테이지(11)의 이동만으로도 시료(14)의 로딩/언로딩이 자동으로 수행됨으로써 리프로덕시빌리티(reproducibility)가 가능하므로 시료(14)의 측정값을 정확하게 얻을 수 있을뿐만 아니라 시료(14)의 로딩/언로딩 시간을 단축할 수 있으며, 이로 인해 수율향상에도 도움을 준다.Therefore, there is no need to manually load or unload the sample 14 into the holder 12 on the stage 11, so that the loading / unloading of the sample 14 is automatically performed by simply moving the stage 11 to the leaf. Since reproducibility is possible, not only the measurement value of the sample 14 can be accurately obtained, but also the loading / unloading time of the sample 14 can be shortened, which also helps to improve the yield.

또한, 시료(14)가 작업자의 손을 거치지 않고 로딩/언로딩되기 때문에 시료(14)가 접촉에 의해 오염되거나 파손되는 것을 방지할 수 있다.In addition, since the sample 14 is loaded / unloaded without passing through the operator's hand, the sample 14 can be prevented from being contaminated or broken by contact.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지는 웨이퍼 프로파일러로 시료의 프로파일을 측정시 웨이퍼 스테이지에 시료가 부착됨 으로써 웨이퍼 스테이지에 시료를 로딩/언로딩되는 시간을 절약할뿐만 아니라 정확한 데이터 수집이 가능하여 수율을 향상시키며, 시료가 오염되거나 파손되는 것을 방지하는 효과를 가지고 있다.As described above, the wafer stage of the wafer profiler according to the present invention not only saves the time of loading / unloading the sample on the wafer stage by attaching the sample to the wafer stage when measuring the profile of the sample with the wafer profiler. Accurate data collection enables improved yield and prevents contamination or damage of samples.

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment for carrying out the wafer stage of the wafer profiler according to the present invention, and the present invention is not limited to the above-described embodiment, and as claimed in the following claims, the present invention Without departing from the gist of the present invention, those skilled in the art to which the present invention pertains to the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.

Claims (1)

웨이퍼 프로파일러의 측정테이블상에 이동가능하게 설치되며, 상측면의 홀더에 측정하고자 하는 시료가 이웃하는 웨이퍼 스테이지에 있어서,In the wafer stage, which is movably mounted on the measurement table of the wafer profiler, and the sample to be measured is placed in the holder on the upper side, 상기 측정테이블상에 이동 가능하도록 설치되는 스테이지의 측면에 시료지지대가 고정되며, 상기 시료가 상기 홀더에 이웃하도록 상기 시료지지대의 상단에 고정되는 것The sample support is fixed to the side of the stage that is installed to be movable on the measuring table, the sample is fixed to the top of the sample support so that the sample is adjacent to the holder 을 특징으로 하는 웨이퍼 프로파일러의 웨이퍼 스테이지.Wafer stage of the wafer profiler, characterized in that.
KR1020020086389A 2002-12-30 2002-12-30 Wafer profiler of a wafer stage KR100701390B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020086389A KR100701390B1 (en) 2002-12-30 2002-12-30 Wafer profiler of a wafer stage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020086389A KR100701390B1 (en) 2002-12-30 2002-12-30 Wafer profiler of a wafer stage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040059884A KR20040059884A (en) 2004-07-06
KR100701390B1 true KR100701390B1 (en) 2007-03-28

Family

ID=37351848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020086389A KR100701390B1 (en) 2002-12-30 2002-12-30 Wafer profiler of a wafer stage

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100701390B1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0783999A (en) * 1993-09-14 1995-03-31 Nikon Corp Board holding device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0783999A (en) * 1993-09-14 1995-03-31 Nikon Corp Board holding device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040059884A (en) 2004-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101897638B1 (en) High-precision automatic test equipment
CN212160008U (en) Fpga based integrated circuit chip testing machine
KR100878211B1 (en) Probe station, and testing method of wafer using the same
KR20160047803A (en) Fork robot and methode of calculating inserting distance of a fork
KR100701390B1 (en) Wafer profiler of a wafer stage
KR101701213B1 (en) Device for testing flatness
US6332275B1 (en) Margin inspector for IC wafers
US20130021604A1 (en) Automated Sample Positioning System For Ellipsometers
KR102039088B1 (en) Apparatus for holding specimen
CN210664200U (en) Micrometer horizontal dimension measuring instrument
CN213067448U (en) Laser detection device
CN205482865U (en) Size automatic checkout device
CN213515457U (en) Tool for measuring vertical warping degree of strip
CN110487159B (en) Warp detection device and method for Tray disk for loading IC
CN212301756U (en) Semiconductor testing device
CN212321350U (en) Auxiliary tool for brinell hardness indentation measurement
CN108987324B (en) Wafer bearing equipment
CN213399191U (en) Circuit board film inspection auxiliary device
JPH10209231A (en) Probe apparatus and test method by probe apparatus
JP2613970B2 (en) Wafer carrier distortion measuring instrument
CN220120074U (en) Building engineering material detection device
CN218239676U (en) Detection device
CN216846195U (en) Three-coordinate test fixture and three-coordinate measuring instrument
CN215639132U (en) Dimension inspection jig
CN213336013U (en) Profile tolerance measuring device

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee