KR100691509B1 - Device and method for measuring view angle of wafer level led - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명에 의한 장치의 기본적인 구성도1 is a basic configuration diagram of an apparatus according to the present invention
도 2는 본 발명에 의한 포토다이오드에 의한 발광소자의 광도측정 개념도 2 is a conceptual diagram of photometric measurement of a light emitting device using a photodiode according to the present invention.
도 3은 본 발명에 의한 발광소자의 광 분포도3 is a light distribution diagram of a light emitting device according to the present invention;
도 4는 본 발명에 의한 패키지된 발광소자4 is a packaged light emitting device according to the present invention
도 5는 본 발명에 의한 웨이퍼 수준의 발광소자 광도 측정5 is a photometric measurement of the light emitting device at the wafer level according to the present invention
도 6은 본 발명에 의한 웨이퍼 수준의 발광소자 광도측정 정면도6 is a front view of the light-emitting device photometric measurement of the wafer level according to the present invention
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10: 암10: cancer
11: 포토다이오드11: photodiode
20: 검사침20: probe
21: 검사침 홀더21: probe holder
30: 웨이퍼30: wafer
31: 발광소자31: light emitting element
31a: 에폭시 몰딩31a: epoxy molding
31b: 와이어본딩31b: wire bonding
31c: 발광소자 리드31c: light emitting element lead
32: 포지션마크32: position mark
40: 척40: Chuck
41: 흡착홀41: adsorption hole
50: 모터50: motor
60: 발광소자 광도 측정결과60: light intensity measurement result
61: 발광소자 광도 최고값61: maximum luminous intensity of light emitting device
62: 발광소자 광도 50% 라인62: light emitting device
62a, 62b: 50%라인 광도값과 중심점 연결선62a, 62b: 50% line luminance value and center line connection
본 발명은 웨이퍼 수준의 발광소자 지향각(View Angle) 측정방법 및 장치에 관한 것으로, 더욱 상세히는 웨이퍼에서 아직 분리되지 않은 발광소자의 배광특성을 측정하여 발광소자가 갖추어야할 배광 특성에 따른 지향각이 적절하지 못할 경우에 웨이퍼 수준에서 선별할 수 있도록 하기 위하여 안출된 것이다.The present invention relates to a method and a device for measuring a viewing angle of a light emitting device at a wafer level, and more particularly, to a light emitting device having a light emitting device that is not yet separated from a wafer by measuring light distribution characteristics of the light emitting device. If this is not the case, it is designed to allow selection at the wafer level.
현재 다양한 분야에서 사용되고 있는 발광소자(LED: light emitting diode)는 반도체에 전원을 인가하여 발광현상이 발생하도록 한 것으로 이 발광현상은 전기장 발광이라고 하며, 발광소자에 적합한 재료로는 발광파장이 가시 또는 근적외영역에 존재하여야 하고, 발광효율이 높아야 하며, 다수개의 발광 소자를 연결하여 접합 제작이 가능하여야 하는 조건을 만족시키는 것으로, 주로 비소화갈륨 GaAs, 인화갈륨 GaP, 갈륨-비소-인 GaAs1-x Px, 갈륨-알루미늄-비소 Ga1-xAlxAs, 인화인듐 InP, 인듐-갈륨-인 ln1-xGaxP 등 3B 및 5B족인 2원소 또는 3원소 화합물 반도체가 사용되고 있는데, 2B, 6B족이나 4A, 4B족인 것을 사용하기 위한 시도도 진행되고 있다. Light emitting diodes (LEDs), which are currently used in various fields, generate light emission by applying power to a semiconductor. This light emission phenomenon is called electric field emission. It must be present in the near-infrared region, have high luminous efficiency, and satisfy the condition that joining can be made by connecting a plurality of light emitting devices, and is mainly gallium arsenide GaAs, gallium phosphide GaP, and gallium arsenide-GaAs1- 2B, 6B or 4A, 4B group semiconductors of 3B and 5B groups, such as x Px, gallium-aluminum-arsenic Ga1-xAlxAs, indium phosphide InP, and indium-gallium phosphorus ln1-xGaxP, are used. Attempts are being made to use.
그러나 미세한 공정을 통해서 생산하는 발광소자는 항상 미세한 공정상의 차이에 의하여 제품 품질의 변화 즉 발광 소자의 발광 능력의 차이를 가져올 여지를 내포하고 있기 때문에 필수적으로 발광소자의 발광능력 특히 발광에 따른 지향각을 중점적으로 살펴 그 품질을 일률적으로 유지하여야 한다.However, the light emitting devices produced through the fine process always have the possibility of changing the product quality, that is, the light emitting ability of the light emitting devices due to the minute process differences, so it is essential that the light emitting devices have the light emitting ability, in particular, the orientation angle according to the light emission. The quality should be maintained uniformly.
따라서 이를 위하여 기존에 사용하였던 방법으로는 웨이퍼 수준의 발광소자가 아닌 발광소자를 웨이퍼에서 잘라내어 개별 칩으로 만들고 이를 리드가 달려있는 TO캔에 부착하고 전극에 와이어 본딩을 하여 전원과 연결될 수 있도록 구성된 발광소자로 생산단계에서 발광소자의 전기적 특성과 발광능력 등의 테스트를 거치게 된다.Therefore, the conventional method used for this purpose is to cut the light emitting devices, not the wafer-level light emitting devices, from the wafer into individual chips, attach them to TO cans with leads, and wire-bond the electrodes to be connected to a power source. In the production stage, the device is tested for the electrical characteristics and the light emitting ability of the light emitting device.
따라서 이를 위하여 기존에 사용하였던 방법으로는 웨이퍼 수준의 발광소자가 아닌 발광소자에 플라스틱 몰딩을 하고 리드가 부착되어 전원과 연결될 수 있도록 구성되어 있는 패키지된 발광소자로 생산된 단계에서 발광소자의 전기적 특성과 발광능력 등의 테스트를 거치게 된다.Therefore, the conventional method used for this purpose is the electrical characteristics of the light emitting device in the step of producing a packaged light emitting device which is configured to be connected to the power supply by attaching a plastic molding to the light emitting device rather than the wafer level light emitting device And light emitting ability.
그러나 이러한 방법은 개별적인 과정을 통해 제품의 품질검사를 수행하여야 하므로 품질 검사에 소요되는 시간이 과도하고, 품질이 확인되지 않은 발광소자를 TO캔에 장착하기 위하여 소요되는 시간과 비용문제에 있어서도 불필요한 낭비를 초래하는 근본적인 원인으로 그 문제점이 제기되어 왔다.However, this method requires the quality inspection of the product through a separate process, so the time required for quality inspection is excessive, and unnecessary waste in the time and cost for the installation of light emitting devices whose quality is not confirmed in the TO can. The problem has been raised as a fundamental cause of the problem.
따라서 본 발명에서는 웨이퍼에 발광소자가 부착되어 발광소자가 낱개로 분리되기 이전인 다이싱 이전 상태에서 웨이퍼 수준의 발광소자 지향각 측정방법 및 장치를 제안하고자 한다.Accordingly, the present invention proposes a method and an apparatus for measuring the orientation angle of a light emitting device at a wafer level in a dicing state before the light emitting device is attached to a wafer and the light emitting devices are separated.
본 발명의 목적은 웨이퍼 수준에서 발광소자의 지향각을 측정하기 위한 것으로, 더욱 상세하게는 웨이퍼 수준의 발광소자와 포토다이오드를 정렬시키고 발광소자에 전원을 인가하여 웨이퍼 수준의 발광소자의 지향각을 측정하기 위하여 안출된 것이다.An object of the present invention is to measure the orientation angle of a light emitting device at the wafer level, and more specifically, to align the wafer-level light emitting device and the photodiode and apply power to the light emitting device to determine the orientation angle of the light emitting device at the wafer level. It was designed to measure.
상기 목적을 달성하기 위하여 발광소자가 웨이퍼에 부착된 웨이퍼 수준의 발광소자 또는 웨이퍼 수준에서 패키지된 발광소자의 지향각을 측정하기 위하여, 프로버에 설치된 척(40)에 웨이퍼를 정열 하여 설치하는 단계와, 척을 암의 회전 중심과 정렬하는 단계와, 검사침(20)을 웨이퍼 수준의 발광소자에 접속시키고 검사침에 전원을 인가하여 웨이퍼(30) 수준의 발광소자(31) 또는 웨이퍼 수준에서 패키지된 발광소자가 빛을 발하도록 하는 단계와, 모터(50)의 회전에 의해 암(10)이 회전하고 암(10)에 부착된 포토다이오드 (11)에 의해 웨이퍼 수준의 발광소자(31) 또는 웨이퍼 수준에서 패키지된 발광소자의 지향각(θ)을 측정하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하며, 상기 방법을 달성할 수 있는 장치로 구성된다.In order to achieve the above object, in order to measure the orientation angle of the light emitting device packaged at the wafer level or the wafer level attached to the wafer, the wafer is aligned and installed on the
이하 제시된 도면을 참조하면서 본 발명의 구성에 대하여 더욱 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 장치의 기본적인 구성도로 암(10)이 부착되고 암(10)에 끝에는 발광소자(31)의 광도를 측정할 수 있는 센서(11:이하 포토 다이오드)가 부착되어 있고 암은 모터에 의하여 회전운동을 하도록 구성되어 있으며, 웨이퍼(30)는 프로버(Prober)에 설치된 척(40)에 설치되고 척(40)에 설치된 웨이퍼(30)의 높이는 암(10)의 회전 중심 즉 암을 회전시키는 모터(50)의 회전 중심과 동일한 높이에 설치됨으로써 암의 회전에 따라 발광소자(31)의 광도를 측정하는데 오차가 없도록 구성되어 있다.1 is a basic configuration of an apparatus according to the present invention, the
또한 척(40)에는 흡착홀(41)이 구성되어 있어서 흡착홀(41)을 진공상태로 하면 웨이퍼(30)가 척(40)에 부착되어 움직이지 않고 고정된 상태로 위치하게 되는 것이며, 프로버에는 2개의 검사침(20)이 설치되게 되는데 이 검사침(20)의 역할은 발광소자(31)에 전원을 인가하는 기능을 수행하게 되는데, 발광소자(31)에 전원을 인가하게 되면 발광소자(31)가 빛을 발하게 되며 이때 빛을 발하는 발광소자(31)의 발광특성을 포토다이오드(11)를 이용하여 측정하게 되는 것이다.In addition, the
도 2는 발광소자(31)의 발광에 따라 암에 설치된 포토 다이오드(11)가 회전하면서 발광소자(31)의 광도를 측정하여 측정된 결과로부터 지향각을 구하게 되는 과정을 표현한 도면으로, 사용자는 암(10)에 부착된 포토다이오드(11)의 최대 회전 각도 등을 선택하여 조절할 수 있도록 구성되어 있으며, 포토 다이오드(11)가 측정한 발광소자(31)의 발광의 강도 즉 광도를 데이터로써 저장하고 사용자는 데이터 분석을 통해 발광소자(31) 적합성 여부를 판별할 수 있게 되는 것으로 화살표의 두께는 발광소자(31)에 전원을 인가하였을 때 발생하는 발광소자(31)의 광도를 의미한다.FIG. 2 is a view illustrating a process of obtaining a directivity angle from the measured result by measuring the luminous intensity of the
도 3은 발광소자(31)의 광 분포 측정 결과(60)를 도식화한 것으로 100%라인(61)은 발광소자(31)의 광도를 암(10)에 부착된 포토다이오드(11)를 이용하여 회전하면서 측정하였을 때 광도가 최고인 값(Imax: Intensity Max, 61)을 중심으로 프로파일을 형성한 것이고, 50%라인(62)은 최고치(Imax)의 절반값에 해당하는 영역을 중심으로 프로파일을 형성한 것인데, 여기에서 50%는 국제적인 측정방법의 기준으로 사용되고 있으며, 광분포의 50%라인(62)과 축의 중심을 연결한 두 개의 직선(62a, 62b)이 이루는 각을 지향각(θ)이라 하며, 이 지향각과 관련된 기준은 국제 표준 규격에 정해져 있다.3 shows the light
도 4는 패키지된 발광소자를 표현하고 있는 도면으로, 발광소자를 에폭시 몰딩(31a)으로 감싸고 있으며, 발광소자에는 와이어본딩(31b)이 되어 있어 전원이 인가될 수 있도록 하는 기능을 담당하게 되며, 패키지된 발광소자는 리드(31c)가 부착되어 있어서 외부의 전원이 발광소자에 공급될 수 있도록 하는 기능을 담당하게 되는 것이다.4 is a diagram representing a packaged light emitting device, the light emitting device is wrapped in an
도 5는 발광소자가 부착된 웨이퍼를 표현한 것으로, 웨이퍼 크기에 따라 차이가 있으나 하나의 웨이퍼(30)에는 약 1만 5천 개의 발광소자(31)가 형성되며, 웨이퍼(30)는 완전한 원으로 이루어져 있지 않고 웨이퍼의 일부분이 직선처리되어 웨이퍼의 방향 또는 기타 설치조건을 잡기 위하여 사용되는 기준요소가 될 수 있고, 또한 웨이퍼(30)에는 포지션마크(32)가 형성되어 있어서 포지션 마크(32)를 이용하여 웨이퍼(30)를 척(40)에 설치하고 척의 이동을 통해 웨이퍼(30)의 절대좌표를 찾기 위한 기준으로서의 역할을 수행하여, 웨이퍼(30)수준의 발광소자(31)의 지향각을 측정하고자 하는 사람이 원하는 발광소자(31)의 위치를 찾아갈 수 있는 기준점으로서의 역할을 하게 된다.5 shows a wafer to which a light emitting device is attached. Although there are differences depending on the size of the wafer, about 15,000
또한 웨이퍼에 형성된 발광소자는 웨이퍼의 크기에 따라 그 개수가 다르지만, 약 1만 5천 개의 발광소자가 형성된 경우 1만 5천 개 모두의 지향각을 측정하는 것은 아니며, 하나의 발광소자의 전기 및 광 특성은 대체로 인근에 위치한 발광소자의 전기 및 광 특성과 유사하기 때문에 하나의 웨이퍼에서 약 9개 정도의 발광소자(31)의 특성을 측정하게 되면 전체적인 웨이퍼 수준의 발광소자 모두는 9개 정도의 발광소자(31)가 대별한다고 판단해도 큰 무리는 없다.In addition, although the number of light emitting elements formed on the wafer varies depending on the size of the wafer, when about 15,000 light emitting elements are formed, not all 15,000 orientation angles are measured. Since the optical characteristics are generally similar to the electrical and optical characteristics of nearby light emitting devices, when measuring the characteristics of about nine light emitting
도 6은 정면도로서 이동할 수 있는 척(40) 위에 웨이퍼(30)가 진공 흡착되어 고정되고, 검사침(20)에 의하여 웨이퍼 수준의 발광소자(31)에 전원이 인가되면, 발광소자는 빛을 발하게 되고 이때 모터(50)에 의하여 암(10)이 회전하고 암에 부착된 포토다이오드(11)가 발광소자의 광도를 측정하게 되는 것이다.FIG. 6 shows that the
전체적인 장치의 구성과 작동 과정을 살펴보면 다음과 같이 설명할 수 있는데, 먼저 프로버에는 모터(50)에 의하여 동작하는 포토타이오드(11)가 부착된 암(10)이 설치되고, 하부에는 정확한 좌표값에 의하여 상하 좌우로 움직일 수 있고 흡착홀(41)이 구성되어 웨이퍼(30)을 진공 흡착하여 고정할 수 있는 척(40)이 설치되며, 웨이퍼(30)에는 좌표값을 설정하기 위한 포지션 마크(32)가 있어서 절대 좌 표값에 의하여 웨이퍼를 정렬시킬 수 있는 기준으로서의 역할을 수행하고, 웨이퍼 수준의 발광소자(31)에 전원을 인가하여 빛을 발할 수 있도록 하기 위한 검사침(20) 2개가 설치되게 된다.Looking at the overall configuration and operation of the device can be described as follows, first, the
이들의 동작구조를 살펴보면, 먼저 척(40)에 웨이퍼가 설치되고 설치된 웨이퍼는 흡착홀(41)에 의하여 진공 흡착되어 고정되고, 웨이퍼에 구성된 포지션마크(32)를 기준점으로 하여 이를 기준 좌표값으로 발광소자 위치가 정렬되어 포토다이오드(11)와 웨이퍼에 구성된 발광소자가 일직선으로 정렬이 이루어지며, 웨이퍼 표면의 위치와 모터의 구동축의 중심의 정렬이 이루어지고, 검사침에 의하여 전원이 인가되어 발광소자가 발광을 하게 되면 모터(50)에 의한 암(10)이 회전을 하게 되고 이때 암에 부착된 포토다이오드(11)에 의해 발광소자의 광도를 측정하게 되고 암의 각도에 따른 측정된 광도값들을 이용하여 지향각을 계산하는 과정으로 이루어지게 되는 것이다.Looking at these operating structures, the wafer is first installed in the
여기에서 웨이퍼의 포지션 마크에는 발광소자가 구성되어 있지 않으며, 웨이퍼와 포토다이오드의 정렬은 육안으로 프로버에 설치된 현미경을 통해 이루어지거나 자동으로 이루어질 수도 있고, 모터의 회전량 즉 회전 각도는 작업자의 설정에 따라 이루어지게 되며 포토다이오드에 의해 측정된 결과는 소프트웨어에 의해 처리되게 된다.Here, the position mark of the wafer does not include a light emitting element, and the alignment of the wafer and the photodiode may be performed through a microscope installed on the prober visually or automatically, and the amount of rotation of the motor, that is, the angle of rotation is set by the operator. And the result measured by the photodiode is processed by the software.
또한 웨이퍼 수준 즉 웨이퍼에서 발광소자가 분리되지 않은 상태에서 발광소자의 발광 특성을 측정하기 위해서는 암의 회전에 방해하는 요소가 없어야 하는데, 가장 큰 방해요소는 검사침이 설치된 검사침 홀더와 관련된 요소들과 현미경이 방 해요소가 될 수 있기 때문에 검사침을 암의 동작에 방해하지 않는 장소에 위치하도록 하고 포토다이오드의 위치는 척과 현미경 사이에 위치하는 게 바람직하다.In addition, in order to measure the light emission characteristics of the light emitting device when the light emitting device is not separated from the wafer, there should be no obstacle to rotation of the arm. The biggest obstacle is the elements related to the test needle holder with the test needle installed. Because the microscope can be a barrier, the needle should be placed in a location that does not interfere with the operation of the arm and the photodiode should be positioned between the chuck and the microscope.
상기와 같이 웨이퍼 수준에서 최초의 발광소자의 발광 특성을 측정하게 되면, 다음 단계로 이동하여야 하는데 먼저 암의 회전에 의하여 발광소자의 지향각 측정이 끝나게 되면 척이 하단으로 일정 거리 내려오게 되고 다음으로 지향각을 측정하여야할 발광소자가 있는 위치로 척이 이동하여 좌표축 정렬이 이루어져 포토다이오드와 웨이퍼 수준의 발광소자가 일직선상에 놓이게 되고, 척이 상단으로 움직여 모터의 회전 중심과 웨이퍼의 표면이 일직선상에 놓이게 되는 과정을 통해, 검사침에 의하여 발광소자에 전원을 인가할 수 있도록 하고, 전원이 인가되어 발광소자가 발광하게 되면 암의 회전을 통해 발광소자의 지향각을 측정하는 과정을 반복적으로 진행하게 되는 것이다.As described above, when measuring the light emission characteristics of the first light emitting device at the wafer level, it should be moved to the next step. First, when the orientation angle measurement of the light emitting device is completed by the rotation of the arm, the chuck is lowered to the bottom by a certain distance. The chuck is moved to the position of the light emitting device to measure the directivity angle, and the coordinate axis is aligned so that the photodiode and the light emitting device at the wafer level are in a straight line, and the chuck moves to the top so that the center of rotation of the motor and the surface of the wafer are straight. Through the process of being placed on the, it is possible to apply power to the light emitting device by the inspection needle, and when the power is applied and the light emitting device emits light, the process of measuring the direct angle of the light emitting device through the rotation of the arm repeatedly It is going to proceed.
이렇게 측정된 발광소자의 배광 특성은 도 3과 같이 표현될 수 있으며, 지향각을 측정하는 기준은 도 2에서와 같이 발광소자가 빛을 발할 때 발생 되는 빛의 강도인 광도에 따라 측정되는 것으로, 이때 발광소자가 빛을 발하면서 방출하는 빛은 한쪽 방향이 아닌 웨이퍼 상단으로 전체적으로 퍼지면서 방출되기 때문에 발광소자의 중심과 포토다이오드가 상하로 일직선상에 있게 된다면 어떤 방향에서 시작하더라도 동일한 결과를 얻을 수 있다.The light distribution characteristics of the light emitting device measured as described above may be expressed as shown in FIG. 3, and the reference angle measuring standard is measured according to the intensity of light generated when the light emitting device emits light as shown in FIG. 2. At this time, the light emitted by the light emitting device is emitted as it is spread all over the top of the wafer, not in one direction. If the center of the light emitting device and the photodiode are in a line up and down, the same result can be obtained in any direction. have.
이때 일정강도 이상의 광도를 갖는 광도에서 시작하여 회전하면서 일정강도 이상의 광도를 갖는 광도를 나타내는 부분까지 측정하는 것이 아니라 암의 회전 각도는 사용자가 정하게 되는데 예를 들어 -70~70도까지 선택하였다고 하면 암은 이 선택된 각도에 따라 회전하면서 광도를 측정하게 되고 측정 결과는 소프트웨어상에서 처리되어 지향각을 산출하게 되는 것이다.At this time, the rotation angle of the arm is determined by the user, instead of measuring the part indicating the luminance having a luminance above a certain intensity while rotating starting from the luminance having a luminance above a certain intensity. For example, if the arm is selected from -70 to 70 degrees, Rotates according to this selected angle, and the brightness is measured, and the measurement result is processed in software to calculate the orientation angle.
그러나 도 2에서와 같이 발광소자의 중심점에서 광도가 최고값(Imax, 61)을 항상 나타내는 것은 아니며 발광소자의 생산 과정에 인공적이던지 아니면 우연으로 주어지는 여러 가지 조건에 따라 달라질 수 있기 때문에 도 3에서의 좌표축 상하 0도인 지점과 광도가 최고인 최고값(Imax, 61)은 항상 일치하지 않을 수 있는 것이다.However, as shown in FIG. 2, the luminous intensity at the center of the light emitting device does not always show the highest value (Imax, 61), and may vary depending on various conditions that are artificial or coincidental in the production process of the light emitting device. The point at zero degrees above and below the coordinate axis and the highest value (Imax, 61) with the highest luminous intensity may not always coincide.
또한 지향각을 구하는 방법에 있어서 우선적으로 발광소자의 광도를 암의 회전에 의하여 포토다이오드가 측정하게 되는데, 이때 측정 기준은 광도가 최고인 최고값(Imax, 61)의 50%대인 지점에서부터 최고점(Imax, 61)을 지나 반대편의 최고값의 50%인 지점까지의 이동 거리가 소프트웨어에 의하여 산출되고 되고, 이때 암을 회전시키기 위한 모터의 기어와 암의 기어비율 의하여 계산이 이루어짐으로써 발광소자의 광도가 최고값의 50%인 지점에서 반대편 50%인 지점까지의 암의 회전한 각도를 계산하게 되는 것이다.In addition, in the method of obtaining the directivity angle, the photodiode is first measured by the rotation of the arm of the luminous intensity of the light emitting element, and the measurement criteria are the highest point (Imax) from the point where the luminous intensity is 50% of the highest value (Imax, 61). , 61) and the distance to the
이와 함께 웨이퍼 상태에서도 발광소자를 패키지할 수 있는 기술이 개발되고 있는데, 이 상태 또한 웨이퍼 수준의 발광소자와 동일한 구조로 보아도 무방한데, 웨이퍼 수준에서 발광소자가 패키지 되어 있던지 패키지 되어 있지 않던지 동일한 방법을 통해 지향각을 측정할 수 있는 것이다.In addition, a technology for packaging light emitting devices in a wafer state has been developed. This state may also be viewed as the same structure as a light emitting device at a wafer level, and the same method may be used whether or not the light emitting devices are packaged at the wafer level. Through this, the orientation angle can be measured.
전체적으로 본 발명은 웨이퍼 수준의 발광소자의 지향각을 측정하기 위한 방법 및 장치로, 발광소자가 웨이퍼에 부착된 웨이퍼 수준의 발광소자 또는 웨이퍼 수준에서 패키지된 발광소자의 지향각을 측정하기 위하여, 프로버에 설치된 척(40)에 웨이퍼를 정열 하여 설치하는 단계와, 척을 암의 회전 중심과 정렬하는 단계와, 검사침(20)을 웨이퍼 수준의 발광소자에 접속시키고 검사침에 전원을 인가하여 웨이퍼(30) 수준의 발광소자(31) 또는 웨이퍼 수준에서 패키지된 발광소자가 빛을 발하도록 하는 단계와, 모터(50)의 회전에 의해 암(10)이 회전하고 암(10)에 부착된 포토다이오드 (11)에 의해 웨이퍼 수준의 발광소자(31) 또는 웨이퍼 수준에서 패키지된 발광소자의 지향각(θ)을 측정하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하며, 상기 방법을 달성할 수 있는 장치로 구성된다.Overall, the present invention provides a method and apparatus for measuring a directivity angle of a wafer-level light emitting device, and in order to measure a directivity angle of a wafer-level light emitting device attached to a wafer or a packaged light emitting device at a wafer level, Arranging and installing the wafer in the
본 발명은 상기의 구성에 따라 본 발명의 목적에서 제시한 것과 같이 웨이퍼 수준의 발광소자의 지향각을 측정할 수 있는 효과가 있다.The present invention has the effect of measuring the orientation angle of the light emitting device at the wafer level as presented in the object of the present invention according to the above configuration.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 하나의 실시 예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구 범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment according to the present invention, and the present invention is not limited to the above-described embodiments, and the present invention belongs without departing from the gist of the present invention as claimed in the following claims. Anyone skilled in the art will have the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.
Claims (3)
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