KR100688772B1 - 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크에 관한 것이다.

본 발명의 세퍼레이터 탱크는, 일측에 흡입구와 상측에 배출구가 형성되는 원통형의 본체와, 본체의 상면에 상기 배출구를 포함하며 대응 결합되고 냉각수유입구와 냉각수배출구가 돌출 형성된 상부판과, 냉각수유입구와 냉각수배출구와 연통되는 통로를 가지고서 본체의 내측으로 이어지며 하면은 배기가스가 배출구측으로 배출되도록 개방된 원통형의 냉각챔버로 구성되는 것을 특징으로 한다. 따라서 세퍼레이터 탱크 내측에 냉각수를 공급하여 배기가스의 온도를 낮출 수 있는 냉각챔버를 설치함으로써, 제습 효과를 최대화하여 배기덕트의 부식 현상을 방지하는 효과가 있다

Description

반도체 공정용 세퍼레이터 탱크{SEPARATOR TANK FOR SEMICONDUCTOR PROCESS}

도 1은 종래의 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크의 개략적인 구성도이고,

도 2는 본 발명에 따른 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크의 단면도이고,

도 3은 A-A선 단면도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

10 : 세퍼레이터 탱크 11 : 본체

12 : 흡입구 13 : 배출구

14 : 플랜지 20 : 상부판

22 : 냉각수유입구 24 : 냉각수배출구

30 : 냉각챔버 32 : 통로

본 발명은 반도체 제조 공정에서 사용하는 세퍼레이터 탱크에 관한 것으로써, 반도체 생산 장비에서 배출되는 폐가스를 정화시킨 후 대기로 방출하는 공정에서 배관 중간에 배기가스와 함께 비산하는 수분을 제습하기 위한 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 제조공정에서 위험 물질인 각종 가스를 사용함에 있어 생산장비에서 배출되는 폐가스를 진공펌프에서 흡입 후 1차 스크루버(scrubber)에서 중화 처리하여 배기덕트(exhaust duct)를 통하여 건물 옥상의 2차 스크루버로 보내어 정화시켜 대기로 방출한다.

이 때, 폐가스의 종류에 따라 염소(Cl) 및 불소(F)성분이 생성되어 1차 스크루버의 통과시 비산되는 수분과 결합하여 강산성이며 부식성이 강한 염산(HCl) 및 하프늄(HF)을 생성하고 이는 배기덕트로 인입되는 배관 중간에 배기가스와 함께 비산되는 수분을 제습하기 위한 세퍼레이터 탱크가 설치된다.

도 1은 종래의 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크의 개략적인 구성도이다. 1차 스크루버(1)에 연결된 배기관(2)은 일단에 세페레이터 탱크(separator tank:3)의 흡입구(3a)에 설치되고, 세퍼레이터 탱크(3)의 배출구(3b)에는 배기관(2)으로 연결된 배기덕트(4)가 설치된다.

여기서 세퍼레이터 탱크(3)의 내부로 배출구(3b)에서 연장부가 하방으로 형성되어 배기가스의 와류현상과 유속을 이용하여 수분을 제거하게 된다.

그러나 세퍼레이터 탱크(3)에서 이루어지는 제습 효과는 단순히 배기가스의 와류현상 및 유속을 이용한 것으로서 그 효과가 미미한 단점이 있었다.

본 발명은 상기한 바와 같은 결점을 해소시키기 위하여 안출된 것으로서, 세퍼레이터 탱크 내측에 냉각수를 공급하여 배기가스의 온도를 낮출 수 있는 냉각챔버를 설치함으로써, 제습 효과를 최대화 한 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크를 제공 하는 것을 그 목적으로 한다.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 흡입구 측에는 1차 스크루버가 연결되고, 배출구 측에는 배기덕트가 연결되어 배기가스와 함께 비산되는 수분을 제습하기 위한 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크에 있어서, 세퍼레이터 탱크는, 일측에 흡입구와 상측에 배출구가 형성되는 원통형의 본체와, 본체의 상면에 상기 배출구를 포함하며 대응 결합되고 냉각수유입구와 냉각수배출구가 돌출 형성된 상부판과, 냉각수유입구와 냉각수배출구와 연통되는 통로를 가지고서 본체의 내측으로 이어지며 하면은 배기가스가 배출구측으로 배출되도록 개방된 원통형의 냉각챔버로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크를 제공한다.

본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술 분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시 예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세하게 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크의 단면도이고, 도 3은 A-A선 단면도이다.

도 2에 도시된 바와 같이 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크(10)는, 원통형의 본체(11)와, 본체(11)의 내측에 설치되는 냉각챔버(30)로 크게 구성된다.

여기서 본체(11)는 수직면 일측에 흡입구(12)가 형성되고, 플랜지(14)가 형 성된 상부면에는 배출구(13)가 돌출 형성된다.

그리고 플랜지(14)면에는 대응하는 상부판(20)이 나사 결합된다. 상부판(20)의 원주 상에 상방으로 돌출된 냉각수유입구(22)와 냉각수배출구(24)가 형성된다.

그리고 냉각수유입구(22)와 냉각수배출구(24)에 연통되는 냉각챔버(30)가 본체(11)의 내측에 설치된다. 냉각챔버(30)는 도 3과 같이, 하부가 개방된 원통형이 길이 방향으로 이어지며, 그 원형 단면 두께 내측으로는 냉각수가 흐르는 통로(32)가 냉각수유입구(22)와 냉각수배출구(24)에 연통 형성된다.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크의 작용을 설명하면 다음과 같다.

생산장비에서 배출되는 폐가스를 1차 스크루버(scrubber;1)에서 중화 처리하여 배기덕트(exhaust duct;4)를 통하여 건물 옥상의 2차 스크루버(미도시)로 보내어 정화시켜 대기로 방출한다.

이 때, 폐가스의 종류에 따라 염소(Cl) 및 불소(F)성분이 생성되어 1차 스크루버(1)의 통과시 비산되는 수분과 결합하여 강산성이며 부식성이 강한 염산(HCl) 및 하프늄(HF)을 생성하고 이는 배기덕트(4)로 인입되는 배기관(2) 중간에 배기가스와 함께 비산되는 수분을 세퍼레이터 탱크(10)에서 제습하게 된다.

다시 도 2를 참조하면, 세퍼레이터 탱크(10)의 흡입구(12)로 유입된 배기가스는 배출구(13)를 통해 배기덕트(4)로 빠져나가게 된다.

그리고 냉각수유입구(22)를 통하여 유입된 냉각수는 냉각챔버(30)의 통로(32)따라 본체(11) 내부에서 돌다가 냉각수배출구(24)를 통하여 빠져나간다. 이 때 냉각챔버(30)를 흐르는 냉각수에 의하여 세퍼레이터 탱크(10)내에 유입된 배기가스의 체류 시간을 길게 하며, 배기가스의 온도를 낮춰 포화수증기의 수분을 제거하여 최대한 제습 효과를 가져온다.

따라서, 세퍼레이터 탱크(10)내에 냉각챔버(30)의 구성은, 배기가스 중 안개 상태의 수분만을 제거하고, 배기가스는 냉각시킴으로써, 배기가스 내에 포화한 수증기의 최소 상태로 배기되어 배기덕트(4)내에서 온도차에 의한 응축수 발생을 억제하고, 배기덕트의 부식 현상을 방지한다.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일실시 예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크는, 세퍼레이터 탱크 내측에 냉각수를 공급하여 배기가스의 온도를 낮출 수 있는 냉각챔버를 설치함으로써, 제습 효과를 최대화하여 배기덕트의 부식 현상을 방지하는 효과가 있다.

Claims (1)

1. 흡입구 측에는 1차 스크루버가 연결되고, 배출구 측에는 배기덕트가 연결되어 배기가스와 함께 비산되는 수분을 제습하기 위한 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크에 있어서;

   상기 세퍼레이터 탱크는,

   일측에 흡입구와 상측에 배출구가 형성되는 원통형의 본체와;

   상기 본체의 상면에 상기 배출구를 포함하며 대응 결합되고, 냉각수유입구와 냉각수배출구가 돌출 형성된 상부판과;

   상기 냉각수유입구와 냉각수배출구와 연통되는 통로를 가지고서 상기 본체의 내측으로 이어지며, 하면은 상기 배기가스가 상기 배출구측으로 배출되도록 개방된 원통형의 냉각챔버로; 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 공정용 세퍼레이터 탱크.

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