KR100685112B1 - Dielectric composition useful for light transparent layer in pdp - Google Patents
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Abstract
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널에서 광투명 유전체 층을 형성하는데 사용하기 위한 유전체 조성물은 90 내지 100중량%의 유리 분말 및 0 내지 10중량%의 세라믹 분말을 포함한다. 유리 분말은 필수적으로, 15 내지 45중량%의 BaO, 20 내지 45중량%의 ZnO, 15 내지 35중량%의 B2O3, 3 내지 15중량%의 SiO2 및 0 내지 24.5중량%의 PbO로 이루어진 유리 분말이다. The dielectric composition for use in forming the light transparent dielectric layer in the plasma display panel of the present invention comprises 90 to 100 wt% glass powder and 0 to 10 wt% ceramic powder. The glass powder is essentially composed of 15 to 45 weight percent BaO, 20 to 45 weight percent ZnO, 15 to 35 weight percent B 2 O 3 , 3 to 15 weight percent SiO 2 and 0 to 24.5 weight percent PbO. Glass powder.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)에 유용한 유전체 형성 물질에 관한 것이며, 특히 PDP의 높은 변형점 (strain point)의 전방 유리 플레이트상의 광투과성 유전체층을 형성하는데 사용되는 유전체 조성물에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to dielectric forming materials useful in plasma display panels (PDPs), and more particularly to dielectric compositions used to form light transmissive dielectric layers on front glass plates of high strain points of PDPs.
일반적으로, PDP는 사이에 틈을 두고 전방 유리 플레이트와 마주하고 있는 후방 유리 플레이트 상에 위치한 전극과 함께 작용하여 플라즈마 방전을 발생시키기 위해 다수개의 전극이 배치되어 있는 전방 유리 플레이트를 갖는다. 광투과성 유전체층은 생성된 플라즈마 방전을 유지시키도록 전극을 커버하기 위해 유리 플레이트상에 형성된다.In general, a PDP has a front glass plate in which a plurality of electrodes are arranged to act with electrodes located on the rear glass plate facing the front glass plate with a gap therebetween to generate a plasma discharge. A transparent dielectric layer is formed on the glass plate to cover the electrodes to maintain the generated plasma discharge.
통상, 전방 유리 플레이트는 소다 석회 유리 또는 기타 높은 변형점 유리로 제조되는 반면에, 광투과성 유전체층은 과량의 Pb 함유 유리 분말과 같은 저융점 유리 분말을 포함하는 유전체 물질로부터 형성된다. 광투과성 유전체층을 형성하는 경우, 유전체 물질은 전극의 금속과의 반응을 방지하도록 저융점 유리 분말의 연화점에서 발화되거나 베이킹된다.Typically, the front glass plate is made of soda lime glass or other high strain glass, while the light transmissive dielectric layer is formed from a dielectric material comprising low melting glass powder, such as excess Pb containing glass powder. When forming the light transmissive dielectric layer, the dielectric material is ignited or baked at the softening point of the low melting glass powder to prevent the electrode from reacting with the metal.
당해 공지되어 있는 바와 같이, 유전체 물질이 (1) 유리 플레이트와 상용가능한 열팽창 계수, (2) 500 내지 600℃의 발화 온도, (3) 높은 광투과율 및 기포량이 감소된 높은 내전압을 갖는 유전체층을 제조하기 위한 발화시의 우수한 소포성(defoamability)과 같은 여러 가지 특성을 갖는다는 점이 중요하다. As is known in the art, a dielectric material produces a dielectric layer having (1) a thermal expansion coefficient compatible with a glass plate, (2) an ignition temperature of 500 to 600 ° C., (3) high light transmittance and a high withstand voltage with reduced bubble amount. It is important to have various properties such as excellent defoamability during ignition.
JP-A 11-21148호에는 높은 변형점의 유리 플레이트의 열팽창 계수와 상용가능한 열팽창 계수를 갖는 PbO-B2O3-SiO2-BaO 유리의 유리 분말을 사용하는 유전체 물질이 기재되어 있다. PbO-B2O3-SiO2-BaO 유리는 연화점에 걸쳐 점도 변화가 빠르며, 이에 따라 소포가 용이하다.JP-A 11-21148 describes a dielectric material using glass powder of PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -BaO glass having a coefficient of thermal expansion compatible with that of a high strain point glass plate. PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -BaO glass has a rapid change in viscosity over the softening point, thus facilitating defoaming.
우수한 소포성으로 인해 PbO-B2O3-SiO2-BaO 유리 분말을 사용하는 유전체 물질이 높은 광투과율을 갖는 유전체층을 제공할 수 있지만, 생성된 유전체층이 30㎛ 이상의 지름을 갖는 잔류하는 거대 기포를 갖는다는 문제점이 있다.The excellent defoaming properties allow dielectric materials using PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -BaO glass powders to provide dielectric layers with high light transmittance, but the resulting dielectric layers have residual large bubbles having diameters of 30 μm or more. There is a problem of having.
본 발명의 목적은, 열팽창 계수에 있어서 높은 변형점의 유리 플레이트와 상용가능하고, 연화점 근처의 온도에서 발화시에 소포가능하며, 큰 기포를 남기지 않고 광투과성 유전체층을 제공할 수 있는 유전체 물질을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a dielectric material that is compatible with a glass plate having a high strain point in thermal expansion coefficient, is capable of defoaming at ignition at a temperature near the softening point, and can provide a transparent dielectric layer without leaving large bubbles. It is.
연화점에 걸쳐 점도 변화가 매우 빠른 상기 기재된 PbO-B2O3-SiO2-BaO 유리와 같은 특정 유리에서, 본 발명자들은 발화 공정의 개시 동안에 비교적 저온에서 유리로부터 거의 모든 기포가 방출되고, 약간의 기포가 유리에 잔류 기포로서 잔류하고, 이후 잔류 기포는 계속되는 발화 공정에서 유리 온도의 상승으로 인해 큰 기포로 팽창됨을 발견하였다. In certain glasses, such as the PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -BaO glasses described above, where the viscosity change is very rapid over the softening point, we find that almost all bubbles are released from the glass at relatively low temperatures during the initiation of the firing process, It was found that bubbles remained in the glass as residual bubbles, and then the remaining bubbles expanded to large bubbles due to the rise of the glass temperature in the subsequent ignition process.
상기 기재된 PbO-B2O3-SiO2-BaO 유리를 개선시키기 위해, 본 발명자들은 한편으로는 연화점에 걸쳐 점도 변화를 비교적 약간 느리게 조정하도록 PbO-B2O3-SiO2-BaO 유리중 PbO 함량을 24.5중량% 이하로 감소시키는 시도를 하였다. 다른 한편으로는, PbO 함량의 감소로 인해 낮아진 열팽창 계수를 보상하기 위해 BaO의 함량을 증가시키는 시도를 하였다.In order to improve the PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -BaO glasses described above, the inventors, on the one hand, have made the PbO in PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -BaO glasses to adjust the viscosity change relatively slightly over the softening point. Attempts were made to reduce the content to 24.5% by weight or less. On the other hand, attempts were made to increase the content of BaO to compensate for the lower coefficient of thermal expansion due to a decrease in PbO content.
본 발명에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널에서 광투과성 유전체 층을 형성하는데 사용하기 위한 유전체 조성물이 제공되며, 이 조성물은 90 내지 100중량%의 유리 분말 및 0 내지 10중량%의 세라믹 분말을 포함하고, 유리 분말은 15 내지 45중량%의 BaO, 20 내지 45중량%의 ZnO, 15 내지 35중량%의 B2O3, 3 내지 15중량%의 SiO2 및 0 내지 24.5중량%의 PbO를 필수 성분으로 포함하는 유리 분말이다. According to the present invention there is provided a dielectric composition for use in forming a light transmissive dielectric layer in a plasma display panel, the composition comprising 90 to 100% by weight of glass powder and 0 to 10% by weight of ceramic powder, The powder contains as essential components 15 to 45 wt% BaO, 20 to 45 wt% ZnO, 15 to 35 wt% B 2 O 3 , 3 to 15 wt% SiO 2 and 0 to 24.5 wt% PbO It is glass powder.
BaO는 유리의 소포성에 영향을 미치는 고온에서 점도를 조정하고, 유리의 열팽창 계수를 상승시키기 위한 성분이다. BaO의 함량은 15 내지 45중량%, 바람직하게는 20.5 내지 40중량%이다. 15중량% 미만의 BaO 함량은 소포성을 저하시키며, 또한 형성되는 유리의 열팽창 계수를 높은 변형점의 유리 플레이트와 상용가능하지 않은 극히 낮은 수준으로 저하시킨다. BaO 함량이 45중량%를 초과하는 경우, 형성되는 유리는 높은 변형점 유리의 열팽창 계수에 상용가능하지 않은 지나치게 높은 열팽창 계수를 갖는다.BaO is a component for adjusting the viscosity at a high temperature that affects the anti-foaming property of the glass and increasing the thermal expansion coefficient of the glass. The content of BaO is 15 to 45% by weight, preferably 20.5 to 40% by weight. A BaO content of less than 15% by weight lowers the defoaming and also lowers the coefficient of thermal expansion of the glass formed to extremely low levels incompatible with high strain glass plates. If the BaO content exceeds 45% by weight, the glass formed has an excessively high coefficient of thermal expansion which is incompatible with the coefficient of thermal expansion of high strain point glass.
ZnO는 연화점을 낮추고, 유리의 열팽창 계수을 조정하기 위한 성분이다. ZnO의 함량은 20 내지 45중량%, 바람직하게는 22 내지 42중량%이다. 함량이 20중량% 미만으로 선택되는 경우, 상기 기재된 ZnO의 기능은 달성되지 않는다. 함량이 45중량%를 초과하게 선택되는 경우, 열팽창 계수는 지나치게 낮아진다.ZnO is a component for lowering the softening point and adjusting the thermal expansion coefficient of the glass. The content of ZnO is 20 to 45% by weight, preferably 22 to 42% by weight. If the content is selected below 20% by weight, the function of ZnO described above is not achieved. If the content is selected to exceed 45% by weight, the coefficient of thermal expansion becomes too low.
B2O3는 조성물의 유리화 범위를 넓히기 위한 유리 형성 성분이고, 15 내지 40중량%, 바람직하게는 16 내지 33중량%으로 함유되어야 한다. 15중량% 미만의 B2O3는 발화 동안에 유리의 실투를 초래하기 쉽다. 함량이 40중량%를 초과하는 경우, 유리는 연화점이 지나치게 높게 되어 600℃ 이하의 온도에서 발화하는 것을 어렵게 한다. B 2 O 3 is a glass forming component for broadening the vitrification range of the composition and should be contained at 15 to 40% by weight, preferably 16 to 33% by weight. Less than 15% by weight of B 2 O 3 is likely to cause devitrification of the glass during ignition. If the content exceeds 40% by weight, the softening point becomes too high, making it difficult to ignite at a temperature of 600 ° C or lower.
SiO2는 또한 유리 형성 성분이며, 그 함량은 3 내지 15중량%, 바람직하게는 4 내지 13중량%로 선택되어야 한다. SiO2가 3중량% 미만인 경우, 형성되는 유리는 발화 동안에 쉽게 실투된다. 다른 한편, SiO2를 15중량% 초과로 사용하는 경우에는 형성되는 유리의 연화점을 지나치게 상승시켜 연화점에 걸쳐 점도 변화를 지나치게 느리게 하여 탈기가 어렵게 된다. SiO 2 is also a glass forming component, the content of which should be selected from 3 to 15% by weight, preferably 4 to 13% by weight. If SiO 2 is less than 3% by weight, the glass formed is easily devitrified during ignition. On the other hand, in the case of using the SiO 2 in 15 weight% has to too high a softening point of glass formed over the change in viscosity over the softening point is slow and difficult to degas.
PbO는 유리의 연화점을 낮추기 위한 성분이며, 그 함량은 0 내지 24.5중량%, 바람직하게는 0 내지 24중량%로 선택되어야 한다. PbO의 함량이 24.5중량% 보다 높게 선택되는 경우, 형성되는 유리의 점도 변화는 연화점에 걸쳐 지나치게 빨라서 기포의 성장을 촉진하고, 이에 따라 잔류하는 거대 기포를 발화된 층에 잔류시키는 결과를 초래한다.PbO is a component for lowering the softening point of the glass, the content of which should be selected from 0 to 24.5% by weight, preferably 0 to 24% by weight. If the content of PbO is chosen to be higher than 24.5% by weight, the viscosity change of the glass formed is too fast over the softening point to promote the growth of bubbles, thus leaving the remaining large bubbles in the ignited layer.
중량으로 표시되는 PbO, B2O3 및 SiO2의 중량 기준 함량은 (PbO2/(B2O3+SiO2))의 비에 의해 1 미만, 바람직하게는 0.9 미만이어야 한다. 상기 비가 1이상으로 선택되는 경우, 형성되는 유리는 연화점에 걸쳐 점도 변화가 지나치게 빨라서 기포의 성장을 촉진시킨다. 발화된 층내의 잔류 기포는 직경이 30㎛ 이상일 수 있다. The weight-based content of PbO, B 2 O 3 and SiO 2 expressed by weight should be less than 1, preferably less than 0.9, by the ratio of (PbO 2 / (B 2 O 3 + SiO 2 )). When the ratio is selected to be one or more, the glass formed has an excessively rapid change in viscosity over the softening point to promote bubble growth. Residual bubbles in the fired layer may be at least 30 μm in diameter.
추가로, 형성되는 유리가 높은 변형점의 유리 플레이트의 열팽창 계수와 상용가능한 열팽창 계수를 용이하게 가질 수 있도록 하기 위해, 중량으로 표시되는 PbO 및 BaO의 함량은 (PbO/BaO)의 비에 의해 1.5 이하, 바람직하게는 1.3 이하이어야 한다. In addition, the content of PbO and BaO expressed by weight is 1.5 by the ratio of (PbO / BaO) so that the glass formed can easily have a coefficient of thermal expansion compatible with that of the high strain point glass plate. Or less, preferably 1.3 or less.
특정 목적을 위해, 유리에 다른 성분이 첨가될 수 있는데, 예를 들어, 열팽창 계수를 높이기 위해서 총량중 10% 이하로 CaO 및 MgO가, 그리고, Ag 전극과 투명 유전체층이 황색으로 변색되는 것 뿐만 아니라 전극을 청색이 되게 하는 것을 방지하기 위해 2% 이하로 CuO가 첨가될 수 있다. For certain purposes, other components may be added to the glass, for example CaO and MgO not more than 10% of the total amount, and the Ag electrode and the transparent dielectric layer discolor to yellow to increase the coefficient of thermal expansion. CuO can be added up to 2% to prevent the electrode from becoming blue.
본 발명의 또 다른 일면에 따르면, 유리 분말은 바람직하게는 평균 입도(D50)가 3.0㎛ 이하이고, 최대 입도(Dmax)가 20㎛ 이하이다. 평균 입도 및 최대 입도가 상기 상한을 초과하는 경우에, 인접하는 유리 입자간에 큰 틈이 존재하여, 발화된 유전체층에 잔류하는 큰 기포의 생성을 촉진한다.According to another aspect of the invention, the glass powder preferably has an average particle size (D50) of 3.0 μm or less and a maximum particle size (D max ) of 20 μm or less. When the average particle size and the maximum particle size exceed the upper limit, large gaps exist between adjacent glass particles, thereby facilitating the generation of large bubbles remaining in the fired dielectric layer.
본 발명에 따른 유전체 조성물은 발화된 층을 강도를 향상시키고, 이의 외관을 조정하기 위해 유리 분말 이외에 알루미나, 지르콘, 지르코니아 및/또는 티타니아(산화티탄)와 같은 세라믹 분말을 포함할 수 있다. 세라믹 분말의 최대 입도(Dmax)는 15㎛이하인 것이 바람직하다.The dielectric composition according to the present invention may comprise ceramic powders such as alumina, zircon, zirconia and / or titania (titanium oxide) in addition to the glass powder to enhance the strength of the fired layer and to adjust its appearance. The maximum particle size (D max ) of the ceramic powder is preferably 15 μm or less.
함량면에서, 유리 분말 및 세라믹 분말은 각각 90 내지 100중량% 및 0 내지 10중량%이다. 세라믹 분말의 함량이 10중량%를 초과하는 경우, 형성된 발화 유전체층은 가시광선을 산란시켜 불투명해진다.In terms of content, the glass powder and the ceramic powder are 90 to 100% by weight and 0 to 10% by weight, respectively. When the content of the ceramic powder exceeds 10% by weight, the formed ignition dielectric layer scatters visible light and becomes opaque.
본 발명의 실시예가 하기에 기재될 것이다.Examples of the present invention will be described below.
표 1 및 2는 본 발명의 실시예(샘플 번호 1 내지 8) 및 비교예(샘플 번호 9)를 기재한 것이다. Tables 1 and 2 describe examples (sample numbers 1 to 8) and comparative examples (sample numbers 9) of the present invention.
(표 1)Table 1
(표 2)Table 2
각각의 실시예는 하기 단계에 의해 제조되었다.Each example was prepared by the following steps.
원료의 양을 표 1 및 2에 기재된 각각의 샘플에 대해 혼합하고, 2시간 동안 1300℃에서 백금 도가니에서 용융시켰다. 이후, 용융된 유리를 얇은 플레이트 형상으로 형성시키고, 분쇄시키고, 분류하여 평균 입도(D50)가 3.0㎛ 이하이고, 최대 입도(Dmax)가 20㎛ 이하인 유리 분말을 얻었다. 유리 분말의 전이점과 연화점을 측정하고 기록하였다. 샘플 번호 8 유리 분말을 알루미늄 분말과 혼합하여 이의 혼합된 분말을 얻었다. The amount of raw material was mixed for each of the samples listed in Tables 1 and 2 and melted in a platinum crucible at 1300 ° C. for 2 hours. Thereafter, the molten glass was formed into a thin plate shape, pulverized and classified to obtain a glass powder having an average particle size (D50) of 3.0 µm or less and a maximum particle size (D max ) of 20 µm or less. The transition point and softening point of the glass powder were measured and recorded. Sample number 8 glass powder was mixed with aluminum powder to obtain a mixed powder thereof.
평균 입도(D50) 및 최대 입도(Dmax)를 니키소 리미티드(Nikkiso Ltd)사에 의해 제조된 레이저 회절형 "마이크로트랙 SPA(Microtrack SPA)"의 입도 분포계를 사용하여 확인하였다.Average particle size (D50) and maximum particle size (D max ) were confirmed using a particle size distribution meter of the laser diffraction type "Microtrack SPA" manufactured by Nikkiso Ltd.
각각의 샘플에 대해, 열팽창계수, 발화점, 발화된 층의 두께 및 550nm에서의 스펙트럼 투과율을 측정하였다. 또한, 발화된 층에 존재하는 직경이 30㎛ 이상인 기포를 계수하였다. 측정된 데이타가 표 1 및 2에 기재되어 있다. For each sample, the coefficient of thermal expansion, the flash point, the thickness of the fired layer and the spectral transmittance at 550 nm were measured. In addition, bubbles having a diameter of 30 µm or more present in the fired layer were counted. The measured data is shown in Tables 1 and 2.
표 1 및 2로부터 본 발명의 실시예의 샘플 번호 1 내지 8의 유리 전이점이 485 내지 915℃이고, 연화점이 580 내지 620℃이며, 전이점과 연화점 간의 온도차가 95 내지 105℃이고, 열팽창 계수가 74 내지 82 x 10-7/℃이고, 발화온도가 570 내지 600℃임을 알 수 있다. 발화된 층은 두께가 28 내지 34㎛이고, 550nm의 파장에서의 투과율이 79% 이상이고, 단지 세개 이하의 큰 기포가 그 안에 존재하였다. 이러한 샘플과 비교하여, 비교예의 샘플 번호 9는 유리 전이 온도가 480℃이고, 연화점이 570℃이며, 전이점과 연화점의 온도차는 90℃로서 작았다. 따라서, 점도 변화가 발화 온도 범위에서 지나치게 빨라서 기포의 성장을 촉진하였다. 이에 따라, 발화된 층은 15개의 기포로서 매우 많은 큰 기포를 가졌다. From Tables 1 and 2, the glass transition points of Sample Nos. 1 to 8 of Examples of the present invention were 485 to 915 ° C, the softening point was 580 to 620 ° C, the temperature difference between the transition point and the softening point was 95 to 105 ° C, and the coefficient of thermal expansion was 74. It can be seen that it is from 82 x 10 -7 / ℃, the ignition temperature is 570 to 600 ℃. The fired layer had a thickness of 28 to 34 mu m, a transmittance of 79% or more at a wavelength of 550 nm, and only three or less large bubbles existed therein. Compared with such a sample, the sample number 9 of the comparative example had a glass transition temperature of 480 ° C, a softening point of 570 ° C, and a temperature difference between the transition point and the softening point of 90 ° C. Therefore, the viscosity change was too fast in the firing temperature range to promote bubble growth. Accordingly, the fired layer had very many large bubbles as fifteen bubbles.
유리 전이점과 연화점을 측정함에 있어서, 마크로형의 시차 열분석기를 사용하였고, 제 1 및 제 4 변곡점의 값을 유리 전이 온도 및 연화점으로서 각각 선택하였다. In measuring the glass transition point and softening point, a macroscopic differential thermal analyzer was used, and the values of the first and fourth inflection points were selected as the glass transition temperature and the softening point, respectively.
열팽창 계수를, 하기 단계에 의해 형성된 샘플 조각에 대해 30 내지 300℃의 온도에서 JIS R 3102에 따라 측정하였다. 각각의 샘플 분말을 가압-성형시키고, 발화시키고, 분쇄시켜 직경이 4mm이고 길이가 40mm인 원통형 로드의 샘플 조각을 형성하였다.The coefficient of thermal expansion was measured according to JIS R 3102 at a temperature of 30 to 300 ° C for the sample pieces formed by the following steps. Each sample powder was press-molded, ignited and ground to form sample pieces of cylindrical rods 4 mm in diameter and 40 mm in length.
발화된 층의 두께, 투과율 및 큰 기포의 수를 하기 방식으로 얻었다. 각각의 샘플 분말을 에틸 셀룰로오스의 5% 테르피네올 용액중에서 혼합하고, 3-롤 밀을 사용하여 반죽하여 페이스트를 형성시킨 후, 스크린 프린팅 과정으로 처리하여 높은 변형점의 유리 플레이트 상의 30㎛ 두께의 발화된 층(열팽창 계수가 83 x 10-7/℃임)을 얻고, 발화 온도에서 10분 동안 전기로에서 발화시켰다. 발화된 층의 두께를 디지탈 마이크로미터를 사용하여 확인하였다.The thickness of the fired layer, the transmittance and the number of large bubbles were obtained in the following manner. Each sample powder was mixed in a 5% terpineol solution of ethyl cellulose, kneaded using a 3-roll mill to form a paste, and then subjected to screen printing to obtain a 30 μm thick glass plate on a high strain point glass plate. A fired layer (coefficient of thermal expansion is 83 × 10 −7 / ° C.) was obtained and fired in an electric furnace for 10 minutes at the fire temperature. The thickness of the fired layer was checked using a digital micrometer.
분광광도계의 샘플 셋팅측에 발화된 층을 지닌 높은 변형점의 유리 플레이트를 셋팅시키므로써 스펙트로포토미터의 적분구를 사용하여 550nm의 파장에 대한 투과율을 특정하였다. By setting a high strain point glass plate with a ignited layer on the sample setting side of the spectrophotometer, the transmittance for a wavelength of 550 nm was specified using an integrating sphere of a spectrophotometer.
입체경(30등급)을 사용하여 발화된 층의 표면의 3cm x 4cm 영역내에서 관찰되는 직경 30㎛ 이상의 직경을 갖는 큰 기포를 계수하였다.A stereoscopic mirror (grade 30) was used to count large bubbles with a diameter of 30 μm or more observed within the 3 cm × 4 cm area of the surface of the fired layer.
상기 기재된 바와 같이, 본 발명의 유전체 조성물은 높은 변형점을 가지며 전방 유리 플레이트상에 형성된 전극을 커버링하는 전방 유리 플레이트상으로 광투과성 유전체층을 형성시키는 데 유용하다. As described above, the dielectric composition of the present invention is useful for forming a light transmissive dielectric layer onto a front glass plate that has a high strain point and covers an electrode formed on the front glass plate.
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