KR100682753B1 - Quick Dump Drain Valve for Etching Equipment - Google Patents

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Abstract

본 발명의 식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브('QDD 밸브')는 각각 플랜지에 의하여 결합되도록 헤드부(2)와 하단부(3)가 상하에 일체로 형성된 하우징(1), 상기 하우징 내부에 위치하여 그 주위가 원통형 주름관(41)에 의하여 밀봉되고 샤프트(5)의 왕복운동에 의하여 개폐동작을 반복하는 주름관 마개(4), 주입되는 공기에 의하여 샤프트가 왕복운동하기 위한 실린더(8), 및 샤프트가 왕복운동하여 주름관 마개를 개폐하기 위한 열림 공기주입구(6)와 닫침 공기주입구(7)로 이루어진다.(QDD valve) for an etching apparatus according to the present invention comprises a housing 1 having a head portion 2 and a lower end portion 3 integrally formed on the upper and lower sides so as to be coupled to each other by a flange, A corrugated pipe cap 4 whose periphery is sealed by a cylindrical bell pipe 41 and which is repeatedly opened and closed by reciprocating motion of the shaft 5, a cylinder 8 for reciprocating the shaft by the air to be injected, An open air inlet 6 and a closed air inlet 7 for opening and closing the bellows cap.

식각장치, 식각 배스, 세정 배스, 드레인 밸브, 주름관, 주름관 마개 Etching apparatus, etching bath, cleaning bath, drain valve, corrugated pipe, corrugated pipe cap

Description

식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브{Quick Dump Drain Valve for Etching Equipment}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a high-

제1도는 본 발명에 따른 식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브의 개략적인 단면도이다.FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a large capacity rapid drain valve for an etching apparatus according to the present invention.

제2도는 본 발명의 드레인 밸브가 배스의 하부에 설치된 개략적인 사시도이다.FIG. 2 is a schematic perspective view in which the drain valve of the present invention is installed at the bottom of the bath; FIG.

*도면의 주요부호에 대한 간단한 설명*BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.

1 : 하우징 2 : 헤드부1: housing 2: head portion

3 : 하단부 4 : 주름관 마개3: Lower end 4: Corrugated plug

5 : 샤프트 6 : 열림 공기주입구5: shaft 6: open air inlet

7 : 닫힘 공기주입구 11 : 플랜지7: Closed air inlet 11: Flange

12 : 드레인 파이프 100 : 배스(bath)12: drain pipe 100: bath

발명의 분야Field of invention

본 발명은 반도체나 LCD를 식각하기 위한 식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 식각장치의 식각 배스(etching bath)나 세정배스(rinse bath)의 하단에 설치되어 식각액이나 세정액을 배스로부터 가급적 빨리 배출시키기 위한 급속 드레인 밸브(Quick Dump Drain 밸브: 이하 'QDD 밸브')에 관한 것이다.The present invention relates to a large capacity rapid drain valve for an etching apparatus for etching a semiconductor or LCD. More particularly, the present invention relates to a quick dump drain valve (hereinafter, referred to as 'QDD') which is installed at the lower end of an etching bath or a rinse bath of an etching apparatus to discharge an etching solution or a cleaning solution from a bath as soon as possible, Valve ').

발명의 배경BACKGROUND OF THE INVENTION

식각장치는 반도체나 LCD 글라스를 제조하는 과정에서 이들을 에칭하고, 세정하며, 건조시키기 위하여 널리 사용되고 있는 장치이다. 식각장치는 크게 3 가지 배스로 구분되는데, 반도체나 LCD 글라스를 넣어서 식각액으로 에칭하기 위한 식각배스, 에칭된 반도체나 LCD 글라스를 세정액으로 세정하기 위한 세정배스, 그리고 세정된 것을 건조하기 위한 건조배스로 이루어진다.The etching apparatus is widely used for etching, cleaning and drying semiconductor or LCD glass in the course of manufacturing thereof. The etching apparatus is divided into three types of baths: an etching bath for etching a semiconductor or an LCD glass with an etching solution, a cleaning bath for cleaning an etched semiconductor or LCD glass with a cleaning solution, and a drying bath for drying the cleaned product .

식각배스나 세정배스는 식각액이나 세정액이 담겨져서 에칭공정이나 세정공액이 완료되면 다음 공정을 위하여 이들 약액을 모두 드레인시켜야 한다. 사용되었던 약액을 배스로부터 드레인시키기 위하여 이제까지는 통상의 일반적인 밸브를 사용하여 왔다. 즉 통상의 밸브를 개폐하여 식각공정이나 세정공정에 사용되었던 약액을 드레인하고 있다. 식각장치에 관한 발명은 본 출원인의 특허공개 제1998- 30458호 및 제2000-24808호에 개시되어 있다.The etching bath or cleaning bath should be filled with etchant or cleaning solution to drain all of these chemicals for the next process once the etching process or cleaning conjugate is completed. Conventional conventional valves have so far been used to drain the used chemical liquid from the bath. That is, a common valve is opened and closed to drain the chemical solution used in the etching process or the cleaning process. The invention relating to the etching apparatus is disclosed in the applicants' patent publications 1998- 30458 and 2000-24808.

일반적인 밸브를 사용하는 종래의 식각장치는 약액이 드레인되는 시간이 길기 때문에 생산성을 저하시키는 등의 문제점이 있다. 사용된 약액을 빨리 드레인시켜 드레인 시간을 단축시킨다면 생산성이나 작업효율은 그만큼 높아지게 된다.Conventional etching apparatuses using general valves have problems such as deteriorating productivity because of a long drain time of the chemical liquid. If the drain time is shortened by rapidly draining the used chemical solution, productivity and operation efficiency will be increased as much.

또한 식각배스에서 배출되는 식각액이나 세정배스에서 배출되는 세정액은 슬러지(sludge)를 함유하기 때문에 밸브의 막힘 현상이나 약액의 누출문제를 해결할 수 있어야 한다.In addition, the etching liquid discharged from the etching bath or the cleaning liquid discharged from the cleaning bath contains sludge, and thus it is necessary to be able to solve the problem of clogging of the valve and leakage of the chemical liquid.

본 발명자는 상기와 같은 종래의 식각장치 배스에 사용되는 드레인 밸브를 개선하여, 드레인을 빨리 할 수 있고, 약액의 슬러지로 인한 밸브의 막힘 현상이나 약액의 누출문제를 완벽하게 해결할 수 있는 본 발명의 QDD 밸브를 개발하기에 이른 것이다.The inventor of the present invention has developed a drain valve used in the conventional etching bath to improve drainage and to solve the problem of clogging of the valve due to the sludge of the chemical liquid and leakage of the chemical liquid. QDD valve development.

본 발명의 목적은 식각장치의 식각배스나 세정배스에 설치하여 약액을 빠르게 드레인할 수 있는 식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브를 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a large-capacity rapid-drain valve for an etching apparatus capable of rapidly draining a chemical solution by being installed in an etching bath or a cleaning bath of an etching apparatus.

본 발명의 다른 목적은 식각장치의 약액이 밸브 외부로 누출되지 않고 안전하게 배출될 수 있는 구조를 갖는 QDD 밸브를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a QDD valve having a structure in which the chemical solution of the etching apparatus can be safely discharged without leaking out of the valve.

본 발명의 또 다른 목적은 식각장치의 약액의 슬러지로 인하여 밸브가 막히지 않도록 하는 구조를 갖는 QDD 밸브를 제공하기 위한 것이다.It is still another object of the present invention to provide a QDD valve having a structure for preventing the valve from being clogged due to sludge of a chemical solution of an etching apparatus.

본 발명의 상기 목적 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.These and other objects of the present invention can be achieved by the present invention described below.

발명의 요약SUMMARY OF THE INVENTION

본 발명의 식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브는 각각 플랜지에 의하여 결합되도록 헤드부(2)와 하단부(3)가 상하에 일체로 형성된 하우징(1), 상기 하우징 내부에 위치하여 그 주위가 원통형 주름관(41)에 의하여 밀봉되고 샤프트(5)의 왕복운동에 의하여 개폐동작을 반복하는 주름관 마개(4), 주입되는 공기에 의하여 샤프트가 왕복운동하기 위한 실린더(8), 및 샤프트가 왕복운동하여 주름관 마개를 개폐하기 위한 열림 공기주입구(6)와 닫침 공기주입구(7)로 이루어지는 것을 그 특징으로 한다.The large capacity rapid drain valve for an etching apparatus of the present invention comprises a housing 1 in which a head portion 2 and a lower end portion 3 are integrally formed on the upper and lower sides so as to be coupled to each other by flanges, And a shaft (8) for reciprocating the shaft by the air to be injected. The shaft (8) is reciprocated by a reciprocating movement of the shaft (5) Air inlet 6 and a closed-air inlet 7 for opening and closing the air inlet 6.

이하 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 내용을 하기에 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

발명의 구체예에 대한 상세한 설명DETAILED DESCRIPTION OF EMBODIMENTS OF THE INVENTION

본 발명은 반도체나 LCD를 식각하기 위한 식각장치의 식각 배스(etching bath)나 세정배스(rinse bath)의 하단에 설치되어 식각액이나 세정액을 배스로부터 가급적 빨리 배출시키기 위한 급속 드레인 밸브에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a rapid drain valve installed at the lower end of an etching bath or a rinse bath of an etching apparatus for etching a semiconductor or an LCD, so that an etching solution or a cleaning solution can be discharged from a bath as quickly as possible.

제1도는 본 발명에 따른 식각장치의 배스용 QDD 밸브의 개략적인 단면도이 고, 제2도는 본 발명의 QDD 밸브가 배스의 하부에 설치된 개략적인 사시도이다. 제2도에 도시된 바와 같이, 본 발명의 QDD 밸브는 배스(100)의 하부에 직접 연결될 수도 있고, 배스의 하부에 연결된 드레인 파이프(도시되지 않음)에 연결될 수도 있다. 이러한 연결방법은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있다.FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a QDD valve for a bath of an etching apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic perspective view in which a QDD valve of the present invention is installed on a lower portion of a bath. As shown in FIG. 2, the QDD valve of the present invention may be directly connected to the lower portion of the bath 100, or may be connected to a drain pipe (not shown) connected to the lower portion of the bath. Such a connection method can be easily implemented by a person having ordinary skill in the art to which the present invention belongs.

본 발명의 QDD 밸브는 각각 플랜지(11)에 의하여 결합되도록 헤드부(2)와 하단부(3)가 상하에 일체로 형성된 하우징(1)과 그 내부에 밸브 부품이 조립된다. 하우징 내부에는 실린더(8)가 위치하고, 그 실린더 내부에는 주입되는 압축공기에 의하여 샤프트(5)가 왕복운동한다. 샤프트의 단부에는 주름관 마개(4)가 형성되어 샤프트의 왕복운동에 따라 개폐동작을 반복하게 된다. 주름관 마개의 하부와 샤프트의 상부는 그 주위를 원통형 주름관(41)에 의하여 밀봉되도록 한다. The QDD valve of the present invention is assembled with the housing 1 in which the head portion 2 and the lower end portion 3 are integrally formed on the upper and lower sides so as to be coupled by the flanges 11 and valve components are assembled in the housing 1. A cylinder (8) is located inside the housing, and the shaft (5) reciprocates by the compressed air injected into the cylinder. A corrugated pipe cap (4) is formed at the end of the shaft, and the opening and closing operation is repeated according to the reciprocating motion of the shaft. The lower portion of the bellows cap and the upper portion of the shaft are sealed around the periphery thereof by a cylindrical bellows tube 41.

실린더 내부로 압축공기를 주입시킴으로써 밸브를 개폐하게 된다. 열림 공기주입구(6)를 통하여 압축공기를 실린더 내로 주입시키면 샤프트는 하강하여 주름관 마개가 열리게 되고, 닫힘 공기주입구(7)를 통하여 압축공기를 실린더 내로 주입시키면 샤프트는 상승하여 주름관 마개가 닫히게 된다. 열림 공기주입구(6)나 닫힘 공기주입구(7)를 통하여 압축공기를 실린더 내로 주입시키는 콘트롤 시스템은 여기서 별도로 설명하거나 도면에 도시되어 있지 않지만 이러한 제어 시스템은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있다.By injecting compressed air into the cylinder, the valve is opened and closed. When the compressed air is injected into the cylinder through the open air inlet 6, the shaft is lowered to open the bell pipe cap. When the compressed air is injected into the cylinder through the closed air inlet 7, the shaft rises and the bell cap is closed. A control system for injecting compressed air into the cylinder through the open air inlet 6 or the closed air inlet 7 is not described here or shown in the figures, And can be easily carried out by the person possessing it.

주름관 마개의 하부와 샤프트의 상부 주위를 보호하기 위한 원통형 주름관 (41)은 각종 약액에 대한 내성을 가져야 하기 때문에 PTFE 수지와 같은 테프론 수지로 제조되어야 한다. 이 주름관은 일반적으로 벨로우즈(bellows) 타입의 주름관이 바람직하게 사용될 수 있다. 이 주름관이 주름관 마개의 하부와 샤프트의 상부 주위를 감싸서 밀봉하기 때문에 식각배스에서 배출되는 식각액이나 세정배스에서 배출되는 세정액의 누출을 예방할 수 있고, 이들 약액의 슬러지가 밸브 내부로 유입되어 밸브가 고장나는 등의 결점을 예방할 수 있다. The cylindrical bellows tube 41 for protecting the lower portion of the bellows cap and the upper portion of the shaft must be made of a Teflon resin such as PTFE resin since it has resistance to various chemical fluids. This corrugated tube is generally preferably a corrugated tube of bellows type. Since the bellows tube is wrapped around the lower portion of the bellows cap and the upper portion of the shaft, leakage of the etching liquid discharged from the etching bath or the cleaning liquid discharged from the cleaning bath can be prevented, sludge of these chemical fluids flows into the valve, I can prevent defects such as.

QDD 밸브는 압축공기의 주입에 의하여 밸브의 개폐작동이 순간적으로 이루어지고 식각배스나 세정배스의 하부쪽에 수직방향으로 설치되어 처리된 약액을 수직 방향으로 배출시킬 수 있기 때문에 배출속도를 그만큼 빠르게 할 수 있다. The QDD valve is designed to open and close the valve instantly by the injection of compressed air and vertically installed on the lower side of the etching bath or cleaning bath to discharge the processed chemical liquid in the vertical direction, have.

또한 본 발명의 QDD 밸브는 배스의 용량에 따라 그 크기를 크게 할 수 있기 때문에 약액의 배출속도를 빠르게 하여 배출시간을 그만큼 단축시킬 수 있다. QDD 밸브의 크기는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있다.Further, since the QDD valve of the present invention can increase its size according to the capacity of the bath, it is possible to shorten the discharge time by increasing the discharge speed of the chemical liquid. The size of the QDD valve can be easily implemented by a person having ordinary skill in the art to which the present invention belongs.

본 발명의 QDD 밸브는 배스의 하부쪽에 수직방향으로 배열되기 때문에 슬러지의 배출이 용이하며, 슬러지로 인하여 밸브나 배관이 막히는 현상을 예방할 수 있다. Since the QDD valve of the present invention is vertically arranged on the lower side of the bath, the discharge of the sludge is easy and the clogging of the valve or the piping due to the sludge can be prevented.

배스(100)의 하부에 설치된 QDD 밸브의 하단부(3)에는 드레인 파이프(12)가 플랜지(11)에 의하여 연결되고, 약액은 이를 통하여 필요한 위치로 배출된다. The drain pipe 12 is connected to the lower end portion 3 of the QDD valve provided at the lower portion of the bath 100 by the flange 11 and the chemical liquid is discharged to a required position through the drain pipe 12.

본 발명의 QDD 밸브는 약액의 배출시간을 빠르게 하여 작업효율을 높일 수 있고, 약액이 밸브 내부로 유출되거나 슬러지로 인하여 밸브나 배관이 막히는 현상 을 예방할 수 있다. The QDD valve of the present invention can improve the operation efficiency by increasing the discharge time of the chemical liquid and prevent the clogging of the valve or the piping due to the leakage of the chemical liquid into the valve or the sludge.

본 발명은 식각장치의 식각배스나 세정배스에 설치하여 약액을 빠르게 드레인할 수 있고, 식각장치의 약액이 밸브 외부로 누출되지 않고 안전하게 배출될 수 있는 구조를 가지며, 식각장치의 약액의 슬러지로 인하여 밸브가 막히지 않도록 하는 구조를 갖는 QDD 밸브를 제공하는 발명의 효과를 갖는다.The present invention has a structure in which the chemical liquid can be rapidly drained by being installed in the etching bath of the etching apparatus or the cleaning bath, and the chemical liquid of the etching apparatus can be safely discharged without leaking to the outside of the valve. Due to the sludge of the chemical liquid of the etching apparatus The present invention has the effect of providing a QDD valve having a structure for preventing the valve from being clogged.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 이용될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

Claims (2)

플랜지에 의하여 결합되도록 헤드부(2)와 하단부(3)가 상하에 일체로 형성된 하우징(1);A housing (1) having a head part (2) and a lower end part (3) formed integrally on the upper and lower sides so as to be coupled by a flange; 상기 하우징 내부에 위치하여 그 주위가 원통형 주름관(41)에 의하여 밀봉되고 샤프트(5)의 왕복운동에 의하여 개폐동작을 반복하는 주름관 마개(4);A corrugated pipe cap (4) located inside the housing and sealed around the circumference by a cylindrical corrugated pipe (41) and repeating opening and closing operations by reciprocating motion of the shaft (5); 주입되는 공기에 의하여 샤프트가 왕복운동하기 위한 실린더(8); 및 A cylinder (8) for reciprocating the shaft by air to be injected; And 샤프트가 왕복운동하여 주름관 마개를 개폐하기 위한 실린더 내부로 압축공기를 주입하기 위한 열림 공기주입구(6)와 닫침 공기주입구(7);An open air inlet port 6 and a closed air inlet port 7 for injecting compressed air into the cylinder for reciprocating the shaft to open and close the bellows cap; 로 이루어지는 것을 특징으로 하는 식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브.Wherein the high-capacity rapid-drain valve for an etching apparatus is a high-capacity rapid-drain valve for an etching apparatus. 제1항에 있어서, 상기 원통형 주름관은 PTFE 수지로 제조되는 것을 특징으로 하는 식각장치용 대용량 급속 드레인 밸브.The large capacity rapid drain valve for an etching apparatus according to claim 1, wherein the cylindrical bellows is made of PTFE resin.
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