KR100675911B1 - 리소그래피 장치, 로렌츠 액츄에이터, 및 디바이스 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- 리소그래피 장치에 있어서,방사선 빔을 제공하는 조명시스템;상기 방사선 빔에 원하는 패턴을 부여할 수 있는 패터닝 디바이스를 지지하는 지지구조체;기판을 잡아주는 기판 홀더;상기 기판상에 상기 패터닝된 빔을 투영시키는 투영시스템; 및서로에 대해 제1 및 제2장치부분을 변위시키도록 제1장치부분과 제2장치부분 사이에 힘을 생성하는 액츄에이터를 포함하여 이루어지되, 상기 제1장치부분은 상기 조명시스템, 상기 지지구조체, 상기 기판 홀더, 및 상기 투영시스템 중 어느 하나 또는 이 어느 하나의 일부분을 포함하여 이루어지고, 상기 제2장치부분은 상기 조명시스템, 상기 지지구조체, 상기 기판 홀더, 및 상기 투영시스템 중 어느 하나 또는 이 어느 하나의 또 다른 부분을 포함하여 이루어지며, 상기 액츄에이터는,제1자기장을 제공하도록 구성된 메인 자석 시스템, 및 제2자기장을 제공하도록 구성된 보조 자석 시스템을 포함하여 이루어지는 제1자석 시스템 서브어셈블리 및 제2자석 시스템 서브 어셈블리를 포함하여 이루어지되, 상기 메인 및 보조 자석 시스템은 상기 제1장치부분에 부착되고;도전성 요소에 의해 전달되는 전류와 상기 제1 및 제2자기장과의 상호작용에 기초하여 상기 힘을 생성하도록 구성된 상기 도전성 요소를 포함하여 이루어지되, 상기 도전성 요소는 상기 제2장치부분에 부착되고 상기 제1자석 시스템 서브어셈블리와 상기 제2자석 시스템 서브어셈블리 사이에 개재(interpose)되며; 및상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리의 외측부들 사이에서 실질적으로 연장되는 자기 요소를 포함하여 이루어지되, 상기 자기 요소는 상기 제2자기장의 일부분을, 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 하나로부터 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 다른 하나로 안내하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 메인 자석 시스템 및 상기 보조 자석 시스템은 Halbach 구성으로 배치되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 자기 요소는 고도로 투자가능한 물질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 보조 자석 시스템내에 포함된 서로 대향하는 보조 자석들 사이에서 연장되고, 상기 서로 대향하는 보조 자석들은 실질적으로 역평행 극성들을 가지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제4항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 메인 자석 시스템의 인접한 메인 자석들에 대해 상기 서로 대향하는 보조 자석들의 측면들 사이에서 연장되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 하나로부터 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 다른 하나로의 방향으로 극성을 가지는 영구 자석을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제6항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리의 메인 자석들에 인접하여 위치된 고도로 투자가능한 물질을 포함하여 이루어지는 부분들 사이에서 연장되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1항에 있어서,상기 도전성 요소와 상기 자기 요소의 거리는 상기 액츄에이터의 릴럭턴스 힘이 상기 액츄에이터에 의해 생성되는 최대 힘의 1% 미만이 되도록 충분히 큰 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치.
- 제1 및 제2부분 중 하나에 대해 상기 제1 및 제2부분 중 다른 하나를 변위시키도록 상기 제1부분과 상기 제2부분 사이에 힘을 생성하는 액츄에이터에 있어서,제1자석 시스템 서브어셈블리 및 제2자석 시스템 서브어셈블리를 포함하여 이루어지는 제1액츄에이터를 포함하여 이루어지되, 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리는 제1자기장을 제공하도록 구성된 메인 자석 시스템, 및 제2자기장을 제공하도록 구성된 보조 자석 시스템을 포함하여 이루어지고, 상기 메인 및 보조 자석 시스템은 상기 제1부분에 부착되며;도전성 요소에 의해 전달되는 전류와 상기 제1 및 제2자기장과의 상호작용에 기초하여 상기 힘을 생성하도록 구성된 상기 도전성 요소를 포함하여 이루어지는 제2액츄에이터를 포함하여 이루어지되, 상기 도전성 요소는 상기 제2부분에 부착되고 상기 제1자석 시스템 서브어셈블리와 상기 제2자석 시스템 서브어셈블리 사이에 개재되며; 및상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리의 외측부들 사이에서 실질적으로 연장되는 자기 요소를 포함하여 이루어지되, 상기 자기 요소는 상기 제2자기장의 일부분을, 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 하나로부터 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 다른 하나로 안내하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 제9항에 있어서,상기 메인 자석 시스템 및 상기 보조 자석 시스템은 Halbach 구성으로 배치되는 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 제9항에 있어서,상기 자기 요소는 고도로 투자가능한 물질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 제9항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 보조 자석 시스템내에 포함된 서로 대향하는 보조 자석들 사이에서 연장되고, 상기 서로 대향하는 보조 자석들은 실질적으로 역평행 극성들을 가지는 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 제12항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 메인 자석 시스템의 인접한 메인 자석들에 대해 상기 서로 대향하는 보조 자석들의 측면들 사이에서 연장되는 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 제9항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 하나로부터 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 다른 하나로의 방향으로 극성을 가지 는 영구 자석을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 제14항에 있어서,상기 자기 요소는 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리의 메인 자석들에 인접하여 위치된 고도로 투자가능한 물질을 포함하여 이루어지는 부분들 사이에서 연장되는 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 제9항에 있어서,상기 도전성 요소와 상기 자기 요소의 거리는 상기 액츄에이터의 릴럭턴스 힘이 상기 액츄에이터에 의해 생성되는 최대 힘의 1% 미만이 되도록 충분히 큰 것을 특징으로 하는 액츄에이터.
- 디바이스 제조방법에 있어서,기판 홀더에 의해 유지되는 기판을 제공하는 단계;조명시스템을 이용하여 방사선 빔을 제공하는 단계;지지구조체에 의해 지지된 패터닝 디바이스에 의해 상기 방사선 빔상으로 원하는 패턴을 부여하는 단계;투영시스템을 통해 상기 기판의 타겟부상에 방사선의 상기 패터닝된 빔을 투영시키는 단계;서로에 대해 제1장치부분 및 제2장치부분을 변위시키는 힘을 생성하는 단계를 포함하여 이루어지되, 상기 제1장치부분은 상기 조명시스템, 상기 지지구조체, 상기 기판 홀더, 및 상기 투영시스템 중 어느 하나 또는 이 어느 하나의 일부분을 포함하여 이루어지고, 상기 제2장치부분은 상기 조명시스템, 상기 지지구조체, 상기 기판 홀더, 및 상기 투영시스템 중 어느 하나 또는 이 어느 하나의 또 다른 부분을 포함하여 이루어지며, 상기 힘을 생성하는 단계는,제1자석 시스템 서브어셈블리 및 제2자석 시스템 서브어셈블리의 메인 자석 시스템으로부터 제1자기장을 발생시키는 단계를 포함하여 이루어지되, 상기 메인 자석 시스템은 상기 제1부분에 부착되고;상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리의 보조 자석 시스템으로부터 제2자기장을 발생시키는 단계를 포함하여 이루어지되, 상기 보조 자석 시스템은 상기 제1부분에 부착되며;도전성 요소에 의해 전달되는 전류와 상기 제1 및 제2자기장과의 상호작용에 기초하여 상기 힘을 생성하는 단계를 포함하여 이루어지되, 상기 도전성 요소는 상기 제2부분에 부착되고; 및상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 하나로부터 상기 제1 및 제2자석 시스템 서브어셈블리 중 다른 하나로 상기 제2자기장의 일부분을 안내하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
- 제17항에 있어서,상기 제1자기장 및 상기 제2자기장은 Halbach 구성으로 배치되는 것을 특징 으로 하는 디바이스 제조방법.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101094225B1 (ko) | 2008-10-07 | 2011-12-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 로렌츠 액추에이터 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200709536A (en) * | 2006-03-02 | 2007-03-01 | Magtronics Technology Inc | A voice coil motor and method of using magnetic restoring force achieving displacement control |
NL1036511A1 (nl) * | 2008-02-13 | 2009-08-14 | Asml Netherlands Bv | Movable support, position control system, lithographic apparatus and method of controlling a position of an exchangeable object. |
US9293951B2 (en) | 2008-10-07 | 2016-03-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and lorentz actuator |
DE102009034502A1 (de) | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Baugruppe zur Führung eines EUV-Strahlungsbündels |
JP5355699B2 (ja) | 2008-10-20 | 2013-11-27 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 放射線ビームを案内するための光学モジュール |
DE102009009568A1 (de) | 2008-10-20 | 2010-04-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Baugruppe zur Führung eines EUV-Strahlungsbündels |
CN102203675B (zh) * | 2008-10-31 | 2014-02-26 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 用于euv微光刻的照明光学部件 |
NL2003776A (en) | 2008-12-31 | 2010-07-01 | Asml Holding Nv | Linear motor magnetic shield apparatus. |
CN102460302B (zh) * | 2009-06-09 | 2015-06-17 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备和用于减小杂散辐射的方法 |
US8952342B2 (en) | 2009-12-17 | 2015-02-10 | Mapper Lithography Ip B.V. | Support and positioning structure, semiconductor equipment system and method for positioning |
EP2539771B1 (en) | 2010-02-25 | 2017-02-01 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102011006100A1 (de) | 2011-03-25 | 2012-09-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel-Array |
DE102012202169A1 (de) * | 2012-02-14 | 2013-03-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Haltevorrichtung |
DE102013201509A1 (de) | 2012-02-17 | 2013-08-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Bauelement |
DE102013201506A1 (de) | 2012-02-17 | 2013-08-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Bauelement |
US20150124234A1 (en) * | 2012-04-19 | 2015-05-07 | Asml Netherlands B.V. | Substrate holder, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
DE102013204546A1 (de) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Bauteil |
DE102013206529A1 (de) | 2013-04-12 | 2014-04-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikroaktuator |
DE102013206531A1 (de) | 2013-04-12 | 2014-05-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur Verlagerung eines Spiegelelements |
DE102014203188A1 (de) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage |
DE102014203189A1 (de) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel-Array |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR900005760B1 (ko) * | 1986-02-19 | 1990-08-09 | 가부시기가이샤 히다찌 세이사꾸쇼 | 가동코일형 리니어 모터 |
WO1999053600A1 (fr) * | 1998-04-10 | 1999-10-21 | Nikon Corporation | Moteur lineaire comportant une unite de bobine polygonale |
US6717296B2 (en) * | 2001-08-22 | 2004-04-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and motor for use in the apparatus |
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