KR100675746B1 - 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기 및 그구동방법 - Google Patents

입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기 및 그구동방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기에 관한 것으로, 파장 안정화기에 입방체형 빛살 가르개를 적용하여 레이저 다이오드를 통하여 입력되는 광이 입방체형 빛살 가르개에 의해 투과 및 반사되도록 이루어질 뿐만 아니라, 입방체형 빛살 가르개에 에탈론과 거울을 일체화시키고, 여러개의 시준화기 및 검출기를 사용함으로써 다중 채널을 수용하기가 매우 유리하며, 그 크기 및 기능 또한 컴팩트화시킬 수 있어 비교적 작은 공간 내에서도 구현가능하게 이루어지고, 이로 인해 제조공정을 간소화시킬 수 있으며, 자유 스펙트럼 영역의 가변화가 가능하게 이루어져 파장의 안정화를 이룰 수 있는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기를 제공하기 위한 것으로, 그 기술적 구성은 파장 안정화기에 있어서, 입방체형상체로서, 전면에 구비되는 시준화기와, 배면 적소에 구비되는 거울과, 일측면 소정위치에 구비되는 판체형상의 에탈론으로 이루어지는 빛살 가르개와; 상기 빛살 가르개의 배면과 일측면 적소에 소정거리 이격되게 구비되는 검출부가 포함되는 것을 특징한다.
파장 안정화기, 입방체형, 빛살 가르개, 에탈론, 거울, 가르개면

Description

입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기 및 그 구동방법{Wavelength stabilizer having cube beam splitter and method for driving thereof}
도 1은 종래기술에 따른 외장형 파장 안정화기를 개략적으로 나타내는 평면도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 입방체형 빛살 가르개를 개략적으로 나타내는 사시도,
도 3은 본 발명에 의한 파장 안정화기를 나타내는 평면도,
도 4는 본 발명에 의한 파장 안정화기의 구동과정을 개략적으로 나타내는 개략도,
도 5은 마이켈슨 간섭계의 광의 경로 차이에 의한 두 파장의 광의 강도 세기 변화를 개략적을 나타내는 도면,
도 6는 본 발명에 의한 파장 안정화기를 통하여 분리된 광속의 위상차이 중 에탈론을 적용하였을 경우의 파장에 대한 에탈론 반사 위상 변화 곡선을 개략적으로 나타내는 도면,
도 7는 본 발명에 의한 파장 안정화기에 설치되어 있는 거울의 파장에 대한 에탈론 반사 위상 변화 곡선을 개략적으로 나타내는 도면,
도 8은 본 발명에 의한 파장 안정화기에 에탈론의 반사 위상과 거울의 반사 위상에 의한 파장에 대한 광의 강도 세기의 변화 곡선을 나타내는 도면,
도 9는 본 발명에 의한 파장 안정화기의 에탈론과 거울에 대한 반사위상 곡선의 변화를 나타내는 도면,
도 10은 본 발명에 의한 파장 안정화기의 두 광속에 의한 위상차에 의해 파장에 대하여 광의 강도 변화를 나타내는 도면.
** 도면 중 주요부분에 대한 부호의 설명 **
1 : 파장 안정화기, 3 : 레이져 다이오드,
5 : 광선로, 7 : 탭 커플러,
10 : 입방체형 빛살 가르개, 11 : 시준화기,
12 : 무반사 박막, 14 : 거울,
15 : 에탈론, 16 : 공진층,
18 : 가르개면, 30 : 검출부,
31 : 제1 검출기, 33 : 제2 검출기,
35 : 포토다이오드,
51, 53 : 빛살 가르개에 의해 분리되는 광속,
52 : 거울을 투과하는 광속,
55, 57 : 간섭하는 광속.
본 발명은 WDM 광전송 시스템의 파장 안정화장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 파장 안정화기에 입방체형 빛살 가르개를 적용하여 레이저 다이오드를 통하여 입력되는 광이 입방체형 빛살 가르개에 의해 투과 및 반사되도록 이루어질 뿐만 아니라, 입방체형 빛살 가르개에 에탈론과 거울을 일체화시키고, 여러개의 시준화기 및 검출기를 사용함으로써 다중 채널을 수용하기가 매우 유리하며, 그 크기 및 기능 또한 컴팩트화시킬 수 있어 비교적 작은 공간 내에서도 구현가능하게 이루어지고, 이로 인해 제조공정을 간소화시킬 수 있으며, 자유 스펙트럼 영역의 가변화가 가능하게 이루어져 파장의 안정화를 이룰 수 있는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기에 관한 것이다.
일반적으로, 광통신 기술은 기가비트(Gbps) 시대를 거쳐 테라비트(Tbps) 시대로 발전하였으며, 이에 따른 대용량, 초고속 광통신 기술로 파장분할다중(Dens Wavelength Division Multiplex, DWDM) 방식을 이용한 전송장치가 활발하게 연구되고 있다.
최근 DWDM 광전송 시스템에서 전송 용량을 증가시키기 위한 방법의 하나로 광신호의 파장의 간격을 줄임으로써 보다 많은 수의 채널을 확보하는 방법을 채택하고 있다.
즉, 광신호의 파장의 간격을 줄여 보다 많은 수의 채널을 확보하기 위하여 채널의 간격을 200㎓, 100㎓, 50㎓, 25㎓로 줄임으로써 파장 분할 간격을 1.6nm(200㎓ Grid), 0.8nm(100㎓ Grid), 0.4nm(50㎓ Grid)으로 줄이고 있는 실정이다.
이렇게 파장의 분할 간격이 좁아짐에 따라 파장의 중첩 현상이 발생하며, 이러한 중첩현상의 해결하기 위한 방법 중 하나로 광 전송 시스템에서 광 파장을 격리시키기 위하여 사용되는 광 부품 및 모듈의 성능과 특성을 보다 안정되고 우수하게 향상시키는 방법이 있으며, 특히 광원의 파장 안정화(Wavelength stabilization) 기능이 필수적인 요구사항이 되었으며, 시분할 다중(Time division multiplex, TDM) 방식의 광통신이나 아날로그 광통신에서도 고속 광변조 신호의 원할한 송, 수신을 위하여 파장의 안정성이 요구된다.
WDM 광전송 시스템에서 광원으로 사용되는 반도체 레이져(Laser diode)는 수 nm 혹은 그 이하의 좁은 파장 간격으로 배열되어 있고, 외부환경 특히 온도의 영향에 따라 배열된 광원의 파장 또는 주파수가 항상 일정치 않은 현상이 발생되며, 이러한 현상을 방지하여 광원의 파장을 안정화시키기 위하여 광원의 파장을 항상 감시하여야 하며, 광원의 파장이 변할 경우 원래의 파장으로 되돌기 위한 파장 안정화기가 필요하다.
일반적으로, 광원으로 사용되는 레이저(Laser)의 파장을 제어 및 안정화시키는 기능을 수행하는 파장 안정화기는 파장 잠금장치(Wavelength locker)라고도 하며, 광신호 모니터링(Wavelength monitoring) 장치 등에 활용된다.
이러한 광원의 파장 또는 주파수를 안정화시키기 위한 파장 안정화기는 구조에 따라 내장형과 외장형으로 구분되며, 내장형 파장 안정화기의 경우 광원인 레이 져 다이오드 내부에 파장 안정화기를 집적화한 것이고, 외장형 파장 안정화기의 경우 보통의 레이져 다이오드와 별도의 모듈로 구성되어지고, 레이져 다이오드의 출력의 일부를 사용하여 레이져 다이오드의 파장을 안정화하도록 이루어진다.
이러한 내장형 파장 안정화기의 경우 반도체 레이져 다이오드 출력방향의 반대쪽에 구성되고 소형이라는 장점을 가지고 있으나, 레이져 다이오드의 구조가 복잡하고 제작이 용이하지 않다는 단점을 가지고 있으며, 외장형 파장 안정화기의 경우 제작이 용이하고 소장의 신뢰성이 우수하다는 장점을 가지고 있어 수 십 채널 이상으로 이루어지는 DWDM의 넓은 파장 영역에서 사용할 수 있으므로 근래 들어 가장 효과적인 방법 중에 하나로 알려져 있다.
도 1은 종래기술에 따른 외장형 파장 안정화기를 개략적으로 나타내는 평면도이다. 도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 종래의 파장 안정화기(108)는 에탈론 필터(101)과 빛살 가르개(102), 상기 빛살 가르개(102)에 의해 반사된 빛에 감응하는 포토다이오드(103)와 에탈론 필터(101)를 투과한 빛에 감응하는 투과 포토다이오드(104)를 가지고 있다.
상기 에탈론 필터(101)는 매우 많은 수의 가간섭성 파동이 간섭무늬를 만드는 다중 광속 간섭이론에 의해 설명할 수 있으며, 이런 에탈론 필터(101)를 사용한 외장형 파장 안정화기(108)의 원리 및 구동은 다음과 같다.
먼저, 레이져 다이오드(105)로부터 나온 광이 광선로(106)를 따라 진행하고, 광선로(106)을 따라 진행하는 광의 일부가 탭 커플러(107)를 통하여 파장 안정화기(108)로 향하게 된다.
상기 파장 안정화기(108)로 입력된 광은 시준화기(109)에 의하여 시준화되고, 빛살 가르개(102)에 의해 두 개의 광속으로 분리된다. 이때 분리된 광속의 채널 간격은 동일하게 이루어진다.
상기와 같이 에탈론 필터(101)을 투과한 광속과 반사된 광속은 각각의 투과위치에 설치되는 포토다이오드(104)와 반사위치에 설치되는 포토다이오드(103)에 의하여 전기적인 신호로 검출된다.
이때, 반사위치에 설치되는 다이오드(103)와 투과위치에 설치되는 다이오드(104)의 광세기가 동일한 파장이 잠금파장(Locking wavelength)가 되며, 이렇게 잠금파장을 설정한 후 레이져 다이오드(105)의 출력파장이 외부 요인에 의하여 변화하게 되면 반사위치의 포토다이오드(103)의 광의 세기는 변화가 없으나, 투과위치의 포토다이오드(104)는 에탈론 필터(101)의 투과특성에 의해 광의 세기가 변화하게 된다.
따라서, 파장 안정화기(108)의 투과위치에 설치되는 포토다이오드(104)와 반사위치에 설치되는 포토다이오드(103)의 광의 강도 세기 차이가 발생하며, 각 포토다이오드(104, 103)의 비교에 의해 레이져 다이오드(105)의 파장을 제어하도록 이루어진다.
이러한 외장형 파장 안정화기(108)의 경우 패키징 시 에탈론 필터(101)의 정렬 오차에 의해 잠금파장을 설정하기가 매우 어려우며, 이로 인해 광원의 성능이 저하될 수 있다.
뿐만 아니라, 파장 안정화기를 제조하기 위한 제조공정이 복잡하고, 그 크기 또한 대형화로 인하여 제조의 편의성을 저하시킨다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 파장 안정화기에 입방체형 빛살 가르개를 적용하여 레이저 다이오드를 통하여 입력되는 광이 입방체형 빛살 가르개에 의해 투과 및 반사되도록 이루어질 뿐만 아니라, 입방체형 빛살 가르개에 에탈론과 거울을 일체화시키고, 여러개의 시준화기 및 검출기를 사용함으로써 다중 채널을 수용하기가 매우 유리하며, 그 크기 및 기능 또한 컴팩트화시킬 수 있어 비교적 작은 공간 내에서도 구현가능하게 이루어지고, 이로 인해 제조공정을 간소화시킬 수 있으며, 자유 스펙트럼 영역의 가변화가 가능하게 이루어져 파장의 안정화를 이룰 수 있는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 파장 안정화기에 있어서, 입방체형상체로서, 전면에 구비되는 시준화기와, 배면 적소에 구비되는 거울과, 일측면 소정위치에 구비되는 판체형상의 에탈론으로 이루어지는 빛살 가르개와; 상기 빛살 가르개의 배면과 일측면 적소에 소정거리 이격되게 구비되는 검출부가 포함되는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 검출부가 상기 시준화기에 적소에 위치하는 제1 검출기와 제2 검출기로 이루어지고, 상기 제1 검출기와 제2 검출기의 일측면에 포토다이오드가 각각 구비된다.
그리고, 상기 입방체형 빛살 가르개의 전면에 구비되는 시준화기가 다수개로 이루어진다.
또한, 상기 검출부의 제1 검출기와 제2 검출기에 구비되는 포토다이오드가 다수개로 이루어진다.
한편, 상기 시준화기와 상기 포토다이오드의 갯수가 상호 대응되게 이루어진다.
더불어, 상기 빛살 가르개가 석영 블록, BK7 및 유리재질로 이루어진다.
그리고, 상기 빛살 가르개의 내부에 소정각도로 경사지게 이루어지는 가르개면이 구비된다.
또한, 상기 빛살 가르개의 내부에 구비되는 가르개면의 각도 및 위치가 가변가능하게 이루어진다.
대안적으로는, 상기 에탈론은 그 내부에 채널의 간격에 해당하는 소정두께의 공진층이 형성된다.
그리고, 상기 에탈론의 내부에 형성되는 공진층의 두께가 변경가능하게 이루어지고, 그에 따라 채널의 간격을 능동 또는 수동으로 가변가능하게 이루어진다.
한편, 상기 빛살 가르개와 시준화기 사이 및 빛살 가르개의 일측면에 소정두께의 판상체형상으로 이루어지는 무반사 박막이 개재된다.
그리고, 상기 무반사 박막이 유전체 박막으로 이루어진다.
또한, 상기 시준화기가 구배형 렌즈나 구면 또는 비구면을 갖는 렌즈로 이루어진다.
더불어, 상기 빛살 가르개의 배면과 일측면에 구비되는 거울과 에탈론의 위치가 상호 변경가능하게 이루어진다.
그리고, 상기 빛살 가르개의 배면과 일측면에 구비되는 거울과 에탈론이 유전체 박막으로 이루어진다.
또한, 상기 거울과 에탈론이 상호 별개의 소자로 구성된다.
여기서, 레이져 다이오드에서 광이 광선로를 통하여 진행되는 단계; 상기 광선로를 통하여 진행되는 광의 일부가 탭 커플러를 통하여 파장 안정화기로 입력되는 단계; 상기 파장 안정화기로 입력되는 광이 시준화기를 통과하면서 시준화되는 단계; 상기 시준화기를 통과한 광이 입방체형 빛살 가르개로 입력되는 단계; 상기 빛살 가르개에 입력된 광이 그 내부에 소정각도로 경사지게 구비되는 가르개면에 의해 두개의 광속으로 분리되는 단계; 상기 가르개면에 의하여 분리된 두개의 광속 중 투과된 광속은 거울에 입력되고, 다른 하나의 광속은 반사되어 에탈론에 입력되는 단계; 상기 가르개면에 의하여 분리된 두개의 광속 중 반사된 광속이 에탈론에 의해 재반사되는 단계; 상기 거울에 입력되는 광속이 다시 두개의 광속으로 분리되는 단계; 상기 거울에 입력되는 두개의 광속 중 투과된 광속은 거울에 입력되고, 다른 하나의 광속이 거울에 반사되는 단계; 상기 에탈론에 의하여 반사되는 광속 및 상기 거울에 의하여 반사되는 광속이 재결합되는 단계; 상기 거울을 투과한 광속 및 상기 에탈론과 거울에 의하여 반사된 광속이 각각의 검출기에 의하여 전기적 신호의 세기로 검출되는 단계; 상기 각 검출기에 의하여 검출된 각 광속의 주기적인 투과특성 교점을 잠금파장으로 설정하는 단계를 포함한다.
바람직하게는, 상기 빛살 가르개에 의하여 분리되었다가 에탈론과 거울에 의해 반사되는 각 광의 재 결합 시 이들 두 광속간의 위상변화에 의한 간섭원리에 의하여 잠금파장을 설정하는 단계를 더 포함한다.
이하, 본 발명에 따른 실시예를 첨부된 예시도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 입방체형 빛살 가르개를 개략적으로 나타내는 사시도이고, 도 3은 본 발명에 의한 파장 안정화기를 나타내는 평면도이고, 도 4는 본 발명에 의한 파장 안정화기의 구동과정을 개략적으로 나타내는 개략도이다.
도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 본 발명에 의한 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기는 입방체형상체로서, 전면에 구비되는 시준화기(11)와, 배면 적소에 구비되는 거울(14)과, 일측면 소정위치에 구비되는 판체형상의 에탈론(15)으로 이루어지는 빛살 가르개(10)와; 상기 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면 적소에 소정거리 이격되게 구비되는 검출부(30)가 포함된다.
본 발명의 일 실시예에서는 상기 빛살 가르개(10)가 편광특성에 의존하지 않는 입방체형상으로 이루어져 있으나, 상기 빛살 가르개(10)가 기타 다양한 형상으로 형성되어 편광특성에 의존하지 않도록 이루어지는 것도 가능하다.
여기서, 상기 검출부(30)가 상기 시준화기(11)에 적소에 위치하는 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)로 이루어지고, 상기 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)는 시준화기(11)의 위치에 따른 소정 위치에 포토다이오드(35)가 구비된다.
한편, 다수의 채널을 수용하기 위해서는 상기 입방체형 빛살 가르개(10)의 전면에 구비되는 시준화기(11)가 다수개로 이루어지며, 상기 검출부(30)의 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)에 구비되는 포토다이오드(35)가 다수개로 이루어지는 것이 바람직하다.
뿐만 아니라, 상기 시준화기(11)와 상기 포토다이오드(35)의 갯수가 상호 대응되게 구비되는 것이 바람직하다.
즉, 상기 파장 안정화기(1)를 통하여 투과 및 반사되는 광속을 검출하기 위하여 상기 검출부(30)가 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)가 상기 시준화기(11)의 위치에 의한 소정위치에 구비되며, 다수의 채널을 수용하기 위하여 상기 빛살 가르개(10)에 여러개의 시준화기(11)가 사용될 경우 그에 대응되는 갯수의 포토다이오드(35)가 구비된다.
다시 말하면, 다수의 채널을 수용하기 위해서는 여러개의 시준화기(11)가 입방체형 빛살 가르개(10)의 전면 적소에 구비되고, 이에 따른 소정위치에 상기 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)가 정렬된 형태로 위치된다.
본 발명의 일 실시예에서는 파장 안정화기(1)를 통하여 투과 및 반사되는 광속을 검출하기 위하여 상기 검출부(30)의 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)의 일측면 중심부에 포토다이오드(35)가 구비되어 있으나, 파장 안정화기(1)의 변경을 목적으로 입방체형 빛살 가르개(10)의 배면 적소에 위치한 거울(14)과 일측면에 구비되는 에탈론(15)이 상호 위치를 변경할 경우 제1 검출기(31)는 변경된 위치의 거울(14)로부터 소정거리 이격된 위치에 구비되는 것도 가능하다.
그리고, 상기 빛살 가르개(10)가 석영 블록, BK7 및 유리재질로 이루어진다. 본 발명의 일 실시예에서는 상기 빛살 가르개(10)가 석영 블록, BK7을 포함하는 유리재질로 이루어져 있으나, 탭 커플러(7)를 통하여 입력되는 광을 분리시키기 용이하다면 기타 다양한 재질로 이루어지는 것도 가능하다.
이때에도, 상기 빛살 가르개(10)는 유리재질을 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다.
한편, 상기 빛살 가르개(10)의 내부에 소정각도로 경사지게 이루어지는 가르개면(18)이 구비된다. 상기 빛살 가르개(10)의 내부에 사선방향으로 구비되는 가르개면(18)에 의하여 탭 커플러(7) 및 시준화기(11)를 통하여 입력되는 광이 두개로 분리되도록 이루어진다.
상기 빛살 가르개(10)의 내부에 구비되는 가르개면(18)의 각도 및 위치가 가변가능하게 이루어진다. 즉, 본 발명의 일 실시예에서는 상기 가르개면(18)이 입방체형상의 빛살 가르개(10) 내부에 대각방향으로 사선상에 위치하도록 이루어져 있으나, 중심을 기준으로 그에 대칭되게 위치하는 것도 가능하며, 이때의 각도 또한 중심을 기준으로 일측 또는 타측으로 회전하여 소정각도로 이루어지도록 하는 것도 가능하며, 상기 가르개면(18)의 두께 또한 가변가능하게 이루어진다.
한편, 상기 에탈론(15)은 그 내부에 채널의 간격에 해당하는 소정두께의 공진층(16)이 형성된다. 본 발명의 일 실시예에서는 상기 에탈론(15)의 내부 중간부에 소정두께의 공진층(16)이 형성되어 있는 대략 3층 구조로 이루어져 있으나, 상기 에탈론(15)의 역할에 변함이 없다면 그 이상 또는 이하의 층으로 이루어지는 것도 가능하다. 이때에도, 상기 에탈론(15)의 중간부에 공진층(16)이 개재되게 이루 어지는 것이 바람직하다.
뿐만 아니라, 상기 에탈론(15)의 내부에 형성되는 공진층(16)의 두께가 변경가능하게 이루어지고, 그에 따라 채널의 간격을 능동 또는 수동으로 가변가능하게 이루어진다. 즉, 상기 에탈론(15)의 공진층(16)은 광통신 시스템의 채널간격(FSR)에 해당하는 두께를 갖도록 이루어지며, 상기 공진층(16)의 굴절률, 거리를 제어하여 능동 및 수동형으로 채널 가격을 가변시키도록 이루어진다.
이때 온도에 민감한 물질을 공진층(16)으로 구성할 경우 온도에 의해 채널 간격이 변화하므로 온도에 민감하지 않은 공기(Air)가 내부에 충진되는 형태의 공진층(16)이 사용되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 빛살 가르개(10)와 시준화기(11) 사이 및 빛살 가르개(10)의 일측면에 소정두께의 판상체형상으로 이루어지는 무반사 박막(12)이 개재된다.
그리고, 상기 시준화기(11)가 구배형 렌즈나 구면 또는 비구면을 갖는 렌즈로 이루어진다. 즉, 상기 시준화기(11)는 파장 안정화기(1)로 입력되는 광을 시준화하기 위하여 일반적인 구배형 렌즈나 구면 또는 비구면을 갖는 렌즈로 이루어진다.
한편, 상기 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면에 구비되는 거울(14)과 에탈론(15)의 위치가 상호 변경가능하게 이루어진다. 즉, 상기 빛살 가르개(10)의 배면에 구비되는 거울(14)이 그 일측면에 구비되는 에탈론(15)의 자리에 위치하고, 상기 빛살 가르개(10)의 일측면에 구비되는 에탈론(15)이 그 배면에 구비되는 거울(14)의 자리에 위치하는 등 상호 위치의 변경이 가능하다.
여기서, 상기 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면에 구비되는 거울(14)과 에탈론(15)이 유전체 박막으로 이루어진다. 유전체 박막은 두개의 무반사 박막(12) 및 거울(14)과 에탈론(15)으로 구성된다.
본 발명의 일 실시예에서는 유전체 박막이 두개의 무반사 박막(12) 및 거울(14)과 에탈론(15)이 적층구성되어 이루어져 있으나, 각각이 개별적으로 유전체 박막을 구성하도록 이루어지는 것도 가능하고, 기타 다양한 유리 재질 및 무반사 재질로 이루어지는 것도 가능하다.
한편, 상기 거울(14)과 에탈론(15)이 상호 별개의 소자로 구성되는 것도 가능하다. 즉, 상기 거울(14)과 에탈론(15)을 상호 별개의 소자로 구성하여 입방체형 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면에 무반사 박막(12)을 구성하여 근접 및 부착시키는 변경된 형태로 이루어지는 것도 가능하다.
상기와 같은 구조 및 구성에 의하여 상기 입방체형 빛살 가르개(10)의 크기 및 부피를 줄임으로써 소형 제작이 가능하고, 소형으로 제작할 경우 내장형 파장 안정화기에도 적용가능하다.
이렇게 본 발명에 의한 입방체형 빛살 가르개(10)에 의하여 광속이 각각 분리되고, 분리된 각각의 광속이 다시 재결합되면서 서로 다른 위상에 의해 간섭을 가게 되며, 이러한 간섭현상은 파장에 따라서 그 광의 강도변화가 주기적으로 변화하게 된다.
이와 같이, 광의 강도 변화와 거울(14)에 의해 투과되는 광의 세기를 비교하게 된다. 즉, 빛살 가르개(10)에 의해 나누어진 두 광속의 위상차이를 위해 에탈론 (15)과 거울(14)을 이용하고, 레이져 다이오드(3)가 외부 요인에 의해 파장이 변화할 경우 에탈론(15)과 거울(14)의 반사 위상차이에 의하여 파장에 의한 광의 세기는 변화하고, 거울(14)에 투과되는 광의 파장은 변화하지 않게 되며, 이 두 광의 세기를 비교하여 레이져 다이오드(3)의 외부 요인을 인식한 후 제어하게 된다.
이때, 에탈론(15)의 공진층(16)의 두께 및 굴절률을 변화시킴으로써 수동 또는 능동적으로 채널의 간격을 변화시킬 수 있으며, 입방체형 빛살 가르개(10)에 구비되는 다수개의 시준화기(11)와 검출부(30)에 상기 시준화기(11)의 갯수와 대응되는 다수개의 포토다이오드(35)를 설치함으로써 다중 채널에 대한 파장의 안정화가 가능하게 된다.
이하, 본 발명에 의한 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기(1)의 구동과정을 설명한다.
먼저, 레이져 다이오드(3)에서 광을 출력하여 광선로(5)를 통하여 진행되게 한다(S1).
이때, 상기 광선로(5)를 통하여 진행되는 광의 일부가 그 적소에 구비되는 탭 커플러(7)를 통하여 파장 안정화기(1)로 입력된다(S2).
이렇게 파장 안정화기(1)로 입력되는 광은 입방체형 빛살 가르개(10)의 전면부에 구비되는 시준화기(11)를 통과하면서 시준화된다(S3).
상기와 같이 시준화기(11)를 통과하여 시준화된 광이 입방체형 빛살 가르개(10)로 입력된다(S4).
상기 빛살 가르개(10)에 입력된 광은 그 내부에 소정각도로 경사지게 위치하 는 가르개면(18)에 투과되면서 두개의 광속(51, 53)으로 분리된다(S6). 즉, 상기 빛살 가르개(10)에 입력된 광은 그 내부에 소정각도로 경사져 사선방향으로 위치하는 가르개면(18)에 의해 반사 및 투과되면서 두개의 광속(51, 53)으로 분리된다.
이렇게 빛살 가르개(10)의 내부에 구비되는 가르개면(18)에 의하여 분리된 두개의 광속(51, 53) 중 투과된 광속(51)은 거울(14)에 입력되고, 다른 하나의 광속(53)은 가르개면(18)에 의해 반사되어 상기 빛살 가르개(10)의 일측면에 구비되는 에탈론(15)이 위치하는 방향으로 반사되어 입력된다(S7).
그리고, 상기와 같이 가르개면(18)에 의하여 분리된 두개의 광속(51, 53) 중 에탈론(15)이 위치하는 방향으로 굴절되어 반사되는 광속(53)이 다시 에탈론(15)에 의하여 재반사된다(S8).
한편, 상기 빛살 가르개(10)의 가르개면(18)에 의하여 분리된 광속(51, 53) 중 가르개면(18)에 투과된 광속(51)이 거울(14)에 입력되고, 상기 거울(14)에 입력되는 광속(51)이 다시 두개의 광속(52, 55)으로 분리된다(S8).
여기서, 가르개면(18)을 투과한 후 거울(14)에 입력되어 분리되는 두개의 광속(52, 55) 중 어느 하나의 광속(52)은 거울(14)에 투과되고, 다른 하나의 광속(55)은 거울(14)에 반사된다(S9).
한편, 상기 가르개면(18)에 의하여 굴절되어 반사된 후 다시 에탈론(15)에 의하여 반사되는 광속(57)과 상기 거울(14)에 의하여 반사되어 굴절되는 광속(55)이 상기 빛살 가르개(10) 내부에 소정위치에서 재결합된다(S10).
상기와 같이 거울(14)을 투과한 광속(52) 및 상기 에탈론(15)과 거울(14)에 의하여 반사되어 굴절된 후 재결합된 광속(55, 57)이 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)로 입력되어 전기적 신호의 세기가 검출된다(S11).
상기한 바와 같이 구동되어 각 검출기에 검출된 각 광속의 주기적인 투과특성 교점을 잠금파장으로 설정한다(S12).
이때, 상기 제1 검출기(31)에 검출된 광속의 신호를 기준 신호로 사용하며, 상기 제2 검출기(33)의 신호를 상기 제1 검출기(31)의 신호와 비교하여 잠금파장을 설정한다.
즉, 최초의 잠금 파장으로 고정된 레이져 다이오드(3)의 파장이 변함에 따라 상기 제1 검출기(31)에서 검출되는 빛의 세기는 변화가 없지만, 상기 제2 검출기(33)에서 검출되는 빛의 세기는 증가 또는 감소하게 된다.
따라서, 상기 제2 검출기(33)에서 변화된 광의 세기를 상기 제1 검출기(31)에서 검출된 광의 세기와 비교판별하여 레이져 다이오드(3)의 온도를 제어한다.
상기한 바와 같은 방법에 의하여 파장 안정화기(1)에 잠금파장을 설정하도록 이루어진다.
한편, 상기 빛살 가르개(10)에 의하여 분리되었다가 에탈론(15)과 거울(14)에 의해 반사되는 각 광(57, 55)의 재 결합 시 이들 두 광속(57, 55)간의 위상변화에 의한 간섭원리에 의하여 잠금파장을 설정되도록 이루어진다(S11-1).
도 5은 마이켈슨 간섭계의 광의 경로 차이에 의한 두 파장의 광의 강도 세기 변화를 개략적을 나타내는 도면으로서, 일반적인 마이켈슨 간섭계 구조에서 한 쪽 거울(14)을 이동시켜 두 광속의 경로차이를 보여주는 도면이다. 도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 마이켈슨 간섭계의 구조에서 한 쪽 거울을 이동시켜 두 광속의 경로차이를 줌으로써 632.8nm(He-Ne laser), 1550nm 파장에 대한 광의 강도 세기의 변화를 나타내고 있다.
마이켈슨 간섭계에서 간섭 무늬가 나타나도록 하는 요인은 크게 분리된 광속이 다시 합쳐질 때의 광의 경로 차이와 두 광속을 반사시키는 거울의 위상차에 의한다. 일반적으로 마이켈슨 간섭계에서는 동종의 고반사 거울을 사용함으로써 거울에 의한 위상차에 의해 간섭효과는 무시된다.
여기서, 마이켈슨 간섭계란 진폭 분리형 간섭계로써 입사되는 광원은 빛살 가르개를 통해 광속이 분리되고, 분리된 광속은 각각의 거울에 의해 반사된 후 두 광속이 다시 합쳐진다.
이렇게 거울에 의해 반사된 두 광속이 합쳐질 때 간섭무늬가 관찰되며, 이를 마이켈슨 간섭계라 한다.
도 6는 본 발명에 의한 파장 안정화기를 통하여 분리된 광속의 위상차이 중 에탈론을 적용하였을 경우의 파장에 대한 에탈론 반사 위상 변화 곡선을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 7는 본 발명에 의한 파장 안정화기에 설치되어 있는 거울의 파장에 대한 에탈론 반사 위상 변화 곡선을 개략적으로 나타내는 도면이다.
도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 광의 경로 차이는 없다고 가정 한 후 두 거울의 위상차이를 주기 위해 한 쪽 거울 대신 에탈론을 사용함으로써 파장에 대한 위상을 나타내고 있으며, 도 6은 에탈론의 반사 위상을 나타내고 있으며, 도 7은 거울에 대한 반사 위상을 나타내고 있다.
도 8은 본 발명에 의한 파장 안정화기에 에탈론의 반사 위상과 거울의 반사 위상에 의한 파장에 대한 광의 강도 세기의 변화 곡선을 나타내는 도면이다.
도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 본 발명에 의한 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기의 에탈론에 의하여 반사되는 광의 위상과 거울에 의하여 반사되는 광의 위상에 의한 파장에 대한 광의 강도 세기의 변화를 나타내는 것이다.
도 9는 본 발명에 의한 파장 안정화기의 에탈론과 거울에 대한 반사위상 곡선의 변화를 나타내는 도면이고, 도 10은 본 발명에 의한 파장 안정화기의 두 광속에 의한 위상차에 의해 파장에 대하여 광의 강도 변화를 나타내는 도면으로서 본 발명에 의한 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기의 파장 잠금장치를 구현한 것이다.
도면에서 도시하고 있는 바와 같이, 본 발명에 의한 입방체형 빛살 가르개에 의한 두 광의 경로 차이는 없다고 가정하고, 두 거울에 따른 위상 차이를 주기 위하여 한 쪽면에 거울 대신 에탈론을 사용함으로써 파장에 대한 위상을 나타내고 있다.
여기서, 도 9는 에탈론에 대한 반사 위상 곡선과 거울에 대한 반사 위상 곡선을 함께 나타내고 있으며, 도 10은 두 광속에 의한 위상차에 의해 발생되는 파장의 광 강도 변화를 나타내고 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이같은 특정 실시예에만 한정되지 않으며 해당분야에서 통상의 지식을 가진자라면 본 발명의 특허청구범위내에 기재된 범주내에서 적절하게 변경이 가능할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 상기와 같은 구성을 갖는 본 발명은 파장 안정화기에 입방체형 빛살 가르개를 적용하여 레이저 다이오드를 통하여 입력되는 광이 입방체형 빛살 가르개에 의해 투과 및 반사되도록 이루어질 뿐만 아니라, 입방체형 빛살 가르개에 에탈론과 거울을 일체화시키고, 여러개의 시준화기 및 검출기를 사용함으로써 다중 채널을 수용하기가 매우 유리하며, 그 크기 및 기능 또한 컴팩트화시킬 수 있어 비교적 작은 공간 내에서도 구현가능하게 이루어지고, 이로 인해 제조공정을 간소화시킬 수 있으며, 자유 스펙트럼 영역의 가변화가 가능하게 이루어져 파장의 안정화를 이룰 수 있는 등의 효과를 거둘 수 있다.

Claims (18)

  1. 파장 안정화기에 있어서,
    입방체형상체로서, 전면에 구비되는 시준화기(11)와, 배면 적소에 구비되는 거울(14)과, 일측면 소정위치에 구비되는 판체형상의 에탈론(15)으로 이루어지는 빛살 가르개(10); 및
    상기 빛살 가르개(10)의 배면과 상기 에탈론(15)이 구비된 일측면에 대향하는 면의 적소에 소정거리 이격되게 구비되는 검출부(30);
    가 포함되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 검출부(30)가 상기 빛살 가르개(10)의 배면에 위치하는 제1 검출기(31)와 상기 에탈론(15)이 구비된 일측면에 대향하는 면에 위치하는 제2 검출기(33)로 이루어지고, 상기 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)에 포토다이오드(35)가 각각 구비되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 입방체형 빛살 가르개(10)의 전면에 구비되는 시준화기(11)가 다수개로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 검출부(30)의 제1 검출기(31)와 제2 검출기(33)에 구비되는 포토다이오드(35)가 다수개로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 시준화기(11)와 상기 포토다이오드(35)의 갯수가 상호 대응되게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 빛살 가르개(10)가 석영 블록, BK7 및 유리재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 빛살 가르개(10)의 내부에 소정각도로 경사지게 이루어지는 가르개면(18)이 구비되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 빛살 가르개(10)의 내부에 구비되는 가르개면(18)의 각도 및 위치가 가 변가능하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 에탈론(15)은 그 내부에 채널의 간격에 해당하는 소정두께의 공진층(16)이 형성되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 에탈론(15)의 내부에 형성되는 공진층(16)의 두께가 변경가능하게 이루어지고, 그에 따라 채널의 간격을 능동 또는 수동으로 가변가능하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 빛살 가르개(10)와 시준화기(11) 사이 및 빛살 가르개(10)의 일측면에 소정두께의 판상체형상으로 이루어지는 무반사 박막(12)이 개재되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 무반사 박막(12)이 유전체 박막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입 방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 시준화기(11)가 구배형 렌즈나 구면 또는 비구면을 갖는 렌즈로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면에 구비되는 거울(14)과 에탈론(15)의 위치가 상호 변경가능하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 빛살 가르개(10)의 배면과 일측면에 구비되는 거울(14)과 에탈론(15)이 유전체 박막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 거울(14)과 에탈론(15)이 상호 별개의 소자로 구성되는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기.
  17. 레이져 다이오드(3)에서 광이 광선로(5)를 통하여 진행되는 단계(S1);
    상기 광선로(5)를 통하여 진행되는 광의 일부가 탭 커플러(7)를 통하여 파장 안정화기로 입력되는 단계(S2);
    상기 파장 안정화기(1)로 입력되는 광이 시준화기(11)를 통과하면서 시준화되는 단계(S3);
    상기 시준화기(11)를 통과한 광이 입방체형 빛살 가르개(10)로 입력되는 단계(S4);
    상기 빛살 가르개(10)에 입력된 광이 그 내부에 소정각도로 경사지게 구비되는 가르개면(18)에 의해 두개의 광속(51, 53)으로 분리되는 단계(S5);
    상기 가르개면(18)에 의하여 분리된 두개의 광속(51, 53) 중 투과된 광속(51)은 거울(14)에 입력되고, 다른 하나의 광속(53)은 반사되어 에탈론(15)에 입력되는 단계(S6);
    상기 가르개면(18)에 의하여 분리된 두개의 광속(51, 53) 중 반사된 광속(53)이 에탈론(15)에 의해 재반사되는 단계(S7);
    상기 거울(14)에 입력되는 광속(51)이 다시 두개의 광속(52, 55)으로 분리되는 단계(S8);
    상기 거울(14)에 입력되는 두개의 광속(52, 55) 중 투과된 광속(52)은 거울(14)에 입력되고, 다른 하나의 광속(55)이 거울(14)에 반사되는 단계(S9);
    상기 에탈론(15)에 의하여 반사되는 광속(57) 및 상기 거울(14)에 의하여 반사되는 광속(55)이 재결합되는 단계(S10);
    상기 거울(14)을 투과한 광속(52) 및 상기 에탈론(15)과 거울(14)에 의하여 반사된 광속(57, 55)이 각각의 검출기(31, 33)에 의하여 전기적 신호의 세기로 검출되는 단계(S11);
    상기 각 검출기(31, 33)에 의하여 검출된 각 광속의 주기적인 투과특성 교점을 잠금파장으로 설정하는 단계(S12)를 포함하는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기의 구동방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 빛살 가르개(10)에 의하여 분리되었다가 에탈론(15)과 거울(14)에 의해 반사되는 각 광(57, 55)의 재 결합 시 이들 두 광속(57, 55)간의 위상변화에 의한 간섭원리에 의하여 잠금파장을 설정하는 단계(S11-1)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입방체형 빛살 가르개가 구비되는 파장 안정화기의 구동방법.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010019755A (ko) * 1999-08-30 2001-03-15 정선종 파장안정화기를 내장한 광원모듈
KR20010073962A (ko) * 2000-01-24 2001-08-03 오길록 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법과 이를이용한 파장안정화 광원모듈
KR20020012091A (ko) * 2000-08-05 2002-02-15 주흥로 파장안정화 광원 모듈

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010019755A (ko) * 1999-08-30 2001-03-15 정선종 파장안정화기를 내장한 광원모듈
KR20010073962A (ko) * 2000-01-24 2001-08-03 오길록 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법과 이를이용한 파장안정화 광원모듈
KR20020012091A (ko) * 2000-08-05 2002-02-15 주흥로 파장안정화 광원 모듈

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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