KR100674404B1

KR100674404B1 - 탄소나노튜브가 코팅된 방열판 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR100674404B1
Application number: KR1020050060057A
Authority: KR
Inventors: 김용협; 이호영; 이승민; 성우용; 강태준; 김왈준; 윤장원; 연순창
Original assignee: 재단법인서울대학교산학협력재단
Priority date: 2005-07-05
Filing date: 2005-07-05
Publication date: 2007-01-29
Also published as: US20090059535A1; AU2005334181A1; WO2007004766A1; JP2007019453A; EP1946627A4; CN101044809A; EP1946627A1; KR20070005971A

Abstract

탄소나노튜브가 코팅된 방열판 및 그 제조방법이 개시된다. 소정의 기기 또는 부품 등으로부터 발생하는 열을 열교환을 통하여 외부로 방출하는 방열판의 표면 상에 탄소나노튜브를 분산 코팅 또는 도안 코팅하여 탄소나노튜브 구조물을 형성함으로써 열방출 특성을 향상시켜 방열판의 크기를 줄일 수 있고, 이에 따라 전자소자의 소형화가 가능하고, 고집적화된 전자회로 칩의 열방출 문제를 해결함으로써 동작회로의 수명과 성능을 향상시킬 수 있다.

방열판, 탄소나노튜브, 코팅, 열방출

Description

탄소나노튜브가 코팅된 방열판 및 그 제조방법{COOLING DEVICE WITH CARBON NANOTUBE COATING AND METHOD OF FORMING THE SAME}

도 1은 종래기술에 따른 핀히트싱크의 씨피유 냉각장치를 나타내는 사시도이다.

도 2는 종래기술에 따른 히트파이프를 나타내는 단면도이다.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 탄소나노튜브가 흡착된 방열핀을 나타내는 사진이다.

도 4 내지 7은 본 발명의 일실시예에 따른 방열핀에 탄소나노튜브를 코팅하는 방법을 나타내는 도면들이다.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

300 : 방열판 301 : 방열핀

310 : 용기 315 : 용매

320 : 탄소나노튜브

본 발명은 방열판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 딥 코팅 공정(dip coating process)으로 탄소나노튜브 구조물이 형성된 방열판 및 그 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 알려진 바와 같이, 열을 많이 발생하는 전자 부품에는 이동통신 중계기의 HPA (High Power Amplifier)와 LPA (Linear Power Amplifier), 개인용 컴퓨터의 CPU (Central Processor Unit), 서버급 워크스테이션의 MPU (Multiple Processor Unit), 중계 기지국의 PAU (Power Amplifier Unit) 등이 있다. 이러한 전자 부품들은 최대의 부하로 동작할 때 발생되는 열로 인해 그 표면 온도가 상승함과 아울러 전자 부품의 과열 현상으로 인해 전자 부품들의 오동작 및 파손 가능성이 매우 커지게 된다.

상술한 오동작과 파손 가능성을 미연에 방지하고자 열을 전자장비에서 배출하도록 하는 장치에는 대표적인 구성으로서, 방열핀을 이용하여 열원에서 발생된 열을 배출하도록 하는 핀히트싱크(Fin Heat Sink)와, 열원에서 발생된 열을 모세관구조로 통하여서 이동시켜서 외부로 배출하도록 하는 히트파이프(Heat Pipe)를 이용하는 방법을 주로 사용되고 있다.

도 1은 종래기술에 따른 핀히트싱크의 CPU 냉각장치를 나타내는 사시도이다.

도 1을 참조하면, 메인보드(10) 상에 CPU(50)가 장착되어 있으며, CPU(50) 상에 방열판(30)이 배치되어 있다. 방열판(30)의 바닥판(31)은 CPU(50)에 접촉하며, 바닥판(31) 상면에 복수의 방열핀(32)이 수직으로 돌출되어 있다.

상기 방열판(30) 상에는 냉각팬(20)이 배치되어 CPU(50)의 상면에 접착되는 방열판(30)으로 송풍함에 따라서, CPU(50)를 냉각시키도록 되어 있다.

CPU(50)로부터 발생하는 열 에너지는 서로 면접해 있는 방열판(30)으로 전도되고, 방열판(30)으로 전도된 CPU(50)의 발열 에너지는 냉각팬(20)이 방열판(30)의 바닥판(31)과 방열핀(32) 사이로 송풍하여 방열판(30)을 냉각시킴에 따라서 감소하게 된다.

도 2는 종래기술에 따른 히트파이프를 나타내는 단면도이다. 히트파이프는 열수송량이 뛰어나고, 소음이 없고 외부동력이 필요없는 특징을 갖고 있다.

도 2를 참조하면, 히트파이프는 밀폐된 파이프(120) 내부에 상변화에 의하여 열전달을 담당하는 액체냉매(110)가 존재한다. 액체냉매(110)는 흡열부(100)에서 CPU와 같은 발열체의 열을 흡수하면 기화하여 밀폐된 파이프(120)의 내부를 따라 파이프 상부의 응축부(130)에 도달한 후 열을 방출하고, 다시 액체로 상이 복귀, 파이프(120)의 내벽면을 따라 하부의 액체 냉매(110)로 귀환하는 순환동작을 수행한다. 액체냉매(110)의 비등점 및 응축점은 액체의 고유 물성과 파이프 내부의 압력에 의하여 결정된다.

상술한 핀히트싱크 또는 히트파이프를 이용한 전자부품의 냉각은 냉각핀에서 열방출을 하는 과정이 필요하다.

그러나, 상기와 같이 작동하는 종래의 컴퓨터 냉각장치에 사용되는 방열판이나 히트파이프가 발열 에너지를 다량으로 흡수하더라도, 발열 에너지를 감소시키기 위하여 방열핀의 개수, 즉 방열면적(또는 전열면적)이 제한되기 때문에, 방열 효율이 저하되어 발열 에너지를 충분히 방열하지 못하는 문제점이 있다.

이를 해결하기 위하여 방열핀을 크게 제조해야 하는 경우에는, 제조비용이 많이 소모될 뿐만 아니라, 컴퓨터 냉각 장치를 소형화하기 어려우므로 부피가 작고 고집적화된 전자장비에는 냉각에 필요한 공간을 충분하게 확보할 수 없는 문제점이 있다.

결국, 최근에는 전자회로 칩의 고집적화에 따른 전자기기의 소형화추세로 작은 크기의 높은 열교환효율을 가진 방열 기구와 재료의 개발이 시급히 요구되고 있다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 열방출을 위한 열흡수장치의 표면적을 극대화하고 열전도 능력을 개선시킬 수 있는 냉각장치에 사용되는 방열판 및 그 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 소정의 기기 또는 부품 등으로부터 발생하는 열을 열교환을 통하여 외부로 방출하는 방열판의 방열핀 표면 상에 탄소나노튜브의 구조물이 형성되어 있다.

탄소나노튜브 구조물이 형성된 방열판의 제조방법은 먼저, 방열핀이 형성된 방열판을 형성한다. 방열판을 탄소나노튜브가 분산된 용매를 포함하는 용기(bath)에 딥핑(dipping)한 후에 방열판을 일정 속도를 꺼내어 방열핀의 표면에 웨팅층(wetting layer)을 형성한다. 웨팅층의 용매를 건조(drying)시켜 방열핀의 표면에 탄소나노튜브를 흡착시킨다.

상술한 목적, 특징들 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해 질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일실시예를 상세히 설명한다. 도면에서 각 층 및 물질들의 모양 및 두께는 설명의 편의를 위하여 과장 또는 개략화된 것이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 부재를 지칭한다.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 탄소나노튜브가 흡착된 방열핀 표면을 나타내는 사진이다.

도 3을 참조하면, 다수의 방열핀을 갖는 방열판을 제작한 후에, 방열판을 딥코팅한 후의 방열핀 표면 사진이다. 본 발명의 일실시예에 따른 방열핀의 구조는 표면에 탄소나노튜브가 형성되어 있어 열교환을 위한 접촉부위를 기하학적으로 종래의 평면구조에 대비하여 수백배 내지 수천배로 증가시킬 수 있다. 또한, 열전달측면이 우수한 탄소나노튜브는 열전도도가 1,800~6,000 W/mK로, 이는 열전도도가 우수한 금속인 구리(Cu)의 401 W/mK에 비하여 상당히 우수한 열전도도를 갖는다.

도 4를 참조하면, 방열핀(301)이 형성된 방열판(300)을 조립한다. 방열핀(301)은 구리(Cu)로 형성할 수 있다.

도 5를 참조하면, 용기(bath, 310) 내의 용매(315)에 탄소나노튜브(320)를 고르게 분산시킨다. 본 발명에서 사용 가능한 탄소나노튜브는 특별한 한정을 요하는 것은 아니나, 종횡비가 크며(10~10,000) 또한 95% 이상의 고순도 탄소나노튜브가 바람직하다. 본 발명의 실시예에서 사용된 탄소나노튜브(320)는 직경 10~15 nm, 길이 10~20 μm를 사용하였다. 분산 용매(315)는 탄소나노튜브의 다발을 분리시키기 위한 것으로 탄소나노튜브를 관능기화(functionalization) 시킬 수 있는 것인한 특별한 한정을 요하지 않으나, 기화점이 낮아 건조가 용이한 용매가 바람직하다. 분산 용매의 예로는 디클로로벤젠(1,2-dichlorobenzene), 이소프로필알코올(IPA, isopropyl alcohol), 아세톤, 에탄올 등이며, 실시예에서는 분산 용매로 디클로로벤젠(dichlorobenzene)을 사용하였다. 용매에 대하여 탄소나노튜브를 적당히 혼합한 후, 초음파 처리를 통하여 용매 속 탄소나노튜브를 분산시킨다. 적용 가능한 초음파(ultrasonification)의 조건은 탄소나노튜브에 손상을 주지 않은 조건으로, 일반적으로 40~60 KHz 정도의 세기에서 1시간 정도면 충분하다.

정제되지 않은 탄소나노튜브(320)에는 비정질 촉매, 촉매 금속, 탄소성분의 나노입자 등이 섞여 있으므로 탄소나노튜브(320)를 용매에 분산하기 전에 불순물을을 제거하고, 아닐링하는 사전처리 절차를 수행한다. 사전처리절차로는 먼저, 탄소나노튜브 분말 속에 포함된 비정질 탄소 및 탄소성분의 나노입자를 제거하기 위하여 건식 산화(gas-phase oxidation) 혹은 습식 산화(liquid-phase oxidation)를 수행한다. 대표적인 건식 산화방법으로는 노(furnace)를 사용하며 산소 혹은 대기 분위기에서 1시간 동안 470~750의 온도로 탄소나노튜브 분말을 산화시킨다. 습식 산화방법으로는 탄소나노튜브를 과산화수소에 넣어서 12시간 동안 100℃에서 가열하는 방법으로 0.5~1.0 μm 크기의 기공 필터를 통하여 과산화수소와 정제된 탄소나노튜브를 분리할 수 있다. 탄소나노튜브 합성시 사용된 금속 촉매를 제거하기 위하 여 질산(HNO₃)용액(10 g/liter 정도)에 넣어서 1시간 동안 50℃로 가열한다. 이어서, 정제된 탄소나노튜브를 원하는 크기로 절단하기 위하여 황산(H₂SO₄)과 질산(HNO₃)을 약 3:1 비율로 혼합한 용액에 넣어서 70℃로 가열한다. 이때 가열 시간에 따라 탄소나노튜브의 길이가 결정되며 10시간 가열을 하였을 경우 약 2~5 μm, 20시간 가열하였을 경우 약 0.5~1.0 μm 길이의 탄소나노튜브를 얻을 수 있었다. 마지막으로 산처리를 통해 탄소나노튜브에 결합된 기능기를 제거 및 탄소나노튜브의 재결정화를 통한 결합을 제거하기 위하여, 탄소나노튜브를 노(furnace)에서 진공 또는 대기 조건으로 온도 800℃에서, 30분 동안 열처리한다.

용매(315)에 정제된 탄소나노튜브(320)를 넣은 후에 약 1시간 동안 초음파(ultrasonication) 진동을 하여 탄소나노튜브(320)를 용매에 분산시킨다. 필요에 따라서는 탄소나노튜브의 더 좋은 분산을 위하여 소량의 분산제를 사용할 수 있다.

탄소나노튜브(320)가 분산된 용매(315)에 조립된 방열판(300)을 천천히 담근다. 초기에는 탄소나노튜브(320)가 방열판(300)에 전이되지는 않는다.

도 6을 참조하면, 용기(310)에서 방열판(300)을 천천히 일정속도(약 1~10cm/min)와 일정각도(수면과 방열판이 이루는 각도: 약 10~90°)로 하여 용매(315)에서 꺼내면, 방열판(300)에는 탄소나노튜브가 포함된 웨팅층(wetting layer)이 형성된다.

도 7을 참조하면, 웨팅층을 건조시키면, 방열핀의 표면에 탄소나노튜브가 흡착된다. 건조는 용매가 빨리 증발하도록 약 80~95℃에서 실시한다. 건조시 공기 중 의 오염물질이 붙을 수 있으므로 진공 분위기가 바람직하다.

이와 같이, 딥핑(dipping)에서 건조까지의 일련의 과정을 약 1~40회 반복하여 방열핀에 탄소나노튜브를 흡착시킨다.

방열핀에 탄소나노튜브가 코팅되는 구동력(driving force)은 흡착으로 설명될 수 있으며, 구체적으로 방열핀과 탄소나노튜브 사이의 반데르발스 힘, 정전력, 수소 결합 등으로, 흡착된 탄소나노튜브는 매우 강하게 방열핀과 결합되어 있다. 코팅되는 탄소나노튜브의 형상은 자기정렬된 형상이 아닌 무정형의 형상을 갖는다.

방열판에 적당한 양으로 코팅된 탄소나노튜브는 현저한 방열효과의 상승을 가져올 수 있지만, 코팅된 탄소나노튜브가 고르게 코팅되지 않고 뭉쳐서 존재할 수 있으므로 그 정도에 따라서는 오히려 방열을 하지 않음으로 인하여 방열효과의 저하를 가져올 수 있다. 따라서, 적정 양이 방열판에 코팅되는 것이 중요하다.

이와 같이, 방열핀에 탄소나노튜브가 코팅됨으로써, 열방출을 위한 표면적이 현저하게 증가하여 열방출 특성이 개선된다. 특히, 전자부품소자가 작아지는 경우에 효과적으로 냉각장치의 열방출 특성을 개선시킬 수 있다.

상술한 방법으로 구성된 본 발명에 따른 방열판 구조는 기존의 방열판에 비해 표면적이 수백 배에서 수천 배 정도 증가된다. 따라서, 전자소자 등 열을 발생하는 장치에서 발생되는 열은 방열판에서 흡수되고, 대부분의 열교환이 이루어지는 공기의 계면에 형성된 탄소나노튜브 구조물을 통하여 공기 중으로 신속히 배출하는 원리로 동작되는데, 탄소나노튜브 구조물은 열전도도와 표면적이 매우 크므로, 발생된 열이 신속히 공기중으로 방출된다.

본 발명에 따른 탄소나노튜브를 이용한 방열판 구조는 노트북을 포함하는 컴퓨터 냉각장치(CPU 냉각장치, 그래픽 카드 냉각장치, 방열핀, 히트파이프 자체 냉각)뿐 아니라, 압축 및 응축을 통하여 열을 방출하는, 예를 들면 에어컨디셔너, 기계장치에도 동일하게 적용될 수 있다.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.

상기와 같이 이루어진 본 발명은, 방열판에 탄소나노튜브 구조물을 형성하여 열교환 효율을 극대화할 수 있다.

또한, 열교환 효율 향상을 통해 방열판의 크기를 줄일 수 있고, 이에 따라 전자소자의 소형화가 가능하고, 고집적화된 전자회로 칩의 열배출 문제를 해결함으로써 동작회로의 수명과 성능을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims

방열핀이 형성된 방열판을 형성하는 단계;

상기 방열판을 탄소나노튜브가 분산된 용매를 포함하는 용기(bath)에 딥핑(dipping)하는 단계;

상기 방열판을 일정 속도를 꺼내어 방열핀의 표면에 웨팅층(wetting layer)을 형성하는 단계; 및

상기 웨팅층의 용매를 약 80~95℃에서 건조(drying)하며, 딥핑과 건조에 이르는 과정을 1~40회 반복하여 방열핀의 표면에 탄소나노튜브를 무정형으로 흡착시키는 단계를 포함하는 방열판의 제조방법.
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제 1 항에 있어서,

상기 용매는 디클로로벤젠, 이소프로필알코올, 아세톤, 및 메탄올 중에서 선택된 적어도 어느 하나를 포함하여 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 방열판의 제조방법.
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