KR100670184B1 - 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다.
본 발명은 제1 그룹의 주사 전극에 유지 기간이 수행되는 기간 중 적어도 일부의 구간 동안 제2 그룹의 주사 전극에 어드레스 기간이 수행되며, 이때 각 서브필드의 리셋 기간에서 주사 전극의 전압에서 유지 전극의 전압을 뺀 전압보다 주사 전극의 전압에서 어드레스 전극의 전압을 뺀 전압을 더 높게 인가하여 리셋 방전을 발생시킨다. 이를 통해, 리셋 기간을 더욱 단축할 수 있으며 콘트라스트를 더욱 향상시킬 수 있다.
주사 전극, AWD, 콘트라스트, 리셋 방전

Description

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법{PLASMA DISPLAY AND DRIVING METHOD THEREOF}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타내는 도면이다.
도 4a 내지 도 4d는 도 3에 나타낸 구동 파형에 따른 벽전하 분포를 나타내는 도면이다.
도 5a는 유지 전극에 기준 전압을 인가한 상태에서 주사 전극에 램프 파형의 상승 기울기를 달리하여 인가한 경우 IR 광(Infra Red light) 파형을 나타내는 도면이며, 도 5b는 유지 전극에 Ve 전압(150V)을 인가한 상태에서 주사 전극에 램프 파형의 상승 기울기를 달리하여 인가한 경우 IR광(Infra Red light) 파형을 나타내는 도면이다.
도 6은 두 그룹의 주사 전극에 인가되는 구동 파형을 나타내는 도면이다.
도 7은 도 3의 구동 파형에서 제1 서브필드의 유기 기간 및 소거 기간에 인 가되는 구동 파형의 변형을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법이 적용된 경우와 일반적인 ADS의 구동 방법이 적용된 경우, 유지 방전 전압에 따른 최소 어드레스 전압을 측정한 결과를 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법에서 어드레스 전압(Va)과 스캔 펄스 전압(|VscL|)을 변수로 사용한 경우 두 전압간의 상관 관계를 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법에서 네온(Ne)-제논(Xe) 혼합 가스에서 제논(Xe)의 함량을 변동시킨 경우, 유지 방전 전압에 따른 최소 어드레스 전압을 측정한 결과를 나타내는 도면이다.
도 11은 도 10에서 제논(Xe)의 함량을 14%까지 확장하여 측정한 결과를 나타내는 도면이다.
도 12는 도 11에 나타낸 실험 결과를 바탕으로 얻어진 제논(Xe)의 함량에 따른 어드레스 중간 값을, 일반적인 ADS 구동 방법이 적용된 경우와 비교한 도면이다.
본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다.
최근 액정 표시 장치(liquid crystal display, LCD), 전계 방출 표시 장치 (field emission display, FED), 플라즈마 표시 장치 등의 평면 표시 장치가 활발히 개발되고 있다. 이들 평면 표시 장치 중에서 플라즈마 표시 장치는 다른 평면 표시 장치에 비해 휘도 및 발광효율이 높으며 시야각이 넓다는 장점이 있다. 따라서, 플라즈마 디스플레이 패널이 40인치 이상의 대형 표시 장치에서 종래의 음극선관(cathode ray tube, CRT)을 대체할 표시 장치로서 각광받고 있다.
직류형 플라즈마 표시 장치는 전극이 방전 공간이 절연되지 않은 채 노출되어 있어서 전압이 인가되는 동안 전류가 방전 공간에 그대로 흐르게 되며, 이를 위해 전류 제한을 위한 저항을 만들어 주어야 하는 단점이 있다. 반면 교류형 플라즈마 표시 장치에서는 전극을 유전체층이 덮고 있어 자연스러운 커패시턴스 성분의 형성으로 전류가 제한되며 방전시 이온의 충격으로부터 전극이 보호되므로 직류형에 비해 수명이 길다는 장점이 있다.
이러한 교류형 플라즈마 표시 장치의 구동 방법은 크게 어드레스-디스플레이 분리 구동 방법(Address Display Separation, 이하 'ADS 구동 방법')과 어드레스-디스플레이 동시 구동 방법(Address While Display, 이하 'AWD 구동 방법')이 있다.
그리고 일반적으로 플라즈마 표시 장치는 하나의 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하며, 각 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간을 포함한다. 리셋 기간은 방전 셀에 어드레싱 동작이 원활히 수행되도록 하기 위해 각 방전 셀의 상태를 초기화하는 기간이며, 어드레스 기간은 방전 셀에서 켜지는 방전 셀과 켜지지 않는 방전 셀을 선택하여 켜지는 방전 셀에 벽 전하를 쌓아두는 동작 을 하는 기간이다. 유지 기간은 어드레스 기간에서 어드레싱된 방전 셀에 실제로 화상을 표시하기 위한 방전을 수행하는 기간이다.
여기서, ADS 구동 방법에서 각 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간을 포함하며, 리셋 기간에서는 모든 방전 셀에 초기화를 수행하고 어드레스 기간에서는 모든 주사 전극에 스캔 펄스를 인가하여 모든 방전 셀에 대하여 어드레스 동작을 수행하며 유지 기간은 어드레스 기간에서 어드레싱된 방전 셀에 유지 방전을 수행한다. 여기서, 각 서브필드의 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간은 전 방전 셀에 대하여 순차적인 순서로 조합되고, 각 서브필드의 유지 기간은 서로 다른 길이를 가져 서로 다른 가중치를 표현하며, 서로 다른 가중치를 가지는 서브필드의 조합으로 계조를 표현한다.
한편, AWD 구동 방법도 하나의 주사 전극 라인을 기준으로 보면 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간의 순서를 가지나 다른 주사 전극 라인의 동작은 서로 다르게 나타난다. 즉, n라인의 주사 전극에 주사 펄스가 인가되어 어드레싱 되는 동안 n+1 또는 n+m 라인의 주사 전극에서는 유지 기간이 수행되어 어드레스 기간, 유지 기간 및 리셋 기간이 병행적으로 위치하며, 1TV 필드 또는 복수개의 TV 필드 구간에 대해 각 주사 전극 라인의 계조 표현의 균등이 조합되어 진다.
이러한 AWD 구동 방법의 종래 기술로 미국 등록 특허 제 6,495,968이 있다. 그러나, 미국 등록 특허 제 6,495,968은 리셋 기간에서 리셋 파형은 짧은 기간에 펄스 형태의 전압을 인가하여 리셋 방전을 발생시키므로, 콘트라스트가 좋지 않은 문제점이 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로 콘트라스트를 더욱 향상시키는 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법을 제공하기 위한 것이다. 또한, 넓은 구동 마진을 확보할 수 있으며 저계조 표현 확대 등 화질 개선을 향상시키는 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극과 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치를 구동하는 방법이 제공된다. 이 구동 방법은, 상기 복수의 제1 전극은 적어도 하나의 제1 전극을 각각 포함하는 복수의 그룹으로 나누어지며, 상기 복수의 그룹 중 제1 그룹의 제1 전극에 대해 수행되는 제1 서브필드는, 상기 제1 그룹의 제1 전극의 전압에서 상기 복수의 제3 전극의 전압을 뺀 전압인 제1 전압을, 상기 제1 그룹의 제1 전극의 전압에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 뺀 전압인 제2 전압보다 더 높게 하여, 리셋 방전을 발생시키는 단계; 상기 제1 그룹의 제1 전극에 형성되는 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀을 선택하는 단계; 및 상기 선택된 방전 셀에 유지 방전을 발생시키는 단계를 한다. 여기서, 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압을 점진적으로 상승시킨 후 점진적으로 하강시켜, 상기 리셋 방전을 발생시킨다. 또한, 상기 리셋 방전을 발생시키는 단계에서, 상기 제1 그룹의 제1 전극과 상기 복수의 제3 전극간에 발생되는 방전이 상기 제1 그룹의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극간에 발생되는 방전보다 더 크다. 그리고, 상기 제1 서브필드가 수행되는 동안, 상기 복수의 그룹 중 제2 그룹의 제1 전극에 대해 제2 서브필드가 수행되며, 상기 유지 방전이 발생되는 기간 중 적어도 일부의 기간에서, 상기 제2 서브필드의 어드레스 기간이 수행된다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 플라즈마 표시 장치가 제공된다. 이 플라즈마 표시 장치는, 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 상기 제1 전극 및 제2 전극과 교차하여 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 표시 패널; 하나의 프레임을 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간을 각각 포함하는 복수의 서브필드로 나누고, 상기 복수의 제1 전극 중 I번째 제1 전극에 제1 서브필드의 유지 기간이 수행되는 적어도 일부의 기간인 제1 기간에서 상기 복수의 제1 전극 중 J번째 제1 전극에 제2 서브필드의 어드레스 기간이 수행되도록 제어하는 제어부; 및 상기 제1 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 제1 전압을 인가하고 상기 복수의 제3 전극에 상기 제1 전압보다 낮은 제2 전압을 인가한 상태에서, 상기 I번째 제1 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제3 전압까지 상승한 후 하강하는 제1 파형을 인가하는 구동부를 포함한다. 여기서, 상기 제1 파형은 상기 제3 전압까지 점진적으로 상승한 후 점진적으로 하강하는 파형이다. 또한, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 I번째 제1 전극과 상기 복수의 제3 전극간에 발생되는 방전이 상기 I번째 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극간에 발생되는 방전보다 더 크다. 그리고, 상기 제1 서브필드는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간과 상기 제1 서브필드의 어드레스 기간 사이에 제2 기간을 더 포함하며, 상기 제2 기간에서, 상기 I번째 제1 전 극에 소정의 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극에 유지 방전 전압을 소정의 회수만큼 인가한다. 한편, 상기 제2 기간에서, 상기 복수의 제1 전극 중 K번째 제1 전극에 대해 유지 기간이 수행된다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
그리고 본 발명에서 언급되는 벽 전하란 셀의 벽(예를 들어, 유전체층) 상에서 각 전극에 가깝게 형성되는 전하를 말한다. 그리고 벽 전하는 실제로 전극 자체에 접촉되지는 않지만, 여기서는 전극에 "형성됨", "축적됨" 또는 "쌓임"과 같이 설명한다. 또한 벽 전압은 벽 전하에 의해서 셀의 벽에 형성되는 전위차를 말한다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 1에 나타낸 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 전극 구동부(300), 주사 전극 구동 부(400) 및 유지 전극 구동부(500)를 포함한다.
플라즈마 표시 패널(100)은 열 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(A1∼Am), 그리고 행 방향으로 서로 쌍을 이루면서 뻗어 있는 복수의 유지 전극(X1∼Xn) 및 주사 전극(Y1∼Yn)을 포함한다. 유지 전극 (X1∼Xn)은 각 주사 전극(Y1∼Yn)에 대응해서 형성되며, 일반적으로 그 일단이 서로 공통으로 연결되어 있다. 그리고 플라즈마 표시 패널(100)은 유지 및 주사 전극(X1∼Xn, Y1∼Yn)이 배열된 기판(도시하지 않음)과 어드레스 전극(A1∼Am)이 배열된 기판(도시하지 않음)으로 이루어진다. 두 기판은 주사 전극(Y1∼Yn)과 어드레스 전극(A1∼Am) 및 유지 전극(X1∼Xn)과 어드레스 전극(A1∼Am)이 각각 직교하도록 방전 공간을 사이에 두고 대향하여 배치된다. 이때, 어드레스 전극(A1∼Am)과 유지 및 주사 전극(X1∼Xn, Y1∼Yn)의 교차부에 있는 방전 공간이 방전 셀을 형성한다. 이러한 플라즈마 표시 패널(100)의 구조는 일 예이며, 아래에서 설명하는 구동 방법이 적용될 수 있는 다른 구조의 패널도 본 발명에 적용될 수 있다.
제어부(200)는 외부로부터 영상신호(R, G, B Data)를 수신하여 어드레스 전극 구동 제어 신호, 유지 전극 구동 제어신호 및 주사 전극 구동 제어신호를 출력한다. 그리고 제어부(200)는 하나의 프레임을 복수의 서브필드로 분할하여 구동하며, 소정의 주사 전극에 스캔 펄스를 인가하여 어드레싱하고 있는 동안에 다른 주사 전극에 유지 방전 펄스를 인가하여 유지 방전시키는 AWD 구동 방법이 적용되도 록 제어한다.
어드레스 전극 구동부(300)는 제어부(200)로부터 어드레스 전극 구동 제어신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 표시 데이터 신호를 각 어드레스 전극에 인가한다.
주사전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터 주사전극 구동 제어신호를 수신하여 주사 전극에 구동 전압을 인가한다.
유지전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터 유지전극 구동 제어신호를 수신하여 유지 전극에 구동 전압을 인가한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 나타내는 도면이다. 여기서, 도 2에 나타낸 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법은 AWD 구동 방법이다. 도 2에서 편의상 리셋 기간과 어드레스 기간을 동일한 표시 기호로 나타내었으나, 리셋 기간과 어드레스 기간은 시간상으로 분리된다.
도 2를 참조하면, 복수의 주사 전극(Y1∼Yn)은 복수의 그룹(YG1, YG2, YG3,...YGn)으로 나누어 구동되며, 각 그룹의 주사 전극(YG1∼YGn)을 기준으로 보면 하나의 프레임은 각각 복수의 서브필드(SF1, SF2, ...SF8)로 나누어 구동된다. 그리고 각 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간을 포함하며, 각 서브필드의 유지 기간은 각 서브필드의 가중치에 대응하는 기간을 가진다. 한편, 도 2에서는 하나의 프레임을 8개의 서브필드(SF1∼SF8)로 나누어 구동되는 것으로 나타내었으나, 더 많은 서브필드 개수로 나누어 구동되어 질 수 있다. 또한, 도2에서 는 주사 전극(Y1∼Yn)이 복수의 그룹(YG1∼YGn)으로 나뉘어 진다고 하였으나 상기 복수의 그룹(YG1∼YGn)은 각각 하나의 주사 전극만이 포함될 수 있으며, 이하에서는 편의상 주사 전극(Y1∼Yn)이 복수의 그룹(YG1∼YGn)으로 나누어진 경우 대해서만 설명한다.
소정의 한 그룹의 주사 전극에 수행되는 각 서브필드의 리셋 기간 및 어드레스 기간은 그 외 그룹의 주사 전극에 소정의 서브필드의 유지 기간이 수행되는 동안에 수행된다. 또한, 서로 다른 주사 전극 그룹간에 인가되는 각 서브필드의 리셋 기간 및 어드레스 기간은 서로 다른 주사 전극 그룹간에 중첩되지 않는다. 예를 들면, 도 2에 나타낸 바와 같이 제2 그룹의 주사 전극(YG2)에 수행되는 제1 내지 제3 서브필드(SF1∼SF3) 각각의 리셋 기간 및 어드레스 기간은, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 수행되는 제4 서브필드의 유지 기간 및 나머지 그룹(YG3∼YGn)의 소정의 서브필드의 유지 기간 동안에 수행된다. 제2 그룹의 주사 전극(YG2)에 수행되는 나머지 서브필드(SF4∼SF8) 각각의 리셋 기간 및 어드레스 기간도 나머지 그룹의 주사 전극(YG1, YG3∼YGn)에서 수행되는 유지 기간 동안에 수행된다.
한편, 도 2에 나타낸 바와 같이 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 현재 프레임의 제1 내지 제3 서브필드(SF1∼SF3)가 수행되는 되는 동안 그 외의 그룹의 주사 전극(YG2∼YGn)에는 이전 프레임의 서브필드가 수행된다. 이는 제1 그룹의 주사 전극(YG1) 에는 하나의 프레임 기간 내에 제1 내지 제8 서브필드(SF1∼SF8)를 수행할 수 있으나, 그 외의 그룹의 주사 전극(YG2∼YGn)은 제 1그룹의 주사 전극(YG1)보다 늦은 시점에서 서브필드가 구동되므로 하나의 프레임 기간 내에 수행하지 못한 서브필드가 그 다음 프레임에 인가된다.
이에 따라 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법은 어느 한 시점에서 볼 때 제i 그룹의 주사 전극(YGi)에 스캔 펄스가 인가되어 어드레싱되는 동안에 제j 그룹의 주사 전극(YGj)에는 유지 방전 펄스가 인가되어 유지 방전이 인가된다. 즉, 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법은 어드레싱과 디스플레이가 동시에 이루어지는 AWD 구동 방법이 사용된다.
이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 AWD 구동 방법에 적용될 수 있는 파형에 대해서 도 3 내지 도 7을 참조하여 설명한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타내며, 도 4a 내지 도 4d는 도 3에 나타낸 구동 파형에 따른 벽전하 분포를 나타내는 도면이다. 여기서, 도 3에서는 편의상 복수의 주사 전극 그룹(YG1∼YGn) 중 제1 그룹의 주사 전극(YG1)을 기준으로 인가되는 구동 파형을 나타내었으며, 나머지 그룹의 주사 전극(YG2∼YGn)에 인가되는 구동 파형은 AWD 구동 방법이 적용되도록 도 3에 나타낸 구동 파형과 동일한 파형이 인가 시기를 달리하여 인가된다. 그리고, 도 4a 내지 도 4d는 편의상 하나의 주사 전극(Y), 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A) 에 형성되는 벽 전하만을 나타내었다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 각 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간, 유지 기간 및 소거 기간을 포함하며, 리셋 기간과 어드레스 기간 사이에 예비 기간이 위치할 수 있다.
먼저 제1 서브필드의 리셋 기간에서는 유지 전극(X1∼Xn)에 Ve 전압을 인가하고 어드레스 전극(A1∼Am)에 기준 전압(도 3에서는 0V로 나타내었음, 이하 동일함)을 인가한 상태에서, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 Vp 전압에서 Vset 전압까지 점진적으로 상승하고 Vq 전압에서 Vnf 전압(도 3에서 0V로 나타내었지만 다른 전압이 인가될 수 있음, 이하 동일함)까지 점진적으로 하강하는 리셋 파형을 인가한다. 그러면, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 형성되는 모든 방전 셀에서 리셋 방전이 발생하여 방전 셀간에 균일한 벽전압을 형성한다. 여기서, 유지 전극(X1∼Xn)과 어드레스 전극(A1∼Am)에 각각 Ve 전압과 기준 전압(0V)을 인가한 상태에서, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 Vp 전압에서 Vset 전압까지 점진적으로 상승하는 전압을 인가하므로, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)과 어드레스 전극(A1∼Am) 사이에서만 약한 방전이 발생하고 제1 그룹의 주사 전극(YG1)과 유지 전극(X1∼Xn)사이에서는 방전이 거의 발생하지 않는다. 그리고, 유지 전극(X1∼Xn)과 어드레스 전극(A1∼Am)에 각각 Ve 전압과 기준 전압(0V)을 그대로 인가한 상태에서, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 Vq 전압 에서 Vnf 전압(0V)까지 점진적으로 하강하는 전압을 인가하므로, 방전이 거의 발생하지 않는다. 따라서, 리셋 기간의 종료 후 도 4a에 나타낸 바와 같이 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 각각 음(-)의 벽 전하가 형성되고, 어드레스 전극(A)에는 양(+)의 벽 전하가 형성된다.
이와 같이 본 발명의 실시예에서는 리셋 기간에서 주사 전극과 어드레스 전극간에 약방전인 리셋 방전을 발생시켜 모든 방전 셀을 초기화한다. 이와 같이 주사 전극과 어드레스 전극간에 주로 리셋 방전을 발생시키는 경우는, 주사 전극과 유지 전극간 및 주사 전극과 어드레스 전극간에 주로 리셋 방전을 발생시키는 경우보다, Vp 전압에서 Vset 전압까지의 상승 기울기를 더욱 급하게 할 수 있다.
도 5a는 유지 전극에 기준 전압(0V)을 인가한 상태에서 주사 전극에 램프 파형의 상승 기울기(S1∼S7)를 달리하여 인가한 경우 IR 광(Infra Red light) 파형을 나타내는 도면이며, 도 5b는 유지 전극에 Ve 전압(150V)을 인가한 상태에서 주사 전극에 램프 파형의 상승 기울기(S1∼S7)를 달리하여 인가한 경우 IR광(Infra Red light) 파형을 나타내는 도면이다. 도 5a 및 도 5b에서 각 상승 기울기(S1∼S7)에 대응되는 IR 광 파형은 (a) 내지 (g)의 파형이다. 한편 , 도 5a 및 도 5b에서 어드레스 전극은 기준 전압(0V)을 인가한다. 즉, 도 5a는 주사 전극과 유지 전극간에 리셋 방전을 발생시키는 경우의 IR 광 파형이며 도 5b는 주사 전극과 어드레스 전극간에 리셋 방전을 발생시키는 경우의 IR 광 파형을 나타낸다.
도 5a 및 도 5b를 비교해보면, 주사 전극과 어드레스 전극간에 리셋 방전을 발생시키는 경우(도 5b)가 주사 전극과 유지 전극간에 리셋 방전을 발생시키는 경 우(도 5a)보다 동일한 상승 기울기에서 방전이 더욱 약하게 나타냄을 알 수 있다. 예를 들면, 기울기 S4인 경우 도 5b의 (d)가 도 5a의 (d)보다 IR 광 파형이 더욱 약하게 발생되어 더욱 약 방전이 발생된다. 따라서, 본 발명의 실시예에 따른 리셋 파형과 같이 주사 전극과 어드레스 전극간에 리셋 방전을 발생시키는 경우, 더욱 급한 상승 기울기를 통해 약 방전인 리셋 방전을 발생시킬 수 있다.
이와 같이 본 발명의 실시예에 따르면 짧은 리셋 기간의 적용이 가능하며, 이와 더불어 소정의 주사 전극에 스캔 펄스를 인가하여 어드레싱하고 있는 동안에 다른 주사 전극에 유지 방전 펄스를 인가하여 유지 방전시키는 AWD 구동 방법이 적용되도록 제어함으로써, 인접 주사 전극 라인간에 자유롭게 서브필드의 배치가 가능하다. 따라서, 일반적인 ADS 구동 방법에서 발생하는 동화 의사윤곽(Dynamic False Contour) 문제를 해결하기 위한 디더링 및 오차확산법등의 부가적인 영상처리를 하여야 하나 본 발명의 실시예는 부가적인 영상처리 없이도 높은 화질을 얻을 수 있다.
한편, 도 3에서 리셋 기간에서 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 인가하는 리셋 파형을 램프 형태로 나타내었으나, 본 발명은 점진적으로 상승하는 파형으로 RC 파형, 계단 파형 등 다른 파형이 적용될 수 있다.
다음으로, 예비 기간에서는 유지 전극(X1∼Xn)에 유지 방전 전압(Vs)을 가지는 펄스(이하에서 '유지 방전 펄스'라 함)를 소정 회수 인가하고, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)과 어드레스 전극(A1∼Am)에 각각 Vnf 전압과 기준 전압(0V)을 인가한다. 도 4a에 나타낸 바와 같이 리셋 기간 후 주사 전극과 유지 전극에 음(-)의 벽 전하가 형성되어 있으므로, 유지 전극(X1∼Xn)에 유지 방전 전압(Vs)을 인가하더라도, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 형성되는 방전 셀에서는 방전이 발생하지 않는다. 이러한 예비 기간은 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 형성되는 방전 셀의 입장에서는 리셋 기간에서 발생된 많은 프라이밍 입자(Priming Particle)의 소거를 확보할 수 있는 기간으로 이용되며, 다른 그룹의 주사 전극(Y2∼Yn)에 형성되는 방전 셀의 입장에서는 아래에서 설명하는 바와 같이 유지 전극(X1∼Xn)에 인가되는 유지 방전 전압(Vs)과 함께 유지 방전을 발생시키는 유지 기간으로 이용된다. 한편, 예비 기간은 다른 그룹의 유지 기간으로 활용하지 않을 경우에는 생략될 수 있다.
어드레스 기간에서는 유지 전극(X1∼Xn)에 Ve 전압을 바이어스한 상태에서 주사 전극(YG1) 중 선택하고자 하는 주사 전극에 순차적으로 스캔 펄스 전압(VscL)을 인가하며, 해당 주사 전극에 스캔 펄스 전압(VscL)이 인가될 시 어드레스 전극(A1∼Am) 중 선택하고자 하는 어드레스 전극에 어드레스 전압(Va)을 인가한다. 이때, 제1 그룹의 주사 전극(YG1) 중 스캔 펄스 전압(VscL)이 인가되지 않는 주사 전극에는 VscH 전압을 인가한다. 그러면, 스캔 펄스 전압(VscL)이 인가된 주사 전극과 어드레스 전압(Va)이 인가된 어드레스 전극간에 방전이 발생하며, 이 방전에 의해 주사 전극과 유지 전극간에 방전이 발생하여 어드레스 방전이 발생한다. 이에 따라 도 4b에 나타낸 바와 같이 주사 전극(X)에 양의 벽 전하가 쌓이며, 유지 전극(X)에 음(-)의 벽 전하가 쌓인다. 한편, 도 3에서는 VscH 전압이 Vnf 전압과 동일한 전압레벨인 것으로 나타내었으나 VsH 전압은 Vnf 전압보다 높은 전압레벨로 설정되는 등 다른 전압레벨로 설정될 수 있다.
다음으로, 유지 기간에서는 먼저 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 유지 방전 전압 펄스를 인하며, 이에 따라 어드레스 기간에서 선택된 방전 셀에서 유지 방전이 발생한다. 도 4c에 나타낸 바와 같이 이러한 유지 방전에 의해 주사 전극에 음(-)의 벽 전하 형성되고 유지 전극에 양(+)의 벽 전하가 형성되며, 이에 따라 다음으로 유지 전극(X1∼Xn)에 유지 방전 펄스가 인가되어 다시 유지 방전이 발생한다. 이러한 유지 방전 펄스 전압을 교대로 제1 그룹의 주사 전극(YG1)과 유지 전극(X1∼Xn)에 제1 서브필드에 할당된 가중치에 대응하는 소정의 회수만큼 인가된다.
한편, 소거 기간은 도 3에 나타낸 바와 같이 a 기간과 b 기간으로 나뉘어진다. a 기간에서, 유지 기간에서 마지막으로 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 유지 방전 전압(Vs)이 인가되어 유지 방전이 발생된 후 계속해서 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 Vs 전압을 인가한 상태에서, 유지 전극(X1∼Xn)에 Vs 전압을 인가한다. 그러면 동일한 전압 Vs 전압이 인가되므로 방전이 발생하지 않는다. 다음으로 b 기간에서, 유지 전극(X1∼Xn)에 Vs 전압을 유지한 상태에서 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 기준 전압(0V)을 인가한다. 유지 기간의 마지막 유지 방전에서 제1 그룹의 주 사 전극(YG1)에 유지 방전 전압이 인가되므로 도 4c에 나타낸 벽 전하 상태를 나타내며, 이때 b 기간에서 유지 전극(X1∼Xn)과 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 각각 Vs 전압과 기준 전압(0V)이 인가되므로, 유지 기간에서 유지 방전된 방 전셀(즉, 어드레스 기간에서 선택된 방전 셀)에서 방전이 발생된다. 이때, b 기간이 짧은 기간(여기서 b 기간은 유지 방전을 위해 Vs 전압을 인가하는 기간보다 짧음)이므로 방전은 발생된 후 사라지고, 이에 따라 도 4d에 나타낸 바와 같이 유지 전극과 주사 전극간에 인접한 영역에서 쌓인 벽 전하 소멸되어 진다. 이와 같이 본 발명의 실시예에 따른 소거 기간에서는 유지 방전 전압(Vs)의 인가 시간 타이밍을 조절함으로써 수행되므로, 간단하게 구현할 수 있다. 여기서, b 기간은 방전하여 벽 전하가 소거되도록 적절하게 설정될 수 있다.
그리고, 제2 서브필드도 제1 서브필드와 같이 리셋 기간, 예비 기간, 어드레스 기간, 유지 기간 및 소거 기간을 포함한다. 여기서, 제2 서브필드는 유지 기간이 제1 서브필드와 다른 것을 제외하고 다른 기간은 제1 서브필드와 동일하므로 이하 중복되는 설명은 생략한다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 제2 서브필드의 유지 기간은 제1 기간(Ⅰ), 제2 기간(Ⅱ) 및 제3 기간(Ⅲ)을 포함한다. 제1 기간(Ⅰ) 및 제3 기간(Ⅲ)은 제1 서브필드의 유지 기간과 동일하다. 따라서, 제2 서브필드의 유지 기간에 발생되는 유지 방전 회수는 제1 서브필드의 2배의 가중치를 표현할 수 있다. 한편, 제2 기간에서는 유지 전극(X1∼Xn)에 Ve 전압을 인가하며, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 기준 전압(0V)을 인가한다. 제1 기간의 마지막 유지 방전 펄스가 유지 전극(X1∼Xn)에 인가되었으므로, 제2 기간에서는 방전이 발생하지 않는다. 이와 같은 제2 기간은 제1 그룹의 주사 전극(YG1)의 입장에서는 아무런 방전이 발생하지 않는 역할을 하지만, 그 외 그룹의 주사 전극(YG2∼YGn)의 입장에서는 리셋 기간 또는 어드레스 기간으로 사용된다. 즉, 제2 기간에서는 다른 주사 전극(YG2∼YGn)에 리셋 파형 또는 스캔 펄스가 인가된다.
제3 서브필드 내지 제8 서브필드도 각 가중치에 대응되는 유지 방전을 위해 유지 기간에서 제1 기간(Ⅰ) 및 제3 기간(Ⅲ)을 소정회수 반복하며, 제2 서브필드의 유지 기간과 같이 제1 기간(Ⅰ)과 제3 기간(Ⅲ) 사이에 제2 기간(Ⅱ)이 위치한다. 즉, 제3 서브필드 내지 제8 서브필드 각각의 유지 기간은 제1 기간(I), 제2 기간(Ⅱ), 제3 기간(Ⅲ), 제1 기간(Ⅰ), 제2 기간(Ⅱ), 제3 기간(Ⅲ)...의 순서를 가진다. 그리고, 제3 서브필드 내지 제8 서브필드의 유지 기간을 제외한 나머지 기간은 제1 서브필드와 동일하므로 설명은 생략한다.
그리고, 상기 유지 기간의 제2 기간(Ⅱ)은 다른 그룹의 주사 전극에서 리셋 기간 또는 어드레스 기간으로 사용하지 않을 경우에는, 제2 기간에서 상기 도 3에 나타낸 바와 같은 파형을 각 전극에 인가하는 것이 아니라 소거형 어드레스 파형을 인가하여 소거 어드레싱(erase addressing)을 수행하는 것으로 대체할 수 있다. 이때 제1 유지 기간(Ⅰ)에서 유지 방전될 셀 중에서 소거형 어드레스 파형을 인가하여 제3 유지 기간(Ⅱ)에서 유지 방전될 셀을 선택하여, 보다 계조 표현의 다양성 을 확보할 수 있다. 이러한 소거형 어드레스 파형의 구체적인 모양은 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 알 수 있으므로 구체적 설명은 생략한다.
한편, 도 3에서는 편의상 복수의 주사 전극 그룹(YG1∼YGn) 중 제1 그룹의 주사 전극(YG1)을 기준으로 인가되는 구동 파형을 나타내었지만, 나머지 그룹의 주사 전극(YG2∼YGn)에 인가되는 구동 파형은 도 3에 나타낸 구동 파형에 인가 시점을 달리하여 인가된다.
도 6은 두 그룹의 주사 전극(YG1, YG2)에 인가되는 구동 파형을 나타내는 도면이다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 제2 그룹의 주사 전극(YG2)에 인가되는 구동 파형은 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 인가되는 구동 파형과 모양이 동일하나, 그 인가 시점이 달리하여 인가된다. 즉, 제2 그룹의 주사 전극(YG2)에서 수행되는 제1 서브필드(SF1)는 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 제4 서브필드의 유지 기간이 수행되는 동안에 수행되며, 그 다음으로 다음 서브필드들(SF2∼SF8)이 수행된다. 여기서, 제2 그룹의 주사 전극(YG2)에 인가되는 각 서브필드의 리셋 파형 및 스캔 펄스 파형은 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 인가되는 소정의 서브필드의 유지 기간 중 제2 기간(Ⅱ)에서 인가된다. 그리고, 유지 전극(X1∼Xn)은 Ve 전압의 인가와 유지 방전 펄스 의 인가가 반복되어 인가되며, 어드레스 전극(A1∼Am)에는 해당 방전 셀에 어드레싱 동작이 수행되도록 각 그룹의 주사 전극에 인가되는 스캔 펄스에 동기하여 어드레스 데이터가 인가한다. 또한, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 제1 내지 제3 서브필드(SF1∼SF3)가 수행되는 동안, 제2 그룹의 주사 전극(YG2)에는 이전 프레임(TV 필드)에서 수행되지 못했던 제8 서브필드(SF8)가 수행된다. 이에 따라 상기에서 설명한 바와 같이 서로 다른 주사 전극 그룹간에 인가되는 각 서브필드의 리셋 기간 및 어드레스 기간은 서로 다른 주사 전극 그룹간에 중첩되지 않는다.
그리고, 도 6에서는 나타내지 않았지만 나머지 주사 전극 그룹(YG3∼YGn)에 인가되는 구동 파형은 도 2에 나타낸 AWD 구동 방법이 적용될 수 있도록, 도 6에 나타낸 제2 그룹의 주사 전극(YG2)에 인가되는 구동 파형과 같이 인가 시점을 적절히 조절하여 인가된다.
도 3에서 나타낸 바와 같이 LSB(Least Significant Bit) 서브필드인 제1 서브필드의 방전 회수는 어드레스 방전을 포함하여 4회이다. 이러한 4회의 방전 회수는 저계조를 표현하는데 다소 많은 발광 량에 해당될 수 있으므로, 이하에서는 저계조 표현력을 더욱 향상시키는 방법에 대해서 도 7을 참조하여 알아본다. 이는 소거 기간의 위치를 일부 조정하여 구현할 수 있다.
도 7은 도 3의 구동 파형에서 제1 서브필드의 유기 기간 및 소거 기간에 인가되는 구동 파형의 변형을 나타내는 도면이다.
도 7에 나타낸 바와 같이, 먼저 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 유지 방전 전압(Vs)을 인가하고, 소거 기간의 a 기간 및 b기간을 배치한다. 그러면, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)과 유지 전극(X1∼Xn)간에 유지 방전이 발생한 후, a 기간 및 b 기간으로 인해 약한 방전의 발생 후 내부 벽 전하가 일부 소거되어 이후 유지 방전에 필요한 벽전압 이하로 소거된다. 다음으로, 제1 그룹의 주사 전극(YG1)에 유지 방전 펄스를 인가한 후 유지 전극(X1∼Xn)에 유지 방전 펄스를 인가하더라도, 앞서 위치한 소거 기간으로 인해 유지 방전이 발생하지 않는다. 이때 제1 서브필드의 방전 회수는 어드레스 방전과 1회의 유지 방전으로 총 2회로 줄어들 수 있고, 소거 기간의 a 기간 및 b 기간의 배치순서를 역으로 바꾸어 어드레스 방전 1회로 방전 회수를 줄일 수 있다. 이와 같이 소거 기간의 위치를 통해 발광 휘도량을 제어할 수 있게 되어 저계조 표현력을 더욱 향상시킬 수 있다.
상기에서 설명한 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법은 리셋 기간에서 주사 전극과 어드레스 전극간에 주로 리셋 방전을 발생시킨다. 이에 따라 어드레스 전압(Va)의 마진과 콘트라스트가 향상되는 등 각종 특성이 기존보다 향상되는 바 이하에서는 이에 대해 실험적인 결과를 바탕으로 알아본다.
아래에서 설명하는 실험 결과는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법(도 3의 파형)과 일반적인(conventional) 구동 방법(일반적인 ADS 파형 또는 AWD 파형)이 인가되는 상황에서 측정하고자 하는 변수를 제외한 나머지 부분을 일정한 값으로 고정하여 측정하였다. 그리고, 모든 실험은 각 구동 방법에서 리셋 기간의 리셋 방전이 적절히 약 방전으로 발생하는 조건 하에서 이루어졌다.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법이 적용된 경우와 일반적인 ADS의 구동 방법(리셋 기간에서 램프 리셋(ramp reset) 파형이 적용된 경우)이 적용된 경우, 유지 방전 전압에 따른 최소 어드레스 전압을 측정한 결과를 나타내는 도면이다. 여기서, 최소 어드레스 전압(Va_min)은 켜고자하는 방전 셀에 적절한 어드레스 방전을 발생시키는 최소 전압을 나타낸다. 그리고, 비금친 부분은 어드레스 드라이버의 내압을 100V로 가정한 경우의 어드레스 전압 마진(margin)을 나타낸다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 유지 방전 전압 범위는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법이 적용된 경우에서 15V가량 더 낮게 분포한다. 이는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법을 적용할 경우 더 낮은 유지 방전 전압에서도 안정적인 구동이 가능함을 알 수 있다. 그리고, 일반적인 ADS 구동 방법과 유사한 최소 어드레스 전압을 나타냄을 알 수 있다.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법에서 어드레스 전압(Va)과 스캔 펄스 전압(|VscL|)을 변수로 사용한 경우 두 전압간의 상관 관계를 나타내는 도면이다. 즉, 소정의 스캔 펄스 전압(|VscL|)이 인가된 상태에서 적절한 어드레스 방전이 발생되는 최소 어드레스 전압(Va_min)과 최대 어드레스 전압(Va_max)을 측정한 결과이다.
종래의 AWD 구동 방법은 강 펄스 모양의 리셋 파형을 이용하여 모든 방전 셀의 벽 전하를 모두 지우는 방식을 사용하고 있으며, 이는 어드레스 전압 마진뿐만 아니라 |VscL| + Va 값이 240V 이상의 전압에서 어드레스 방전이 적절하게 일어남 을 보고하고 있다. 그러나, 도 9에 나타낸 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법에서는 |VscL| + Va_min이 110V 근처, |VscL| + Va_max이 180V로 종래보다 매운 낮은 값을 나타냄을 알 수 있으며, 이와 같은 실험 결과는 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법의 경우는 종래와 같이 리셋 기간에서 강 방전을 발생시켜 벽전하를 지우는 것이 아니라 약 방전을 통해 전극에 쌓여 있는 벽 전하를 이용하므로 상기 전압을 낮출 수 있다. 그리고, 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법은 Va 전압마진과 |VscL| 전압마진이 각각 80V과 45V로 매우 넓게 나옴을 알 수 있다.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법에서 네온(Ne)-제논(Xe) 혼합 가스에서 제논(Xe)의 함량을 변동시킨 경우, 유지 방전 전압에 따른 최소 어드레스 전압을 측정한 결과를 나타내는 도면이다.
도 10에 나타낸 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법이 적용된 경우 제논(Xe) 함량이 증가함에 따라 최소 어드레스 전압이 거의 변동되지 않음을 알 수 있다. 일반적으로 ADS 구동 방법의 경우 Xe 함량이 증가할수록 어드레스 전압이 매우 증가하는 것으로 알려져 있으나, 본 발명의 실시예의 경우는 어드레스 전압이 거의 변동하지 않는다. 제논(Xe)의 함량이 증가하면 휘도와 효율이 동반 증가하므로 앞으로 제논(Xe)의 함량이 증가하는 것이 추세이나, 제논(Xe)함량이 증가할수록 구동 전압이 높아지는 한계가 있었다. 그러나, 본 발명을 구동 방법에서는 어드레스 전압의 증가가 적고 유지 방전 전압의 증가가 적어 고(High) 제논(Xe) 함량의 플라즈마 표시 장치에 적용 가능함을 보여주고 있다.
도 11은 도 10에서 제논(Xe)의 함량을 14%까지 확장하여 측정한 결과를 나타 내는 도면이다. 도 11에 나타낸 바와 같이 최소 어드레스 전압이 제논(Xe)의 함량에 따라 증가하나 일반적인 ADS 구동 방식(램프 리셋 파형으로 리셋 기간을 구현한 방식)과 비교했을 때 그 증가량이 매우 적음을 알 수 있다. 도 12는 도 11에 나타낸 실험 결과를 바탕으로 얻어진 제논(Xe)의 함량에 따른 어드레스 중간 값을, 일반적인 ADS 구동 방법이 적용된 경우와 비교한 도면이다. 여기서, 어드레스 중간 값은 도 11에서 유지 방전 전압의 중간 값에서의 최소 어드레스 전압을 나타낸다. 도 12에 나타낸 바와 같이 본 발명이 적용된 경우 제논(Xe)함량의 증가에 따라 최소 어드레스 전압도 증가하나 일반적인 ADS 구동 방법에 비해 그 증가율이 훨씬 적음을 알 수 있다. 예를 들면, 제논(Xe) 14%의 플라즈마 표시 패널(100)을 구동하려 할 때, 일반적인 ADS 구동 방법에서는 최소한 100V의 어드레스 전압 이상이 인가되어야 안정적인 어드레싱이 가능하나, 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법에서는 70V 이상에서 안정적인 어드레싱이 가능하다.
한편, 상기에서 설명한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법은 리셋 기간에서 주사 전극에 점진적으로 상승하는 리셋 파형을 인가한다. 이에 따라 콘트라스트가 종래의 AWD 구동 방법에 비해 콘트라스트가 좋아지나, 종래의 AWD 구동 방법은 강 펄스 형태의 리셋 파형을 인가함으로 인해 콘트라스트가 좋지 않다.
그리고, 아래의 표 1은 제논(Xe) 함량 8%에서, 일반적인 ADS 구동 방법의 램프 리셋 파형을 인가한 경우와 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법의 리셋 파형을 인가한 경우의 백그라운드 발광량 및 콘트라스트의 실험결과를 나타내는 도면이다. 각 파형에 적용된 전압은 아래 표 1에 나타내었다.
Figure 112005038722179-pat00001
표 1에 나타낸 바와 같이 일반적인 ADS 구동 방법의 경우 1.446cd/m2의 백그라운드 발광량에 의해 500:1 이하의 낮은 콘트라스트와 높은 Vset 전압인 390V가 필요한 데 반해, 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법의 경우 0.065cd/m2 백그라운드 발광량에 의해 10000:1 이상의 높은 콘트라스트와 낮은 Vset 전압인 370V가 필요한다. 즉, 본 발명의 실시예에 따른 구동 방법이 적용된 경우도 일반적인 ADS 구동 방법보다 낮은 백그라운드 발광량 및 높은 콘트라스트를 얻을 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따르면 짧은 리셋 기간에서 낮은 백그라운드 발광량 및 높은 콘트라스트를 얻을 수 있다. 또한, 어드레스 구동 마진 을 얻을 수 있으며, 고 제논 함량에도 비교적 낮은 구동 전압을 적용하여 구동할 수 있다.

Claims (18)

  1. 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극과 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치를 구동하는 방법에 있어서,
    상기 복수의 제1 전극은 적어도 하나의 제1 전극을 각각 포함하는 복수의 그룹으로 나누어지며,
    상기 복수의 그룹 중 제1 그룹의 제1 전극에 대해 수행되는 제1 서브필드는,
    상기 제1 그룹의 제1 전극의 전압에서 상기 복수의 제3 전극의 전압을 뺀 전압인 제1 전압을, 상기 제1 그룹의 제1 전극의 전압에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 뺀 전압인 제2 전압보다 더 높게 하여, 리셋 방전을 발생시키는 단계;
    상기 제1 그룹의 제1 전극에 형성되는 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀을 선택하는 단계; 및
    상기 선택된 방전 셀에 유지 방전을 발생시키는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 그룹의 제1 전극의 전압을 점진적으로 상승시켜, 상기 리셋 방전을 발생시키는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  3. 제1항에서,
    상기 제1 그룹의 제1 전극의 전압을 점진적으로 상승시킨 후 점진적으로 하강시켜, 상기 리셋 방전을 발생시키는 플라즈마 장치의 구동 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 리셋 방전을 발생시키는 단계는,
    상기 복수의 제2 전극에 제3 전압을 인가하고 상기 복수의 제3 전극에 상기 제3 전압보다 낮은 제4 전압을 인가한 상태에서, 상기 제1 그룹의 제1 전극에 점진적으로 상승하는 전압을 인가하는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 리셋 방전을 발생시키는 단계는,
    상기 복수의 제2 전극에 상기 제3 전압을 인가하고 상기 복수의 제3 전극에 상기 제4 전압을 인가한 상태에서, 상기 제1 그룹의 제1 전극에 점진적으로 하강하는 전압을 인가하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 리셋 방전을 발생시키는 단계에서,
    상기 제1 그룹의 제1 전극과 상기 복수의 제3 전극간에 발생되는 방전이 상 기 제1 그룹의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극간에 발생되는 방전보다 더 큰 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 서브필드가 수행되는 동안, 상기 복수의 그룹 중 제2 그룹의 제1 전극에 대해 제2 서브필드가 수행되며,
    상기 유지 방전이 발생되는 기간 중 적어도 일부의 기간에서, 상기 제2 서브필드의 어드레스 기간이 수행되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제1 서브필드가 수행되는 동안, 상기 복수의 그룹 중 제2 그룹의 제1 전극에 대해 제2 서브필드가 수행되며,
    상기 제2 서브필드의 유지 기간 중 적어도 일부의 기간에서, 상기 선택하는 단계가 수행되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 제1 그룹의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극에 교대로 제1 기간을 가지는 유지 방전 전압을 인가하여 상기 유지 방전을 발생시키며,
    상기 제1 서브필드는,
    상기 유지 방전을 위해 상기 유지 방전 전압을 상기 제1 그룹의 제1 전극에 마지막으로 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극에 상기 유지 방전 전압을 인가하며, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 유지 방전 전압보다 낮은 전압으로 하강시킨 시점으로부터 제2 기간 후에 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 유지 방전 전압보다 낮은 전압으로 하강시키는 단계를 더 포함하며,
    상기 제2 기간은 상기 제1 기간 보다 짧은 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 유지 방전을 발생시키는 단계는,
    제1 기간 동안 상기 선택된 방전 셀을 소정의 회수만큼 방전시키는 단계;
    제2 기간 동안 상기 유지 방전을 멈추는 단계; 및
    제3 기간 동안 상기 선택된 방전 셀을 다시 소정의 회수만큼 방전시키는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제2 기간 동안, 상기 복수의 그룹 중 제2 그룹의 주사 전극에 대해 제2 서브필드의 리셋 기간 또는 어드레스 기간이 수행되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  12. 복수의 제1 전극 및 제2 전극, 상기 제1 전극 및 제2 전극과 교차하여 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하는 플라즈마 표시 패널;
    하나의 프레임을 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간을 각각 포함하는 복수의 서브필드로 나누고, 상기 복수의 제1 전극 중 I번째 제1 전극에 제1 서브필드의 유지 기간이 수행되는 적어도 일부의 기간인 제1 기간에서 상기 복수의 제1 전극 중 J번째 제1 전극에 제2 서브필드의 어드레스 기간이 수행되도록 제어하는 제어부; 및
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 제1 전압을 인가하고 상기 복수의 제3 전극에 상기 제1 전압보다 낮은 제2 전압을 인가한 상태에서, 상기 I번째 제1 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제3 전압까지 상승한 후 하강하는 제1 파형을 인가하는 구동부를 포함하는 플라즈마 표시 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1 파형은 상기 제3 전압까지 점진적으로 상승한 후 점진적으로 하강하는 파형인 플라즈마 표시 장치.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 I번째 제1 전극과 상기 복수의 제3 전극간에 발생되는 방전이 상기 I번째 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극간에 발생되는 방전보다 더 큰 플라즈마 표시 장치.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 제1 서브필드는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간과 상기 제1 서브필드의 어드레스 기간 사이에 위치하는 제2 기간을 더 포함하며,
    상기 제2 기간에서, 상기 I번째 제1 전극에 소정의 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극에 유지 방전 전압을 소정의 회수만큼 인가하는 플라즈마 표시 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제2 기간에서, 상기 복수의 제1 전극 중 K번째 제1 전극에 대해 유지 기간이 수행되는 플라즈마 표시 장치.
  17. 제15항에 있어서,
    각 서브필드에서, 상기 리셋 기간에서 상기 복수의 제2 전극에 상기 제1 전압이 인가되는 전압 파형과 상기 제2 기간에서 상기 복수의 제2 전극에 인가되는 전압 파형이 교대로 반복되어 상기 복수의 제2 전극에 인가되는 플라즈마 표시 장치.
  18. 제12항에 있어서,
    상기 제1 기간에서 상기 제1 서브필드의 유지 기간에서 발생되는 유지 방전이 멈추는 플라즈마 표시 장치.
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