KR100669080B1 - Laser patterning apparatus for manufacturing oled display - Google Patents
Laser patterning apparatus for manufacturing oled display Download PDFInfo
- Publication number
- KR100669080B1 KR100669080B1 KR1020050037374A KR20050037374A KR100669080B1 KR 100669080 B1 KR100669080 B1 KR 100669080B1 KR 1020050037374 A KR1020050037374 A KR 1020050037374A KR 20050037374 A KR20050037374 A KR 20050037374A KR 100669080 B1 KR100669080 B1 KR 100669080B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- light emitting
- organic light
- patterning
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/18—Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
- H01L21/0275—Photolithographic processes using lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12044—OLED
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
본 발명은, 유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode), 즉 유기발광 디스플레이의 제조에 있어서 레이저빔을 이용하여 디스플레이 기판에 유기발광층을 빠르고 효과적으로 패터닝하기 위한 유기발광 디스플레이 제조용 레이저 패터닝 장치에 관한 것으로서, 레이저 발진유닛에서 발생한 가우시안 에너지 분포의 레이저빔을 전반사(total reflection) 방식을 이용하여 균일한 에너지 분포의 레이저빔으로 변화시키고, 그 변화된 레이저빔을 다중 분할하여 기판 상에 유기발광층을 보다 신속하고 정밀하게 패터닝할 수 있는 유기발광 디스플레이 제조용 레이저 패터닝 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser patterning device for manufacturing an organic light emitting display for quickly and effectively patterning an organic light emitting layer on a display substrate using a laser beam in the manufacture of an organic light emitting diode (OLED), that is, an organic light emitting display. The laser beam of the Gaussian energy distribution generated by the laser oscillation unit is transformed into the laser beam of uniform energy distribution by using total reflection method, and the organic light emitting layer is formed on the substrate more quickly by multi-dividing the changed laser beam. It is an object of the present invention to provide a laser patterning device for producing an organic light emitting display that can be accurately patterned.
이를 위해, 본 발명에 따른 레이저 패터닝 장치는, 레이저빔을 발생시키는 레이저 발진 유닛과, 레이저 발진유닛에서 발생된 레이저빔의 전송 과정에서 레이저빔의 에너지 분포를 균일한 에너지 분포로 변화시키는 광섬유 케이블과, 상기 광섬유 케이블을 통해 받은 레이저빔을 확대하는 빔익스팬더 및 확대된 레이저빔을 다중 분할하는 격자형의 배열렌즈를 구비하고서, 다중 분할된 레이저빔들로써 유기발광층을 기판 표면에 패터닝하는 광학유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.To this end, the laser patterning device according to the present invention comprises a laser oscillation unit for generating a laser beam, an optical fiber cable for changing the energy distribution of the laser beam into a uniform energy distribution during the transmission of the laser beam generated by the laser oscillation unit; And an optical unit configured to include a beam expander for enlarging the laser beam received through the optical fiber cable and a lattice-shaped array lens for multi-dividing the enlarged laser beam, and to pattern the organic light emitting layer on the surface of the substrate using the multi-divided laser beams. Characterized in that.
유기발광층, 디스플레이, 레이저빔, 광섬유 케이블, 광학유닛, 빔익스팬더 Organic light emitting layer, display, laser beam, fiber optic cable, optical unit, beam expander
Description
도 1은 통상의 레이저 열전사법을 이용하여 디스플레이 기판 상에 유기발광층을 패터닝하는 공정을 도시한 도면.1 is a view showing a process for patterning an organic light emitting layer on a display substrate using a conventional laser thermal transfer method.
도 2는 레이저 열전사법을 이용한 종래의 레이저 패터닝 장치를 개략적으로 도시한 도면. 2 is a view schematically showing a conventional laser patterning apparatus using a laser thermal transfer method.
도 3은 종래의 레이저 패터닝 장치에서 패터닝에 이용되는 레이저빔의 에너지 분포를 도시한 그래프.3 is a graph showing the energy distribution of a laser beam used for patterning in a conventional laser patterning device.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 유기발광 디스플레이 제조용 레이저 패터닝 장치를 개략적으로 도시한 구성도.Figure 4 is a schematic diagram showing a laser patterning apparatus for manufacturing an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 레이저 패터닝 장치의 일부를 구성하는 광섬유 케이블을 설명하기 위한 도면.5 is a view for explaining an optical fiber cable constituting a part of a laser patterning device according to an embodiment of the present invention.
도 6은 도 5에 도시된 광섬유 케이블을 통해 광학유닛으로 전송된 레이저빔의 에너지 분포를 도시한 그래프.6 is a graph showing the energy distribution of the laser beam transmitted to the optical unit via the optical fiber cable shown in FIG.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 레이저 패터닝 장치의 일부를 구성하는 빔익스팬더가 레이저빔을 확대하는 작용을 개략적으로 도시한 개념도.7 is a conceptual diagram schematically illustrating an operation of expanding a laser beam by a beam expander constituting a part of a laser patterning apparatus according to an embodiment of the present invention;
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 레이저 패터닝 장치를 구성하는 광학유닛이 다수의 레이저빔을 이용하여 기판 상에 유기발광층 패턴을 형성하는 작용을 개략적으로 도시한 도면.FIG. 8 schematically illustrates an operation of forming an organic light emitting layer pattern on a substrate using a plurality of laser beams by an optical unit constituting a laser patterning apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 9는 도 8에 도시된 광학유닛이 라인형 및 도트형의 유기발광층 패턴을 디스플레이 기판 상에 형성시키는 과정을 개략적으로 도시한 개념도.FIG. 9 is a conceptual diagram schematically illustrating a process in which the optical unit illustrated in FIG. 8 forms line and dot organic light emitting layer patterns on a display substrate. FIG.
도 10은 본 발명에 따른 유기발광층의 패터닝 공정을 개략적으로 도시한 순서도.10 is a flow chart schematically showing a patterning process of an organic light emitting layer according to the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호설명><Code Description of Main Parts of Drawing>
10: 레이저 발진유닛 20: 광섬유 케이블10: laser oscillation unit 20: optical fiber cable
32: 빔익스팬더 34: 격자형 배열렌즈32: beam expander 34: grid array lens
35: 필터링 마스크 36: 조절렌즈35: filtering mask 36: adjusting lens
본 발명은 유기발광 디스플레이 제조용 레이저 패터닝 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 유기발광다이오드(OLED: Organic Light Emitting Diode), 즉 유기발광 디스플레이의 제조에 있어서 레이저빔을 이용하여 디스플레이 기판에 유기발광층을 빠르고 효과적으로 패터닝하기 위한 유기발광 디스플레이 제조용 레이저 패터닝 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser patterning apparatus for manufacturing an organic light emitting display, and more particularly, to an organic light emitting diode (OLED), that is, an organic light emitting layer on a display substrate using a laser beam in the manufacture of an organic light emitting display. A laser patterning device for producing an organic light emitting display for fast and effective patterning.
유기발광 디스플레이의 제조에 있어서, 유기발광층을 기판에 패터닝하는 방법으로는 크게 마스크 증착법과 레이저 열전사법이 있다.In the manufacture of an organic light emitting display, a method of patterning an organic light emitting layer on a substrate includes a mask deposition method and a laser thermal transfer method.
마스크 증착법은 기판 하부에 패턴 마스크를 위치시키고 그 아래쪽에서 유기발광물질을 증발시킴으로써 패턴마스크의 패턴에 대응되는 유기발광층을 기판 하부에 증착시키는 방식으로 이루어진다. 그러나 이러한 마스크 증착법은 기판의 크기가 커짐에 따라 마스크의 크기가 커져야 하고 유기발광물질의 증착 과정에서 필연적으로 발생하는 그림자효과(Shadow effect)로 인해 유기발광물질의 균일한 증착이 어렵다는 문제점을 갖고 있다.The mask deposition method is a method of depositing an organic light emitting layer corresponding to a pattern of a pattern mask under the substrate by placing a pattern mask under the substrate and evaporating the organic light emitting material under the substrate. However, the mask deposition method has a problem that as the size of the substrate increases, the size of the mask must be increased and uniform deposition of the organic light emitting material is difficult due to the shadow effect inevitably generated during the deposition of the organic light emitting material. .
근래에는 위와 같은 문제점을 해결하고자 레이저 열전사법 기술을 이용하여 대형의 디스플레이 기판에 유기발광층을 형성시키는 레이저 열전사법이 각광받고 있다. 레이저 열전사법을 이용하여 기판 상에 유기발광층을 패터닝하는 종래의 기술은 미국특허 제 6582875호, 미국특허 제 6566032호, 미국특허 제 6242140호, 미국특허공개 제 2003/010638호, 미국특허공개 제 2002/0028626호 등의 선행문헌들에 개시되어 있으며, 이러한 선행문헌들은 참조로서 본 명세서에 병합된다. Recently, in order to solve the above problems, a laser thermal transfer method for forming an organic light emitting layer on a large display substrate using a laser thermal transfer technique has been in the spotlight. Conventional techniques for patterning an organic light emitting layer on a substrate using a laser thermal transfer method are disclosed in U.S. Pat.Nos. 6582875, U.S. Pat.No.65,66032, U.S. Pat.No. 6242140, U.S. Patent Publication No. 2003/010638, U.S. Patent Publication 2002 / 0028626, and the like, which are incorporated herein by reference.
도 1은 레이저 열전사법을 이용하여 디스플레이 기판 상에 유기발광층을 패터닝하는 공정을 개략적으로 도시한 도면이다. 도시된 바와 같이, 레이저 열전사법은 특별히 제작된 열전사필름(thermal transfer film; 102) 혹은 도너필름(donor film)의 하부 표면에 유기발광막(103)을 증착방법으로 코팅한 후, 유기발광막(103)의 표면을 패터닝하고자 하는 디스플레이 기판(104)의 표면에 가까이 근접시키고, 그 후, 열전사필름(102) 표면에 레이저빔(B)을 조사하여 유기발광물질을 디스플레이 기판(104) 표면 위에 전사하는 방식으로 유기발광층(105)을 패터닝할 수 있다. FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a process of patterning an organic light emitting layer on a display substrate using a laser thermal transfer method. As shown, the laser thermal transfer method is an organic light emitting film after the organic
위와 같은 공정에서는 레이저빔을 매우 작은 스폿 크기로 하여 열전사필름 표면에 초점을 형성시키는데, 그 초점에서의 레이저빔의 빛에너지는 열전사필름 내부에서 열에너지로 전환되며, 상기 열에너지는 유기발광막이 기판에 전사(transfer)됨으로써 매우 미세한 패턴을 기판에 형성시킬 수 있게 된다. 이때 열전사 표면에 형성되는 레이저빔의 스폿 크기는 약 25-100um 정도로 하되, 스폿 크기를 작게 할수록 보다 정밀한 패턴을 구현할 수 있다.In the above process, the laser beam is made into a very small spot size to form a focal point on the surface of the thermal transfer film. The light energy of the laser beam at the focus is converted into thermal energy inside the thermal transfer film, and the thermal energy is converted into the substrate of the organic light emitting film. Transferring to the substrate enables formation of a very fine pattern on the substrate. At this time, the spot size of the laser beam formed on the thermal transfer surface is about 25-100um, but the smaller the spot size, the more precise the pattern can be realized.
도 2는 레이저 열전사법을 이용한 종래의 레이저 패터닝 장치를 개략적으로 도시한 도면이다. 도시된 바와 같이, 종래의 레이저 패터닝 장치(100)는, 레이저 발진유닛(110)에서 레이저빔을 방출하고, 그 방출된 레이저빔을 빔 확대유닛(120)에서 확대하여 이를 빔 전송유닛(130)으로 전달하며, 빔 전송유닛(130)에서 레이저빔의 방향을 바꾸어 그 레이저빔이 초점렌즈(140)를 통과하게 하고, 초점렌즈(140)를 통과한 레이저빔을 기판(104) 위쪽의 열전사필름(102) 표면에 스폿 크기로 조사하도록 구성된다.2 is a view schematically showing a conventional laser patterning apparatus using a laser thermal transfer method. As shown in the drawing, the conventional
위와 같은 종래의 레이저 패터닝 장치(100)에서, 열전사에 이용되는 레이저로는 보통 연속파형(CW: Continuous Wave)의 파장이 800nm 이상인 적외선 레이저를 사용하는데, 특히, 출력 10W 이상의 파장이 1064nm 인 Nd:YAG 레이저를 주로 사용한다. 그리고, 빔 확대유닛(120)은 초점에서 레이저빔 스폿크기를 작게 하기 위한 목적으로 사용되는데 보통 2배 내지 5배의 배율을 갖는다. 그리고, 빔 전송유닛(130)은 보통 고정된 반사미러를 사용하여 레이저빔을 기판쪽으로 유도시켜 주거나, 또는 갈바노 스캔미러를 사용하거나 초점렌즈(140)로 f-θ 렌즈를 사용하여 스캐닝을 수행할 수도 있다.In the conventional
종래의 디스플레이 패터닝 장치는 유기발광층의 패터닝에 사용되는 레이저빔의 에너지 분포가 레이저 발진유닛에서 원천적으로 발생되는 레이저빔의 에너지 분포와 같아 도 3에 도시된 것과 같은 가우시안(Gaussian) 에너지 분포를 갖게 된다.The conventional display patterning device has a Gaussian energy distribution as shown in FIG. 3 in that the energy distribution of the laser beam used for patterning the organic light emitting layer is the same as the energy distribution of the laser beam originally generated in the laser oscillation unit. .
이와 같은 가우시안 에너지 분포를 갖는 레이저빔이 열전사필름에 조사될 때 스폿 영역에서는 에너지 크기 차이에 따른 열 발생량의 차이가 발생하게 되며, 이와 같은 열전사필름 상의 불균일한 열 발생은 균일한 유기발광층의 전사를 어렵게 하여 결국 균일한 두께의 유기발광층 패턴 형성을 어렵게 하는 문제점을 야기한다.When a laser beam having a Gaussian energy distribution is irradiated onto the thermal transfer film, a difference in heat generation occurs due to the difference in energy size in the spot region. Such non-uniform heat generation on the thermal transfer film results in a uniform organic light emitting layer. This makes it difficult to transfer, which leads to a problem in that it is difficult to form an organic light emitting layer pattern having a uniform thickness.
또한, 종래의 패터닝 장치는 기판 표면에 단일의 레이저빔을 조사하는 방식으로 기판 상의 유기발광층을 패터닝하도록 구성되는데, 이는 대형 기판의 전체 면적 대하여 유기발광층을 패터닝을 할 때 많은 시간이 소요되는 문제점을 야기한다. In addition, the conventional patterning device is configured to pattern the organic light emitting layer on the substrate by irradiating a single laser beam on the surface of the substrate, which is a problem that takes a long time when patterning the organic light emitting layer over the entire area of the large substrate Cause.
따라서, 본 발명은, 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 레이저 발진유닛에서 발생한 가우시안 에너지 분포의 레이저빔을 전반사(total reflection) 방식을 이용하여 균일한 에너지 분포의 레이저빔으로 변화시키고, 그 변화된 레이저빔을 다중 분할하여 기판 상에 유기발광층을 보다 신속하고 정밀하게 패터닝할 수 있는 유기발광 디스플레이 제조용 레이저 패터닝 장치 및 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. Accordingly, the present invention is to solve the problems of the prior art, to change the laser beam of the Gaussian energy distribution generated in the laser oscillation unit to a laser beam of uniform energy distribution using a total reflection method, It is an object of the present invention to provide a laser patterning device and method for manufacturing an organic light emitting display, which is capable of multi-dividing the changed laser beam to pattern an organic light emitting layer on a substrate more quickly and precisely.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 레이저 열전사 방식으로 기판 표면에 유기발광층을 형성시키는 유기발광 디스플레이 제조용 레이저 패터닝 장치를 제 공하되, 상기 레이저 패터닝 장치는 레이저빔을 발생시키는 레이저 발진유닛과, 레이저 발진유닛에서 발생된 레이저빔의 전송 과정에서 레이저빔의 에너지 분포를 균일한 에너지 분포로 변화시키는 광섬유로 케이블과, 상기 광섬유 케이블을 통해 받은 레이저빔을 확대하는 빔익스팬더 및 확대된 레이저빔을 다중 분할하는 격자형의 배열렌즈를 구비하고서 다중 분할된 레이저빔들로써 유기발광층을 기판 표면에 패터닝하는 광학유닛을 포함한다. 따라서, 본 발명에 따른 레이저 패터닝 장치는 광섬유 케이블이 레이저 발진기에서 발생된 가우시안 에너지 분포를 갖는 레이저빔을 균일한 에너지 분포를 갖는 레이저빔으로 변화시켜 광학유닛으로 전송하고, 그 광학유닛이 자체 구비된 격자형의 배열렌즈를 이용하여 레이저빔을 다중 분할시킴으로써, 디스플레이 기판 상의 유기발광층을 보다 정밀하고 신속하게 패터닝할 수 있도록 해준다.In order to achieve the above object, the present invention provides a laser patterning device for manufacturing an organic light emitting display for forming an organic light emitting layer on the surface of the substrate by a laser thermal transfer method, the laser patterning device and the laser oscillation unit for generating a laser beam; In the transmission process of the laser beam generated by the laser oscillation unit, a fiber optic cable for changing the energy distribution of the laser beam into a uniform energy distribution, a beam expander and an enlarged laser beam for enlarging the laser beam received through the optical fiber cable. It includes an optical lens for patterning the organic light emitting layer on the surface of the substrate with a multi-division laser beam having a multi-division lattice array lens. Therefore, the laser patterning apparatus according to the present invention converts a laser beam having a Gaussian energy distribution generated from a laser oscillator into a laser beam having a uniform energy distribution and transmits the same to the optical unit, and the optical unit is provided with the optical unit itself. By splitting the laser beam using a lattice array lens, the organic light emitting layer on the display substrate can be patterned more precisely and quickly.
여기에서, 상기 빔익스팬더는 교체식으로 설치되어 각각 레이저빔을 일축 방향 및 방사상으로 확대시킬 수 있는 확대렌즈들을 구비하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 광학유닛은 상기 배열렌즈를 거쳐 분할된 레이저빔들 중 패터닝에 필요한 레이저빔만을 통과시키는 필터링 마스크를 더 포함하는 것이 바람직하다.Here, the beam expander is preferably provided with a magnifying lens that is installed in a replaceable manner, respectively, which can enlarge the laser beam uniaxially and radially. The optical unit may further include a filtering mask that passes only a laser beam required for patterning among the laser beams split through the array lens.
보다 바람직하게는, 상기 광학유닛은 상기 배열렌즈를 거쳐 분할된 레이저빔들 중 패터닝에 필요한 레이저빔만을 통과시키는 필터링 마스크를 더 포함하되, 상기 필터링 마스크가 확대렌즈의 종류에 따라 교체될 수 있게 구성된다. More preferably, the optical unit further includes a filtering mask for passing only the laser beam required for patterning among the laser beams split through the array lens, so that the filtering mask can be replaced according to the type of magnifying lens. do.
더 나아가, 상기 광학유닛은 기판으로 향하는 다수의 레이저빔들의 폭 및 간격을 조절하는 조절렌즈를 더 포함하는 것이 바람직하다.Furthermore, the optical unit preferably further comprises an adjustment lens for adjusting the width and spacing of the plurality of laser beams directed to the substrate.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 레이저 패터닝 장치를 개략적으로 도시한 구성도이다. 도시된 바와 같이, 본 실시예의 레이저 패터닝 장치(1)는 레이저 열전사 방식을 이용한 장치로서, 보다 상세하게는, 유기발광막이 하부에 코팅된 열전사필름(2)의 상부 표면에 레이저빔을 조사하여 그 아래쪽의 디스플레이 기판(4)에 소정 패턴의 유기발광층을 형성하도록 구성된다. 이를 위해, 본 실시예의 레이저 패터닝 장치(1)는 레이저 발진유닛(10), 광학유닛(30), 그리고, 레이저 발진유닛(10)에서 발생된 레이저빔을 광학유닛(30)으로 전송하는 케이블(20)을 포함한다. 4 is a configuration diagram schematically showing a laser patterning apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown, the laser patterning apparatus 1 of the present embodiment is a device using a laser thermal transfer method, and more specifically, irradiates a laser beam to the upper surface of the
상기 케이블(20)은 도 5에 도시된 바와 같이 피복(21) 내측에 광섬유 클래드(22) 및 코어(24)를 갖는 전형적인 광섬유 케이블 구조로 이루어지며, 레이저빔을 레이저 발진유닛(10)으로부터 광학유닛(30)으로 전송하는 과정에서 그 레이저빔을 전반사시켜 에너지 분포가 균일한 레이저빔을 광학유닛(30)으로 전송하는 것이 가능하다. The
광섬유 케이블(20)은 그 길이가 길수록 레이저빔에 대한 전반사 효율이 좋아져서 보다 균일한 에너지 분포의 레이저빔을 얻을 수 있게 해주는데, 적어도 그 길이가 2m 이상일 때 레이저빔에 대한 전반사 효율이 특히 좋아진다. 광섬유 케이블(20)을 통해 광학유닛(30)으로 전송된 레이저빔은 도 6에 도시된 바와 같이 "중산모(Top-Hat)" 모양의 균일한 에너지 분포를 갖게 된다.The longer the
앞서 언급한 바와 같이, 레이저빔의 균일화는 광섬유 케이블(20)을 통한 전 반사에 의해 이루어지는 것으로, 레이저 발진유닛(10)에서 가우시안 에너지 분포(도 3 참조)를 갖는 레이저빔이 광섬유 케이블(20)에 인입되어 광학유닛(30)으로 전송되는 과정에서 광섬유 클래드(22)에 의해 연속적으로 전반사되고, 이를 통해, 원래의 레이저빔 모드(mode)가 파괴됨으로써 구현된다. 따라서, 광섬유 케이블(20)에 큰 곡률을 주면, 레이저빔이 전반사되는 양은 보다 크게 증가되며, 이에 따라, 레이저빔에 대한 에너지 분포의 균일화 효과는 보다 극대화될 수 있다.As mentioned above, the homogenization of the laser beam is achieved by total reflection through the
결과적으로, 광섬유 케이블(20)을 통과하여 광학유닛(30)에 도달된 레이저빔은 앞서 언급한 바와 같이 "중산모" 형의 에너지 분포를 갖게 되며. 이러한 레이저빔은, 기존 패터닝에 사용되는 가우시안 형태의 레이저빔과 비교하여 매우 균일한 에너지 분포를 가지고 있으므로, 레이저 열전사법에 의한 유기발광층 패터닝 공정에 있어서 열전사되는 유기발광층의 양을 매우 균일하게 유지할 수 있어 매우 균일하고 정밀한 유기발광층 패턴을 형성할 수 있게 해준다. As a result, the laser beam that has passed through the
또한, 본 실시예에 따른 레이저 패터닝 장치(1)는 레이저빔의 전송에 광섬유 케이블(20)을 이용함으로써 레이저 발진유닛(10)에서 발생되는 800nm 이상의 적외선 파장을 갖는 모든 레이저, 즉 Nd:YAG 레이저 또는 다이오드 레이저(diode laser) 등을 아무런 문제없이 사용할 수 있도록 해준다.In addition, the laser patterning apparatus 1 according to the present embodiment uses all of the lasers having an infrared wavelength of 800 nm or more, that is, Nd: YAG laser, generated by the
다시 도 4를 참조하면, 광학유닛(30)은 광섬유 케이블(20)을 통해 균일화된 에너지 분포를 갖는 레이저빔을 전송받아, 그 레이저빔을 소정의 형태 및 배열로 가공한 후 그 가공된 레이저빔을 기판(4) 위의 열전사필름(2)에 조사하여 소정 패턴의 유기발광층을 기판(4)에 형성시키게 된다. 이 때, 상기 광학유닛(30)은 레이 저빔을 확대하는 빔익스팬더(32)와, 확대된 레이저빔(32)을 다중 분할하는 격자형의 배열렌즈(34)를 포함한다. Referring back to FIG. 4, the
광섬유 케이블(10)을 통해 전송된 레이저빔은 균일한 에너지 분포를 갖는 반면 광섬유 케이블(10)의 제한된 두께로 인해 그 전체 폭은 상대적으로 작다. 빔익스팬더(32)는 폭이 작은 레이저빔을 확대시킴으로써, 그 확대된 레이저빔을 이용해 대면적의 기판 상에 유기발광층을 폭 넓고 신속하게 형성시키도록 해준다. 이 때, 상기 빔익스팬더(32)는 대략 2~10배의 상 확대 배율을 갖는 것이 바람직하며, 레이저빔의 상 확대를 위해서 도 7에 도시된 것과 같은 확대렌즈(32a, 32b)를 갖는다. The laser beam transmitted through the
도 7의 (a) 및 (b)에는 빔익스팬더(32)에 사용되는 원통형 확대렌즈(32a) 및 구형 확대렌즈(32b)의 작용이 개략적으로 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 원통형 확대렌즈(32a)는 레이저빔을 일축 방향으로 확대하기 위한 용도로 사용되며, 구형 렌즈(32b)는 레이저빔을 방사상으로 확대하기 위한 용도로 사용된다. 이 때, 원통형 확대렌즈(32a)와 구형 확대렌즈(32b)는 전술한 빔익스팬더(32)에 교체식으로 설치될 수 있는데, 이러한 확대렌즈(32a, 32b)의 교체 설치는 빔익스팬더(32)로 하여금 의도하는 유기발광층의 패턴에 따라 레이저빔을 타원형 및 원형으로 선택하여 확대시킬 수 있도록 해준다.7 (a) and 7 (b) schematically show the operation of the
레이저빔(B1)을 도 7의 (a)와 같이 일축 방향으로 확대시켜 타원형의 레이저빔(B2)을 형성하는 경우에는, 디스플레이 기판(4) 상의 열전사필름(2) 위에 도 8의 (a)와 같은 라인 패턴(line pattern)의 초점(5a)을 형성하는데 매우 효과적이다.When the laser beam B1 is expanded in one axis direction as shown in FIG. 7A to form an elliptical laser beam B2, the laser beam B1 is formed on the
또한, 레이저빔(B1)을 도 7의 (b)와 같이 레이저빔(B1)을 방사상으로 확대시 켜 원형의 레이저빔(B3)을 형성하는 경우에는, 디스플레이 기판(4) 상의 열전사필름(2) 위에 도 8의 (b)와 같은 도트 패턴(dot pattern)의 초점(5b)을 형성하는데 매우 효과적이다,In addition, when the laser beam B1 is radially enlarged to form a circular laser beam B3 as shown in FIG. 7B, the thermal transfer film on the display substrate 4 ( 2) It is very effective to form the
다시 도 4를 참조하면, 본 실시예의 광학유닛(30)은 앞서 간략히 언급된 바와 같이 빔익스팬더(32)의 바로 아래쪽에 배치되는 격자형의 배열렌즈(34)를 포함한다. 이 배열렌즈(34)는 도 8에 도시된 바와 같이 다수의 사각 격자를 구비한 채 빔익스팬더(32)에서 상이 확대된 레이저빔(B2 또는 B3)의 통과를 허용하며, 이를 통해, 레이저빔(B2 또는 B3)을 다수의 레이저빔으로 다중 분할시켜준다. 이와 같이 다중 분할된 레이저빔은 배열렌즈(34)의 사각 격자 배열에 의해 사각형을 단면을 갖는 사각 다중 레이저빔으로 형성된다. Referring again to FIG. 4, the
추가로, 광학유닛(30)은 배열렌즈(34) 바로 아래쪽에 배치되는 필터링 마스크(35)와 그 필터링 마스크(35)의 바로 아래쪽에 배치되는 조절렌즈(36)를 포함한다. 본 실시예에서, 필터링 마스크(35)는 패터닝에 필요 없는 레이저빔을 걸러내어 레이저빔의 집중성을 향상시키는 역할을 하며, 조절렌즈(36)는 필터링 마스크(35)를 통과한 다중 레이저빔들의 폭 및 간격을 조절하는 역할을 한다.In addition, the
도 9에 잘 도시된 바와 같이, 빔익스팬더를 거쳐 확대된 레이저빔(B2)은 배열렌즈(34)를 통과하여 다중의 사각 레이저빔(B4)들로 분할된다. 필터링 마스크(35)는 배열렌즈(34)의 바로 아래쪽에서 패터닝에 불필요한 레이저빔을 원천적으로 봉쇄시키는 작용을 한다. 특히, 상기 필터링 마스크(35)로는 디스플레이 기판 상에 원하는 패턴의 유기발광층을 형성하기 위해 도 8의 (a) 또는 도 8의 (b)에 도시된 것과 같은 필터링 마스크(35a, 35b)가 선택적으로 사용된다. 즉, 상기 필터링 마스크(35)는 빔익스팬더(32)에서 확대되는 레이저빔의 형태에 따라 그리고 기판 상에 형성될 유기발광층(5)의 패턴에 따라 라인형 필터링 마스크(35a)와 사각형 필터링 마스크(35b)가 선택적으로 사용될 수 있다. 특히, 라인형 필터링 마스크(35a)는 라인형의 필터링 구멍을 가져 일축 방향으로 확대된 레이저빔의 필터링에 적합하고 사각형 필터링 마스크(35b)는 대략 정사각형의 필터링 구멍을 가져 방사상으로 확대된 레이저빔의 필터링에 적합하다. 이때, 상기 필터링 마스크(35)는 레이저빔의 흡수 및 산란능력이 뛰어난 세라믹 혹은 테프론 등과 같은 물질로 제조되는 것이 바람직하다(도 8 참조)As shown in FIG. 9, the laser beam B2 enlarged through the beam expander passes through the
조절렌즈(36)는 필터링 마스크(35)의 바로 아래쪽에 배치되어 필터링 마스크(35)를 통과한 다중 레이저빔들 사이의 간격을 조절하는 역할을 한다. 이 때, 상기 조절렌즈(36)는 사용자에 의해 상하로 이동되어 레이저빔의 초점 간격을 조절할 수 있게 해준다. 상기 조절렌즈(36)는 라인형 필터링 마스크(35a)와 함께 라인패턴의 유기발광층 형성에 이용되는 경우 레이저빔의 폭을 한축 방향만으로 조절하는 원통형 볼록렌즈가 이용되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 조절렌즈(36)는 사각형 필터링 마스크(35b)와 함께 도트패턴의 유기발광층 형성에 이용되는 경우 x-y축 양축 방향으로 폭을 조절하기 위한 구형 볼록렌즈가 이용되는 것이 바람직하다.The adjusting
도 9에 잘 도시된 바와 같이, 조절렌즈(36)를 통과한 다수의 레이저빔들은 열전사필름(2) 상에 다수의 초점을 형성하도록 조사되며, 이는 열전사필름(2)의 하부에 코팅된 유기발광막(3)이 디스플레이 기판(4) 상에 전사되게 하여, 디스플레이 기판(4) 상에 도트형 또는 라인형 패턴의 유기발광층(5)이 형성되게끔 해준다.As shown in FIG. 9, a plurality of laser beams passing through the adjusting
다시 도 8을 참조로 하여, 본 실시예의 레이저 패터닝 장치가 유기발광층의 패터닝 형태를 조절하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 8 again, a method of adjusting the patterning pattern of the organic light emitting layer by the laser patterning apparatus of the present embodiment is as follows.
기판 상에 라인패턴(line pattern)의 유기발광층을 형성하기 위해서는, 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 원통형 렌즈(32a)를 갖는 빔익스팬더(32)가 레이저빔을 한축방향으로만 확대시켜 타원형의 레이저빔(B2)을 형성하고, 격자형 배열렌즈(34)가 타원형의 레이저빔(32a)을 다중 분할하고, 그 다중 분할된 레이저빔들이 라인형의 필터링마스크(15)에 통과되면서 불필요한 레이저빔이 걸러진다.In order to form a line pattern organic light emitting layer on the substrate, as shown in Fig. 8A, the
또한, 기판 상에 도트패턴(line pattern)의 유기발광층을 사각형으로 형성하기 위해서는, 도 8의 (b)와 같이, 구형 렌즈(32b)를 갖는 빔익스팬더(32)가 레이저빔을 전방위로 확대시켜 대략 원형인 레이저빔(B3)을 형성하고, 격자형 배열렌즈(34)가 원형의 레이저빔(B3)을 다중분할하고, 그 다중 분할된 레이저빔들이 사각형의 필터링마스크(15)에 통과되면서 불필요한 레이저빔이 걸러진다. Further, in order to form a rectangular organic light emitting layer of a line pattern on a substrate, as shown in FIG. 8B, the
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 레이저 패터닝 장치(1)는, 광섬유 케이블(20)을 이용하여 에너지 분포가 균일한 레이저빔을 얻고, 그 광섬유 케이블(20)을 통해 레이저빔을 전송받은 광학유닛(30)이 확대렌즈 또는 필터링 마스크 등을 교체하면서 다양한 패턴의 유기발광층을 디스플레이 기판 상에 신속하고 정밀하게 형성시킬 수 있다.As described above, the laser patterning apparatus 1 according to the present embodiment uses the
전술한 레이저 패터닝 장치를 이용하여 기판 표면에 레이저 발광층을 형성시키는 공정을 도 10을 참조로 하여 설명하면 다음과 같다.A process of forming a laser light emitting layer on a surface of a substrate using the above-described laser patterning apparatus will be described with reference to FIG. 10 as follows.
도 10에 도시된 바와 같이, 상기한 공정은, 레이저빔을 발생시키는 레이저빔 발생단계(S11)와, 그 레이저빔을 전반사 방식으로 전송하는 레이저빔 전송단계(S12)와, 전송된 레이저빔을 확대시키는 레이저빔 확대단계(S13)와, 확대된 레이저빔을 다수의 레이저빔으로 다중 분할시키는 레이저빔 분할단계(S14)와, 분할된 다수의 레이저빔을 이용하여 기판 표면에 유기발광층을 형성시키는 패터닝 단계(S16)를 포함한다.As shown in FIG. 10, the process includes a laser beam generation step S11 for generating a laser beam, a laser beam transmission step S12 for transmitting the laser beam in a total reflection method, and the transmitted laser beam. A laser beam expanding step (S13) for enlarging, a laser beam splitting step (S14) for multi-dividing the enlarged laser beam into a plurality of laser beams, and forming an organic light emitting layer on the surface of the substrate using the plurality of divided laser beams Patterning step S16.
이 때, 레이저빔 분할단계(S14)와 패터닝 단계(S16) 사이에는 분할된 다수의 레이저빔 중 불필요한 레이저빔을 제거하는 필터링 단계(S15)가 마련되는 것이 바람직하며, 이 필터링 단계(S15)에서는 필터링 마스크(35a 또는 35b; 도 8 참조)가 유기발광층의 패터닝에 불필요한 레이저빔들이 기판쪽으로 향하는 것을 차단 제거한다. 그리고, 상기 패터닝 단계(S16)에서는 다수의 레이저빔들의 간격 그리고 레이저빔들의 폭이 조절되는 것이 바람직하며, 이러한 조절은 필터링 마스크 아래쪽에 위치한 조절렌즈(36; 도 9 참조)에 의해 이루어지는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that a filtering step S15 for removing unnecessary laser beams among the plurality of divided laser beams is provided between the laser beam splitting step S14 and the patterning step S16. In this filtering step S15, The
한편, 레이저빔 확대단계(S13) 및 필터링 단계(S15)에서는 각각 확대렌즈(32a, 32b; 도 7 참조) 및 필터링 마스크(35a 35b; 도 8참조)가 이용되는데, 이러한 확대렌즈 및 필터링 마스크는 유기발광층의 패턴에 따라, 즉, 유기발광층의 패턴이 라인패턴인지 도트패턴인지에 따라 교체 사용될 수 있다.Meanwhile, in the laser beam expanding step S13 and the filtering step S15, the
특히, 상기 확대렌즈는 유기발광층의 라인패턴 형성을 위해서는 원통형 확대렌즈(32a)가 사용되며 유기발광층의 도트패턴 형성을 위해서는 구형 확대렌즈(32b)가 사용된다. 그리고, 상기 필터링 마스크는 확대렌즈로 원통형 확대렌즈(32a)가 사용될 때 사각 필터링 마스크(35a)가 이용되고 확대렌즈로 구형 확대렌즈(32b)가 사용될 때 라인형 필터링 마스크(35b)가 이용된다(도 7 및 도 8 참조).In particular, the magnification lens is a
이상에서는 본 발명이 특정 실시예를 중심으로 하여 설명되었지만, 본 발명의 취지 및 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 변형, 변경 또는 수정이 당해 기술분야에서 있을 수 있으며, 따라서, 전술한 설명 및 도면은 본 발명의 기술사상을 한정하는 것이 아닌 본 발명을 예시하는 것으로 해석되어져야 한다. While the invention has been described above with reference to specific embodiments, various modifications, changes or modifications may be made in the art within the spirit and scope of the appended claims, and thus, the foregoing description and drawings It should be construed as illustrating the present invention rather than limiting the technical spirit of the present invention.
본 발명에 따른 레이저 패터닝 장치는, 기존의 패터닝 장치와 비교하여, 다중 분할된 레이저빔의 조사에 의해 유기발광층을 디스플레이 기판 상에 신속하게 패터닝하는 것이 가능하며, 레이저빔의 전송수단으로 레이저빔의 전반사가 가능한 광섬유 케이블을 이용함으로써, 매우 균일한 에너지 분포의 레이저빔으로 정밀한 유기발광층의 패터닝이 가능하다는 효과를 갖는다.Laser patterning device according to the present invention, compared to the conventional patterning device, it is possible to quickly pattern the organic light emitting layer on the display substrate by the irradiation of a multi-segmented laser beam, the laser beam as a transmission means of the laser beam By using an optical fiber cable capable of total reflection, the organic light emitting layer can be patterned precisely with a laser beam having a very uniform energy distribution.
또한, 본 발명은 하나의 레이저 패터닝 장치를 이용하되, 단지 빔 확대렌즈와 필터링 마스크를 교체하는 것에 의해 라인 패턴 및 도트 패턴의 유기발광층을 손쉽게 구현할 수 있는 효과를 추가적으로 갖는다.In addition, the present invention additionally has the effect of easily implementing the organic light emitting layer of the line pattern and the dot pattern by using only one laser patterning device, but only by replacing the beam magnifying lens and the filtering mask.
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050037374A KR100669080B1 (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Laser patterning apparatus for manufacturing oled display |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050037374A KR100669080B1 (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Laser patterning apparatus for manufacturing oled display |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060115070A KR20060115070A (en) | 2006-11-08 |
KR100669080B1 true KR100669080B1 (en) | 2007-01-15 |
Family
ID=37652601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050037374A KR100669080B1 (en) | 2005-05-04 | 2005-05-04 | Laser patterning apparatus for manufacturing oled display |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100669080B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100924280B1 (en) | 2008-09-24 | 2009-10-30 | 위아코퍼레이션 주식회사 | A wide-area laser patterning system |
WO2010079889A2 (en) * | 2009-01-08 | 2010-07-15 | 주식회사 아이엠티 | Method for etching molding compound of led and etching pattern according to the same |
WO2017122865A1 (en) * | 2016-01-13 | 2017-07-20 | 최병찬 | Laser optical device and head |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100864062B1 (en) * | 2008-02-22 | 2008-10-16 | 한국철강 주식회사 | A device to pattern solar cell module |
KR20120044020A (en) | 2010-10-27 | 2012-05-07 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Organic light emitting display apparatus and method of manufacturing thereof |
KR102015845B1 (en) * | 2012-11-26 | 2019-08-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | Laser irradiation device and fabrication method for organic light emitting diodes using the same |
KR101993337B1 (en) * | 2012-12-20 | 2019-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | Laser Thermal Transfer Apparatus And Method Of Fabricating Organic Material Pattern Using The Same |
KR102103247B1 (en) | 2012-12-21 | 2020-04-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | Deposition apparatus |
KR20150051479A (en) | 2013-11-04 | 2015-05-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | Display apparatus and a method for preparing the same |
KR102354386B1 (en) | 2015-04-07 | 2022-01-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | Evaporation device for organic light emitting display apparatus and the evaporating method using the same |
JP7123652B2 (en) * | 2018-06-20 | 2022-08-23 | 株式会社ディスコ | Laser processing equipment |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960017162A (en) * | 1994-11-17 | 1996-06-17 | 김광호 | Laser printing apparatus and method |
-
2005
- 2005-05-04 KR KR1020050037374A patent/KR100669080B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960017162A (en) * | 1994-11-17 | 1996-06-17 | 김광호 | Laser printing apparatus and method |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100924280B1 (en) | 2008-09-24 | 2009-10-30 | 위아코퍼레이션 주식회사 | A wide-area laser patterning system |
WO2010079889A2 (en) * | 2009-01-08 | 2010-07-15 | 주식회사 아이엠티 | Method for etching molding compound of led and etching pattern according to the same |
WO2010079889A3 (en) * | 2009-01-08 | 2010-09-02 | 주식회사 아이엠티 | Method for etching molding compound of led and etching pattern according to the same |
WO2017122865A1 (en) * | 2016-01-13 | 2017-07-20 | 최병찬 | Laser optical device and head |
KR101857544B1 (en) * | 2016-01-13 | 2018-05-15 | 최병찬 | Laser optical device and head |
US11169385B2 (en) | 2016-01-13 | 2021-11-09 | Laservall Asia Co., Ltd. | Laser optical device and head |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20060115070A (en) | 2006-11-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100669080B1 (en) | Laser patterning apparatus for manufacturing oled display | |
US11820119B2 (en) | Laser lift off systems and methods that overlap irradiation zones to provide multiple pulses of laser irradiation per location at an interface between layers to be separated | |
KR100659478B1 (en) | Laser processing method and processing device | |
US7880117B2 (en) | Method and apparatus of drilling high density submicron cavities using parallel laser beams | |
EP4017665A1 (en) | Method and system for ultrafast laser-based material removal, figuring and polishing | |
US20110147620A1 (en) | Laser patterning using a structured optical element and focused beam | |
JP5536319B2 (en) | Laser scribing method and apparatus | |
JP2005136218A (en) | Method for activating impurity, and laser irradiation equipment | |
US11482826B2 (en) | Optical processing apparatus, optical processing method, and optically-processed product production method | |
US7005605B2 (en) | Laser irradiation apparatus and method | |
JP2015510581A (en) | Method for producing patterned X-ray optical element | |
JP2009534820A (en) | Large substrate laser annealing apparatus and large substrate laser annealing method | |
JP2007029952A (en) | Laser beam machining apparatus, and laser beam machining method | |
TWI546147B (en) | Apparatus for irradiating semiconductor material and use thereof | |
CN115453767A (en) | Point-ring distributed laser optical system and using method | |
JP2009056467A (en) | Apparatus and method for laser beam machining | |
WO2015098388A1 (en) | Processing device | |
JP2006110587A (en) | Laser interference machining method and device | |
TW202135965A (en) | Laser processing device and method for laser-processing a workpiece | |
US8585390B2 (en) | Mold making system and mold making method | |
JP6810951B2 (en) | Laser processing method and laser processing equipment for brittle material substrates | |
JP2007288219A (en) | Laser irradiation device | |
JP2008211177A (en) | Optical processing at selective depth | |
JP2003088966A5 (en) | Laser marking apparatus and two-dimensional code printing method | |
JP4395110B2 (en) | Marking method for transparent material and apparatus using the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130104 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131224 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141219 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151113 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161206 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171211 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181206 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200103 Year of fee payment: 14 |