KR100660300B1 - 반도체칩 제조용 디스펜싱 방법 및 그 디스펜서 장치 - Google Patents
반도체칩 제조용 디스펜싱 방법 및 그 디스펜서 장치 Download PDFInfo
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- 적층 구비된 압전소자에 전압을 공급하거나 그 공급 전압을 낮추는 것에 의해 압전소자의 변위를 늘리거나 복귀시켜 로드가 승하강하면서 용액을 펌핑하여 노즐을 통해 토출 공급하는 펌핑작동과, 상기 로드가 승하강하면서 노즐을 개폐하여 용액의 공급을 차단하는 밸브작동을 행하면서 반도체칩의 봉합을 위한 용액을 디스펜싱함에 있어서,상기 압전소자를 구획되게 적층하여 하부의 압전소자에 의한 로드의 승하강 펌핑작동시 발생되는 반발력을 역으로 상부의 압전소자에 의해 검지하여 다시 하부의 압전소자에 의한 로드의 승하강 펌핑작동을 보정하도록 제어하는 센싱작동을 더 행하도록 한 것을 특징으로 하는 반도체칩 제조용 디스펜싱 방법.
- 삭제
- 베이스(20)내부의 지지판(60)상에 적층 설치된 압전소자(100)의 변위에 의해 하부의 로드(70)가 탄발스프링(65)을 탄발 압축하며 승하강 작동하면서 실린지용기(9)에서 펌핑하우징(10)의 용액충진공(12)으로 공급되는 용액을 하부의 노즐(13)로 토출하는 펌핑작동으로 반도체칩의 봉합을 행하도록 함과 함께 노즐(13)을 개폐작동하는 것에 있어서,상기 압전소자(100)는 메인 압전소자(30)와 그 상부에 절연체(50)에 의해 구획되게 적층된 보조 압전소자(40)로 구비하되, 상기 보조 압전소자(40)는 전압에 의해 변위를 발생하거나 로드(70)의 용액 펌핑작동에 대한 반발력을 감지하는 제1보조 압전소자(41)와, 그 외측으로 상기 제1보조 압전소자(41)의 반발력에 대응된 전압으로 변위를 발생하여 다시 로드(70)의 용액 펌핑작동을 보정하는 제2보조 압전소자(42)로 구성하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체칩 제조용 디스펜서 장치.
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- 제4항에 있어서,상기 제2보조 압전소자(42)는 제1보조 압전소자(41)의 외측으로 균일한 변위를 발생하도록 링 형태로 구성하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체칩 제조용 디스펜서 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050013217A KR100660300B1 (ko) | 2005-02-17 | 2005-02-17 | 반도체칩 제조용 디스펜싱 방법 및 그 디스펜서 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050013217A KR100660300B1 (ko) | 2005-02-17 | 2005-02-17 | 반도체칩 제조용 디스펜싱 방법 및 그 디스펜서 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060092440A KR20060092440A (ko) | 2006-08-23 |
KR100660300B1 true KR100660300B1 (ko) | 2006-12-21 |
Family
ID=37593837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050013217A KR100660300B1 (ko) | 2005-02-17 | 2005-02-17 | 반도체칩 제조용 디스펜싱 방법 및 그 디스펜서 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100660300B1 (ko) |
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- 2005-02-17 KR KR1020050013217A patent/KR100660300B1/ko active IP Right Grant
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---|---|
KR20060092440A (ko) | 2006-08-23 |
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