KR100653780B1 - Plasma Display Panel and Method Of Manufacturing The Same - Google Patents

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KR100653780B1 KR1020050025553A KR20050025553A KR100653780B1 KR 100653780 B1 KR100653780 B1 KR 100653780B1 KR 1020050025553 A KR1020050025553 A KR 1020050025553A KR 20050025553 A KR20050025553 A KR 20050025553A KR 100653780 B1 KR100653780 B1 KR 100653780B1
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Abstract

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 다수의 홀이 형성된 복수의 투명전극이 구비된 전면패널과, 상기 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 격벽에 홈이 형성된 배면패널을 포함하여 구성되고, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 배면유리기판상에 어드레스 전극과 유전체층을 순차적으로 형성하는 제 1 단계와, 상기 유전체층 상부에 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 부위에 홈이 구비된 격벽을 형성하는 제 2 단계와, 상기 격벽에 형광체를 도포하는 제 3 단계를 포함하여 이루어져, 전면패널에 구비된 일정 홀 패턴이 구비된 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 배면패널의 격벽의 커패시턴스를 낮추어 무효전력을 감소시키고 또한 상기 격벽상측에 형성된 홈을 통하여 패널 내부의 가스나 불순물의 배기성이 향상되는 효과가 있다. According to the present invention, a plasma display panel includes a front panel including a plurality of transparent electrodes having a plurality of holes, and a rear panel having grooves formed in a partition wall corresponding to a bridge position of the transparent electrode. A method of manufacturing a plasma display panel includes a first step of sequentially forming an address electrode and a dielectric layer on a rear glass substrate, and a second step of forming a barrier rib having grooves in a portion corresponding to a bridge position of a transparent electrode on the dielectric layer. And a third step of applying a phosphor to the partition wall to reduce reactive power by lowering capacitance of the partition wall of the rear panel corresponding to the bridge position of the transparent electrode with the predetermined hole pattern provided on the front panel. Through the groove formed on the partition wall side, the exhaustability of gas or impurities in the panel is improved. It works.

PDP, 격벽, ITO, 홈 PDP, bulkhead, ITO, home

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법{Plasma Display Panel and Method Of Manufacturing The Same} Plasma Display Panel and Method of Manufacturing The Same

도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조가 도시된 도,1 is a view showing the structure of a conventional plasma display panel;

도 2는 종래의 투명전극과 배면기판에 형성된 격벽의 모습이 도시된 도,Figure 2 is a view showing a state of the partition formed on the conventional transparent electrode and the back substrate,

도 3은 본 발명에 따른 투명전극과 홈이 형성된 격벽의 모습이 도시된 도,3 is a view showing a state of the partition formed with the transparent electrode and the groove according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 투명전극과 격벽의 모습을 패널 전면에서 바라본 모습이 도시된 도,4 is a view showing a state of the transparent electrode and the partition wall viewed from the front of the panel according to the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 홈이 형성된 격벽을 샌드 블래스트 공법으로 제조하는 방법이 도시된 순서도,5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a grooved partition wall according to the present invention by a sand blasting method;

도 6은 본 발명에 따른 홈이 형성된 격벽을 스크린 인쇄법으로 형성하는 과정이 도시된 도,6 is a view illustrating a process of forming a grooved partition wall by the screen printing method according to the present invention;

도 7은 본 발명에 따른 홈이 형성된 격벽을 스크린 인쇄법으로 제조하는 방법이 도시된 순서도이다. 7 is a flowchart illustrating a method of manufacturing the grooved partition wall by the screen printing method according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명><Explanation of symbols on main parts of the drawings>

110,120: 투명전극 111,121: 버스전극110,120: transparent electrode 111,121: bus electrode

130: 투명전극에 형성된 홀130: a hole formed in the transparent electrode

140: 브릿지140: the bridge

220: 격벽 240: 형광체220: partition 240: phosphor

300: 격벽에 형성된 홈300: groove formed in the partition wall

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 발명으로, 특히 투명전극에는 일정 패턴의 홀 및 브릿지가 형성되어 있고, 상기 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 배면패널의 격벽상측에 일정형상의 홈이 형성되어 격벽의 커패시턴스를 낮추어 무효전력의 소비를 감소시키고 배기성이 향상된 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 발명이다. The present invention relates to a plasma display panel and a method of manufacturing the same. Particularly, the transparent electrode is provided with holes and bridges having a predetermined pattern, and a groove having a predetermined shape is formed on the partition wall side of the rear panel corresponding to the bridge position of the transparent electrode. The present invention relates to a plasma display panel and a method for manufacturing the same, which are formed to reduce the capacitance of the partition wall, thereby reducing the consumption of reactive power and improving the exhaust performance.

종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 일반적인 구조 및 동작을 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.A general structure and operation of a conventional plasma display panel will be described with reference to FIG. 1.

플라즈마 디스플레이 패널은 서로 대향하는 2장의 유리 기판 사이에 네온(Ne), 헬륨(He), 제논(Xe) 등의 불활성 가스가 방전시 발생되는 진공 자외선이 형광체를 여기시키는 발광 현상을 이용하는 기체 방전 디스플레이 소자이다. The plasma display panel uses a gas discharge display that uses a luminescence phenomenon in which vacuum ultraviolet rays generated when an inert gas such as neon (Ne), helium (He), or xenon (Xe) are discharged between two glass substrates facing each other excite the phosphor. Element.

일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조는 도 1 에 도시된 바와 같이, 상 기 전면패널기판(10)은 배면패널기판(20)과 대향하여 스트라이프형으로 배열 형성되는 복수개의 스캔전극(11a,11b) 및 공통전극(12a,12b)과, 상기 스캔전극 및 공통전극을 덮도록 적층되어 방전시 방전 전류를 제한하고 벽전하 생성을 용이하게 하는 제 1 유전체층(13)과, 상기 제 1 유전체층을 보호하기 위한 유전체 보호층(14)으로 이루어진다. 이 경우 상기 유전체 보호층은 MgO로 이루어진다.As shown in FIG. 1, the structure of a general plasma display panel includes a plurality of scan electrodes 11a and 11b formed in a stripe shape and face the rear panel substrate 20. An electrode 12a and 12b, a first dielectric layer 13 stacked to cover the scan electrode and the common electrode to limit discharge current during discharge and to easily generate wall charges, and a dielectric for protecting the first dielectric layer The protective layer 14 is formed. In this case, the dielectric protective layer is made of MgO.

상기 스캔전극 및 공통전극은 투명전극(11a,12a) 과 버스전극(11b,12b)으로 이루어지고 상기 버스전극(11b,12b)은 상기 투명전극(11a,12a)의 전기적 저항을 줄여 방전전압을 낮추는 역할을 하고, 상기 제 1유전체층(13)은 방전시 상기 투명전극과 버스전극을 보호하고 벽전하(wall charge)를 축적한다.The scan electrode and the common electrode are formed of the transparent electrodes 11a and 12a and the bus electrodes 11b and 12b, and the bus electrodes 11b and 12b reduce the electrical resistance of the transparent electrodes 11a and 12a to reduce the discharge voltage. The first dielectric layer 13 protects the transparent electrode and the bus electrode during discharge and accumulates wall charges.

또한 상기 배면패널기판(20)은 상기 전면패널기판의 상기 스캔전극(11a,11b) 및 공통전극(12a,12b)과 직교하도록 스트라이프형으로 배열되어 상기 스캔 및 공통 전극과 함께 전체 화면을 복수개의 셀로 구분하는 복수개의 어드레스 전극(21)과, 상기 배면 패널 기판의 전면에 도포되어 상기 어드레스 전극을 보호하고 전기적인 절연을 수행하기 위한 제 2 유전체층(23)과, 상기 제 2 유전체층 상에 스트라이프 형태로 배열 형성되어 방전 공간을 형성하는 격벽(22)과, 상기 격벽에 의해 형성된 방전 공간 내부에 인쇄, 도포되어 각 셀의 방전시 자외선에 의해 여기되어 가시광을 방출하는 형광체(24)으로 이루어진다.In addition, the rear panel substrate 20 is arranged in a stripe shape so as to be orthogonal to the scan electrodes 11a and 11b and the common electrodes 12a and 12b of the front panel substrate. A plurality of address electrodes 21 divided into cells, a second dielectric layer 23 applied to the front surface of the back panel substrate to protect the address electrodes and to perform electrical insulation; and a stripe shape on the second dielectric layer. And a partition wall 22 which is formed to form a discharge space, and a phosphor 24 which is printed and applied inside the discharge space formed by the partition wall and is excited by ultraviolet rays during discharge of each cell to emit visible light.

상기 어드레스 전극(21)은 데이터가 공급되면, 상기 스캔전극(11a,11b)과 대향방전을 하게되어 방전셀을 선택한다. 방전셀이 선택되면, 상기 투명전극간에 교류전압이 인가되여 방전을 일으켜 플라즈마를 발생시키고, 상기 플라즈마로부터 방 출된 자외선이 형광체(24)를 여기, 발광시킨다.When data is supplied to the address electrode 21, the address electrodes 21 are discharged to face the scan electrodes 11a and 11b to select discharge cells. When the discharge cell is selected, an alternating voltage is applied between the transparent electrodes to generate a discharge to generate a plasma, and the ultraviolet rays emitted from the plasma excite and emit the phosphor 24.

도 2 는 종래의 투명전극과 격벽이 도시된 사시도인데, 상기 투명전극(110,120)은 ITO(Indium Tin Oxide)라고 부르는 미량의 산화주석(SnO2)과 산화인듐(In2O3)으로 구성된 막과 NESA라 불리는 SnO2막이 있는데 전면유리기판위에 Sputter법과 화학증착법으로 성막된다. 상기 투명전극은 전면패널에 형성되어 있으며, 스캔전극과 공통전극이 하나의 셀을 담당하고 있다. 상기 스캔전극 및 공통전극은 각각 광투과율이 높은 투명전극(110,120)과 전류의 전도성이 높고 저항이 낮은 금속성질의 버스전극(111,121)으로 이루어져 있다. 상기 투명전극은 얇은 시트형의 전극으로 재질인 ITO(Indium Tin Oxide)는 우수한 도전성및 광투과율을 가지나 상기 투명전극처럼 시트타입의 형태를 가지는 경우 시트저항치가 크기 때문에 이를 보상하기 위해 도전성이 높은 금속전극인 버스전극이 결합되어 하나의 스캔전극 또는 공통전극을 형성하고 있다. 그러나, 상기 버스전극은 불투명하여 발광된 빛을 차단하여 휘도를 저하시키게 된다. 따라서 투명전극의 광투과율을 보다 높이기 위해 상기 투명전극에는 일정 패턴의 홀이 형성되어 직접 빛이 투과하도록 구성되고 있다. 이 경우 광 투과율은 높아지나 상기 홀패턴(130)에 의해 홀 패턴의 가장자리 부근, 즉 브릿지(140) 부분에는 전류가 통과하는 패쓰가 좁아져 전력소모가 많아지는 문제점이 있다.2 is a perspective view illustrating a conventional transparent electrode and a partition wall, wherein the transparent electrodes 110 and 120 are formed of a trace amount of tin oxide (SnO 2 ) and indium oxide (In 2 O 3 ) called indium tin oxide (ITO). And SnO 2 membranes called NESA are formed on the front glass substrate by sputtering and chemical vapor deposition. The transparent electrode is formed on the front panel, and the scan electrode and the common electrode are in charge of one cell. The scan electrode and the common electrode each include a transparent electrode 110 and 120 having a high light transmittance and bus electrodes 111 and 121 having a high conductivity and low resistance. The transparent electrode is a thin sheet-shaped electrode, which is made of indium tin oxide (ITO), which has excellent conductivity and light transmittance, but has a high sheet resistance when it has a sheet type like the transparent electrode. In bus electrodes are combined to form a scan electrode or a common electrode. However, the bus electrode is opaque to block the light emitted to lower the brightness. Therefore, in order to further increase the light transmittance of the transparent electrode, a predetermined pattern of holes is formed in the transparent electrode so that light is directly transmitted. In this case, the light transmittance is increased, but the path through which the current passes is narrowed near the edge of the hole pattern, that is, the bridge 140 by the hole pattern 130, thereby increasing power consumption.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 투명전극의 브릿지 부분에 대응하는 격벽상측에 홈을 형성하여 브릿지 하부에 위치하는 격벽의 커패시턴스를 낮추이루어지전력을 감소시켜 전체 전력의 소모가 낮은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, by forming a groove on the partition wall corresponding to the bridge portion of the transparent electrode to reduce the capacitance of the partition wall located below the bridge to reduce the power to the total power It is an object of the present invention to provide a plasma display panel with low consumption and a method of manufacturing the same.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 다수의 홀이 형성된 복수의 투명전극이 구비된 전면패널과, 상기 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 격벽에 홈이 형성된 배면패널을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.Plasma display panel according to the present invention for solving the above problems includes a front panel provided with a plurality of transparent electrodes having a plurality of holes, and a back panel formed with grooves in the partition wall corresponding to the bridge position of the transparent electrode It is characterized in that the configuration.

또한, 상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법은 배면유리기판상에 어드레스 전극과 유전체층을 순차적으로 형성하는 제 1 단계와, 상기 유전체층 상부에 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 부위에 홈이 구비된 격벽을 형성하는 제 2 단계와, 상기 격벽에 형광체를 도포하는 제 3 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the plasma display panel manufacturing method according to the present invention for solving the above problems is a first step of sequentially forming an address electrode and a dielectric layer on the back glass substrate, and a portion corresponding to the bridge position of the transparent electrode on the dielectric layer And a third step of forming a barrier rib provided with a groove, and a third step of applying a phosphor to the barrier rib.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3 은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조가 도시된 사시도이다. 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면기판에는 일정 홀 패턴이 형성된 투명전극(110,120)과 상기 투명전극의 저항을 개선하기 위한 버스전극 (11,121)이 평행하게 형성되어 있다. 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판에는 상기 투명전극과 수직한 방향으로 격벽(220)이 형성되어 있다. 상기 전면기판과 배면기판을 합착시키면 상기 투명전극의 홀(130) 중앙 부위를 상기 격벽(220)이 상기 투명전극과 수직하게 가로지르도록 위치된다. 도 4는 이러한 투명전극(110,120)과 격벽(220)의 배치를 홀(130) 및 브릿지(140)의 위치와 함께 패널의 전면에서 본 모습이 도시되어 있다. 3 is a perspective view showing the structure of a plasma display panel according to the present invention. On the front substrate of the plasma display panel according to the present invention, transparent electrodes 110 and 120 having a predetermined hole pattern and bus electrodes 11 and 121 for improving resistance of the transparent electrodes are formed in parallel. A partition wall 220 is formed on the rear substrate of the plasma display panel in a direction perpendicular to the transparent electrode. When the front substrate and the rear substrate are bonded together, the partition wall 220 is positioned to cross the center of the hole 130 of the transparent electrode perpendicularly to the transparent electrode. FIG. 4 shows the arrangement of the transparent electrodes 110 and 120 and the partition wall 220 as viewed from the front of the panel together with the positions of the holes 130 and the bridge 140.

상기 투명전극의 홀 가장자리 부근의 좁은 부분인 브릿지 부분(140)에는 상기 투명전극을 흐르는 전류가 좁은 패스(path)를 지남으로 인해 저항으로 인한 전력의 소모가 많아진다.The bridge portion 140, which is a narrow portion near the hole edge of the transparent electrode, consumes power due to resistance because the current flowing through the transparent electrode passes through a narrow path.

따라서, 본 발명은 상기 투명전극의 브릿지부분(140)에 대응하는 배면기판의 격벽상측에 일정한 형상의 홈(300)을 형성하여 상기 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 격벽의 높이를 줄여 전체 격벽의 커패시턴스를 낮추도록 구성된다.Accordingly, the present invention forms a groove 300 having a predetermined shape on the partition wall side of the rear substrate corresponding to the bridge portion 140 of the transparent electrode to reduce the height of the partition wall corresponding to the bridge position of the transparent electrode to reduce the height of the entire partition wall. Configured to lower capacitance.

이렇게 해당 격벽의 높이를 줄이면 브릿지 하부의 커패시턴스가 낮아져 무효전력의 소모가 낮아진다. 그와 동시에 플라즈마 디스플레이 패널내부에 상기 홈(300)으로 인해 생긴 공간으로 가스의 배기가 원활하게 이루어짐으로 인해 배기성도 함께 향상된다. Reducing the height of the bulkhead in this way lowers the capacitance under the bridge, thereby reducing the consumption of reactive power. At the same time, since the gas is smoothly exhausted into the space created by the groove 300 inside the plasma display panel, the exhaust performance is also improved.

상기 브릿지(140) 위치에 대응하는 격벽상측에 형성되는 홈(300)의 폭은 상기 브릿지의 폭보다 같거나 더 넓도록 형성된다. 바람직하게는 상기 브릿지의 폭보다는 넓게 형성되는 것이 브릿지 하부의 격벽으로 인한 커패시턴스를 낮추는데 보다 효과적이다.The width of the groove 300 formed on the partition wall corresponding to the bridge 140 position is formed to be equal to or wider than the width of the bridge. Preferably, forming a wider than the width of the bridge is more effective in lowering the capacitance caused by the partition wall below the bridge.

상기 격벽상측에 형성되는 홈의 깊이는 상기 격벽 형성후 도포되는 형광체(240)를 고려하여 결정되어야 한다. 격벽의 홈이 깊게 형성되어 브릿지 하부의 격벽 높이가 낮을수록 격벽의 커패시턴스는 낮아져 전력소모는 더 줄어들겠지만, 상기 홈이 너무 깊은 경우에 격벽 형성 후에 도포되는 형광체(240)가 상기 홈을 넘어서 인접셀로 유입될 수 있다. 또한 방전에 의해 발생하는 자외선이 격벽의 홈을 넘어 인접셀의 형광체를 발광시킬수 있어 화질의 저하가 발생할 수 있다. The depth of the groove formed on the partition wall side should be determined in consideration of the phosphor 240 applied after the partition wall is formed. As the grooves of the barrier ribs are deeply formed and the height of the barrier ribs under the bridge is lower, the capacitance of the barrier ribs is lowered, thereby reducing the power consumption. Can be introduced into. In addition, the ultraviolet rays generated by the discharge may cause the phosphors of adjacent cells to emit light beyond the grooves of the partition walls, which may cause deterioration in image quality.

따라서 격벽의 커패시턴스 및 화질저하, 인접셀로의 형광체 유입여부등을 모두 고려하여 적절한 범위 내에서 홈이 결정되도록 하여야 한다. 본 발명에서는 바람직하게 상기 홈의 깊이는 격벽높이의 50%이하인 것을 특징으로 한다. 만약 50%보다 더 깊어질 경우 형광체 도포시 인접셀로 형광체의 침투가 발생하거나 화질저하가 현저하게 발생할 수 있다.Therefore, the grooves should be determined within the appropriate range in consideration of the capacitance of the barrier ribs and the deterioration of image quality and the inflow of phosphors into adjacent cells. In the present invention, the depth of the groove is preferably 50% or less of the height of the partition wall. If deeper than 50%, the phosphor may penetrate into adjacent cells when the phosphor is applied, or the image quality may deteriorate remarkably.

상기와 같이 구성된 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the manufacturing method of the plasma display panel of the present invention configured as described above are as follows.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 전면패널에 구비된 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 배면패널의 격벽상측에 복수의 홈을 형성하도록 이루어진다.In the method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention, a plurality of grooves are formed on a partition wall side of a rear panel corresponding to a bridge position of a transparent electrode provided on a front panel.

먼저 배면유리기판위에 어드레스 전극을 형성한다. 상기 어드레스 전극은 패턴 인쇄법이나 포토 페이스트법 또는 포토 에칭법을 사용하여 형성할 수 있다.First, an address electrode is formed on the back glass substrate. The address electrode can be formed using a pattern printing method, a photo paste method or a photo etching method.

배면유리기판위에 어드레스 전극을 형성한 후에 그 상부에 유전체층을 형성한다. 유전체층을 형성한 후에 격벽을 형성하게 된다.After forming an address electrode on the back glass substrate, a dielectric layer is formed over the address electrode. After the dielectric layer is formed, the partition wall is formed.

상기 격벽을 형성하는 경우에 전면기판에 형성된 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 격벽을 상측에 홈이 형성되도록 하여야 한다. In the case of forming the barrier rib, a groove corresponding to the bridge position of the transparent electrode formed on the front substrate should be formed at the upper side thereof.

격벽의 상측에 홈을 형성하는 방법은 여러 가지가 있으나 대표적으로 두가지를 설명하겠다. 먼저 격벽을 형성하고 나서 다시 홈을 형성하는 방법으로 샌드 블래스트 공법을 사용할 수 있다. 이 경우 샌드 블래스트 공법뿐 아니라 스크린 인쇄법 또는 리프트 오프 공법(Lift-Off)등을 사용해서 1차적으로 먼저 격벽전체를 형성한후에 샌드블래스트 공법을 이용하여 홈을 형성하도록 구성될 수 있다.There are many ways to form a groove on the upper side of the partition wall, but two examples will be explained. The sand blasting method can be used to form the partition walls first and then the grooves again. In this case, not only the sand blast method but also a screen printing method or a lift-off method (Lift-Off) may be configured to form a groove by using the sand blast method after first forming the entire partition wall first.

전체 공정상의 설비를 줄이기 위해 격벽과 홈을 모두 샌드 블래스트 공법으로 형성하는 것이 보다 경제적이다. 도 5는 샌드 블래스트 공법을 사용하여 본 발명에 따른 격벽에 홈이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법이 도시된 순서도인데, 이를 참조하여 설명하면 먼저 상술한 바와 같이 배면기판에 전극을 형성하고(S1) 상기 전극을 덮도록 유전체층을 형성한다(S2). 다음으로 상기 유전체층 상에 격벽 페이스트의 건조막을 형성한다(S3). 그 후 건조막의 표면에 드라이 필름 레지스트(DFR)을 라미네이트한 후에 상기 드라이 필름 레지스트를 노광,현상한다(S4). 드라이 필름 레지스트 패턴을 마스크로써 샌드 블래스트하여 페이스트 건조막을 절삭한다(S5). 격벽 페이스트 건조막의 절삭에 의해 전체적인 격벽이 먼저 형성된다(S6). It is more economical to form both bulkheads and grooves by sandblasting to reduce the overall process equipment. FIG. 5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a plasma display panel in which a groove is formed in a partition wall according to the present invention by using a sand blasting method. A dielectric layer is formed to cover the electrode (S2). Next, a dry film of a barrier paste is formed on the dielectric layer (S3). Thereafter, after drying the dry film resist (DFR) on the surface of the dry film, the dry film resist is exposed and developed (S4). The paste dry film is cut by sand blasting the dry film resist pattern using a mask (S5). The entire partition is first formed by cutting the partition paste dry film (S6).

그 후 드라이 필름 레지스트를 제거하고 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 마스크를 이용하여 다시 드라이 필름 레지스트를 라미네이트 한 후에 상기 드라이 필름 레지스트를 노광, 현상한다(S7). 그 후에 샌드 블래스트하여 페이스트 건조막 중 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 홈을 격벽에 형성한다(S8,S9). 그 후 최종적으로 드라이 필름 레지스트를 제거하고 소성하여 홈이 형성된 격벽을 완성하게 된다.Thereafter, the dry film resist is removed and the dry film resist is further laminated using a mask corresponding to the bridge position of the transparent electrode, and then the dry film resist is exposed and developed (S7). Thereafter, sand blasting is carried out to form grooves in the partition walls corresponding to the bridge positions of the transparent electrodes in the paste dry film (S8, S9). Thereafter, the dry film resist is finally removed and calcined to complete the grooved partition wall.

또 다른 하나의 실시예는 격벽을 형성하는 과정에서 격벽 상측에 홈이 형성되도록 하는 방법으로 스크린 인쇄법에 의해 격벽과 홈을 동시에 형성하는 방법으로 도 6과 도 7을 참조하여 설명하겠다. 스크린 인쇄법은 스크린 마스크에 의해 인쇄를 반복하여 원하는 높이의 격벽을 형성하는 방법으로 배면기판에 형성된 유전체층 상부에 격벽 페이스트를 스크린 마스크 및 스퀴지를 이용하여 1차적으로 인쇄하고 이를 10~15회 반복하여 순차적으로 격벽페이스트를 적층시켜 원하는 높이의 격벽을 형성하는 방법이다. 이 경우 두가지 형태의 마스크가 필요하다. 첫 번째 마스크는 일반적으로 격벽을 형성하는 것과 동일한 형태의 전체 격벽모양을 고려한 패턴이 형성된 마스크이고 두 번째 마스크는 일정 높이 이상부터는 상기 격벽에 구비되는 홈을 고려한 패턴이 형성된 마스크이다. Another embodiment will be described with reference to FIGS. 6 and 7 as a method of simultaneously forming a partition and a groove by a screen printing method in which a groove is formed on an upper side of the partition in the process of forming the partition. The screen printing method is to repeat the printing by the screen mask to form the partition wall having a desired height. The partition paste is first printed on the dielectric layer formed on the rear substrate by using the screen mask and the squeegee and repeated 10 to 15 times. A method of forming a partition wall having a desired height by sequentially stacking partition pastes. In this case, two types of masks are required. The first mask is a mask in which a pattern considering the overall partition shape having the same shape as that of forming a partition is generally formed, and the second mask is a mask in which a pattern considering a groove provided in the partition is formed from a predetermined height or more.

따라서 일정 높이까지 즉, 격벽에 형성될 홈의 깊이(Y)를 남겨둔 높이까지는 첫 번째 마스크를 이용하여 반복적으로 격벽 페이스트를 인쇄(S12,S13)하여 일정한 높이의 격벽 하부를 형성(S14)한다. 그 후에 상기 격벽상측에 형성될 홈의 깊이(Y)부터는 상기 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 부분에 홈이 형성될 것이 고려된 두 번째 마스크를 이용하여 나머지 격벽 높이 까지 반복하여 격벽 페이스트를 인쇄하여 격벽을 형성한다(S15,S16). 격벽 페이스트 인쇄가 완료되면 소성하여 격벽을 완성한다(S17).Therefore, the barrier rib paste is repeatedly printed (S12 and S13) by using the first mask to a predetermined height, that is, to a height that leaves the depth Y of the groove to be formed in the barrier rib (S14). After that, from the depth Y of the groove to be formed on the partition side, the partition paste is repeatedly printed to the remaining partition height by using a second mask in which the groove is to be formed in the portion corresponding to the bridge position of the transparent electrode. A partition wall is formed (S15, S16). When the partition paste printing is completed, it is fired to complete the partition (S17).

상기 격벽에 형성되는 홈의 폭(X)은 투명전극의 브릿지의 폭과 같거나 조금 더 넓도록 형성될 수 있다. 투명전극과 투명전극간의 거리, 브릿지와 브릿지 사이의 거리, 투명전극에 형성된 홀의 크기 등을 고려하여 적절하게 결정할 수 있다. 기본적으로는 브릿지 폭의 100%~200% 사이의 폭을 가질 수 있으며, 각 투명전극의 패턴형상에 따라 적절하게 조절 될 수 있다. 또한, 격벽에 형성되는 홈의 깊이(Y)는 격벽 최상부로부터 격벽 높이의 50% 이내가 될 수 있게 이루어지도록 한다.The width X of the groove formed in the partition wall may be formed to be equal to or slightly wider than the width of the bridge of the transparent electrode. The distance between the transparent electrode and the transparent electrode, the distance between the bridge and the bridge, the size of the hole formed in the transparent electrode, and the like can be appropriately determined. Basically, it may have a width between 100% and 200% of the bridge width, and may be appropriately adjusted according to the pattern shape of each transparent electrode. In addition, the depth (Y) of the groove formed in the partition wall is made to be within 50% of the height of the partition wall from the top of the partition wall.

이상과 같이 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 예시된 도면을 참조로 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명은 한정되지 않고, 기술사상이 보호되는 범위 이내에서 응용될 수 있다. As described above, the plasma display panel and the method of manufacturing the same according to the present invention have been described with reference to the illustrated drawings. Can be.

상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법은 전면패널에 구비된 일정 홀 패턴이 구비된 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 배면패널의 격벽상측에 일정 형상의 홈을 형성하여 브릿지 하부의 격벽의 커패시턴스를 낮추어 무효전력을 감소시키고 또한 상기 격벽상측에 형성된 홈을 통하여 패널 내부의 가스나 불순물의 배기성이 향상되는 효과가 있다. Plasma display panel and a manufacturing method according to the present invention configured as described above is formed by forming a groove having a predetermined shape on the partition wall side of the rear panel corresponding to the bridge position of the transparent electrode provided with a predetermined hole pattern provided on the front panel bridge The capacitance of the lower partition wall is lowered to reduce reactive power, and through the groove formed on the partition wall side, there is an effect of improving the exhaustability of gas or impurities in the panel.

Claims (6)

다수의 홀이 형성된 복수의 투명전극이 구비된 전면패널과; 상기 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 격벽에 홈이 형성된 배면패널을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.A front panel provided with a plurality of transparent electrodes having a plurality of holes formed therein; And a back panel having a groove formed in the partition wall corresponding to the bridge position of the transparent electrode. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홈의 폭이 상기 투명전극의 브릿지의 폭과 같거나 넓도록 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the width of the groove is equal to or wider than the width of the bridge of the transparent electrode. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홈의 깊이가 상기 격벽 높이의 50%이하로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the depth of the groove is less than or equal to 50% of the height of the barrier rib. 배면유리기판상에 어드레스 전극과 유전체층을 순차적으로 형성하는 제 1 단계와;A first step of sequentially forming an address electrode and a dielectric layer on the back glass substrate; 상기 유전체층 상부에 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 부위에 홈이 구비 된 격벽을 형성하는 제 2 단계와;Forming a barrier rib having a groove on a portion of the dielectric layer corresponding to a bridge position of the transparent electrode; 상기 격벽에 형광체를 도포하는 제 3 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.And a third step of applying the phosphor to the partition wall. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제 2 단계는 격벽페이스트를 상기 유전체층 상부에 도포하는 제 1 과정과;The second step includes a first step of applying a partition paste on the dielectric layer; 상기 격벽페이스트를 샌드 블래스팅으로 식각하여 격벽을 형성하는 제 2 과정과;Forming a partition by etching the partition paste by sand blasting; 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 격벽상측에만 샌드 블래스팅으로 식각하여 홈을 형성하는 제 3 과정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법.And a third process of forming a groove by etching by sand blasting only on the partition wall side corresponding to the bridge position of the transparent electrode. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제 2 단계는 홈이 형성될 높이까지 반복적으로 격벽페이스트를 스크린 인쇄하여 격벽을 형성하는 제 1 과정과;The second step includes a first process of forming a barrier rib by screen-printing the barrier paste repeatedly to a height at which the groove is to be formed; 투명전극의 브릿지 위치에 대응하는 부위에는 격벽이 형성되지 않도록 패턴된 스크린 마스크를 이용하여 최종격벽높이까지 반복적으로 격벽페이스트를 스크린 인쇄하여 격벽을 형성하는 제 2 과정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법. And a second process of forming a barrier rib by screen-printing the barrier paste repeatedly to a final barrier height by using a screen mask patterned so that barrier ribs are not formed in a portion corresponding to the bridge position of the transparent electrode. Display panel manufacturing method.
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