KR100650133B1 - A transparent anti-static release film, preparing method thereof and the adhesive tape therefrom - Google Patents

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KR100650133B1 KR1020050017354A KR20050017354A KR100650133B1 KR 100650133 B1 KR100650133 B1 KR 100650133B1 KR 1020050017354 A KR1020050017354 A KR 1020050017354A KR 20050017354 A KR20050017354 A KR 20050017354A KR 100650133 B1 KR100650133 B1 KR 100650133B1
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Abstract

본 발명은 투명 대전방지 이형필름, 이의 제조방법 및 이로부터 형성된 점착테이프에 관한 것으로, 보다 구체적으로 기저필름의 한면에 실리콘 수지를 증착시킨 실리콘 이형층과 다른 한면에 투명 전도성 고분자가 코팅된 대전방지층으로 형성된 투명 대전방지 이형필름, 이의 제조방법 및 이로부터 형성된 점착테이프가 제공된다.The present invention relates to a transparent antistatic release film, a method for manufacturing the same, and an adhesive tape formed therefrom. More specifically, an antistatic layer coated with a transparent conductive polymer on one side of a silicone release layer on which a silicone resin is deposited on one side of a base film A transparent antistatic release film formed by the present invention, a method of manufacturing the same, and an adhesive tape formed therefrom are provided.

본 발명에 따라 우수한 투명성 및 대전방지성을 갖는 이형필름을 제조 할 수 있으며, 이렇게 제조된 이형필름은 정전기에 극히 민감한 반도체 또는 전자제품 등의 내외부 소재나 포장재 등에 유용하게 사용될 수 있다.According to the present invention, a release film having excellent transparency and antistatic properties can be prepared, and the release film thus prepared can be usefully used for internal and external materials or packaging materials such as semiconductors or electronic products which are extremely sensitive to static electricity.

이형필름, 대전방지, 반도체, 전자제품, 점착테이프 Release Film, Antistatic, Semiconductor, Electronic Products, Adhesive Tape

Description

투명 대전방지 이형필름, 이의 제조방법 및 이로부터 형성된 점착테이프{A transparent anti-static release film, preparing method thereof and the adhesive tape therefrom} A transparent anti-static release film, a method of manufacturing the same and a pressure-sensitive adhesive tape formed therefrom {A transparent anti-static release film, preparing method about and the adhesive tape therefrom}

도 1은 본 발명에 따른 투명 대전방지 코팅층이 적용된 이형필름의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a release film to which a transparent antistatic coating layer according to the present invention is applied.

도2는 본 발명에 따른 투명 대전방지 코팅층이 적용된 이형필름이 합지된 점착테이프의 단면도이다.Figure 2 is a cross-sectional view of the adhesive tape laminated the release film to which the transparent antistatic coating layer according to the present invention is applied.

도3은 이형필름과 점착원지를 서로 합지하여 점착테이프를 형성하는 점착코팅기의 구성도이다.Figure 3 is a block diagram of a pressure-sensitive adhesive coating machine for forming an adhesive tape by laminating the release film and the adhesive base paper.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 … 기저필름 2 … 실리콘 이형층  One … Base film 2. Silicon release layer

3 … 대전방지층 4 … 점착제 층  3…. Antistatic layer 4. Adhesive layer

5 … 점착원지 6 … 점착제 코팅 로울러  5... Adhesive base 6. Adhesive coating roller

7 … 건조닥트 8 … 이형필름   7. Dry doc 8. Release Film

9 … 압동 로울러 10 … 점착테이프   9... Pressure roller 10. Adhesive Tape

본 발명은 투명 대전방지 이형필름, 이의 제조방법 및 이로부터 형성된 점착테이프에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 정전기에 민감한 반도체 또는 전자제품의 내외부 소재나 포장재용으로 유용한 우수한 투명성 및 대전방지성을 갖는 투명 대전방지 이형필름, 이의 제조방법 및 상기 대전방지 이형필름과 점착원지를 서로 합지하여 형성된 점착테이프에 관한 것이다.The present invention relates to a transparent antistatic release film, a method for manufacturing the same, and an adhesive tape formed therefrom, and more particularly, having excellent transparency and antistatic property useful for internal and external materials or packaging materials of a semiconductor or electronic product sensitive to static electricity. The present invention relates to a transparent antistatic release film, a method of manufacturing the same, and an adhesive tape formed by laminating the antistatic release film and an adhesive base material.

이형지(release paper) 또는 이형필름은 점착테이프의 점착면을 보호하기 위해 뒷면에 붙이는 종이 또는 필름으로, 점착테이프, 감압점착지, 라벨, 실 등의 점착면에 접촉시켜 면을 보호하고, 사용시에는 벗겨내어 목적을 달성할 수 있도록 표면가공이 되어 있다. Release paper or release film is a paper or film that is attached to the backing to protect the adhesive side of the adhesive tape.It protects the surface by contacting the adhesive side such as adhesive tape, pressure-sensitive adhesive paper, labels, and seals. The surface is processed to peel off and achieve the purpose.

일반적으로 이형지로 사용되는 원지로는 그라싱지(glassine), 크라프트지(kraft), 필름 등이 있고, 박리처리제로는 실리콘이 사용되는 것이 일반적이다. 이형필름의 경우에는 폴리프로필렌 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 등이 기저필름으로 사용된다.Generally, a base paper used as a release paper includes glassine, kraft paper, a film, and the like, and silicon is generally used as a release treatment agent. In the case of a release film, polypropylene or polyethylene terephthalate is used as a base film.

이형필름의 경우에는 이형지(release paper)에 비해 평활도에서 상당히 우수하고 내구성이나, 내용액성, 인장강도 등이 우수하며 작업효율성이 높으므로 고가의 제품 등에서 선호되어지고 있다. In the case of a release film, it is preferred to an expensive product because it is considerably excellent in smoothness and excellent in durability, solvent resistance, tensile strength, and high work efficiency compared to release paper.

기존 이형필름의 경우 절연체인 실리콘이 증착된 폴리프로필렌 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로써, 가공공정이나 적용과정에서 발생되는 정전기에 의해 많은 제약이 따라오며 특히 일부 반도체나 전자산업에서는 적용자체가 불가능하다.Existing release film is a polypropylene or polyethylene terephthalate film in which silicon is deposited as an insulator, and there are many restrictions due to static electricity generated during processing or application process, and in particular, it is impossible to apply itself in some semiconductor or electronic industries.

또한 대전방지 이형필름으로써 실리콘수지에 알킬트리메틸암모늄클로라이드등과 같은 대전방지제를 첨가하여 제조된 대전방지 이형필름(대한민국 특허출원 제 10-1997-042306) 혹은 글리세린모노스테아레이트등의 대전방지제 층을 기저필름에 코팅하고 대전방지층 위에 이형층을 형성하여 제조된 보호필름이 보고 되어져 있다.     In addition, as an antistatic release film, an antistatic release film (Korean Patent Application No. 10-1997-042306) prepared by adding an antistatic agent such as alkyltrimethylammonium chloride to a silicone resin or an antistatic agent layer such as glycerin monostearate is based on A protective film produced by coating a film and forming a release layer on an antistatic layer has been reported.

그러나 기존 대전방지첨가제는 계면 활성제 형태인바, 계면활성제의 대전방지제의 경우 계면활성제의 영향으로 수분과 민감하게 반응하여 반영구적인 정전 분산 효과를 얻지 못할 뿐 아니라, 표면으로 이온 전이되어 기저 플라스틱 필름에 석출되어 정전기에 극히 민감한 반도체 또는 전자제품 등의 내외부 소재나 포장재 등으로 적용이 불가능하다.However, the existing antistatic additives are in the form of surfactants. In the case of the antistatic agents of the surfactants, the antistatic agents react sensitively with moisture under the influence of the surfactants to not obtain a semi-permanent electrostatic dispersion effect, and are ion-transferred to the surface to precipitate on the base plastic film. Therefore, it is impossible to apply to internal and external materials or packaging materials such as semiconductor or electronic products which are extremely sensitive to static electricity.

대전방지제로 전도성고분자를 이용한 코팅 조성물은 독일 Bayer(주)에서 'Baytron"이라는 전도성 폴리티오펜 수용액을 개발하여 판매하고 있다. 이들 조성물에 대한 내용은 미국특허[ US Patent 5,372,924 (1994년, Agfa Co.) : Antistatic plastic molding, US Patent 5,792,558 (1998년, Bayer Co.) : Process for the electrostatic lacquering of non-conductive surface]등에 조성물의 구성 및 용도가 알려져 있으며, 또한 다양한 용도에 적합하게 사용할 수 있도록 "Bayer Technical information"(1996년 발표) 책자와 인터넷상에 공개되어 있다. 이들 전도성 고분자 코팅 조성물은 종래 대전방지 코팅 조성물로 기저 플라스틱 표면을 코팅한 대전방지용 필름의 경우, 표면저항은 사용자의 요구를 만족시키나, 알코올 등의 용제에 대한 내용제성과 내마모성이 떨어지는 단점을 가지고 있고, 본 발명에서 제공하고자 하는 대전방지 이형필름 구조에는 적용된 적은 없다.Coating compositions using conductive polymers as antistatic agents have been developed and sold in Bayer, Germany, in an aqueous solution of a conductive polythiophene called “Baytron.” For these compositions, see US Patent 5,372,924 (1994, Agfa Co. .): Antistatic plastic molding, US Pat. No. 5,792,558 (1998, Bayer Co.): Process for the electrostatic lacquering of non-conductive surface, etc. The composition and use of the composition are known, and also suitable for various applications. Bayer Technical information ”(published in 1996) and on the Internet. These conductive polymer coating compositions are conventionally antistatic coating compositions, and in the case of antistatic films coated with a base plastic surface, the surface resistance meets the user's requirements However, it has a disadvantage of poor solvent resistance and wear resistance to a solvent such as alcohol, and to provide in the present invention Antistatic release film structure is not less applied.

이에 본 발명의 목적은 우수한 투명성을 가질 뿐만 아니라 이형필름의 고질적 문제점인 정전기 발생을 근본적으로 억제하여 정전기에 민감한 반도체 또는 전자제품의 내외부 소재나 포장재용으로 유용한 우수한 투명성 및 대전방지성을 갖는 투명 대전방지 이형필름을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is not only to have excellent transparency, but also to fundamentally suppress the generation of static electricity, which is a chronic problem of a release film, and to have excellent transparency and antistatic properties useful for internal and external materials or packaging materials of semiconductors or electronic products sensitive to static electricity. It is to provide a preventive release film.

본 발명의 다른 목적은 상기 투명 대전방지 이형필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for producing the transparent antistatic release film.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 대전방지 이형필름과 점착원지를 서로 합지하여 형성된 점착테이프를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide an adhesive tape formed by laminating the antistatic release film and the adhesive base paper.

본 발명의 제1견지로,
기저필름의 한면에 실리콘 수지를 증착시킨 실리콘 이형층; 및
상기 기저필름의 다른 한면에 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리싸이오펜, 폴리(3,4-에틸렌싸이오펜), 이들의 유도체 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 선택되어진 1종 또는 2종 이상의 투명 π-공액계 전도성 고분자가 코팅된 대전방지층;
으로 형성된 투명 대전방지 이형필름이 제공된다.
In a first aspect of the invention,
A silicon release layer in which a silicon resin is deposited on one surface of the base film; And
One or two or more transparent π-conjugated systems selected from the group consisting of polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly (3,4-ethylenethiophene), derivatives and copolymers thereof on the other side of the base film Antistatic layer coated with a conductive polymer;
It is provided with a transparent antistatic release film formed.

본 발명의 제2견지로,
기저필름의 한면에 실리콘 수지를 증착시켜 실리콘 이형층을 형성하는 단계; 및
상기 기저필름의 다른 한면에 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리싸이오펜, 폴리(3,4-에틸렌싸이오펜), 이들의 유도체 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 선택되어진 1종 또는 2종 이상의 투명 π-공액계 전도성 고분자가 코팅된 대전방지층을 코팅하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 대전방지 이형필름의 제조방법이 제공된다.
In a second aspect of the invention,
Depositing a silicone resin on one surface of the base film to form a silicon release layer; And
One or two or more transparent π-conjugated systems selected from the group consisting of polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly (3,4-ethylenethiophene), derivatives and copolymers thereof on the other side of the base film Coating an antistatic layer coated with a conductive polymer;
Provided is a method for producing a transparent antistatic release film comprising a.

본 발명의 제3견지로, 대전방지 이형필름의 실리콘 이형층이 형성된 면과 점착원지의 점착제가 코팅된 면을 서로 합지하여 형성된 점착테이프가 제공된다.In a third aspect of the invention, there is provided an adhesive tape formed by laminating a surface on which a silicone release layer of an antistatic release film is formed and a surface on which an adhesive of an adhesive base is coated.

이하 본 발명에 대하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명자들은 종래의 이형필름의 정전기에 대한 취약성을 보완할 뿐 아니라, 반도체 및 전자산업에도 응용 가능한 소재 또는 포장재로 사용될 수 있는 성능을 만족하는 이형필름에 대한 다양한 연구를 수행 한 결과, 기저 필름의 한면에 대전방지제로 전도성 고분자 코팅용액을 코팅함으로써 우수한 투명성을 가질 뿐만 아니라 반도체 및 전자산업 등에도 적용 가능한 우수한 대전방지성을 갖는 이형필름을 제조할 수 있음을 발견하여 이에 본 발명을 완성하였다.The present inventors conducted various studies on the release film satisfying the performance that can be used as a material or a packaging material applicable to the semiconductor and the electronics industry as well as supplementing the vulnerability to the static electricity of the conventional release film, By coating a conductive polymer coating solution with an antistatic agent on one side, the present inventors have found that a release film having excellent antistatic properties, which can be applied not only to excellent transparency but also to the semiconductor and electronic industries, can be manufactured.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 투명 대전방지 코팅층이 적용된 이형필름은 예를들어 폴리프로필렌과 같은 기저필름 한면에 일반적인 실리콘 이형필름의 제조방법과 같이 실리콘을 경화제와 첨가 희석하여 코팅하고 열경화시켜, 실 리콘 수지를 증착시킨 다음, 실리콘 수지가 코팅된 폴리프로필렌 필름의 다른 한면에 투명 전도성 고분자 코팅액을 코팅한 후 열 건조시켜 한면은 이형성, 다른 한면은 우수한 투명성 및 대전방지성을 갖는 투명 대전방지 이형필름을 제조한다. As shown in FIG. 1, the release film to which the transparent antistatic coating layer according to the present invention is applied is coated by diluting silicone with a curing agent and thermally, for example, on a base film such as polypropylene to produce a general silicone release film. After curing, the silicon resin was deposited, and then the transparent conductive polymer coating solution was coated on the other side of the silicone resin-coated polypropylene film, followed by heat drying, so that one side was releasable, and the other side was transparent having excellent transparency and antistatic properties. Manufacture an antistatic release film.

상기 기저필름은 통상적인 방법에 따라 용융, 압출, 성형하고, 일축 또는 이축연신된 것일 수 있으며, 본 발명에 사용되는 기저필름으로는 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 이들의 혼합물 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 적어도 하나 선택되는 것이 바람직하다. 바람직하게는 폴리에스테르 필름과 폴리프로필렌 필름이 적합하다. The base film may be melted, extruded, molded, uniaxially or biaxially stretched according to a conventional method, and the base film used in the present invention may be a polyolefin such as polypropylene, polyethylene, polyester such as polyethylene terephthalate, It is preferred that at least one is selected from the group consisting of polyamides, polycarbonates, polyacetals, mixtures thereof and copolymers. Preferably, a polyester film and a polypropylene film are suitable.

대전방지층은 전도성 고분자 1-30중량%, 아크릴-우레탄공중합 바인더 2-20중량%, 물 및/또는 유기용매 40-80중량%, 첨가제 0.1-5중량%를 포함하여 이루어진 투명 전도성 고분자 코팅 조성물로 코팅하여 형성되는 것이 바람직하다. 이때 만일 전도성 고분자가 1중량%미만으로 포함되는 경우, 충분한 대전방지성을 나타낼 수 없으며 30중량%를 초과하는 경우, 투명도가 감소할 수 있다. 아크릴-우레탄공중합 바인더가 2중량%미만으로 포함되는 경우, 점착성이 약해지고 20중량%를 초과하는 경우에는 점착성이 너무 강해질 수 있다. 그리고 물 및/또는 유기용매가 40중량%미만인 경우, 코팅작업성이 떨어질 수 있으며 80중량%를 초과할 경우 대전방지성이 감소 할 수 있다.The antistatic layer is a transparent conductive polymer coating composition comprising 1-30% by weight of a conductive polymer, 2-20% by weight of an acrylic-urethane copolymer binder, 40-80% by weight of water and / or an organic solvent, and 0.1-5% by weight of an additive. It is preferably formed by coating. In this case, if the conductive polymer is included in less than 1% by weight, it may not exhibit sufficient antistatic properties, and if it exceeds 30% by weight, transparency may be reduced. When the acrylic-urethane copolymer binder is included in less than 2% by weight, the adhesiveness may be weakened and the adhesiveness may become too strong when it exceeds 20% by weight. And when the water and / or the organic solvent is less than 40% by weight, coating workability may be lowered, and when the water and / or organic solvent exceeds 80% by weight may be antistatic properties.

상기 전도성 고분자는 π-공액계 전기 전도성 고분자가 사용될 수 있다. 바람직하게, 상기 π-공액계 전기 전도성 고분자는 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리싸이오펜, 폴리(3,4-에틸렌싸이오펜), 이들의 유도체 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 적어도 하나 선택된다.The conductive polymer may be a π-conjugated electrically conductive polymer. Preferably, the π-conjugated electrically conductive polymer is selected from the group consisting of polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly (3,4-ethylenethiophene), derivatives and copolymers thereof.

본 발명에 사용되는 유기용매로는 이에 한정하는 것은 아니나 디메틸설폭시드(DMSO), 디메틸포름아미드(DMF), N-메틸-2-피롤리디논(NMP), 2-부탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, 이소부틸알코올, t-부틸알코올, 벤질알코올 및 에틸렌글리콜로 구성되는 그룹으로부터 적어도 하나 선택되는 것이 바람직하다. 또한 상기 첨가제로는 슬립제 또는 습윤제가 사용될 수 있다. 이들 첨가제는 0.1-5중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 만일 이러한 첨가제가 너무 적게 포함되는 경우에는 충분한 슬립성 혹은 습윤성이 나타나지 않을 수 있으며 그 이상의 과량은 불필요하다.Organic solvents used in the present invention include, but are not limited to, dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylformamide (DMF), N-methyl-2-pyrrolidinone (NMP), 2-butanone, 4-methyl- It is preferred that at least one is selected from the group consisting of 2-pentanone, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, t-butyl alcohol, benzyl alcohol and ethylene glycol. In addition, a slip agent or a wetting agent may be used as the additive. These additives are preferably included in an amount of 0.1-5% by weight, and if too little of these additives are included, sufficient slip or wettability may not appear and no excess is necessary.

상기 투명 전도성 고분자 코팅 조성물은 그라비아, 롤 또는 스프레이 코팅방식과 같은 통상적인 방법에 의해 코팅될 수 있다. 또한 코팅후 열경화처리하는 것이 바람직하다. 예를들어, 상기 투명 전도성 고분자 코팅 조성물은 기저필름의 단면에 그라비아, 롤, 스프레이 등의 일반 코팅 방식에 의해 코팅되고 80 ~ 120℃ 에서 2분간 열 경화된다. The transparent conductive polymer coating composition may be coated by conventional methods such as gravure, roll or spray coating. It is also preferable to heat-treat after the coating. For example, the transparent conductive polymer coating composition is coated on the cross section of the base film by a general coating method such as gravure, roll, spray, and the like and heat cured at 80 to 120 ° C. for 2 minutes.

본 발명에 따른 투명 대전방지 이형필름은 대전방지 이형필름의 실리콘 이형층이 형성된 면과 점착원지의 접착제가 코팅된 면을 서로 합지하여 점착테이프로 제조될 수 있다. 본 발명에 따라 투명 대전방지 코팅층이 적용된 이형필름이 합지된 점착테이프의 단면도를 도 2에 나타내었다. 상기 이형필름과 점착원지를 이용한 접착테이프의 제조는 도 3에 나타낸 바와 같은 점착코팅기를 사용하여 행해질 수 있다. The transparent antistatic release film according to the present invention may be manufactured by adhesive tape by laminating the surface on which the silicone release layer of the antistatic release film is formed and the surface of the adhesive base coated with adhesive. 2 is a cross-sectional view of the adhesive tape on which the release film to which the transparent antistatic coating layer is applied according to the present invention is laminated. Preparation of the adhesive tape using the release film and the adhesive base paper may be performed using an adhesive coating machine as shown in FIG.

이하 실시예를 통하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples.

실시예 1Example 1

이형필름의 제조Manufacturing of Release Film

실리콘 수지(한국다우코닝 LS-203) 25중량%와 톨루엔 75중량%를 혼합하고, 백금촉매(한국다우코닝 SO-4000) 0.25중량%를 첨가, 5분간 교반하여 실리콘 수지 조성물을 얻었다. 두께가 30㎛인 폴리프로필렌 필름 위에 상기 실리콘 수지 조성물을 코팅 로울러를 이용하여 코팅한 후, 115℃의 건조닥트를 분당 40m의 속도로 진행하여 건조시켜 실리콘 이형층의 두께가 1.0㎛가 되도록 하였다. 25 weight% of silicone resin (Dow Corning LS-203) and 75 weight% of toluene were mixed, 0.25 weight% of platinum catalyst (Dow Corning SO-4000) was added, and it stirred for 5 minutes, and obtained the silicone resin composition. After coating the silicone resin composition on a polypropylene film having a thickness of 30 μm by using a coating roller, a drying duct at 115 ° C. was advanced at a speed of 40 m per minute to dry to obtain a thickness of the silicon release layer of 1.0 μm.

투명 전도성 고분자 코팅액 조성물은 수용성 고분자 분산액인 폴리(3,4-에틸렌디옥시싸이오펜)(독일 H. C. Starck 회사의 상품 Baytron PH) 15중량%, 아크릴-우레탄 공중합 바인더(Stahl Asia Pte Ltd., WF-4644) 10중량%, 유기용매(NMP 2중 량%, DMSO 3중량%), 물 24.5중량%, 이소프로필알코올 45중량%, 슬립성 첨가제(Tego, Glide 410) 0.5중량%를 첨가하고 5분간 교반하여 제조하였다.The transparent conductive polymer coating liquid composition is 15% by weight of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (Baytron PH, manufactured by HC Starck, Germany), an acrylic-urethane copolymer binder (Stahl Asia Pte Ltd., WF- 4644) 10% by weight, organic solvent (2% by weight of NMP, 3% by weight of DMSO), 24.5% by weight of water, 45% by weight of isopropyl alcohol, 0.5% by weight of slip additive (Tego, Glide 410) were added. Prepared by stirring.

그 다음, 이와 같이 제조된 투명 전도성 고분자 코팅 조성물을 상기 실리콘 수지가 증착된 필름의 하면에 코팅 로울러를 이용하여 코팅한 후, 115℃의 건조닥트를 분당 40m의 속도로 진행하여 건조시켜 두께가 0.5㎛의 코팅층을 갖는 이형필름을 얻었다. Then, the transparent conductive polymer coating composition thus prepared was coated on the lower surface of the film on which the silicone resin was deposited using a coating roller, and then dried at 115 ° C. at a speed of 40 m per minute to have a thickness of 0.5. A release film having a coating layer of μm was obtained.

상기 투명 대전방지 코팅액으로 코팅된 필름의 표면저항은 ASTM D257 방식에 의해 10E6 Ω/cm2 을 나타내었고, 투명도는 UV포토메터(Simazu Co.)를 이용하여 가시광선(550 nm)영역에서 측정한 결과 96%을 나타내었다.The surface resistance of the film coated with the transparent antistatic coating solution was 10E6 Ω / cm 2 by ASTM D257 method, the transparency was measured in the visible light (550 nm) region using a UV photometer (Simazu Co.) The result was 96%.

실시예 2Example 2

이형필름의 제조Manufacturing of Release Film

실시예 1과 같은 방법으로 실리콘 수지가 증착된 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 1 to prepare a film deposited with a silicone resin.

투명 전도성 고분자 코팅액 조성물은 수용성 고분자 분산액인 폴리피롤(NanochemTech Co., Ltd, PACON-BW) 15중량%, 아크릴-우레탄 공중합 바인더(Stahl Asia Pte Ltd., WF-4644) 10중량%, 유기용매(NMP 2중량%, DMSO 3중량%), 물 24.5중량%, 이소프로필알코올 45중량%, 슬립성 첨가제(Tego, Glode 410) 0.5중량%를 첨가하고 5분간 교반하여 제조하였다.The transparent conductive polymer coating liquid composition is 15% by weight of polypyrrole (NanochemTech Co., Ltd, PACON-BW), a water-soluble polymer dispersion, 10% by weight of an acrylic-urethane copolymer binder (Stahl Asia Pte Ltd., WF-4644), an organic solvent (NMP 2% by weight, 3% by weight DMSO), 24.5% by weight water, 45% by weight isopropyl alcohol, 0.5% by weight of slip additives (Tego, Glode 410) was added and stirred for 5 minutes.

그 다음, 이와 같이 제조된 투명 전도성 고분자 코팅 조성물을 상기 실리콘 수지가 증착된 필름의 하면에 코팅 로울러를 이용하여 코팅한 후, 115℃의 건조닥트를 분당 40m의 속도로 진행하여 건조시켜 두께가 5㎛의 코팅층을 갖는 이형필름을 얻었다. Then, the transparent conductive polymer coating composition thus prepared was coated on the lower surface of the film on which the silicone resin was deposited using a coating roller, and then dried at a speed of 40 m / min at 115 ° C. for drying duct at a speed of 5 m. A release film having a coating layer of μm was obtained.

상기 투명 대전방지 코팅액으로 코팅된 필름의 표면저항은 ASTM D257 방식에 의해 10E6Ω/cm2 을 나타내었고, 투명도는 UV포토메터(Simazu Co.)를 이용하여 가시광선(550 nm)영역에서 측정한 결과 92%을 나타내었다.The surface resistance of the film coated with the transparent antistatic coating solution was 10E6Ω / cm 2 by ASTM D257 method, and the transparency was measured in the visible light (550 nm) region by using a UV photometer (Simazu Co.). 92%.

실시예 3Example 3

점착코팅기(주식회사 홍일기계)를 이용하여 점착원지(PET 필름, 25㎛)를 코팅부에서 아크릴점착제를 도포한 후, 140℃의 건조닥트를 분당 35m의 속도로 통과시켜 건조한 후, 압동부의 압동로울러에서 실시예 1에 따라 제조된 이형필름과 압동합지하여 자동라벨기용 점착테이프를 제조하였다.After applying the adhesive adhesive (PET film, 25㎛) to the coating part using an adhesive coating machine (Hongil Machinery Co., Ltd.), and passing through a drying duct of 140 ℃ at a speed of 35m per minute and dried, Pressure-bonding the release film prepared according to Example 1 in the roller to prepare an adhesive tape for an automatic labeling machine.

실시예 4Example 4

점착코팅기(주식회사 홍일기계)를 이용하여 점착원지(PET 필름, 25㎛)를 코팅부에서 아크릴점착제를 도포한 후, 140℃의 건조닥트를 분당 35m의 속도로 통과시켜 건조한 후, 압동부의 압동로울러에서 실시예 2에 따라 제조된 이형필름과 압 동합지하여 자동라벨기용 점착테이프를 제조하였다.After applying the adhesive adhesive (PET film, 25㎛) to the coating part using an adhesive coating machine (Hongil Machinery Co., Ltd.), and passing through a drying duct of 140 ℃ at a speed of 35m per minute and dried, Pressure rollers with a release film prepared according to Example 2 in a roller to prepare an adhesive tape for an automatic labeling machine.

본 발명에 따라 우수한 투명성 및 대전방지성을 갖는 이형필름을 제조 할 수 있으며, 이렇게 제조된 이형필름은 정전기에 극히 민감한 반도체 또는 전자제품 등의 내외부 소재나 포장재 등에 유용하게 사용될 수 있다.According to the present invention, a release film having excellent transparency and antistatic properties can be prepared, and the release film thus prepared can be usefully used for internal and external materials or packaging materials such as semiconductors or electronic products which are extremely sensitive to static electricity.

Claims (16)

기저필름의 한면에 실리콘 수지를 증착시킨 실리콘 이형층; 및A silicon release layer in which a silicon resin is deposited on one surface of the base film; And 상기 기저필름의 다른 한면에 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리싸이오펜, 폴리(3,4-에틸렌싸이오펜), 이들의 유도체 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 선택되어진 1종 또는 2종 이상의 투명 π-공액계 전도성 고분자가 코팅된 대전방지층;One or two or more transparent π-conjugated systems selected from the group consisting of polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly (3,4-ethylenethiophene), derivatives and copolymers thereof on the other side of the base film Antistatic layer coated with a conductive polymer; 으로 형성된 투명 대전방지 이형필름.Transparent antistatic release film formed by. 제 1항에 있어서, 상기 대전방지층은 전도성 고분자 1-30중량%, 아크릴-우레탄공중합 바인더 2-20중량%, 물, 유기 용매 또는 이들의 혼합물 40-80 중량%, 첨가제 0.1-5중량%를 포함하여 이루어진 투명 전도성 고분자 코팅 조성물로 코팅하여 형성된 것을 특징으로 하는 대전방지 이형필름.The method of claim 1, wherein the antistatic layer comprises 1-30% by weight of a conductive polymer, 2-20% by weight of an acrylic-urethane copolymer binder, 40-80% by weight of water, an organic solvent or a mixture thereof, and 0.1-5% by weight of an additive. Antistatic release film, characterized in that formed by coating with a transparent conductive polymer coating composition made. 제 2항에 있어서, 상기 유기용매는 디메틸설폭시드(DMSO), 디메틸포름아미드(DMF), N-메틸-2-피롤리디논(NMP), 2-부탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, 이소부틸알코올, t-부틸알코올, 벤질알코올 및 에틸렌글리콜로 구성되는 그룹으로부터 선택되어지는 1 또는 2 이상의 유기 용매임을 특징으로 하는 대전방지 이형필름.The method of claim 2, wherein the organic solvent is dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylformamide (DMF), N-methyl-2-pyrrolidinone (NMP), 2-butanone, 4-methyl-2-pentanone Antistatic release film, characterized in that one or two or more organic solvent selected from the group consisting of methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, t-butyl alcohol, benzyl alcohol and ethylene glycol. 제 2항에 있어서, 상기 첨가제는 슬립제 또는 습윤제인 것을 특징으로 하는 대전방지 이형필름.The antistatic release film of claim 2, wherein the additive is a slip agent or a wetting agent. 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 기저필름은 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 이들의 혼합물 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 선택되어지는 1 또는 2 이상의 것임을 특징으로 하는 대전방지 이형필름.The antistatic release film according to claim 1, wherein the base film is one or two or more selected from the group consisting of polyolefins, polyesters, polyamides, polycarbonates, polyacetals, mixtures and copolymers thereof. . 기저필름의 한면에 실리콘 수지를 증착시켜 실리콘 이형층을 형성하는 단계; 및Depositing a silicone resin on one surface of the base film to form a silicon release layer; And 상기 기저필름의 다른 한면에 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리싸이오펜, 폴리(3,4-에틸렌싸이오펜), 이들의 유도체 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 선택되어진 1종 또는 2종 이상의 투명 π-공액계 전도성 고분자가 코팅된 대전방지층을 코팅하는 단계;One or two or more transparent π-conjugated systems selected from the group consisting of polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly (3,4-ethylenethiophene), derivatives and copolymers thereof on the other side of the base film Coating an antistatic layer coated with a conductive polymer; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 대전방지 이형필름의 제조방법.Method for producing a transparent antistatic release film comprising a. 제 8항에 있어서, 상기 대전방지층은 전도성 고분자 1-30중량%, 아크릴-우레탄공중합 바인더 2-20중량%, 물, 유기 용매 또는 이들의 혼합물 40-80 중량%, 첨가제 0.1-5중량%를 포함하여 이루어진 투명 전도성 고분자 코팅 조성물로 코팅하여 형성된 것을 특징으로 하는 대전방지 이형필름 제조방법.The method of claim 8, wherein the antistatic layer comprises 1-30% by weight of a conductive polymer, 2-20% by weight of an acrylic-urethane copolymer binder, 40-80% by weight of water, an organic solvent or a mixture thereof, and 0.1-5% by weight of an additive. Antistatic release film manufacturing method characterized in that formed by coating with a transparent conductive polymer coating composition made. 제 9항에 있어서, 상기 투명 전도성 고분자 코팅 조성물의 코팅은 그라비아, 롤 또는 스프레이 코팅방식으로 이루어지는 것을 대전방지 이형필름 제조방법. The method of claim 9, wherein the coating of the transparent conductive polymer coating composition is performed by a gravure, roll, or spray coating method. 제 9항에 있어서, 상기 유기용매는 디메틸설폭시드(DMSO), 디메틸포름아미드(DMF), N-메틸-2-피롤리디논(NMP), 2-부탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, 이소부틸알코올, t-부틸알코올, 벤질알코올 및 에틸렌글리로 구성되는 그룹으로부터 선택되어지는 1 또는 2 이상의 유기 용매임을 특징으로 하는 대전방지 이형필름 제조방법.The method of claim 9, wherein the organic solvent is dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylformamide (DMF), N-methyl-2-pyrrolidinone (NMP), 2-butanone, 4-methyl-2-pentanone And methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, t-butyl alcohol, benzyl alcohol, and at least one organic solvent selected from the group consisting of ethylene glycol. 제 9항에 있어서, 상기 첨가제는 슬립제 또는 습윤제인 것을 특징으로 하는 대전방지 이형필름 제조방법.10. The method of claim 9, wherein the additive is a slip agent or a wetting agent. 삭제delete 삭제delete 제 8항에 있어서, 상기 기저필름은 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 이들의 혼합물 및 공중합체로 구성되는 그룹으로부터 선택되어지는 1 또는 2 이상의 것임을 특징으로 하는 대전방지 이형필름 제조방법.The antistatic release film of claim 8, wherein the base film is one or two or more selected from the group consisting of polyolefins, polyesters, polyamides, polycarbonates, polyacetals, mixtures and copolymers thereof. Manufacturing method. 제 1항의 대전방지 이형필름의 실리콘 이형층이 형성된 면과 점착원지의 접착제가 코팅된 면을 서로 합지하여 형성된 점착테이프.The pressure-sensitive adhesive tape formed by laminating the surface on which the silicone release layer of the antistatic release film of claim 1 is coated with the surface of the adhesive base adhesive.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100813179B1 (en) * 2006-12-11 2008-03-17 에스케이씨 주식회사 Pollution-proof and anti-static film
KR100836177B1 (en) 2007-03-16 2008-06-09 도레이새한 주식회사 Antistatic silicone release coating films
KR100908709B1 (en) * 2007-07-26 2009-07-22 에이앤티테크 주식회사 Antistatic composition and spacer film comprising same
KR101232518B1 (en) * 2010-12-28 2013-02-12 율촌화학 주식회사 Release film with high anti-static property and method for manufacturing the same
KR101713947B1 (en) * 2010-12-29 2017-03-08 엘지디스플레이 주식회사 Light shielding tape and attaching method thereof of flat panel display device
CN103192578A (en) * 2013-04-28 2013-07-10 恩斯盟防静电材料(镇江)有限公司(中外合资) Fabrication method of anti-static release film with stable release force
KR102151092B1 (en) 2018-07-25 2020-09-02 김태형 Manufacturing method of release film for double-sided tape
KR102648682B1 (en) 2021-07-21 2024-03-15 도레이첨단소재 주식회사 Anti-static polyester release film
KR20230102068A (en) * 2021-12-30 2023-07-07 코오롱인더스트리 주식회사 Polyester Release Film And Method For Manufacturing Same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000028755A (en) * 1998-10-02 2000-05-25 구기사와 도시로 Mold release film
KR20010101097A (en) * 1999-10-01 2001-11-14 야스이 쇼사꾸 Surface protecting film and laminate comprising the same
JP2001341239A (en) 2000-06-05 2001-12-11 Kyodo Giken Kagaku Kk Antistatic film, release film for pressure-sensitive self- adhesive tape or sheet using antistatic film, and pressure-sensitive self-adhesive tape or sheet
KR20020053755A (en) * 2000-12-27 2002-07-05 시바타 미노루 Release film with ceramic sheet
JP2004151696A (en) 2002-10-08 2004-05-27 Oji Paper Co Ltd Transparent self-adhesive film for protecting liquid crystal polarizing plate

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000028755A (en) * 1998-10-02 2000-05-25 구기사와 도시로 Mold release film
KR20010101097A (en) * 1999-10-01 2001-11-14 야스이 쇼사꾸 Surface protecting film and laminate comprising the same
JP2001341239A (en) 2000-06-05 2001-12-11 Kyodo Giken Kagaku Kk Antistatic film, release film for pressure-sensitive self- adhesive tape or sheet using antistatic film, and pressure-sensitive self-adhesive tape or sheet
KR20020053755A (en) * 2000-12-27 2002-07-05 시바타 미노루 Release film with ceramic sheet
JP2004151696A (en) 2002-10-08 2004-05-27 Oji Paper Co Ltd Transparent self-adhesive film for protecting liquid crystal polarizing plate

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