KR100647663B1 - Mask for depositing thin film of flat panel display and method for fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 마스크 패턴부의 테이퍼각을 감소시켜 새도우 이펙트현상을 방지할 수 있는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 및 그의 제조방법을 개시한다.The present invention discloses a thin film deposition mask of a flat panel display device and a method of manufacturing the same that can reduce the taper angle of the mask pattern portion to prevent shadow effect.

본 발명의 평판표시장치의 박막 증착용 마스크의 제조방법은 금속박판을 1차 식각하여 피증착기판에 배열되는 단위소자를 구성하는 박막과 동일한 패턴을 갖는 다수의 개구부와, 상기 개구부를 한정하는 차폐부를 각각 구비하는 다수의 마스크 패턴부와; 상기 다수의 마스크패턴부를 분리하는 다수의 리브를 형성하는 단계와; 상기 마스크패턴부의 차폐부와 리브를 2차식각하는 단계를 포함하며, 상기 마스크패턴부의 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 그의 측면이 슬로프를 갖으며, 58° 미만의 테이퍼각을 갖는다. 상기 1차식각공정은 습식식각공정을 포함하고, 상기 2차 식각공정은 레이저 식각공정을 포함한다. A method for manufacturing a thin film deposition mask of a flat panel display device according to the present invention includes a plurality of openings having the same pattern as a thin film constituting a unit element arranged on a substrate by first etching a thin metal plate, and shielding defining the openings. A plurality of mask pattern portions each having a portion; Forming a plurality of ribs separating the plurality of mask pattern portions; And secondly etching the shielding portion and the ribs of the mask pattern portion, wherein at least one of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs has a slope at a side thereof and a taper angle of less than 58 °. . The primary etching process includes a wet etching process, and the secondary etching process includes a laser etching process.

Description

평판표시장치의 박막 증착용 마스크 및 그의 제조방법{Mask for depositing thin film of flat panel display and method for fabricating the same}Mask for thin film deposition of flat panel display device and its manufacturing method {Mask for depositing thin film of flat panel display and method for fabricating the same}

도 1은 종래의 평판표시장치용 박막을 증착하기 위한 증착장치를 보여주는 도면,1 is a view showing a deposition apparatus for depositing a thin film for a conventional flat panel display device;

도 2는 종래의 평판표시장치의 박막 증착용 마스크의 부분 단면도,2 is a partial cross-sectional view of a thin film deposition mask of a conventional flat panel display device;

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체의 분리사시도,3 is an exploded perspective view of a mask frame assembly for thin film deposition of a flat panel display device according to an embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 평판표시장치의 박막 증착용 마스크의 부분 단면도,4 is a partial cross-sectional view of a thin film deposition mask of a flat panel display device according to an embodiment of the present invention;

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 마스크 프레임 조립체 110 : 프레임100: mask frame assembly 110: frame

120 : 패턴 마스크 125 : 리브120: pattern mask 125: rib

130 : 마스크 패턴부 121 : 금속박판130: mask pattern portion 121: metal foil

133 : 차폐부 131, 131a : 개구부133: shield 131, 131a: opening

본 발명은 평판표시장치의 박막 증착용 마스크에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 마스크 패턴부의 테이퍼각을 감소시켜 새도우 이펙트를 방지할 수 있는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 및 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film deposition mask of a flat panel display device, and more particularly, to a thin film deposition mask of a flat panel display device and a method of manufacturing the same, which can reduce a taper angle of a mask pattern portion to prevent a shadow effect.

액정표시장치 또는 전계 발광표시장치와 같은 평판표시장치는 경량 및 박형의 장점으로, 표시품질을 높이고 대형화를 위한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 이러한 평판표시장치중 전계 발광표시장치는 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점으로 차세대 평판표시장치로서 주목을 받고 있다. Flat panel display devices such as liquid crystal displays or electroluminescent displays have advantages of light weight and thinness, and researches for increasing display quality and increasing size have been actively conducted. Among such flat panel displays, electroluminescent displays are attracting attention as next-generation flat panel displays due to their wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed.

통상적으로, 전계 발광표시장치는 상, 하부전극과, 상, 하부전극사이에 개재된 발광층을 포함하며, 상기 두 전극에 인가되는 전압에 따라 상기 발광층으로부터 발광되는 광이 방출되어 화상을 표시하는 자발광소자이다. In general, the electroluminescent display device includes an upper and lower electrodes and a light emitting layer interposed between the upper and lower electrodes, and emits light emitted from the light emitting layers according to voltages applied to the two electrodes to display an image. It is a light emitting element.

전계 발광표시장치는 상기 상, 하부전극에 개재되는 발광층을 구성하는 물질에 따라서 크기 발광층이 무기물질로 구성되는 무기전계 발광표시장치와 발광층이 유기물질로 구성되는 유기전계 발광표시장치로 구분된다. Electroluminescent display devices are classified into inorganic electroluminescent display devices having a size emitting layer made of an inorganic material and an organic electroluminescent display device having an emitting material made of an organic material according to the materials constituting the light emitting layers interposed on the upper and lower electrodes.

유기전계 발광표시장치는 유기물질에 따라서, 발광층이 고분자 물질로 구성되는 고분자 유기전계 발광표시장치와 발광층이 저분자 물질로 구성되는 저분자 유기전계 발광표시장치로 크게 분류된다.According to organic materials, organic light emitting display devices are classified into high molecular organic light emitting display devices having a light emitting layer made of a polymer material and low molecular organic light emitting display devices having a light emitting layer made of a low molecular material.

유기전계 발광표시장치를 구성하는 미세패턴의 박막을 형성하는 방법으로는 포토리소그라피법, 스크린 인쇄법 및 미세메탈 마스크를 이용한 증착법이 있는데, 유기막층은 수분에 취약하여 통상적인 포토리소그라피방법으로 유기막층을 형성하 는 것은 한계가 있기 때문에, 주로 미세메탈 마스크를 이용한 증착방법으로 형성하였다.As a method of forming a thin film of a fine pattern constituting the organic light emitting display device, there are a photolithography method, a screen printing method, and a deposition method using a fine metal mask. Because of the limitation of forming a, it was mainly formed by a deposition method using a fine metal mask.

도 1은 종래의 유기전계 발광소자의 유기막 증착용 증착장치의 단면구조를 도시한 것이다.1 illustrates a cross-sectional structure of a deposition apparatus for depositing an organic film of a conventional organic EL device.

도 1을 참조하면, 증착장치는 진공 챔버(10)내에 유기막을 증착시킬 수 있는 증착원(30)이 배치되고, 상기 증착원(30)의 상부에 마스크 프레임 조립체(20)를 배치된다. 상기 진공챔버(10)는 외부로부터 이물질이 유입되지 않도록 진공상태를 유지하고, 내부압력이 조절된다.Referring to FIG. 1, in the deposition apparatus, a deposition source 30 capable of depositing an organic film in the vacuum chamber 10 is disposed, and a mask frame assembly 20 is disposed on the deposition source 30. The vacuum chamber 10 is maintained in a vacuum state so that foreign matter does not flow from the outside, the internal pressure is adjusted.

상기 마스크 프레임 조립체(20)는 유기막이 증착될 기판인 피증착기판(40)에 형성된 박막과 동일한 패턴을 갖는 패턴 마스크(21)와, 상기 패턴 마스크(21)를 지지하기 위한 프레임(23)을 구비한다.The mask frame assembly 20 includes a pattern mask 21 having the same pattern as a thin film formed on a substrate 40 to be deposited, and a frame 23 for supporting the pattern mask 21. Equipped.

상기 마스크 프레임 조립체(20)의 패턴 마스크(21)에 대응하여 유기막이 증착될 피증착기판(40)이 배치된다. 상기 피증착기판(40)은 마그넷유닛(50)에 의해 상기 패턴 마스크(21)와 정렬되도록 배치된다.The substrate 40 on which the organic layer is to be deposited is disposed in correspondence with the pattern mask 21 of the mask frame assembly 20. The deposition substrate 40 is disposed to be aligned with the pattern mask 21 by the magnet unit 50.

상기한 바와 같은 증착 장치를 이용하면, 상기 증착원(30)으로부터 분사되는 유기물질이 상기 패턴 마스크(21)의 개구부를 통해 상기 피증착기판(40)에 증착되어 유기막이 증착된다.When the deposition apparatus as described above is used, an organic material injected from the deposition source 30 is deposited on the substrate 40 through the opening of the pattern mask 21 to deposit an organic film.

그러나, 종래의 패턴마스크를 이용하여 박막을 증착하게 되면, 패턴 마스크의 새도우 효과(shadow effect)에 의해 피증착기판에 증착되는 박막이 원하는 두께로 균일하게 증착되지 않는 문제점이 있었다.However, when the thin film is deposited using a conventional pattern mask, there is a problem that the thin film deposited on the substrate to be deposited is not uniformly deposited to a desired thickness by a shadow effect of the pattern mask.

새도우 효과에 의한 문제점을 해결하기 위하여, 패턴 마스크에 테이퍼각을 부여하고, 피증착기판을 회전시키면서 박막을 증착하는 방법이 제안되었다.In order to solve the problem caused by the shadow effect, a method of depositing a thin film while giving a taper angle to a pattern mask and rotating a substrate to be deposited has been proposed.

도 2는 종래의 새도우 효과를 해결하기 위한 증착 마스크의 단면도를 도시한 것이다. 종래의 증착마스크는 피증착기판에 증착될 박막과 동일한 패턴을 갖는 다수의 마스크 패턴부를 구비하는데, 도 2에는 하나의 마스크 패턴부에 한정하여 도시한 것이다.2 illustrates a cross-sectional view of a deposition mask for solving the conventional shadow effect. Conventional deposition masks have a plurality of mask pattern portions having the same pattern as the thin film to be deposited on the substrate to be deposited, it is shown in Figure 2 limited to one mask pattern portion.

도 2를 참조하면, 종래의 증착 마스크의 마스크 패턴부(21)는 다수의 개구부(22)를 구비하고, 상기 개구부(22)를 한정하는 차폐부(23)를 구비한다. 상기 마스크 패턴부(21)의 개구부(22)중 가장자리에 위치한 개구부(22a)는 마스크 패턴부(21)간의 리브(25)와 차폐부(23)에 의해 한정된다.Referring to FIG. 2, the mask pattern portion 21 of the conventional deposition mask includes a plurality of openings 22 and a shielding portion 23 defining the openings 22. The opening 22a located at the edge of the opening 22 of the mask pattern portion 21 is defined by the rib 25 and the shielding portion 23 between the mask pattern portions 21.

상기한 바와 같은 구성을 갖는 종래의 증착 마스크는 금속박판을 식각하여 개구부(22)를 형성하고, 상기 개구부(22)를 한정하는 차폐부(23)가 소정의 테이퍼각(θ1)을 갖도록 형성되어 새도우 효과를 감소시킬 수 있다.In the conventional deposition mask having the above-described configuration, the opening 22 is formed by etching the thin metal plate, and the shielding portion 23 defining the opening 22 has a predetermined taper angle θ1. It can reduce the shadow effect.

종래의 증착 마스크는 금속박판을 포토마스크를 이용한 습식식각공정을 통하여 개구부를 형성하였기 때문에, 개구부의 측면에 라운딩지게 형성되므로, 테이퍼각을 일정이하로 형성하는 것은 어렵다. In the conventional deposition mask, since the metal thin plate is formed through a wet etching process using a photomask, it is formed to be rounded on the side of the opening, so that it is difficult to form the taper angle below a certain level.

통상적으로 상기 마스크 패턴부의 차폐부는 예를 들어 58°의 테이퍼각을 갖는데, 종래의 방법으로는 이보다 작은 테이퍼각을 갖도록 차폐부를 형성하는 것은 어려우며, 이에 따라 새도우 효과를 제거하는 데에는 한계가 발생하는 문제점이 있었다. Typically, the mask pattern portion has a taper angle of, for example, 58 °, but it is difficult to form the shield portion to have a taper angle smaller than that in the conventional method, and thus there is a limit in removing the shadow effect. There was this.

새도우 효과를 해결하기 위하여, 국내공개특허 제2003-0085188호에는 유기발광층의 증착시 새도우 효과를 최소화하기 위하여 메탈 마스크의 표면에 자성을 띄는 돌기가 형성된 메탈 마스크가 개시되었다.In order to solve the shadow effect, Korean Laid-Open Patent Publication No. 2003-0085188 discloses a metal mask in which magnetic protrusions are formed on the surface of the metal mask to minimize the shadow effect when the organic light emitting layer is deposited.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 마스크 패턴부를 슬로프지게 형성하여 테이퍼각을 감소시켜 줌으로써 새도우 효과를 방지할 수 있는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 및 그의 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the problems of the prior art as described above, and to form a mask pattern portion to reduce the taper angle by forming a mask pattern to reduce the shadow effect of the thin film deposition mask of the flat panel display device and its manufacturing method The purpose is to provide.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 피증착기판에 배열되는 단위소자에 대응하는 다수의 마스크 패턴부와; 상기 다수의 마스크 패턴부중 이웃하는 마스크 패턴부를 분리시켜 주기 위한 다수의 리브를 구비하고, 상기 마스크 패턴부는 상기 피증착기판에 배열되는 단위소자를 구성하는 박막과 동일한 패턴을 갖는 다수의 개구부와; 상기 개구부를 한정하는 다수의 차폐부를 구비하며, 상기 마스크패턴부의 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 그의 측면이 슬로프를 갖으며, 58° 미만의 테이퍼각을 갖는 평판표시장치의 박막증착용 마스크를 제공하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention includes a plurality of mask pattern portions corresponding to the unit elements arranged on the substrate to be deposited; A plurality of ribs for separating neighboring mask pattern portions among the plurality of mask pattern portions, the mask pattern portions having a plurality of openings having the same pattern as a thin film constituting a unit element arranged on the substrate to be deposited; And a plurality of shielding portions defining the openings, wherein at least one of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs of the mask pattern portion has a slope at a side thereof and has a taper angle of less than 58 °. It is characterized by providing a wearing mask.

상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나의 테이퍼각은 10° 내지 53° 인 것을 특징으로 한다. 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 다수의 개구부중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브인 것을 것을 특징으로 한다.At least one taper angle of the plurality of shields and the plurality of ribs is characterized in that 10 ° to 53 °. At least one of the plurality of shields and the plurality of ribs is characterized in that the shield and the ribs defining an opening arranged at the edge of the plurality of openings.

상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 다수의 개구부중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브는, 나머지 개구부를 한정하는 차폐부의 테이퍼각보다 작은 테이퍼각을 갖다. 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브는 10° 내지 53° 의 테이퍼각을 갖는다.The shield and the rib defining the opening arranged at the edge of the plurality of the shield and the plurality of ribs have a taper angle smaller than the taper angle of the shield defining the remaining opening. The shield and the ribs defining an opening arranged at an edge of the plurality of shields and the plurality of ribs have a taper angle of 10 ° to 53 °.

또한, 본 발명은 금속박판을 1차 식각하여 피증착기판에 배열되는 단위소자를 구성하는 박막과 동일한 패턴을 갖는 다수의 개구부와, 상기 개구부를 한정하는 차폐부를 각각 구비하는 다수의 마스크 패턴부와; 상기 다수의 마스크패턴부를 분리하는 다수의 리브를 형성하는 단계와; 상기 마스크패턴부의 차폐부와 리브를 2차식각하는 단계를 포함하며, 상기 마스크패턴부의 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 그의 측면이 슬로프를 갖으며, 58° 미만의 테이퍼각을 갖는 평판표시장치의 박막증착용 마스크의 제조방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention provides a plurality of mask pattern portions each having a plurality of openings having the same pattern as the thin film constituting a unit element arranged on the substrate by etching the metal thin plate first, and a shielding portion defining the openings; ; Forming a plurality of ribs separating the plurality of mask pattern portions; And secondly etching the shielding portion and the ribs of the mask pattern portion, wherein at least one of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs of the mask pattern portion has a slope at a side thereof and has a taper angle of less than 58 °. A method of manufacturing a thin film deposition mask of a flat panel display device is provided.

상기 1차식각공정은 습식식각공정을 포함하고, 상기 2차 식각공정은 레이저 식각공정을 포함한다.The primary etching process includes a wet etching process, and the secondary etching process includes a laser etching process.

이하 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 평판표시장치의 박막 증착용 마스크프레임 조립체의 분리 사시도를 도시한 것이다.3 is an exploded perspective view of a mask frame assembly for thin film deposition of a flat panel display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체(100)는 다수의 마스크 패턴부(130)를 구비한 패턴 마스크(120)와, 상기 패턴 마스크(120)를 지지하기 위한 프레임(110)을 구비한다.Referring to FIG. 3, the mask frame assembly 100 for thin film deposition of the flat panel display device of the present invention supports a pattern mask 120 having a plurality of mask pattern portions 130 and the pattern mask 120. It has a frame 110 for.

상기 프레임(110)은 상기 패턴 마스크(120)를 지지하기 위한 상, 하 지지부 및 좌, 우 지지부를 구비하고, 또한 단일의 개구부를 구비한다. 상기 프레임(110)에는 도 3의 화살표로 표시된 바와같이 각변에서 인장력이 가하여져 상기 패턴 마스크(120)가 고정된다.The frame 110 has upper and lower support parts and left and right support parts for supporting the pattern mask 120 and has a single opening. As shown by the arrow of FIG. 3, the frame 110 is applied with a tensile force at each side to fix the pattern mask 120.

상기 패턴 마스크(120)는 금속 박판(121)으로 이루어져, 피증착기판인 원판(도면상에는 도시되지 않음)에 배열되는 다수의 단위소자에 대응하는 다수의 마스크 패턴부(130)를 구비한다. 이때, 상기 단위소자라 함은 상기 원판을 스크라이브라인을 따라 절단하여 제조되는 하나의 표시장치를 의미한다. The pattern mask 120 is formed of a thin metal plate 121 and includes a plurality of mask pattern portions 130 corresponding to a plurality of unit elements arranged on an original plate (not shown) which is a substrate to be deposited. In this case, the unit device refers to one display device manufactured by cutting the original plate along the scribe brain.

상기 패턴 마스크(120)는 상기 다수의 마스크 패턴부(130)를 x방향과 y방향으로 분리시켜 주기 위한 다수의 리브(125)를 구비한다.The pattern mask 120 includes a plurality of ribs 125 for separating the plurality of mask pattern portions 130 in the x direction and the y direction.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 패턴 마스크에 있어서, 하나의 마스크 패턴부에 대한 단면도를 도시한 것으로서, 도 1의 I-I에 대한 확대 단면도를 도시한 것이다.FIG. 4 is a cross-sectional view of one mask pattern unit in the pattern mask according to the embodiment of the present invention, and shows an enlarged cross-sectional view of I-I of FIG. 1.

상기 마스크 패턴부(130)는 피증착기판에 증착될 박막과 동일한 패턴을 갖는 다수의 개구부(131)를 구비한다. 상기 개구부(131)사이에는 차폐부(133)가 형성되어 상기 개구부(131)를 한정한다. 상기 개구부(131)중 가장자리에 위치한 개구부(131a)는 상기 차폐부(133)와 리브(125)에 의해 한정된다.The mask pattern unit 130 includes a plurality of openings 131 having the same pattern as the thin film to be deposited on the substrate to be deposited. A shield 133 is formed between the openings 131 to define the openings 131. An opening 131a positioned at an edge of the opening 131 is defined by the shield 133 and the rib 125.

본 발명의 실시예에 따른 패턴 마스크에 있어서, 상기 마스크 패턴부(130)의 개구부를 한정하는 차폐부(133)와 리브(125)는 그의 측면이 일정한 테이퍼각(θ2)을 갖는 슬로프를 갖는다. In the pattern mask according to the exemplary embodiment of the present invention, the shielding portion 133 and the rib 125 defining the opening of the mask pattern portion 130 have a slope having a constant taper angle θ2.

종래의 패턴 마스크는 도 2에 도시된 바와같이 차폐부(23)와 리브(25)는 라운딩진 측면을 갖으며, 소정의 테이퍼각(θ1)을 갖도록 형성됨에 반하여, 본 발명의 패턴 마스크(120)에서는 차폐부(133)와 리브(125)는 그의 측면이 라인딩지지 않고 슬로프를 갖도록 형성된다.In the conventional pattern mask, as shown in FIG. 2, the shield 23 and the rib 25 have rounded sides and are formed to have a predetermined taper angle θ1, whereas the pattern mask 120 of the present invention is formed. ), The shield 133 and the rib 125 are formed so that their sides do not line up and have a slope.

그러므로, 본 발명의 패턴 마스크(120)의 상기 차폐부(133)와 리브(125)가 첨예한(sharp) 측면을 갖도록 형성되므로, 측면의 테이퍼각(θ2)이 종래보다 더 작은 값을 갖는다.Therefore, since the shielding portion 133 and the rib 125 of the pattern mask 120 of the present invention are formed to have sharp side surfaces, the side taper angle θ2 has a smaller value than the conventional one.

상기 차폐부(133)와 리브(125)의 측면의 테이퍼각(θ2)은 58°미만이며, 바람직하게는 10° 내지 53°의 테이퍼각을 갖는다.The taper angle θ2 of the side surfaces of the shield 133 and the rib 125 is less than 58 °, and preferably has a taper angle of 10 ° to 53 °.

상기한 바와 같은 테이퍼각을 갖는 본 발명의 패턴 마스크를 제조하는 방법을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the method of manufacturing a pattern mask of the present invention having a taper angle as described above are as follows.

먼저, 금속박판(121)을 준비한다. 상기 금속박판(121)상에 감광막을 도포한 다음 패터닝하여 감광막 패턴을 형성한다.First, the metal thin plate 121 is prepared. A photoresist film is coated on the metal thin plate 121 and then patterned to form a photoresist pattern.

상기 감광막 패턴을 이용하여 상기 금속박판(121)을 1차로 습식식각하여 상기 차폐부(133)와 리브(125)에 의해 한정되는 개구부(131)를 형성하여 마스크 패턴부(130)를 형성한다. The metal thin plate 121 is first wet-etched using the photosensitive film pattern to form an opening 131 defined by the shielding portion 133 and the rib 125 to form a mask pattern portion 130.

이어서, 상기 습식식각공정에 의해 라운딩진 단면을 갖는 패턴 마스크를 레이저를 이용하여 2차 식각하여 날카로운 슬로프를 갖는 마스크 패턴부(130)를 형성한다. 이때, 2차 식각공정은 통상적인 레이저 가공방식인 레이저 헤드가 움직이는 3차원 가공방식을 이용하여 진행한다.Subsequently, the mask pattern part 130 having the sharp slope is formed by second etching the pattern mask having the rounded end surface by the laser by the wet etching process. In this case, the secondary etching process is performed using a three-dimensional processing method in which the laser head, which is a conventional laser processing method, moves.

즉, 1차 습식식각공정에 의해 도 2에 도시된 바와같이 차폐부(133)와 리브(125)가 라인딩진 측면을 갖도록 금속박판(121)이 식각되고, 이어서 2차 레이저 식각공정에 의해 차폐부(133)와 리브(125)의 단부가 식각되어 도 4에 도시된 바와같이 날카로운 슬로프를 갖는 측면을 갖게 된다.That is, as shown in FIG. 2, the metal thin plate 121 is etched such that the shielding portion 133 and the ribs 125 have a lined side surface by the first wet etching process, and then the shielding is performed by the secondary laser etching process. The ends of the portion 133 and the rib 125 are etched to have sides with sharp slopes as shown in FIG. 4.

본 발명의 실시예에서는 마스크 패턴부(130)의 차폐부(133)와 리브(125)의 측면이 모두 동일하게 날카로운 슬로프를 갖는 측면을 갖도록 형성될 수도 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.In the exemplary embodiment of the present invention, the side surfaces of the shielding portion 133 and the rib 125 of the mask pattern portion 130 may be formed to have side surfaces having the same sharp slope, but are not necessarily limited thereto.

새도우 효과는 마스크패턴부(130)의 에지부분에서 그 효과가 더 크기 때문에, 전체적으로 균일한 박막을 증착하기 위하여 본 발명에서는 마스크 패턴부(130)의 개구부(131)중 가장자리 개구부(131a)를 한정하는 차폐부(133)와 리브(125)에 대해서만 2번에 걸친 식각공정을 수행하여 슬로프를 갖는 측면을 갖도록 형성하고 나머지 차폐부(133)에 대해서는 1번의 식각공정을 통해 라운딩진 측면을 갖도록 형성하는 것도 가능하다.Since the shadow effect has a greater effect at the edge portion of the mask pattern portion 130, in the present invention, the edge opening 131a of the opening 131 of the mask pattern portion 130 is limited in order to deposit a uniform film as a whole. Only two shielding portions 133 and ribs 125 are formed to have side surfaces having slopes, and the remaining shielding portions 133 have rounding sides through one etching process. It is also possible.

또한, 본 발명에서는 마스크 패턴부(130)의 차폐부(133)에 동일한 테이퍼각을 갖도록 형성할 수도 있지만, 마스크패턴부(130)의 에지부분에서의 새도우 효과를 완화시켜 전체적으로 균일한 박막을 증착하기 위하여 2차 레이저식각시 레이저의 세기 등을 달리하여 차폐부(133)와 리브(125)의 테이퍼각을 서로 다르게 형성할 수도 있다.In the present invention, the shielding portion 133 of the mask pattern portion 130 may be formed to have the same taper angle, but the shadow effect at the edge portion of the mask pattern portion 130 is alleviated to deposit a uniform film as a whole. To this end, the taper angles of the shield 133 and the rib 125 may be different from each other by varying the intensity of the laser during the secondary laser etching.

즉, 마스크 패턴부(130)의 개구부(131)중 가장자리 개구부(131a)를 한정하는 차폐부(133)와 리브(125)의 테이퍼각을 나머지 개구부(131)를 한정하는 차폐부 (133)의 테이퍼각보다 작게 형성하는 것도 가능하다.That is, the taper angle of the shielding portion 133 defining the edge opening 131a and the taper angle of the rib 125 of the opening portion 131 of the mask pattern portion 130 is defined by the shielding portion 133 defining the remaining opening 131. It is also possible to form smaller than the taper angle.

본 발명의 실시예에서는, 유기전계 발광소자용 박막을 증착하기 위한 마스크 조립체 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체에 대하여 예시하였으나, 본 발명의 다수의 개구부를 구비하는 오픈 마스크에 다수의 단위 패턴마스크로 분할된 패턴 마스크를 지지시킨 마스크 조립체는 액정표시장치 등과 같은 다양한 평판표시장치의 전극패턴 등을 증착하는 데 적용할 수 있다. In the exemplary embodiment of the present invention, a mask assembly for depositing a thin film for an organic light emitting device and a mask frame assembly using the same are illustrated. The mask assembly supporting the pattern mask may be applied to deposit electrode patterns of various flat panel display devices such as liquid crystal display devices.

또한, 본 발명의 실시예는 패턴마스크가 일체형인 경우에 대하여 설명하였으나, 이에 반드시 국한되는 것이 아니라 오픈 마스크에 분할마스크가 고정되는 등의 다양한 형태의 패턴 마스크에 적용가능하다.In addition, the embodiment of the present invention has been described with respect to the case in which the pattern mask is integrated, but is not necessarily limited thereto, and may be applied to various types of pattern masks such as a split mask fixed to an open mask.

상기한 바와같은 본 발명의 실시예에 따른 증착 마스크는 습식식각한 다음 레이저 식각공정을 수행하여 마스크 패턴부의 단부를 날카로운 슬로프를 갖도록 형성하여 줄 수 있으며, 이에 따라 새도우 효과를 감소시켜 균일한 박막을 증착시켜 줄 수 있다.The deposition mask according to the embodiment of the present invention as described above may be formed to have a sharp slope of the end portion of the mask pattern portion by performing a wet etching and then laser etching process, thereby reducing the shadow effect to form a uniform thin film Can be deposited.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.

Claims (11)

피증착기판에 배열되는 단위소자에 대응하는 다수의 마스크 패턴부와;A plurality of mask pattern portions corresponding to the unit elements arranged on the substrate to be deposited; 상기 다수의 마스크 패턴부중 이웃하는 마스크 패턴부를 분리시켜 주기 위한 다수의 리브를 구비하고,A plurality of ribs for separating neighboring mask pattern portions from the plurality of mask pattern portions, 상기 마스크 패턴부는 상기 피증착기판에 배열되는 단위소자를 구성하는 박막과 동일한 패턴을 갖는 다수의 개구부와;The mask pattern portion includes a plurality of openings having the same pattern as a thin film constituting a unit element arranged on the substrate; 상기 개구부를 한정하는 다수의 차폐부를 구비하며,A plurality of shields defining the openings; 상기 마스크패턴부의 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 그의 측면이 슬로프를 갖으며, 58° 미만의 테이퍼각을 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막증착용 마스크.And at least one of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs of the mask pattern portion has a slope at a side thereof and a taper angle of less than 58 °. 제1항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나의 테이퍼각은 10° 내지 53° 인 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크.The thin film deposition mask of claim 1, wherein a taper angle of at least one of the plurality of shields and the plurality of ribs is 10 ° to 53 °. 제1항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 다수의 개구부중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브인 것을 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막증착용 마스크.The thin film deposition mask of claim 1, wherein at least one of the plurality of shields and the plurality of ribs is a shield and a rib defining an opening arranged at an edge of the plurality of openings. 제1항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브는, 나머지 개구부를 한정하는 차폐부의 테이퍼각보다 작은 테이퍼각을 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막증착용 마스크.The flat plate according to claim 1, wherein the shielding portion and the rib defining the openings arranged at the edges of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs have a taper angle smaller than the taper angle of the shielding portion defining the remaining opening portions. Thin film deposition mask for display device. 제4항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브는 10° 내지 53° 의 테이퍼각을 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막증착용 마스크.The thin film deposition apparatus of claim 4, wherein the shielding portion and the rib defining the openings arranged at the edges of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs have a taper angle of 10 ° to 53 °. Mask. 금속박판을 1차 식각하여 피증착기판에 배열되는 단위소자를 구성하는 박막과 동일한 패턴을 갖는 다수의 개구부와, 상기 개구부를 한정하는 차폐부를 각각 구비하는 다수의 마스크 패턴부와; 상기 다수의 마스크패턴부를 분리하는 다수의 리브를 형성하는 단계와;A plurality of mask pattern portions each including a plurality of openings having the same pattern as a thin film constituting a unit element arranged on a substrate by etching the metal thin plate firstly and a shielding portion defining the openings; Forming a plurality of ribs separating the plurality of mask pattern portions; 상기 마스크패턴부의 차폐부와 리브를 2차식각하는 단계를 포함하며,Secondary etching the shielding portion and the rib of the mask pattern portion; 상기 마스크패턴부의 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 그의 측면이 슬로프를 갖으며, 58° 미만의 테이퍼각을 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막증착용 마스크의 제조방법.And at least one of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs of the mask pattern portion has a slope at a side thereof and a taper angle of less than 58 °. 제6항에 있어서, 상기 1차식각공정은 습식식각공정을 포함하고, 상기 2차 식각공정은 레이저 식각공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막증착용 마스크의 제조방법.The method of claim 6, wherein the primary etching process comprises a wet etching process, and the secondary etching process comprises a laser etching process. 제6항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나의 테이퍼 각은 10° 내지 53° 인 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크의 제조방법.The method of claim 6, wherein a taper angle of at least one of the plurality of shields and the plurality of ribs is 10 ° to 53 °. 제6항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 적어도 하나는 다수의 개구부중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브인 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크의 제조방법.The thin film deposition mask of claim 6, wherein at least one of the plurality of shields and the plurality of ribs is a shield and a rib defining an opening arranged at an edge of the plurality of openings. Way. 제6항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브는, 나머지 개구부를 한정하는 차폐부의 테이퍼각보다 작은 테이퍼각을 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크의 제조방법.7. The flat plate according to claim 6, wherein the shielding portion and the rib defining an opening arranged at an edge of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs have a taper angle smaller than the taper angle of the shielding portion defining the remaining opening portion. A method of manufacturing a thin film deposition mask of a display device. 제10항에 있어서, 상기 다수의 차폐부와 다수의 리브중 가장자리에 배열된 개구부를 한정하는 차폐부와 리브는 10° 내지 53° 의 테이퍼각을 갖는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 박막 증착용 마스크의 제조방법.The thin film deposition apparatus of claim 10, wherein the shielding portion and the ribs defining the openings arranged at the edges of the plurality of shielding portions and the plurality of ribs have a taper angle of 10 ° to 53 °. Method of manufacturing a mask.
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