KR100645535B1 - Organic electro luminescence display device and fabrication method of the same - Google Patents

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KR100645535B1 KR1020050074365A KR20050074365A KR100645535B1 KR 100645535 B1 KR100645535 B1 KR 100645535B1 KR 1020050074365 A KR1020050074365 A KR 1020050074365A KR 20050074365 A KR20050074365 A KR 20050074365A KR 100645535 B1 KR100645535 B1 KR 100645535B1
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Abstract

An organic electro-luminescence display device and a fabrication method of the same are provided to obtain a uniform line load by connecting a metal line with a scan line, a light emitting control line, a gate electrode by using a contact hole. An organic electro-luminescence display device includes an organic electro-luminescence display panel. The organic electro-luminescence display panel includes a pixel unit(100), a scanning/emitting control driver unit(200), a plurality of scan lines(S1-Sn), a plurality of light emitting control lines(E1-En), and a plurality of metal lines(110,130). The pixel unit includes a plurality of pixels(P11-Pnm). Each of unit pixels includes red, green, and blue pixels. The scan lines, the light emitting control lines, and a plurality of data lines(D1-Dm) are formed on a second direction on the pixels.

Description

유기전계발광표시장치 및 그의 제조방법{Organic Electro Luminescence Display Device and fabrication method of the same}Organic Electroluminescent Display Device and Fabrication Method of The Same

도 1은 종래의 유기전계발광표시장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional organic light emitting display device.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시장치의 구성도이다.2 is a block diagram of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 EL표시패널의 구성도이다.3 is a configuration diagram of an EL display panel according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 EL표시패널의 제조방법을 나타낸 구성도이다.4 is a configuration diagram showing a method of manufacturing an EL display panel according to an embodiment of the present invention.

도 5a, 5b, 5c, 5d 및 5e는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.5A, 5B, 5C, 5D, and 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 :화소부100: pixel part

200 : 주사/발광제어 구동부200: scan / light emission control driver

300 : 데이터 구동부1300: data driver 1

115 : 콘택홀115: contact hole

본 발명은 유기전계발광표시장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다수 개의 EL표시패널을 접합하여 형성되는 유기전계발광표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to an organic light emitting display device formed by bonding a plurality of EL display panels.

근래, 평판표시장치가 활발하게 연구되고 있으며 특히 유기전계발광표시장치는 휘도 특성 및 시야각 특성이 우수하여 차세대 평판표시장치로 주목받고 있다. Recently, flat panel display devices have been actively researched. In particular, organic light emitting display devices have attracted attention as next generation flat panel display devices due to their excellent luminance and viewing angle characteristics.

유기전계발광표시장치는 액정표시장치와 달리 별도의 광원부를 요구하지 않고 특정한 빛을 발광하는 발광 다이오드를 사용한다. 이러한 발광 다이오드는 애노드 전극으로 흘러 들어가는 구동전류의 양에 상응하는 빛을 발광한다. Unlike the liquid crystal display, the organic light emitting display device uses a light emitting diode that emits a specific light without requiring a separate light source unit. Such a light emitting diode emits light corresponding to the amount of driving current flowing into the anode electrode.

도 1은 종래의 유기전계발광표시장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional organic light emitting display device.

유기전계발광표시장치는 화소부(10), 주사 구동부(20), 데이터 구동부(30) 및 발광제어 구동부(40)로 구성된다. The organic light emitting display device includes a pixel unit 10, a scan driver 20, a data driver 30, and a light emission control driver 40.

주사 구동부(20)는 타이밍 제어부(미도시)로부터의 스캔제어신호, 즉 스타트 펄스와 클럭신호에 응답하여 순차적으로 주사선(S1~Sn)에 주사신호를 공급한다.The scan driver 20 sequentially supplies scan signals to the scan lines S1 to Sn in response to a scan control signal from a timing controller (not shown), that is, a start pulse and a clock signal.

데이터 구동부(30)는 타이밍 제어부(미도시)로부터 공급되는 데이터제어신호에 응답하여 R, G, B 데이터에 상응하는 데이터전압을 데이터선(DR1~DBm)에 공급한다. The data driver 30 supplies data voltages corresponding to the R, G, and B data to the data lines DR1 to DBm in response to a data control signal supplied from a timing controller (not shown).

발광제어 구동부(40)는 시프트 레지스터등으로 이루어져 있으며 타이밍 제어부(미도시)로부터 스타트 펄스와 클럭신호에 응답하여 순차적으로 발광제어선 (E1~En)에 발광제어신호를 공급한다.The light emission control driver 40 includes a shift register and supplies a light emission control signal to the light emission control lines E1 to En sequentially in response to a start pulse and a clock signal from a timing controller (not shown).

화소부(10)는 다수의 주사선(S1~Sn)과 다수의 데이터선(D1~Dm) 및 다수의 발광제어선(E1~En)이 교차하는 영역에 위치한 다수의 화소들(P11~Pnm)로 구성되어 있으며, 인가되는 데이터전압에 따라 소정의 영상을 디스플레이한다. 하나의 단위화소(Pnm)는 레드, 그린 및 블루 부화소로 구성된다. The pixel unit 10 includes a plurality of pixels P11 to Pnm positioned in an area where a plurality of scan lines S1 to Sn, a plurality of data lines D1 to Dm, and a plurality of emission control lines E1 to En cross each other. And a predetermined image is displayed according to the applied data voltage. One unit pixel (Pnm) is composed of red, green and blue subpixels.

화소부(10)의 레드, 그린 및 블루 부화소는 동일한 화소회로의 구성을 갖고 있으며, 각각의 유기EL소자가 인가되는 전류에 상응하는 레드, 그린 및 블루의 빛을 발광한다. 따라서 화소(Pnm)는 화소(Pnm)를 형성하는 레드, 그린 및 블루 부화소가 발광하는 빛을 조합하여 특정한 색을 표시한다.The red, green, and blue subpixels of the pixel portion 10 have the same pixel circuit configuration, and emit red, green, and blue light corresponding to the current to which each organic EL element is applied. Accordingly, the pixel Pnm displays a specific color by combining light emitted from the red, green, and blue subpixels forming the pixel Pnm.

이러한 유기전계발광표시장치의 주사선(S1~Sn) 및 발광제어선(E1~En)들은 화소부(10)의 박막트랜지스터들로 각각의 신호를 인가하여 화소들(P11~Pnm)을 활성화시킨다. 이러한 동작에 있어서 주사선(S1~Sn) 및 발광제어선(E1~En)과 박막트랜지스터들의 게이트 전극들의 접속이 요구된다. 이러한 게이트 전극들의 접속이 불균일하게 형성되는 경우 각각의 주사선(S1~Sn) 및 발광제어선(E1~En)의 선 부하가 달라지고, 이에 따라 신호입력 시간이 지연되는 문제 등이 발생한다.The scan lines S1 to Sn and the emission control lines E1 to En of the organic light emitting display device apply respective signals to the thin film transistors of the pixel unit 10 to activate the pixels P11 to Pnm. In this operation, connection of the scan lines S1 to Sn and the emission control lines E1 to En and the gate electrodes of the thin film transistors is required. When the gate electrodes are unevenly connected, the line loads of the scan lines S1 to Sn and the light emission control lines E1 to En are different, resulting in a delay in signal input time.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 다수의 EL표시패널을 접합하여 형성되는 유기전계발광표시장치의 패널에 있어서, 콘택홀을 이용하여 주사선 및 발광제어선과 화소부의 게이트 전극배선을 균일하게 접속하는 유기전계발 광표시장치의 패널 및 이러한 패널의 제조방법을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention for solving the above problems is in a panel of an organic light emitting display device formed by joining a plurality of EL display panels, using a contact hole to uniformly scan lines, emission control lines and gate electrode wirings of the pixel portion. Disclosed is a panel of an organic light emitting display device and a method of manufacturing the panel.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 다수의 주사선과 발광제어선들 및 상기 주사선 및 발광제어선과 교차하여 접속하는 다수의 금속배선들을 포함하는 다수의 EL표시패널들을 접합하여 형성되는 유기전계발광표시장치에 있어서, 상기 각각의 EL표시패널은, 영상을 디스플레이하는 화소부 상에 대각선 방향으로 형성되며, 상기 다수의 주사선 및 발광제어선들과 상기 금속배선들이 제 1마스크를 이용하여 형성된 콘택홀에 의해 전기적으로 접속되는 제 1 영역; 및 제 2 마스크를 이용하여 형성되며, 상기 제 1 영역으로부터 주사신호 및 발광제어신호를 인가받아 활성화되는 제 2 영역을 포함하는 유기전계발광표시장치를 제공한다.The present invention for achieving the above object is an organic light emitting display device formed by bonding a plurality of EL display panels including a plurality of scan lines and light emission control lines and a plurality of metal wires connected to intersect the scan line and light emission control lines. In each of the EL display panels, the EL display panel is formed in a diagonal direction on a pixel portion displaying an image, and the plurality of scan lines, light emission control lines and the metal wirings are electrically formed by a contact hole formed using a first mask. A first region connected to the connection; And a second area formed using a second mask and activated by receiving a scan signal and a light emission control signal from the first area.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 다수의 주사선과 발광제어선들 및 상기 주사선 및 발광제어선과 교차하여 접속하는 다수의 금속배선들을 포함하는 다수의 EL표시패널들을 접합하여 형성되는 유기전계발광표시장치의 제조방법에 있어서, 상기 각각의 EL표시패널의 제조방법은, 영상을 디스플레이하는 화소부를 동일한 크기의 n×n개의 영역으로 분할하고, 소스/드레인 영역 및 채널을 정의하는 반도체층이 적층된 기판을 형성하는 단계; 상기 기판 상에 게이트 전극 및 상기 게이트 전극과 연결되어 주사신호 및 발광제어신호를 전달하는 금속배선들을 형성하는 단계; 제 1 마스크를 이용하여 상기 주사선 및 발광제어선과 상기 금속배선들이 접속하는 제 1 영역에 상기 소스/드레인 영역을 노출시키는 콘택홀 및 상기 금속배 선들을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계; 제 2 마스크를 이용하여 상기 제 1 영역으로부터 주사신호 및 발광제어신호를 인가받아 활성화되는 제 2 영역에 상기 소스/드레인 영역을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 및 제 2 영역에 형성된 콘택홀들 상에 소스/드레인 전극, 주사선 및 발광제어선을 형성하는 유기전계발광표시장치의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention for achieving the above object, an organic electroluminescence is formed by bonding a plurality of EL display panels comprising a plurality of scan lines and light emission control lines and a plurality of metal wires connected to intersect the scan line and light emission control lines. In the manufacturing method of the display device, each of the EL display panels is manufactured by dividing a pixel portion for displaying an image into n × n regions of the same size, and stacking semiconductor layers defining source / drain regions and channels. Forming a substrate; Forming metal wires connected to the gate electrode and the gate electrode on the substrate to transfer scan signals and emission control signals; Forming a contact hole exposing the source / drain region and a contact hole exposing the metal lines in a first region to which the scan line, the emission control line, and the metal lines are connected using a first mask; Forming a contact hole exposing the source / drain region in a second region activated by receiving a scan signal and a light emission control signal from the first region using a second mask; And a source / drain electrode, a scan line, and a light emission control line on contact holes formed in the first and second regions.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

실시예Example

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시장치의 구성도이다.2 is a block diagram of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 유기전계발광표시장치는 다수의 EL표시패널(1~8)을 부착하여 형성된 패널과 각각의 EL표시패널(1~8)에 연결되는 데이터 구동부(1~8)로 구성된다.Referring to FIG. 2, an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention includes a panel formed by attaching a plurality of EL display panels 1 to 8 and a data driver connected to each of the EL display panels 1 to 8. It consists of (1-8).

하나의 EL표시패널(400)과 EL표시패널에 연결된 하나의 데이터 구동부(500)는 유기전계발광표시장치를 구성하는 하나의 서브 유기전계발광표시장치(450)를 구성한다.One EL display panel 400 and one data driver 500 connected to the EL display panel constitute one sub organic light emitting display device 450 constituting the organic light emitting display device.

각각의 EL표시패널(400)은 데이터 구동부(500)와 전기적으로 연결된다. 하나의 EL표시패널(400)과 데이터 구동부(500) 사이의 전기적 연결은 가요성 필름 상에 인쇄된 금속 패턴을 통해 달성된다. 즉, 데이터 구동부(500)의 출력 단자는 금속 패턴의 일단에 전기적으로 연결되고, 상기 EL표시패널(400) 상에 구비된 데이터선은 상기 금속 패턴의 타단과 전기적으로 연결된다.Each EL display panel 400 is electrically connected to the data driver 500. Electrical connection between one EL display panel 400 and the data driver 500 is achieved through a metal pattern printed on the flexible film. That is, the output terminal of the data driver 500 is electrically connected to one end of the metal pattern, and the data line provided on the EL display panel 400 is electrically connected to the other end of the metal pattern.

각각의 데이터 구동부(500)는 가요성 필름 상에 구비된 다수의 도전성 라인들을 통해 데이터 신호를 화소부에 공급한다. 이러한 도전성 라인은 수직 배열된 8개의 화소라인에 위치하는 24개의 레드, 그린 및 블루 부화소라인으로 데이터신호를 인가한다. 하나의 EL표시패널(400)은 60개의 도전성 라인과 연결되어 각각의 화소로 데이터신호를 인가받는다.Each data driver 500 supplies a data signal to the pixel part through a plurality of conductive lines provided on the flexible film. The conductive lines apply data signals to 24 red, green, and blue subpixel lines positioned in eight vertically arranged pixel lines. One EL display panel 400 is connected to 60 conductive lines to receive a data signal to each pixel.

또한, 화소부를 구성하는 화소를 선택하기 위한 주사신호 및 화소의 발광동작을 제어하기 위한 발광제어신호를 생성하는 회로는 상기 EL표시패널(400)에 내장된다. 따라서 상기 EL표시패널(400)은 외부에 별도로 구비된 주사신호 발생수단 또는 발광제어신호 발생수단을 요구하지 않는다.In addition, a circuit for generating a scanning signal for selecting a pixel constituting the pixel portion and a light emission control signal for controlling the light emission operation of the pixel is incorporated in the EL display panel 400. Therefore, the EL display panel 400 does not require scanning signal generating means or light emitting control signal generating means separately provided externally.

하나의 EL표시패널(400)은 종래에 사용되는 소형 유기전계발광표시장치의 패널과 동일한 제조공정을 거쳐 생산될 수 있다. 따라서 동일한 제조공정을 거쳐 생산된 동일한 수개의 EL표시패널(400)을 부착하여 하나의 대형 패널을 형성한다. One EL display panel 400 can be produced through the same manufacturing process as the panel of the conventional small size organic light emitting display device. Therefore, one large panel is formed by attaching several identical EL display panels 400 produced through the same manufacturing process.

이러한 EL표시패널(400)은 하나의 패널을 제조하는데 사용하는 마스크가 동일하여 같은 크기의 박막 트랜지스터를 갖을 수 있다. 또한 각각의 화소들의 박막 트랜지스터는 빠른 응답속도 및 균일성을 위하여 박막 트랜지스터의 채널로 폴리 실리콘을 갖는다. 이때 폴리 실리콘은 비정질 실리콘 층을 유리 기판 상에 형성한 후 LTPS(Low Temperature Poly Si)공정을 거쳐 비정질 실리콘 층을 폴리 실리콘으로 결정화시킨다. 이러한 LTPS공정에 사용되는 레이져 샷 (Laser Shot)이 다른 경우 문턱전압 및 이동도의 차이가 있는 화소들이 형성될 수 있다. 따라서 상기와 같이 동일한 공정을 통하여 만든 EL표시패널(400)은 동일한 레이져 샷을 사용하여 박 막 트랜지스터를 형성할 수 있어 EL표시패널(400)을 접합한 대형 패널의 경우 전체적인 화소의 균일성을 만족할 수 있다. The EL display panel 400 may have thin film transistors having the same size since the masks used to manufacture one panel are the same. In addition, the thin film transistor of each pixel has polysilicon as a channel of the thin film transistor for fast response speed and uniformity. At this time, the polysilicon forms an amorphous silicon layer on the glass substrate, and then crystallizes the amorphous silicon layer into polysilicon through a Low Temperature Poly Si (LTPS) process. When laser shots used in the LTPS process are different, pixels having a difference in threshold voltage and mobility may be formed. Therefore, the EL display panel 400 made through the same process as described above can form a thin film transistor using the same laser shot, so that in the case of the large panel in which the EL display panel 400 is bonded, the uniformity of the entire pixel can be satisfied. Can be.

이러한 각각의 EL표시패널(400)은 UV 경화수지나 열 경화수지, 구체적으로 에폭시 수지 등을 사용하여 이웃한 EL표시패널(400)과 부착할 수 있다. Each of the EL display panels 400 may be attached to the neighboring EL display panels 400 by using a UV curable resin or a thermosetting resin, specifically an epoxy resin.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 EL표시패널의 구성도이다.3 is a configuration diagram of an EL display panel according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 EL표시패널은 화소부(100), 주사/발광제어 구동부(200), 다수의 주사선들(S1~Sn), 다수의 발광제어선들(E1~En) 및 다수의 금속배선들(110,130)로 구성된다. Referring to FIG. 3, an EL display panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes a pixel unit 100, a scan / light emission control driver 200, a plurality of scan lines S1 -Sn, and a plurality of emission control lines E1-. En) and a plurality of metal wires 110 and 130.

도 3에서는 n번째 주사신호에 의해 활성화되는 화소들의 방향을 제 1 방향으로, 제 1 방향에 수직인 방향을 제 2 방향으로 한다.In FIG. 3, the direction of pixels activated by the n-th scan signal is referred to as the first direction, and the direction perpendicular to the first direction is referred to as the second direction.

화소부(100)는 다수의 화소들(P11~Pnm)을 가지며 하나의 단위화소(Pnm)는 레드, 그린 및 블루 부화소들로 구성된다. 상기 화소들(P11~Pnm)은 제 1 방향을 따라 레드, 그린 및 블루의 부화소들이 규칙적으로 반복하며 형성되고, 제 2 방향을 따라서 동일한 형태가 반복하며 형성된다. The pixel unit 100 includes a plurality of pixels P11 to Pnm, and one unit pixel Pnm includes red, green, and blue subpixels. The pixels P11 to Pnm are formed by repeating red, green, and blue subpixels regularly along a first direction, and repeating the same shape along the second direction.

화소들(P11~Pnm)의 배치는 다양한 변경을 통해 구현될 수 있다. 즉, 제 1 방향으로 레드, 그린 및 블루의 부화소들이 스트라이프 구조를 이루며 배열되나, 제 2 방향은 그 배열의 패턴이 다르게 형성될 수도 있다. 또한, 화소들(P11~Pnm)의 배치가 수직 또는 수평방향으로 일렬로 배열되지 않는 모자이크 형태의 배치구조를 가질 수 있다. 상기한 바와 같이 화소들(P11~Pnm)의 배치는 다양하게 변경되어 실시될 수 있음을 알 수 있다.The arrangement of the pixels P11 to Pnm may be implemented through various changes. That is, the red, green, and blue subpixels are arranged in a stripe structure in the first direction, but the pattern of the arrangement may be different in the second direction. In addition, the arrangement of the pixels P11 to Pnm may have a mosaic arrangement in which the arrangement of the pixels P11 to Pnm is not arranged in a line in the vertical or horizontal direction. As described above, the arrangement of the pixels P11 to Pnm may be variously changed.

화소(Pnm)의 레드, 그린 및 블루 부화소들은 동일한 화소회로의 구성을 갖고 있다. 레드, 그린 및 블루 부화소들은 유기EL소자(OLED)에 인가되는 전류에 상응하는 레드, 그린 및 블루의 빛을 발광한다. 따라서 화소(Pnm)는 화소(Pnm)를 형성하는 레드, 그린 및 블루 부화소들이 발광하는 빛을 조합하여 특정한 색을 표시한다. The red, green, and blue subpixels of the pixel Pnm have the same pixel circuit configuration. The red, green, and blue subpixels emit red, green, and blue light corresponding to the current applied to the organic EL element OLED. Accordingly, the pixel Pnm displays a specific color by combining light emitted by the red, green, and blue subpixels forming the pixel Pnm.

이러한 화소부(100)에는 화소들(P11~Pnm) 상으로 다수의 주사선(S1~Sn) 및 발광제어선들(E1~En)과 다수의 데이터선(D1~Dm)이 제 2 방향으로 형성된다.In the pixel unit 100, a plurality of scan lines S1 to Sn, emission control lines E1 to En, and a plurality of data lines D1 to Dm are formed on the pixels P11 to Pnm in a second direction. .

또한 각각의 주사선(Sn) 및 발광제어선(En)을 각각의 화소들(P11~Pnm)과 연결하기 위한 다수의 금속배선들(110,130)이 각각의 주사선(Sn) 및 발광제어선(E1~En)과 교차하여 제 1 방향으로 형성된다. 각각의 화소(Pnm)는 연결된 금속배선들(110,130)로부터 주사신호, 발광제어신호를 인가받고, 데이터선(D1~Dm)으로부터 데이터신호를 인가받아 소정의 영상을 디스플레이한다.In addition, a plurality of metal wires 110 and 130 for connecting each scan line Sn and the emission control line En with the respective pixels P11 to Pnm are formed in the respective scan line Sn and the emission control line E1 to. It is formed in the first direction intersecting with En). Each pixel Pnm receives a scan signal and an emission control signal from the connected metal wires 110 and 130, and receives a data signal from the data lines D1 to Dm to display a predetermined image.

주사/발광제어 구동부(200)는 EL표시패널(400) 상에 위치하고, EL표시패널 (400)외에 위치하는 데이터 구동부와 EL표시패널(400) 내에 위치하는 화소부(100) 사이에 형성된다. 이는 다수의 EL표시패널(400)을 접합하여 하나의 유기전계발광표시장치를 제조하기 위해 데이터신호, 주사신호 및 발광제어신호를 인가하는 구동부를 화소부(100)의 편측으로 형성하기 위함이다. The scan / light emission control driver 200 is located on the EL display panel 400 and is formed between the data driver located outside the EL display panel 400 and the pixel portion 100 located in the EL display panel 400. This is to form a driving unit for applying a data signal, a scanning signal, and a light emission control signal to one side of the pixel unit 100 in order to bond a plurality of EL display panels 400 to manufacture one organic light emitting display device.

주사/발광제어 구동부(200)는 타이밍 제어부(미도시)로부터 주사제어신호 즉, 주사/발광제어 구동부(200)를 구동하기 위한 클럭신호들을 인가받아 주사신호 및 발광제어신호를 화소부(100)로 출력한다. The scan / light emission control driver 200 receives a scan control signal, that is, clock signals for driving the scan / light emission control driver 200 from a timing controller (not shown), and outputs a scan signal and a light emission control signal to the pixel unit 100. Will output

주사/발광제어 구동부(200)로부터 연장되는 주사선(Sn) 및 발광제어선(En)은 제 2 방향으로 형성된다. 이러한 주사선 및 발광제어선(Sn, En)은 제 1 방향의 화소들(Pn1~Pnm)을 하나의 주사신호 및 하나의 발광제어신호로 순차적으로 활성화시켜야 한다. 따라서 주사선 및 발광제어선(Sn, En)은 주사선 및 발광제어선(Sn, En)과 교차하여 제 1 방향으로 형성된 금속배선들(110,130)을 이용하여 제 1 방향의 화소들(Pn1~Pnm)과 각각 연결된다.The scan line Sn and the emission control line En extending from the scan / light emission control driver 200 are formed in the second direction. The scan line and the emission control lines Sn and En must sequentially activate the pixels Pn1 to Pnm in the first direction with one scan signal and one emission control signal. Therefore, the scan lines and the emission control lines Sn and En cross the scan lines and the emission control lines Sn and En and use the metal wires 110 and 130 formed in the first direction to form the pixels Pn1 to Pnm in the first direction. And are respectively connected.

각각의 금속배선들(110,130)은 제 1 방향으로 형성된 화소들을 가로질러 형성된다. 주사선(Sn)과 연결되는 금속배선(110)은 주사신호에 의해 턴온되는 제 1 방향의 화소들(Pn1~Pnm) 상의 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 연결된다. 또한 발광제어선(En)과 연결되는 금속배선(130)은 발광제어신호에 의해 턴온되는 제 1 방향의 화소들(Pn1~Pnm) 상의 발광제어 트랜지스터의 게이트 전극과 연결된다. Each of the metal wires 110 and 130 is formed across the pixels formed in the first direction. The metal line 110 connected to the scan line Sn is connected to the gate electrode of the thin film transistor on the pixels Pn1 to Pnm in the first direction turned on by the scan signal. In addition, the metal wire 130 connected to the emission control line En is connected to the gate electrode of the emission control transistor on the pixels Pn1 to Pnm in the first direction turned on by the emission control signal.

상기 트랜지스터들은 트랜지스터들을 가로질러 형성된 상기 금속배선(110,130)을 게이트 전극으로 포함할 수 있으며, 금속배선(110,130)과 연결된 게이트 전극을 별도로 포함할 수 있다. The transistors may include the metal wires 110 and 130 formed across the transistors as gate electrodes, and may include a gate electrode connected to the metal wires 110 and 130 separately.

이러한 주사선(Sn) 및 발광제어선(En)과 금속배선들(110,130)의 전기적 접속은 콘택홀(115)을 통해 달성된다. 각각의 주사선(Sn) 및 발광제어선(En)은 제 2 방향으로 형성된 화소들(P1m~Pnm)을 가로질러 형성되며, 제 1 방향으로 형성되어 화소들(Pn1~Pnm)과 직접적으로 연결되는 금속배선들(110,130)과 접속된다. The electrical connection between the scan line Sn, the emission control line En, and the metal wires 110 and 130 is achieved through the contact hole 115. Each scan line Sn and the emission control line En are formed to cross the pixels P1m to Pnm formed in the second direction and are directly connected to the pixels Pn1 to Pnm formed in the first direction. Are connected to the metal wires 110 and 130.

각각의 주사선들(S1~Sn)은 하나씩의 콘택홀(115)을 이용하여 금속배선(110)과 접속된다. 즉 제 1 번째 주사선(S1)은 제 1 번째 주사신호에 의해 활성화되는 제 1 방향의 화소들(P11~P1m)을 가로지르는 금속배선(110)과 교차하는 화소(P11)상 에서 콘택홀(115)을 통해 전기적으로 접속된다. 또한, 제 n 번째 주사선(Sn)은 제 n 번째 주사신호에 의해 턴온되는 제 1 방향의 화소들(Pn1~Pnm)을 가로지르는 금속배선(110)과 교차하는 화소(Pnn)상에서 콘택홀(115)을 통해 전기적으로 접속된다. Each of the scan lines S1 to Sn is connected to the metal line 110 using one contact hole 115. That is, the first scan line S1 contacts the contact hole 115 on the pixel P11 crossing the metal line 110 crossing the pixels P11 to P1m in the first direction activated by the first scan signal. Is electrically connected through In addition, the n-th scan line Sn has a contact hole 115 on the pixel Pnn crossing the metal line 110 crossing the pixels Pn1 to Pnm in the first direction turned on by the nth scan signal. Is electrically connected through

따라서 이러한 콘택홀들(115)은 n×n번째 화소 상에서 주사선들과 금속배선을 접속시키며, 대각선 방향으로 형성된다.Therefore, the contact holes 115 connect the scan lines and the metal lines on the n × n-th pixel and are formed in a diagonal direction.

각각의 발광제어선들(E1~En)은 하나씩의 콘택홀(115)을 이용하여 금속배선(130)과 접속된다. 즉 제 1 번째 발광제어선(E1)은 제 1 번째 발광제어신호에 의해 발광하는 제 1 방향의 화소들(P11~P1m)을 가로지르는 금속배선(130)과 교차하는 화소(P11)상에서 콘택홀(115)을 통해 전기적으로 접속된다. 또한, 제 n 번째 발광제어선(En)은 제 n 번째 발광제어신호에 의해 발광하는 제 1 방향의 화소들(Pn1~Pnm)을 가로지르는 금속배선(130)과 교차하는 화소(Pnn)상에서 콘택홀(115)을 통해 전기적으로 접속된다. Each of the emission control lines E1 to En is connected to the metal wire 130 using one contact hole 115. That is, the first emission control line E1 contacts the contact hole on the pixel P11 that intersects the metal wire 130 crossing the pixels P11 to P1m in the first direction that emits light by the first emission control signal. Electrically connected via 115. In addition, the n th light emission control line En contacts the pixel Pnn crossing the metal line 130 crossing the pixels Pn1 to Pnm in the first direction that emit light by the nth light emission control signal. It is electrically connected through the hole 115.

따라서 이러한 n×n번째 화소들(P11~Pnn)은 주사선(S1~Sn) 및 발광제어선들(E1~En)과 금속배선(110,130)을 접속하는 2개의 콘택홀들(115)을 포함하며, 이러한 콘택홀들(115)은 대각선 방향으로 형성된다.Accordingly, the n × n-th pixels P11 to Pnn include two contact holes 115 connecting scan lines S1 to Sn and emission control lines E1 to En and metal wires 110 and 130. These contact holes 115 are formed in a diagonal direction.

상기와 같이 각각의 주사선(Sn) 및 발광제어선(En) 마다 하나의 콘택홀(115)을 통하여 금속배선(110,130)과 접속함으로써 콘택홀(115)을 형성함에 따른 선 부하가 동일해지고, 따라서 주사신호 및 발광제어신호를 입력할 때 발생할 수 있는 신호지연을 방지할 수 있다. As described above, each of the scan lines Sn and the light emission control line En is connected to the metal wirings 110 and 130 through one contact hole 115, thereby making the line loads of forming the contact holes 115 the same. It is possible to prevent signal delay that may occur when inputting a scan signal and a light emission control signal.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 EL표시패널의 제조방법을 나타낸 구성도이 다.4 is a configuration diagram showing a method of manufacturing an EL display panel according to an embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 EL표시패널의 화소부(100)는 동일한 면적을 갖는 n×n개의 영역으로 분할된다.Referring to Fig. 4, the pixel portion 100 of the EL display panel according to the embodiment of the present invention is divided into n x n areas having the same area.

이러한 n×n개의 영역은 콘택홀(115)을 포함하는 제 1 영역(A)과 콘택홀(115)을 포함하지 않는 제 2 영역(B)으로 구분된다. 상기의 콘택홀(115)은 도 3에 도시된 주사선(S1~Sn) 및 발광제어선(E1~En)과 금속배선(110,130)을 전기적으로 접속시키는 콘택홀(115)을 의미한다. The n × n regions are divided into a first region A including the contact hole 115 and a second region B not including the contact hole 115. The contact hole 115 refers to the contact hole 115 electrically connecting the scan lines S1 to Sn and the emission control lines E1 to En and the metal wires 110 and 130 shown in FIG. 3.

제 1 영역(A)은 대각선 방향으로 형성된 콘택홀들(115)을 포함하며, 각각의 콘택홀(115)은 n×n번째의 화소들(P11~Pnm)상에 형성된다. 이러한 제 1 영역(A)은 화소부(100)에서 대각선 방향으로 형성된다. 따라서 이러한 콘택홀들(115)은 제 1 영역(A)에 따른 제 1 마스크를 통하여 동일하게 형성될 수 있다. 즉 하나의 제 1 마스크를 복수 회에 걸쳐 이용하여 복수개의 제 1 영역(A)에 동일한 콘택홀들(115)을 형성할 수 있다. The first region A includes contact holes 115 formed in a diagonal direction, and each contact hole 115 is formed on the n × n-th pixels P11 to Pnm. The first region A is formed diagonally in the pixel portion 100. Therefore, the contact holes 115 may be formed in the same manner through the first mask along the first area A. FIG. That is, the same contact holes 115 may be formed in the plurality of first regions A by using one first mask a plurality of times.

제 2 영역(B)은 상기와 같은 콘택홀들(115)을 포함하지 않으며, 제 1 영역(A)을 제외한 화소부(100)를 형성하고 있다. 제 2 영역(B)은 동일한 크기를 갖는 복수개의 소 영역으로 구성되며, 콘택홀들(115)을 포함하지 않는 제 2 영역(B)에 따른 제 2 마스크를 복수 회에 걸쳐 이용하여 균일하게 형성된다.The second region B does not include the contact holes 115 as described above, and forms the pixel portion 100 except for the first region A. FIG. The second region B is composed of a plurality of small regions having the same size, and is uniformly formed by using the second mask according to the second region B, which does not include the contact holes 115, a plurality of times. do.

도 5a, 5b, 5c, 5d 및 5e는 본 발명의 실시예에 따른 EL표시패널의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.5A, 5B, 5C, 5D and 5E are sectional views showing the manufacturing method of the EL display panel according to the embodiment of the present invention.

도 5a, 5b, 5c, 5d 및 5e는 제 1 영역(A) 및 제 2 영역(B)을 도시하고 있으 며, 제 1 영역(A)의 A1은 화소부(100)의 박막 트랜지스터들을, A2는 주사선(Sn)과 이와 교차하는 금속배선(110)을, A3은 발광제어선(En)과 이와 교차하는 금속배선(130)을 나타낸다. 또한 제 2 영역(B)의 B1은 화소부(100)의 박막 트랜지스터들을, B2는 주사선(Sn)과 이와 교차하는 금속배선(110)을, B3은 발광제어선(En)과 이와 교차하는 금속배선(130)을 나타낸다.5A, 5B, 5C, 5D, and 5E illustrate a first region A and a second region B, wherein A1 of the first region A represents thin film transistors of the pixel portion 100, A2. Denotes a scan line Sn and the metal wire 110 crossing the scan line Sn, and A3 denotes a light emission control line En and a metal wire 130 intersecting with the scan line Sn. In addition, B1 of the second region B denotes the thin film transistors of the pixel portion 100, B2 denotes the scan line Sn and the metal wire 110 intersecting with the scan line Sn, and B3 denotes the light emission control line En and the metal intersected therewith. The wiring 130 is shown.

도 5a를 참조하면, 제 1 영역(A) 및 제 2 영역(B)에 구비된 하부기판(600)상에 반도체층이 적층된다. 상기 반도체층은 비정질 반도체를 적층한 후 LTPS(Low Temperature Poly Si) 공정을 통하여 결정화된다. 이러한 반도체층은 박막 트랜지스터를 형성하는 A1 및 B1상에 형성된다. Referring to FIG. 5A, a semiconductor layer is stacked on the lower substrate 600 provided in the first area A and the second area B. FIG. The semiconductor layer is crystallized through a Low Temperature Poly Si (LTPS) process after laminating an amorphous semiconductor. This semiconductor layer is formed on A1 and B1 forming the thin film transistor.

상기 반도체층 상에 게이트 절연막(610)을 형성한다. 상기 게이트 절연막(610)으로는 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막 등을 사용할 수 있다. 상기 게이트 절연막(610) 상으로 A1 및 B1에는 게이트 전극(120)을 형성하고, A2, B2 및 A3, B3에는 금속배선들(110,130)을 형성한다. A gate insulating layer 610 is formed on the semiconductor layer. A silicon oxide film or a silicon nitride film may be used as the gate insulating film 610. Gate electrodes 120 are formed on A1 and B1 on the gate insulating layer 610, and metal wires 110 and 130 are formed on A2, B2, A3, and B3.

이러한 금속배선들(110,130)에는 게이트 전극(120)과 동일한 물질들인 몰리브덴, 몰리브덴 합금, 알루미늄 합금 등이 사용된다. 몰리브덴 합금은 열적 안정성이 우수하고 ITO막과의 접착력이 우수하다. 이러한 몰리브덴 합금으로는 몰리 텅스텐이 많이 사용된다. 이러한 금속배선들(110,130) 및 게이트 전극(120)은 상기 물질들의 도전막을 적층한 후 패터닝하여 형성된다. 이러한 금속배선들(110,130) 및 게이트 전극(120)은 화소의 박막 트랜지스터들의 배열에 따라 금속배선들(110,130)이 게이트 전극(120)으로서 동작할 수 있고, 상기 금속배선(110,130)과 게이트 전 극(120)을 연결하는 배선을 더 포함할 수 있다. Molybdenum, molybdenum alloy, aluminum alloy, etc., which are the same materials as the gate electrode 120, are used for the metal wires 110 and 130. Molybdenum alloys have excellent thermal stability and good adhesion to ITO membranes. As such molybdenum alloy, molybdenum tungsten is used a lot. The metal wires 110 and 130 and the gate electrode 120 are formed by stacking and patterning a conductive film of the materials. The metal wires 110 and 130 and the gate electrode 120 may operate as the gate electrodes 120 by the metal wires 110 and 130 according to the arrangement of the thin film transistors of the pixel, and the metal wires 110 and 130 and the gate electrode 120. The wire connecting the 120 may further include.

상기 박막 트랜지스터(A1,B1) 상에 게이트 전극(120)이 형성되면, 게이트 전극(120)을 마스크로 하여 하부의 결정질 반도체층에 도전성 불순물을 주입하여 소스/드레인 영역(630)을 형성한다. 이때 소스/드레인 영역들(630)사이에 채널이 형성되는 영역이 정의된다. When the gate electrode 120 is formed on the thin film transistors A1 and B1, conductive impurities are implanted into the lower crystalline semiconductor layer using the gate electrode 120 as a mask to form a source / drain region 630. In this case, a region in which a channel is formed between the source / drain regions 630 is defined.

도 5b를 참조하면, 상기 게이트 전극(120) 및 금속배선(110,130)이 형성된 제 1 영역 (A)및 제 2 영역(B)의 기판(600) 상에 제 1 절연막(650)을 형성한다. 제 1 절연막(650)은 상기 게이트 절연막(610)과 동일한 무기막인 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막등으로 형성될 수 있다. 또한 제 1 절연막(650)은 유기막인 아크릴계 고분자막 또는 BCB(BenzoCycloButene)등으로 형성될 수 있다. Referring to FIG. 5B, a first insulating layer 650 is formed on the substrate 600 of the first region A and the second region B on which the gate electrode 120 and the metal wirings 110 and 130 are formed. The first insulating film 650 may be formed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like, which is the same inorganic film as the gate insulating film 610. In addition, the first insulating layer 650 may be formed of an acrylic polymer film or BCB (BenzoCycloButene).

도 5c를 참조하면, 제 1 절연막(650)이 형성된 제 1 영역(A)에 제 1 마스크(700A)를 이용하여 콘택홀들(635,115a,115b)을 형성한다.Referring to FIG. 5C, contact holes 635, 115a and 115b are formed in the first region A in which the first insulating layer 650 is formed using the first mask 700A.

상기 콘택홀들(635,115a,115b)은 제 1 절연막(650)과 게이트 절연막(610)을 식각하여 하부의 소스/드레인 영역(630)을 노출시키는 콘택홀(635) 및 제 1 절연막(650)을 식각하여 A2와 A3 영역에 형성된 금속배선(110,130)들을 노출시키는 콘택홀들(115a,115b)을 포함한다. The contact holes 635, 115a, and 115b may contact the first insulating layer 650 and the gate insulating layer 610 to expose the source / drain regions 630 below, and the first insulating layer 650. And contact holes 115a and 115b exposing the metal wires 110 and 130 formed in the A2 and A3 regions by etching.

도 5d를 참조하면, 제 1 절연막(650)이 형성된 제 2 영역(B)에 제 2 마스크(700B)를 이용하여 콘택홀들(637)을 형성한다. Referring to FIG. 5D, contact holes 637 are formed in the second region B in which the first insulating layer 650 is formed using the second mask 700B.

상기 콘택홀들(637)은 제 1 절연막(650)과 게이트 절연막(610)을 식각하여 하부의 소스/드레인 영역(630)을 노출시킨다. 따라서 제 2 마스크(700b)가 이용되 는 제 2 영역(B)에는 B2 및 B3에 형성된 금속배선들(110,130)을 노출시키는 콘택홀은 형성되지 않는다.The contact holes 637 may etch the first insulating layer 650 and the gate insulating layer 610 to expose the lower source / drain regions 630. Therefore, a contact hole exposing the metal wires 110 and 130 formed in B2 and B3 is not formed in the second region B in which the second mask 700b is used.

제 1 마스크(700A)를 제 1 영역(A)에만 선택적으로 사용하고, 제 2 마스크(700B)를 제 2 영역(B)에만 선택적으로 사용하는 경우, 2장의 마스크들(700A, 700B)로 n×n개로 분할되는 영역에 콘택홀들(635,637,115a,115b)을 형성할 수 있다. When the first mask 700A is selectively used only for the first area A, and the second mask 700B is selectively used only for the second area B, two masks 700A and 700B are used. Contact holes 635, 637, 115a, and 115b may be formed in a region divided by n.

도 5e를 참조하면, 다수의 콘택홀들(635,637,115a,115b)이 형성된 제 1 영역(A) 및 제 2 영역(B)에 도전막을 적층하고 패터닝하여 소스/드레인 전극(660)을 형성한다. 소스/드레인 전극(660)은 노출된 소스/드레인 영역들(630)에 각각 접속된다. 따라서 상기 반도체층, 게이트 전극(120), 소스/드레인 전극들(660)은 박막 트랜지스터를 형성한다. Referring to FIG. 5E, a conductive film is stacked and patterned in the first region A and the second region B in which the plurality of contact holes 635, 637, 115a, and 115b are formed to form a source / drain electrode 660. Source / drain electrodes 660 are respectively connected to exposed source / drain regions 630. Accordingly, the semiconductor layer, the gate electrode 120, and the source / drain electrodes 660 form a thin film transistor.

또한 이러한 도전막은 패터닝하여 주사선(670a) 및 발광제어선(670b)을 형성한다.In addition, the conductive film is patterned to form the scan line 670a and the emission control line 670b.

이러한 주사선(670a) 및 발광제어선(670b)들은 노출된 금속배선들(110,130)과 각각 접속된다. 따라서 게이트 전극(120)과 연결되는 금속배선(110,130)들은 콘택홀(115a,115b)을 통하여 주사선(670a) 또는 발광제어선(670b)과 전기적으로 접속된다. The scan lines 670a and the emission control lines 670b are connected to the exposed metal wires 110 and 130, respectively. Therefore, the metal wires 110 and 130 connected to the gate electrode 120 are electrically connected to the scan line 670a or the light emission control line 670b through the contact holes 115a and 115b.

이와 같이, 하나의 화소부(100)에 있어서, 콘택홀(115)이 불균일하게 형성되는 경우, 2장의 마스크(700A,700B)만으로 각각의 영역들의 콘택홀들(115)을 형성할 수 있어 마스크의 수를 줄일 수 있다. 또한 소스/드레인 전극(660)을 형성하기 위 한 콘택홀(635)과 주사선(670a) 및 발광제어선(670b)을 연결하는 콘택홀(115a,115b)을 동시에 형성할 수 있어 공정의 단계를 효과적으로 감소시킬 수 있다. As such, when the contact holes 115 are unevenly formed in one pixel unit 100, the contact holes 115 of the respective regions may be formed using only two masks 700A and 700B. Can be reduced. In addition, the contact hole 635 for forming the source / drain electrode 660 and the contact holes 115a and 115b connecting the scan line 670a and the emission control line 670b may be formed at the same time. Can be effectively reduced.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 다수의 EL표시패널을 접합하여 형성되는 유기전계발광표시장치의 패널에 있어서 각각의 EL표시패널의 주사선 및 발광제어선과 게이트 전극과 연결되는 금속배선을 각각 하나의 콘택홀로 접속시킴으로써 선 부하를 균일하게 할 수 있다. 따라서 입력신호의 지연을 방지할 수 있으며 이러한 콘택홀이 대각선에 위치하는 화소 상에 규칙적으로 형성됨으로써 콘택홀을 형성하는 마스크의 개수가 감소하여 공정이 단순화되며, 비용이 절감될 수 있다.According to the present invention as described above, in the panel of the organic light emitting display device which is formed by joining a plurality of EL display panels, each contact is made with a metal line connected to the scanning line, the light emission control line and the gate electrode of each EL display panel. By connecting alone, the line load can be made uniform. Therefore, the delay of the input signal can be prevented, and the contact holes are regularly formed on the pixels positioned diagonally, thereby reducing the number of masks forming the contact holes, thereby simplifying the process and reducing the cost.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

Claims (6)

다수의 주사선과 발광제어선들 및 상기 주사선 및 발광제어선과 교차하여 접속하는 다수의 금속배선들을 포함하는 다수의 EL표시패널들을 접합하여 형성되는 유기전계발광표시장치의 제조방법에 있어서, 상기 각각의 EL표시패널의 제조방법은,A method of manufacturing an organic light emitting display device formed by bonding a plurality of EL display panels including a plurality of scan lines and light emission control lines and a plurality of metal wires connected to intersect the scan line and light emission control lines. The manufacturing method of the display panel is 영상을 디스플레이하는 화소부를 동일한 크기의 n×n개의 영역으로 분할하고,Dividing the pixel portion displaying an image into n × n regions of the same size, 소스/드레인 영역 및 채널을 정의하는 반도체층이 적층된 기판을 형성하는 단계;Forming a substrate on which semiconductor layers defining source / drain regions and channels are stacked; 상기 기판 상에 게이트 전극 및 상기 게이트 전극과 연결되어 주사신호 및 발광제어신호를 전달하는 금속배선들을 형성하는 단계;Forming metal wires connected to the gate electrode and the gate electrode on the substrate to transfer scan signals and emission control signals; 제 1 마스크를 이용하여 상기 주사선 및 발광제어선과 상기 금속배선들이 접속하는 제 1 영역에 상기 소스/드레인 영역을 노출시키는 콘택홀 및 상기 금속배선들을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계;Forming a contact hole exposing the source / drain area and a contact hole exposing the metal wires in a first area to which the scan line, the emission control line, and the metal wires are connected using a first mask; 제 2 마스크를 이용하여 상기 제 1 영역으로부터 주사신호 및 발광제어신호를 인가받아 활성화되는 제 2 영역에 상기 소스/드레인 영역을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계; 및 Forming a contact hole exposing the source / drain region in a second region activated by receiving a scan signal and a light emission control signal from the first region using a second mask; And 상기 제 1 및 제 2 영역에 형성된 콘택홀들 상에 소스/드레인 전극, 주사선 및 발광제어선을 형성하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.A method of manufacturing an organic light emitting display device, comprising: forming a source / drain electrode, a scan line, and a light emission control line on contact holes formed in the first and second regions. 제1항에 있어서, 상기 화소부의 상기 제 1 영역은 대각선 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the first region of the pixel portion is formed in a diagonal direction. 제2항에 있어서, 상기 제 1 영역에서 상기 금속배선들과 상기 주사선 및 발광제어선을 전기적으로 접속시키는 상기 콘택홀은 대각선으로 위치하는 화소 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.The organic light emitting display device as claimed in claim 2, wherein the contact hole electrically connecting the metal wires, the scan line, and the emission control line in the first area is formed on a diagonally located pixel. Manufacturing method. 다수의 주사선과 발광제어선들 및 상기 주사선 및 발광제어선과 교차하여 접속하는 다수의 금속배선들을 포함하는 다수의 EL표시패널들을 접합하여 형성되는 유기전계발광표시장치에 있어서, 상기 각각의 EL표시패널은,An organic light emitting display device formed by bonding a plurality of EL display panels including a plurality of scan lines and light emission control lines and a plurality of metal wires connected to intersect the scan line and light emission control lines, wherein each of the EL display panels comprises: , 영상을 디스플레이하는 화소부 상에 대각선 방향으로 형성되며, 상기 다수의 주사선 및 발광제어선들과 상기 금속배선들이 제 1마스크를 이용하여 형성된 콘택홀에 의해 전기적으로 접속되는 제 1 영역; 및A first area formed in a diagonal direction on a pixel portion displaying an image and electrically connected to each of the scan lines, the emission control lines, and the metal wires by a contact hole formed using a first mask; And 제 2 마스크를 이용하여 형성되며, 상기 제 1 영역으로부터 주사신호 및 발광제어신호를 인가받아 활성화되는 제 2 영역을 포함하는 유기전계발광표시장치.And a second area formed using a second mask and activated by receiving a scan signal and a light emission control signal from the first area. 제4항에 있어서, 상기 각각의 금속배선은 각각 하나씩의 콘택홀을 통하여 상기 각각의 주사선 또는 발광제어선과 전기적으로 접속하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.The organic light emitting display device as claimed in claim 4, wherein each of the metal wires is electrically connected to each of the scan lines or the light emission control lines through one contact hole. 제5항에 있어서, 상기 제 1 영역에서 상기 금속배선들과 상기 주사선 및 발광제어선을 전기적으로 접속시키는 상기 각각의 콘택홀은 대각선으로 위치하는 화소 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.The organic light emitting display as claimed in claim 5, wherein each of the contact holes for electrically connecting the metal wires, the scan line, and the emission control line in the first area is formed on a diagonally located pixel. Device.
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