KR100636431B1 - 웨이브 형태의 그루브가 형성된 화학적 기계적 연마패드 - Google Patents
웨이브 형태의 그루브가 형성된 화학적 기계적 연마패드 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (8)
- 연마패드 상면에 웨이브 형태의 그루브로 형성된 복수의 동심원을 가지며,상기 각각의 동심원은 서로 다른 반경 및 3 내지 1000의 진동수를 갖는 사인곡선으로 형성되며,상기 복수의 웨이브 형태의 동심 그루브는 연마조건에 따라 사인 곡선의 진동수를 조절하여 형성되는 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
- 제 1항에 있어서,상기 그루브의 너비는 10 ㎛ 내지 10 ㎜인 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
- 제 1항에 있어서,상기 그루브 사이의 간격은 10 ㎛ 내지 100 ㎜인 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 연마패드 상에는 홀의 조합으로 구성된 서로 다른 반경을 갖는 다수의 동심원이 추가적으로 형성된 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 연마패드 상에는 그루브, 홀 또는 그 조합으로 구성된 하나 또는 그 이상의 직선이 추가적으로 형성된 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
- 제 5항에 있어서,상기 직선은 다수의 직선이 일정한 간격으로 직교하도록 배치된 격자구조를 이루는 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
- 제 5항에 있어서,상기 직선은 동심에서 교차하여 직경방향으로 대칭이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
- 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 웨이브 형태의 그루브는 레이저를 이용하여 가공하는 것을 특징으로 하는 화학적 기계적 연마패드.
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2006
- 2006-02-28 KR KR1020060019601A patent/KR100636431B1/ko active IP Right Grant
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