KR100627562B1 - 트랙 장비의 작업 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 트랙 장비의 작업 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 얇은 에지 블래이드 제거하기 위해 10초 동안 진행할 공정을 5초 단위로 방향을 바꾸어서 진행하는 단계, 에어본 입자의 발생을 억제하기 위해 정지하기 이전에 반대 방향으로의 회전을 하게하여 공기의 흐름을 변화시키는 단계, 동일한 회전 속도에서 현상을 실행시 웨이퍼의 스핀 방향을 바꾸어 주는 단계, 린스 작업 방법에서 회전 속도를 변경하여 린스 효과를 높이는 방법과 동일하게 웨이퍼 스핀 방향을 바꾸어 주는 단계로 이루어짐에 기술적 특징이 있다.

따라서, 본 발명의 트랙 장비의 작업 방법은 트랙 장비의 작업 방법 작성시 스핀 방향을 변경 사용가능 하게 함으로써 코팅기와 현상기의 결함을 제거하는 효과가 있다.

트랙장비, 현상기, 작업 방법

Description

트랙 장비의 작업 방법{Method for working the track device}

도 1a 내지 도 1b는 현상기 작업 방법 표.

본 발명은 트랙 장비의 작업 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 트랙 장비의 작업 방법은 트랙 장비의 작업 방법 작성시 스핀 방향을 변경 사용가능 하게 함으로써 코팅기와 현상기의 결함을 제거에 관한 것이다.

반도체 제조 공정은 다양한 방법이 적용되는 공정들을 사용하여 반도체 기판(semiconductor substrate), 유리 기판(glass substrate) 또는 액정 패널(liquid crystal panel) 등과 같은 기판(substrate) 상에 원하는 전자 회로를 형성한다.

반도체 제조공정에서 포토리소그라피 공정(photolithography)은 크게 감광액 도포 공정, 노광 공정 그리고 현상 공정으로 이루어진다. 감광액 도포 공정은 빛에 민감한 물질인 감광액(photo resist; PR)을 기판 표면에 고르게 도포시키는 공정이다. 노광 공정은 스텝퍼(stepper)를 사용하여 마스크(mask)에 그려진 회로패턴에 빛을 통과시켜 PR막이 형성된 기판 위에 회로 패턴을 노광(exposure)하는 공정이다. 현상 공정은 노광 공정을 통하여 기판의 표면에서 빛을 받은 부분의 막을현상(development)시키는 공정이다.

트랙 현상기(TRACK DEVELOPER) 작업 순서표(RECIPE) 의 기본적인 순서를 살펴보면 다음과 같다.

PRESPIN : 에어본 입자를 제거한다.

PREWET(DI DISPENSE) : 현상액의 형성을 향상시킨다.

DEVELOPER DISPENSE : 패턴을 형성하기 시작한다.

PUDDLE : 상기 형성하기 위한 패턴은 긴 시간동안 형성된다.

DI RINSE : 포토레지스트 잔유물을 제거한다.

HIGH SPEED DRY : 습식 식각 용액을 건조 시킨다.

상기 작업 공정은 코팅기와 현상기 두 곳에서 중요한 문제를 발생시킨다.

우선, 코팅기의 소용돌이 결함은 코팅기에서 포토레지스트 패턴 형성이 이루어지는 상황에서 높은 속도에서 생기는 문제이다. 상기 문제는 일정한 점도가 유지되는 액체를 일정한 두께를 유지하기 위해서 회전하는 공정에서 한쪽 방향으로만 진행이 되기 때문이다.

또한, 현상기는 공기의 흐름에 영향을 받아 현상을 실시할때 결함이 증가된다.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 트랙 장비의 작업 방법은 트랙 장비의 작업 방법 작성시 스핀 방향을 변경 사용가능 하게 함으로써 코팅기와 현상기의 결함을 제거을 제공함에 본 발명의 목적이 있다.

본 발명의 상기 목적은 얇은 에지 블래이드 제거하기 위해 10초 동안 진행할 공정을 5초 단위로 방향을 바꾸어서 진행하는 단계, 에어본 입자의 발생을 억제하기 위해 정지하기 이전에 반대 방향으로의 회전을 하게하여 공기의 흐름을 변화시키는 단계, 동일한 회전 속도에서 현상을 실행시 웨이퍼의 스핀 방향을 바꾸어 주는 단계, 린스 작업 방법에서 회전 속도를 변경하여 린스 효과를 높이는 방법과 동일하게 웨이퍼 스핀 방향을 바꾸어 주는 단계로 이루어진 트랙 장비의 작업 방법에 의해 달성된다.

본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다.

도 1a 내지 도 1b는 현상기 작업 방법 표이다.

모든 공정진행이 일정한 방향이기 때문에 작업 방법에서 지정해주는 단계가 없다. 작업 방법에서 스핀방향을 지정할 수 있는 단계을 추가하여 진행할 수 있게 한다.

우선 코팅기의 소용돌이 결함은 코팅기에서 포토레지스트 패턴 형성이 이루어지는 상황에서 높은 속도에서 생기는 문제를 극복하기 위한 작업 방법이다.

먼저, 얇은 에지 블래이드(edge blade) 제거한다. 얇은 EBR 공정이 웨이퍼 회전을한쪽으로만 진행이 되기 때문에 에지 제거가 깨끗하게 되지 않는다. 이유는 방향성을 가지고 깨끗하게 제거되지 않기때문이다. 이러한 문제를 10초 동안 진행할 공정을 5초 단위로 방향을 바꾸어서 진행하면 깨끗하게 진행이 된다. 물론 이러한 발명이 수행이 되기 위해서는 TEBR 하드웨어 조정이 선행이 전제조건이다

다음, 에어본 입자를 증가때문이다. 이러한 결함이 생기는 문제는 웨이퍼 회전이 한쪽 방향이 되어지다가 정지하는 단계에서 공기의 흐름이 일정한 방향으로 유지되다가 정지함에 의한 변화가 생겨서 공기가 웨이퍼 내부로 순간적으로 하강이 생겨서 발생이 된다. 이러한 문제를 정지하기 이전에 반대 방향으로의 회전을 하게하여 공기의 흐름을 변화시켜서 에어본 입자의 발생을 억제한다.

다음, 현상기 작업 방법은 동일한 회전 속도에서 현상을 실행시 웨이퍼의 스핀 방향을 바꾸어 줌으로써 CD 균일성 증가를 유발한다.

다음, 순수용액 세척을 실시한다. 린스(rinse) 작업 방법에서 회전 속도를 변경하여 린스 효과를 높이는 방법과 동일하게 웨이퍼 스핀 방향을 바꾸어 줌으로써 동일한 효과를 가져온다.

다음, 에어본 입자를 코팅기에서와 동일하게 증가시켜 같은 효과를 얻는다.

본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시 예를 도시하고 설명하 였으나, 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.

따라서, 본 발명의 트랙 장비의 작업 방법은 트랙 장비의 작업 방법 작성시 스핀 방향을 변경 사용가능 하게 함으로써 코팅기와 현상기의 결함을 제거하는 효과가 있다.

Claims (1)

1. 트랙 장비의 작업 방법에 있어서,

   (가) 얇은 에지 블래이드 제거하기 위해 10초 동안 진행할 공정을 5초 단위로 방향을 바꾸어서 진행하는 단계;

   (나) 에어본 입자의 발생을 억제하기 위해 정지하기 이전에 반대 방향으로의 회전을 하게하여 공기의 흐름을 변화시키는 단계;

   (다) 현상기 작업 방법에서 동일한 회전 속도에서 현상을 실행시 웨이퍼의 스핀 방향을 바꾸어 주는 단계; 및

   (라) 린스 작업 방법에서 회전 속도를 변경하여 린스 효과를 높이는 방법과 동일하게 웨이퍼 스핀 방향을 바꾸어 주는 단계

   를 포함하는 것을 특징으로 하는 트랙 장비의 작업 방법.

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