KR100625966B1 - Method of vacuum evaporation for EL and appratus the same - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따르면, 유기 EL 소자의 박막증착은 증착재료를 준비하고, 상기 증착재료를 진공분위기에서 증발시키기 위한 설정온도 이하의 유지온도로 적어도 1차 가열하고, 상기 유지온도로 가열된 증착재료의 온도를 기점으로 하여 설정온도까지 가열하여 증발온도 및 증착재료의 증발량을 제어하는 것을 특징으로한다.According to the present invention, the thin film deposition of the organic EL device is prepared by depositing a deposition material, at least a first heating to a holding temperature below a set temperature for evaporating the deposition material in a vacuum atmosphere, It is characterized by controlling the evaporation temperature and the evaporation amount of the evaporation material by heating to a set temperature starting from the temperature.
Description
도 1은 온도와 박막 재료의 증발속도관계를 나타내 보인 도면,1 is a view showing the relationship between the temperature and the evaporation rate of the thin film material,
도 2는 시간과 박막재료의 증발제어 온도관계를 나타내 보인 도면,2 is a view showing the relationship between the time and the evaporation control temperature of the thin film material,
도 3은 본 발명에 따른 박막 증착방법을 실시하기 위한 증착장치를 도시한 도면,3 is a view showing a deposition apparatus for performing a thin film deposition method according to the present invention,
도 4는 가열수단을 나타내 보인 사시도,4 is a perspective view showing a heating means,
도 5는 가열수단의 다른 실시예를 도시한 사시도,5 is a perspective view showing another embodiment of the heating means,
도 6은 본 발명에 따른 박막 증착장치를 개략적으로 도시한 단면도,6 is a cross-sectional view schematically showing a thin film deposition apparatus according to the present invention;
본 발명은 유기 EL 소자의 제조방법에 관한 것으로, 유기박막과 전극층을 형성하기 위하여 전극재로와 유기재료를 기판에 증착하기 위한 유기 EL 소자의 박막 증착방법 및 그 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL device, and a method and apparatus for thin film deposition of an organic EL device for depositing an electrode material and an organic material on a substrate to form an organic thin film and an electrode layer.
EL 소자는 자발 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 표시소자로써 주목 받고 있다. EL devices are attracting attention as next-generation display devices because they have the advantages of wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed.
EL 소자는 발광층(emitter layer) 형성용 물질에 따라 무기 EL 소자와 유기 EL 소자로 구분된다. 여기에서 유기 EL 소자는 무기 EL 소자에 비하여 휘도, 구동전압 및 응답속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 장점을 가지고 있다.EL devices are classified into inorganic EL devices and organic EL devices according to materials for forming an emitter layer. Herein, the organic EL device has an advantage of excellent luminance, driving voltage, and response speed, and multicoloring, compared to the inorganic EL device.
일반적인 유기 EL 소자의 구조는, 기판 상부에 소정패턴의 양전극층이 형성되어 있다. 그리고 이 양전극층 상부에는 홀 수송층, 발광층, 전자 수송층이 순차적으로 형성되고, 상기 전자수송층의 상면에는 상기 양전극층과 직교하는 방향으로 소정패턴의 음전극층이 형성되어 있다. 여기에서 홀 수송층, 발광층 및 전자수송층 은 유기 화합물로 이루어진 유기박막들이다.In the structure of a general organic EL element, a positive electrode layer having a predetermined pattern is formed on a substrate. The hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer are sequentially formed on the positive electrode layer, and a negative electrode layer having a predetermined pattern is formed on the upper surface of the electron transport layer in a direction orthogonal to the positive electrode layer. Here, the hole transport layer, the light emitting layer and the electron transport layer are organic thin films made of an organic compound.
상술한 바와 같은 구조를 갖는 유기 EL 소자는 구동은 다음과 같이 이루어진다. 상기 선택된 양전극층 및 음전극층 간에 전압을 인가하면 선택된 양전극층으로부터 주입된 홀은 홀 수송층을 경유하여 발광층에 이동된다. 한편, 전자는 음전극층으로부터 전자 수송층를 경유하여 발광층에 주입되고, 발광층 영역에서 캐리어들이 재결합하여 엑시톤(exiton)을 생성한다. 이 엑시톤이 여기상태에서 기저상태로 변화되고, 이로 인하여 발광층의 형광성 분자가 발광함으로써 화상이 형성된다.The organic EL element having the structure as described above is driven as follows. When a voltage is applied between the selected positive electrode layer and the negative electrode layer, holes injected from the selected positive electrode layer are moved to the light emitting layer via the hole transport layer. On the other hand, electrons are injected into the light emitting layer from the negative electrode layer via the electron transport layer, and carriers are recombined in the light emitting layer to generate excitons. This exciton is changed from an excited state to a ground state, whereby an image is formed by the fluorescent molecules of the light emitting layer emitting light.
상술한 바와 같이 구성되어 작동되는 유기 EL 소자를 제작함에 있어서, 기판 상에 유기재료로서, 각각 버퍼 재료, 홀 수송층, 전자 수송층 및 양전극층, 음전극층을 이루는 재료등을 순차로 가열하여 증발시킴으로써 증착하여 박막을 제작한다. 상기와 같은 방법으로 박막을 증착시켜 소정의 기능을 수행하는 소자를 구성한다. In fabricating the organic EL device constructed and operated as described above, vapor deposition is performed by sequentially heating and evaporating a buffer material, a hole transporting layer, an electron transporting layer and a positive electrode layer, and a material forming a negative electrode layer as organic materials on a substrate, respectively. To produce a thin film. By depositing a thin film in the same manner as above to configure a device that performs a predetermined function.
유기 EL소자의 박막을 이루는 상기 유기재료는 진공중에서 250 내지 450도의 온도범위에서 증발한다. 한편 전극재료는 유기재료와 비교하여 일반적으로 고온에서 증발하게 되는데, 이러한 증발온도는 재료의 종류에 따라 크게 변한다. 가장 일반적으로 이용되는 Mg는 500도에서 600도, 동시에 사용되는 Ag은 1000도 이상에서 증발한다. 또한 전극재료로서 이용되는 Al은 1000도 내외에서 증발하며, Li은 300도에서 증발한다.The organic material forming the thin film of the organic EL device is evaporated in a temperature range of 250 to 450 degrees in vacuum. On the other hand, the electrode material is generally evaporated at a high temperature compared with the organic material, the evaporation temperature varies greatly depending on the type of material. The most commonly used Mg evaporates at 500 to 600 degrees and simultaneously used Ag evaporates at more than 1000 degrees. In addition, Al used as an electrode material evaporates around 1000 degrees, and Li evaporates at 300 degrees.
상기 유기재료는 낮은 온도에서 증발하므로 증발작업은 간단하지만 불순물도 쉽게 증발하여 증착되는 박막을 오염시키게 된다. 한편 상기 유기재료를 가열하는 과정에서 가열온도에 따라 증발되는 재료의 양이 달라지게 되므로 재료의 증발량을 일정하게 하기 위해서는 정밀한 온도 제어를 필요로 한다. 더욱이 소정의 유기재로는 고체에서 기체로 직접 변화하는 이른바 승화하여 증발하게 되는데, 이 경우 유기재료는 일반적으로 열전도가 좋지 않아 유기재료가 용기에 접하는 부분으로부터 증발하여 가고 용기에서 떨어져 남은 부분은 뜬 상태로 되므로 일정 속도로 증발을 계속시키기 위해서는 점차적으로 가열용기의 온도를 올리는 등의 제어가 요구된다. 금속재료도 용융한 후 부터 증발하는 재료와 고체에서 직접 기체로 변화하는 재료가 있지만, 온도 상승과 함께 급속하게 증발 속도가 변화하는 것은 유기재료와 마찬가지이다. 고체에서 기체로 변하여 승화하는 재료도 유기재료와 마찬가지로 일정속도로 제어하는 것은 어렵다.Since the organic material evaporates at a low temperature, evaporation is simple, but impurities also easily evaporate to contaminate the deposited thin film. Meanwhile, since the amount of evaporated material varies depending on the heating temperature in the process of heating the organic material, precise temperature control is required to make the evaporation amount of the material constant. Furthermore, certain organic materials are evaporated by sublimation, which changes directly from solid to gas. In this case, organic materials are generally poor in thermal conductivity, so organic materials evaporate from the contact with the container and the remaining part is separated from the container. In order to continue evaporation at a constant rate, control such as gradually raising the temperature of the heating vessel is required. There are also metal materials that evaporate after melting and materials that change directly from solid to gas, but the rate of evaporation changes rapidly with temperature rise is the same as organic materials. It is difficult to control a sublimation material that converts from a solid into a gas at a constant speed like organic materials.
유기 EL 소자는 적어도 유기재료를 2종류 이상 칼라 화상을 구현하기 위한 소자에 있어서는 5 내지 6 종류 이상의 유기재료와 2종류의 금속재료를 1회의 증 착작업으로 증착시키지 않으면 안된다. 더욱이 2종류의 재료를 동시에 증발시키는 이른바 도핑을 행하는 경우에는 동시에 두 개의 재료를 증착시켜 그 증발 속도의 비율을 일정하게 유지하기 때문에 증발속도의 정밀한 제어가 필요하게 된다. The organic EL device must deposit at least two organic materials and two or more kinds of organic materials and two kinds of metal materials by one deposition operation in an element for implementing at least two types of color images of organic materials. In addition, when so-called doping in which two kinds of materials are evaporated at the same time, precise control of the evaporation rate is required because two materials are deposited at the same time and the ratio of the evaporation rates is kept constant.
통상적으로 증발속도를 제어하기 위해서는 재료의 온도 제어를 행한다(온도제어는 용기의 온도제어가 아닌 재료의 온도제어를 의미한다.) 이러한 온도제어는 히이터에 인가되는 전류 또는 전압제어로서 이루어질 수 있는데, 유기 EL 소자 제작의 경우 단시간내에 균일한 증발속도를 유지하여야 하고, 온도의 오버슈트는 허용되지 않는다. 이러한 조건은 실험실 단계에서 각각의 재료를 주의깊게 제어하여 증착하는 것은 그 정도 어렵지는 않다. 그러나 공업적으로 연속하여 소자를 제작하는 경우에는 가능한한 단시간에 박막증착을 행할 필요가 있다.Typically, temperature control of the material is performed to control the evaporation rate (temperature control means temperature control of the material, not temperature control of the container.) Such temperature control may be performed as a current or voltage control applied to the heater. In the case of organic EL device fabrication, a uniform evaporation rate must be maintained within a short time, and overshoot of temperature is not allowed. These conditions are not so difficult to carefully control and deposit each material at the laboratory stage. However, in the case of industrially producing devices continuously, it is necessary to perform thin film deposition in the shortest time possible.
도 1에는 온도와 증발속도와의 관계의 일예를 나타낸다. 도 1에는 유기 EL소자의 제조에 가장 많이 이용되고 있는 발광재료이며 전자수송층을 이루는 재료인 알루미키노린(アルミキノリン)의 온도와 증착속도와의 관계를 나타내는 실험예이다. 일반적으로는 매초 수 옹스트롱의 속도록 증착시키지만, 도핑하는 경우에는 최저 일례로서 매초 30Å과 두자리수 이상의 정도(精度)의 속도제어가 구해진다. 1 shows an example of the relationship between temperature and evaporation rate. FIG. 1 is an experimental example showing the relationship between the temperature and deposition rate of alumininolin, which is a light emitting material which is most used in the manufacture of organic EL devices, and constitutes an electron transport layer. In general, the deposition rate is several angstroms per second. However, in the case of doping, a speed control of about 30 s per second and a precision of two or more digits is obtained as a minimum example.
도 1에서 0.1Å의 속도제어는 온도로 환산하여 0.1도 이상의 온도제어가 요구되는 것이 나타난다. 단시간에 0.1도의 정도의 온도 제어는 일반적으로 매우 어렵다.In FIG. 1, the speed control of 0.1 Hz is shown to require temperature control of 0.1 degrees or more in terms of temperature. Temperature control on the order of 0.1 degrees in a short time is generally very difficult.
도 2는 시간과 박막 증착을 위한 제어온도와의 관계를 나타내 보였다.2 shows the relationship between time and control temperature for thin film deposition.
일정한 증발속도를 일정한 가열온도를 얻기 위해서는 최적의 제어를 행하더 라도 출발점과 제어시키기 위한 온도와의 온도차가 큰 경우 혹은 열의 타부위로의 빠져나감 등의 외란이 큰 경우에는 제어성이 떨어지기 때문에 제어에 요하는 시간이 증대된다. 도 2에 나타낸 실험예에서는 최적 제어조건( 도 2의 그래프 B)에 있어서도 설정온도에 달하기 까지에 10분 이상의 시간이 걸림을 알 수 있다. 물론 재료의 가열을 위한 전력 공급을 높여 가열 온도의 상승 속도를 올리는 경우(도 2의 그래프 A) 오버슈트가 발생되어 한번에 다량의 증착재료가 증발하게 된다. 설정온도까지 도달하는 10분의 대기시간은 6개의 재료를 연속하여 증착할 때에는 60분의 대기 시간이 걸림을 의미한다. 그리고 안정성을 고려하는 경우 설정온도에 도달하는 시간은 더욱 길이지게 된다.(도 2의 그래프 C).Even if optimal control is carried out to obtain a constant heating temperature at a constant evaporation rate, the controllability is inferior when the temperature difference between the starting point and the temperature to be controlled is large or when the disturbance such as the escape of heat to other parts is large. The time required is increased. In the experimental example shown in FIG. 2, it can be seen that even under optimum control conditions (graph B of FIG. 2), it takes more than 10 minutes to reach the set temperature. Of course, if the power supply for heating the material is increased to increase the rate of increase of the heating temperature (graph A of FIG. 2), an overshoot occurs and a large amount of the deposition material evaporates at once. The 10 minute waiting time to reach the set temperature means that 60 minutes of waiting time is required when six materials are deposited successively. And when considering the stability, the time to reach the set temperature is further lengthened (graph C of Figure 2).
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 박막을 형성하기 위한 재료의 가열온도 및 증발속도을 정밀하게 제어할 수 있는 유기 EL 소자의 박막 증착방법 및 그 장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a thin film deposition method and apparatus for an organic EL device capable of precisely controlling the heating temperature and evaporation rate of a material for forming a thin film in order to solve the above problems.
본 발명의 다른 목적은 박막 형성재료의 가열온도를 증발온도 이외의 고온으로 유지하고, 이 유지온도를 온도제어의 기점으로 함으로써 제어온도에 도달하기 까지의 시간을 단축할 수 있는 유기 EL 소자의 박막 증착방법 및 그 장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to maintain the heating temperature of the thin film forming material at a high temperature other than the evaporation temperature, and by using this holding temperature as a starting point for temperature control, the time for reaching the control temperature can be shortened. The present invention provides a vapor deposition method and apparatus.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 유기 EL 소자의 박막증착 방법은,In order to achieve the above object, a thin film deposition method of the organic EL device of the present invention,
박막을 형성하기 위한 증착재료를 준비하는 제1단계와,A first step of preparing a deposition material for forming a thin film,
상기 증착재료를 진공분위기에서 증발시키기 위한 설정온도 이하의 유지온도로 적어도 1차 가열하는 제2단계와,A second step of heating at least a first temperature to a holding temperature below a set temperature for evaporating the deposition material in a vacuum atmosphere;
상기 제2단계에서 가열된 증착재료의 온도를 기점으로 하여 설정온도까지 가열하여 증발온도 및 증착재료의 증발량을 제어하는 제3단계를 포함하여 된 것을 그 특징으로한다.And a third step of controlling the evaporation temperature and the evaporation amount of the deposition material by heating to the set temperature starting from the temperature of the deposition material heated in the second step.
본 발명에 있어서, 상기 증착재료의 유지온도와 제어온도의 차가 실온과 증발온도차의 1/3이하의 온도차로 낮게 유지함이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the difference between the maintenance temperature and the control temperature of the deposition material is kept low by a temperature difference of 1/3 or less of the difference between the room temperature and the evaporation temperature.
상기 목적을 달성하기 위한 박막 증착장치는, 진공챔버와, 상기 진공챔범의 내부에 설치되어 박막이 형성될 기판이 고정되는 장착부와, 상기 기판과 대응되는 부위에 설치되어 적어도 2단계의 온도제어가 가능한 가열수단을 포함하여 된 것을 그 특징으로 한다.A thin film deposition apparatus for achieving the above object includes a vacuum chamber, a mounting portion installed inside the vacuum chamber to fix a substrate on which a thin film is to be formed, and a temperature control of at least two stages provided at a portion corresponding to the substrate. It is characterized by including a possible heating means.
본 발명에 있어서, 상기 가열수단은 상기 증착재료가 담기는 보트와, 상기 포트를 감싸며 상기 증착재료를 유지온도로 가열하는 제1가열수단과, 상기 제1가열수단과 보트의 사이에 설치되어 상기 제1가열히터와 의해 가열되어 유지온도로 가열된 증착재료를 설정온도로 가열하는 제2가열히이터를 포함한다. In the present invention, the heating means is provided between the boat containing the deposition material, the first heating means for wrapping the port and heating the deposition material to a maintenance temperature, the first heating means and the boat is provided between the And a second heating heater for heating the deposition material heated by the first heating heater to the holding temperature to the set temperature.
상기 보트는 상대적으로 열전달 계수가 크고 반응성이 낮으며 고융점금속 재료인 텅스텐, 몰리브덴, 프레티넘(Pt),티탄, 니켈, 철 또는 이들 재료의 합금으로 이루어진다.The boat is made of tungsten, molybdenum, pretium (Pt), titanium, nickel, iron or alloys of these materials, which have a relatively high coefficient of heat transfer and low reactivity.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 한 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명에 따른 유기 EL 소자의 박막 증착방법은 유기 EL 소자의 기판에 전극층과 홀수송층 및 전자수송층을 유기재료 또는 전극재료를 증착하여 형성하기 위한 것으로, 박막을 형성하기 위한 증착재료를 준비하는 제1단계와, 상기 증착재료를 진공분위기에서 증발시키기 위한 제어온도 이하의 유지온도로 적어도 1차 가열하는 제2단계를 포함한다. 상기 유지온도는 후술하는 제어온도와 근접된 온도로 유지함이 바람직하며, 증착하고자하는 재료 즉, 유기재료나 전극 재료에 의해 달라질 수 있는데, 정확한 온도로 제어할 필요는 없다. A thin film deposition method of an organic EL device according to the present invention is to form an electrode layer, a hole transport layer and an electron transport layer by depositing an organic material or an electrode material on a substrate of an organic EL device, and to prepare a deposition material for forming a thin film. And a second step of at least primary heating to a holding temperature below a control temperature for evaporating the deposition material in a vacuum atmosphere. The holding temperature is preferably maintained at a temperature close to the control temperature to be described later, and may vary depending on a material to be deposited, that is, an organic material or an electrode material, but it is not necessary to control the temperature.
상기와 같이 증착재료가 유지온도로 가열되면 이 유지온도를 기점으로 하여 제어온도까지 가열하는 제3단계를 수행한다. 이 제3단계에 있어서 상기 설정온도는 가열된 박막 형성재료는 시간에 따른 증발량을 감안하여 정하여 진다. 상기 제어온도와 유지온도와의 차이는 실온과 증발온도차의 1/3이하의 온도차로 낮게 유지함이 바람직하다.As described above, when the deposition material is heated to the holding temperature, a third step of heating to the control temperature is performed based on the holding temperature. In this third step, the set temperature is determined in consideration of the amount of evaporation over time of the heated thin film forming material. The difference between the control temperature and the holding temperature is preferably kept low by a temperature difference of 1/3 or less of the difference between the room temperature and the evaporation temperature.
도 3에는 박막을 형성하기 위한 증착장치를 개략적으로 나타내 보였다.3 schematically shows a deposition apparatus for forming a thin film.
이 증착장치는 하기 위한 박막 증착장치(10)는, 진공챔버(11)와, 상기 진공챔범의 내부에 설치되어 박막이 형성될 기판(100)이 고정되는 장착부(12)와, 상기 기판과 대응되는 부위에 설치되어 적어도 2단계의 온도제어가 가능한 가열수단(20)을 포함한다. 도면에는 도면에는 도시되어 있지 않으나 상기 진공챔버(11)는 이의 내부를 진공시키기 위한 진공펌프를 구비한다.The thin
상기 가열수단(20)의 일 실시예는 도 4에 도시된 바와 같이 0.5mm를 가지는 텅스텐을 이용하여 증착재료가 담기는 홈(21a)을 가진 보트(21)와, 보트(21)와 결 합되어 홈(21a)을 밀폐하며 증발된 재료가 토출되는 토출구(22a)가 형성된 커버(22)를 구비한다. 여기에서 상기 보트는 도면에는 도시되어 있지 않으나 양단부에서 소정의 전원이 공급되어 하나의 발열원이 되는데, 이 보트(21)에 인가되는 전원은 증발을 위한 제어온도와, 이 제어온도보다 낮은 유지온도로 홈에 담긴 증발재료를 가열할 수 있도록 적어도 2단계로 공급된다. 그리고 이 보트(21)는 가능한한 열용량이 적고, 열전도도가 좋으며 응답속도가 빠른 것이 바람직하다.One embodiment of the heating means 20 is combined with the
도 5에는 상기 박막 증착재료를 가열하기 가열수단의 다른 실시예를 나타내 보였다.5 shows another embodiment of a heating means for heating the thin film deposition material.
도시된 바와 같이 가열수단(30)은 증착재료가 담기는 보트(31)과 상기 보트(31)를 감싸며 상기 증착재료를 유지온도로 가열하는 제1가열히터(32)와, 상기 제1가열히터(32)와 보트(31)의 사이에 설치되어 상기 제1가열히터와 의해 유지온도로 가열된 증착재료를 제어온도로 가열하는 제2가열히이터(33)를 포함한다. As shown in the drawing, the heating means 30 includes a
상기 보트는 상대적으로 열용량이 작고 열전달 계수가 크며 반응성이 낮을 뿐만아니라 고융점금속 재료인 텅스텐, 몰리브덴, 프레티넘(Pt),티탄, 니켈, 철 또는 이들 재료의 합금으로 이루어진다. 한편 증착재료가 Al인 경우에는 금속재료가 사용될 수 없으므로 BN(질화보론) 세라믹 포트(ボ??ト) 혹은 알루미나, 코발트, 텅스텐 보트가 이용된다.The boat is relatively low in heat capacity, high in heat transfer coefficient and low in reactivity, and is made of high melting point metal materials such as tungsten, molybdenum, pretium (Pt), titanium, nickel, iron or alloys of these materials. On the other hand, since the metal material cannot be used when the deposition material is Al, BN (boron nitride) ceramic pots or alumina, cobalt, tungsten boats are used.
그리고 상기 제1,2가열히이터(32)(33)는 인가되는 전압을 조정하여 별도의 제어가 가능하도록 저항을 이용한 별도의 컨트롤러가 부착된다. 상기 보트를 이루는 금속재료는 열전도가 좋은 것과, 발열전극을 겸비하는 것이 가능할수록 가장 적 당하다.In addition, the first and
상술한 바와 같이 구성된 박막 증착장치를 이용하여 기판(100)에 박막을 형성하기 위해서는 기판을 장착부(12)에 고정하고, 보트(31)에 박막증착재료(200)을 넣는다. 이 상태에서 도 6에 도시된 바와 같이 제1가열히이터(32)를 이용하여 보트에 담긴 박막증착재료(200)을 유지온도로 가열한다. 상기 보트(21)가 도 4에 도시된 바와 같이 히이터를 겸하는 경우에는 전압을 조정하여 박막 증착재료가 유지온도로 가열되도록 한다. 상기 유지온도는는 박막 증착재료가 용융되어 증발되는 온도보다 5 내지 15도 낮은 온도로 제어함이 바람직하다.In order to form a thin film on the
상기와 같이 박막 증착재로(200)가 유지온도로 가열되면 제2가열히이터(33)을 이용하여 증착을 위한 제어온도로 가열한다. 상기 유지온도에서 제어온도까지 상승시키는데는 유지온도를 기저온도로 하고 있으므로 그 시간을 도 6에 도시된 바와 같이 25초 정도로 단축할 수 있다. 특히 도 5에 도시된 바와 같은 가열수단은 두 온도계(溫度系)에서 구성되어 있으므로 제1가열히이터에 의해 거치른 온도제어 즉, 유지온도를 제어하고, 보트(31)과 근접된 제2가열히이터에 의해 박막증착재로의 증착시만 정밀한 온도제어를 행하게 된다. As described above, when the thin
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명 유기 EL 소자의 박막 증착방법 및 그 장치는 박막증착재료의 온도를 정확하게 제어할 수 있으므로 정밀한 증착을 위한 증발량의 제어가 가능하고, 증발온도까지 도달 시간을 단축시킬 수 있으므로 대량 생산에 적용이 가능하다. As described above, the thin film deposition method of the organic EL device and the device of the present invention can precisely control the temperature of the thin film deposition material, so that it is possible to control the amount of evaporation for precise deposition and to shorten the time to reach the evaporation temperature. Applicable to mass production.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
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